payamvha/North_RAG huggingface dataset:
در اپتیک و پردازش سیگنال، کدگذاری جبهه موج (به انگلیسی: Wavefront coding) به استفاده از یک عنصر مدولاسیون فاز همراه با دکانولوشن برای گسترش عمق میدان یک سیستم تصویربرداری دیجیتال مانند دوربین فیلمبرداری اشاره دارد. کدگذاری جبهه موج در دسته گسترده عکاسی محاسباتی به عنوان تکنیکی برای افزایش عمق میدان قرار می‌گیرد. رمزگذاری. جبهه موج یک موج نوری که از سیستم دوربین عبور می‌کند به وسیله عناصر نوری که طول مسیر نوری متغیر فضایی دارند، مدوله می‌شود. عناصر مدولاتور باید در صفحه دیافراگم استاپ یا مردمک قرار بگیرند تا
در صفحه دیافراگم استاپ یا مردمک قرار بگیرند تا مدولاسیون یکسان برای تمام زوایای میدان از طریق میدان دید ایجاد شود. این مدولاسیون مربوط به تغییر در استدلال پیچیده عملکرد مردمک چنین دستگاه تصویربرداری است و می‌توان آن را با اهداف مختلف مهندسی کرد: به عنوان مثال گسترش عمق تمرکز (فوکوس). ماسک فاز خطی. کدگذاری جبهه موج با ماسک‌های فاز خطی با ایجاد یک عملکرد انتقال نوری کار می‌کند که اطلاعات فاصله را کدگذاری می‌کند. ماسک فاز مکعبی. کدگذاری جبهه موج با ماسک فاز مکعبی عمل می‌کند که باعث تیره شدن یکنواخت تصویر با
عمل می‌کند که باعث تیره شدن یکنواخت تصویر با استفاده از یک صفحه موج مکعبی شکل می‌شود به طوری که تصویر میانی، تابع انتقال نوری، خارج از کانون و با یک مقدار ثابت است. پردازش تصویر دیجیتالی سپس تاری را برطرف کرده و بسته به خصوصیات فیزیکی پردازنده، نوفه ایجاد می‌کند. دامنه پویا بسته به نوع فیلتر مورد استفاده برای افزایش عمق میدان کم می‌شود. همچنین می‌تواند ابیراهی نوری را اصلاح کند. ماسک با استفاده از تابع ابهام و روش فاز ثابت توسعه یافته است. تاریخچه. این تکنیک توسط مهندس رادار ادوارد داوسکی و مشاور
این تکنیک توسط مهندس رادار ادوارد داوسکی و مشاور پایان‌نامه وی، توماس کاتی در دانشگاه کلرادو در ایالات متحده در دهه ۱۹۹۰ میلادی ارائه شد. پس از آنکه دانشگاه علاقه چندانی به تحقیقات نشان نداد، آن‌ها از آن زمان شرکتی را برای تجاری سازی روش موسوم به CDM-Optics تاسیس کردند. این شرکت در سال 2005 توسط OmniVision Technologies خریداری شد که تراشه‌های دوربین موبایل مبتنی بر کدگذاری جبهه موج را به عنوان حسگرهای TrueFocus منتشر کرده است. حسگرهای TrueFocus قادر به شبیه‌سازی فناوری‌های فوکوس خودکار قدیمی هستند که از
فناوری‌های فوکوس خودکار قدیمی هستند که از فاصله‌سنج‌ها و عمق باریک میدان‌ها استفاده می‌کنند. در حقیقت، این فناوری از نظر نظری هر تعداد ترکیب از نقاط کانونی در هر پیکسل را برای تأثیرگذاری فراهم می‌کند. این تنها فناوری است که به EDoF (عمق توسعه یافته میدان) محدود نیست.
