Dopingen foregår helst ikke ved fremstillingen av selve råmaterialet, men i fremstillingsprosesser under danningen av komponenten selv. Ofte blir av prosesstekniske årsaker dopingstypen endret, for eksempel fra P til N ved at en ny doping overstyrer den forrige. Doping kan foreså ved bestråling med atomer i vakuum eller ved å la halvlederen ligge i en egnet atmosfære, med styrt trykk, temperatur og konsentrasjon, over en tid. Deler av komponenten maskeres midlertidig i de områder som ikke skal endres.