साफ करने के लिए कुछ रासायनिक विलयनों ( कास्टिक सोडा ) का भी प्रयोग किया जाता है और उनसे धोने के बाद , धात्वीय आक्साइडों को हटाने के लिए , लेपन की जानेवाली वस्तु को सल्फ्यूरिक अम्ल अथवा हाइड्रोक्लोरिक अम्ल के तनु विलयन में डाल दिया जाता है ।
Entity: हाइड्रोक्लोरिक अम्ल — Type: /chemical_thing