آیدمتسو کوسان () شرکت پالایش نفت ژاپنی است، که در سال ۱۹۱۲ توسط سازو آیدمتسو تأسیس شد. تاریخچه. اوایل قرن بیستم. آیدمتسو شرکت را در سال ۱۹۱۱ تأسیس کرد و روغن روان‌کننده برای نیپون اویل در شمالی کیوشو به فروش می‌رساند. فروش او به روغن سوختی برای قایق‌های ماهیگیری در شیمونوسکی گسترش یافت. پس از موفقیت در ژاپن، حوزه فعالیت آیدمتسو در سال ۱۹۱۴ به منچوری (چین) گسترش یافت و شرکت راه‌آهن منچوری جنوبی که متعلق به ژاپن بود، مشتری عمده روغن روان‌کننده شد. یک شعبه در دالیان، شمال‌شرقی چین افتتاح شد و آیدمتسو سعی کرد
دالیان، شمال‌شرقی چین افتتاح شد و آیدمتسو سعی کرد وارد بازار چین شود که توسط شرکت‌های غربی مانند استاندارد اویل و شرکت نفت آسیایی (یک زیرمجموعه شرکت شل) تسلط داشت. این شرکت از طریق شمال چین به کره و تایوان گسترش یافت. بعد از تهاجم ژاپن به منچوری در سال ۱۹۳۲، تجارت نفت تحت کنترل دولت قرار گرفت و آیدمتسو مجبور شد فعالیت‌های خود را کاهش دهد. به جای آن، او به حمل و نقل با تانکر نفتی روی آورد. در سال ۱۹۴۰، دفتر مرکزی به توکیو منتقل شد و نام شرکت به "آیدمتسو کوسان" تغییر یافت. با گسترش نظامی ژاپن و پیوستن ایالات
تغییر یافت. با گسترش نظامی ژاپن و پیوستن ایالات متحده به جنگ اقیانوس آرام، دولت کنترل تمامی صنایع را به دست گرفت. دوران پس از جنگ. بعد از جنگ، آیدمتسو کوسان تجارت خارجی خود را با اشغال ژاپن توسط متفقین از دست داد. این شرکت یکی از ده تأمین‌کننده نفت انتخاب شده توسط وزارت تجارت و صنعت بین‌الملل (MITI) بود و ارتباط خود را با نیپون اویل قطع کرد. آیدمتسو واردات نفت سفید را ابتدا از ایالات متحده و سپس از ونزوئلا و ایران آغاز کرد. قانون صنعت نفت ژاپن از آیدمتسو در برابر رقابت خارجی در ژاپن حمایت کرد، اما همچنین
برابر رقابت خارجی در ژاپن حمایت کرد، اما همچنین باعث شد که داشتن پالایشگاه نفتی برای این شرکت اهمیت پیدا کند. اولین پالایشگاه توکیاما در سال ۱۹۵۷ افتتاح شد. این شرکت سپس پالایشگاه نفتی چیبا را در سال ۱۹۶۳، پالایشگاه نفتی هیئوگو را در سال ۱۹۷۰، پالایشگاه نفتی هوکایدو را در سال ۱۹۷۳ و پالایشگاه نفتی آیچی را در سال ۱۹۷۵ افتتاح کرد. در سال ۱۹۵۳، ایدمیتسو تانکر بزرگ خود "نیسو مارو" را به ایران فرستاد تا نفت خریداری کند. نخست‌وزیر ایران محمد مصدق اخیراً صنایع نفتی را ملی کرده بود و تحت تحریم بریتانیا قرار داشت
را ملی کرده بود و تحت تحریم بریتانیا قرار داشت (بحران آبادان). آیدمتسو توانست نفت را با ۳۰٪ پایین‌تر از قیمت بازار خریداری کند که باعث نارضایتی بریتانیا شد. این موضوع در میان مردم ژاپن محبوب شد اما آیدمتسو را در تقابل با دولت ژاپن قرار داد. در همان سال کودتای ۱۹۵۳ ایران رخ داد. در دهه ۱۹۶۰، آیدمتسو نفت خام از روسیه وارد کرد. باز هم توانست نفت را با ۴۰٪ پایین‌تر از قیمت بازار خریداری کند، اما این اقدام باعث خشم ایالات متحده شد که تصمیم گرفت آیدمتسو را در هنگام خرید سوخت برای جت‌های نظامی خود در ژاپن تحریم
خرید سوخت برای جت‌های نظامی خود در ژاپن تحریم کند. آیدمتسو این تحریم را هدیه کریسمس عجیبی خواند اما آن را کاملاً بی‌اهمیت دانست. در سال ۱۹۷۸، این شرکت قراردادهای خود را با اتحاد جماهیر شوروی قطع کرد. این شرکت همچنین با اتحادیه نفت ژاپن که توسط "ام‌آی‌تی‌آی" برای محدود کردن تولید تأسیس شده بود، درگیر شد و آیدمتسو حتی از این سازمان خارج شد. در سال ۱۹۶۵، اتحادیه دریانوردان اعتصاب کرد که اولین اعتصاب از نوع خود در ژاپن بود. این موضوع منجر به کمبود نفت شد. آیدمتسو سپس از سهمیه‌ها چشم‌پوشی کرده و با حداکثر سرعت
سپس از سهمیه‌ها چشم‌پوشی کرده و با حداکثر سرعت شروع تولید کرد. هنگامی که کنترل قیمت و سهمیه‌های تولید در سال ۱۹۶۶ حذف شد، آیدمتسو دوباره به "پی‌ای‌جی" پیوست. برای راضی کردن ام‌آی‌تی‌آی، برادر کوچک سازو آیدمتسو، کیسوک آیدمتسو، به عنوان رئیس شرکت منصوب شد، در حالی که سازو به عنوان رئیس هیئت‌مدیره باقی ماند و کنترل واقعی را در دست داشت. این شرکت به استراتژی ادغام عمودی خود ادامه داد و با افزودن تانکرهای بیشتر و افتتاح انبارهای نفت و مخازن سوخت، زنجیره تأمین کامل را کنترل کرد. در سال ۱۹۷۶، این شرکت حفاری برای
را کنترل کرد. در سال ۱۹۷۶، این شرکت حفاری برای نفت و گاز را در میدان آگا در استان نیگاتا (دریای ژاپن) آغاز کرد. تولید تجاری از سال ۱۹۸۴ آغاز شد. آیدمتسو به میدان‌های نفتی خارجی علاقه‌مند شد و در سال ۱۹۸۷، با همکاری شرکت فنلاندی نست اووای، یک میدان نفتی در جنوب‌شرقی ترکیه آغاز کرد. آیدمتسو سهمی از میدان نفتی اسنور در نروژ و در استرالیا به دست آورد و همچنین در حفاری‌های نفتی در سرتاسر جهان شرکت کرد. این شرکت به بخش زغال‌سنگ نیز تنوع بخشید و زغال‌سنگ از استرالیا وارد کرده و معادن در ماسولبروک، نیو ساوت ولز و
وارد کرده و معادن در ماسولبروک، نیو ساوت ولز و ابنیزر، کوئینزلند خریداری کرد. آیدمتسو بزرگ‌ترین شرکت معدن زغال‌سنگ ژاپن شد و سیستم کارتریج زغال‌سنگ را برای مصرف‌کنندگان کوچک توسعه داد. این شرکت بر روی آزمایش‌های نیروگاه ژئوترمال و استخراج اورانیوم در کانادا با همکاری کامی‌کو و کوجما کار کرد. کاهش شدید قیمت نفت در سال ۱۹۸۵ باعث شد که عملیات غیرنفتی آیدمتسو کمتر سودآور باشد. محدودیت‌های واردات نفت در ژاپن دوباره به بحث گذاشته شد. همانند سال ۱۹۶۲، آیدمتسو از آزادسازی رقابت خارجی حمایت کرد که مخالف اکثر صنعت
آزادسازی رقابت خارجی حمایت کرد که مخالف اکثر صنعت نفت ژاپن بود. در نهایت، دولت ژاپن به توافقی رسید که واردات آزاد را به تدریج باز کند و سهمیه‌های تولید پالایشگاه‌ها را لغو کند. برای تنوع بخشیدن به کسب‌وکار خود پس از بحران‌های جهانی نفت، آیدمتسو در دهه ۱۹۸۰ شروع به توسعه تکنولوژی دیود نورگسیل ارگانیک کرد که در نهایت منجر به توسعه صفحه نمایش تمام رنگی ال‌ای‌دی شد که توسط شرکت پایونیر در اواخر دهه ۱۹۹۰ معرفی گردید. تکنولوژی آیدمتسو در نهایت توسط الکترونیک سامسونگ برای استفاده در گوشی‌های گلکسی نکسوس گوشی
سامسونگ برای استفاده در گوشی‌های گلکسی نکسوس گوشی هوشمند تطبیق داده شد. دهه ۱۹۹۰ و اوایل دهه ۲۰۰۰. تا سال ۱۹۹۷، آیدمتسو بزرگ‌ترین فروشنده سوخت نفتی در ژاپن بود که عمدتاً به دلیل سرمایه‌گذاری‌های رئیس‌جمهور شوکوزه آیدمتسو در دهه‌های ۱۹۸۰ و اوایل دهه ۱۹۹۰ بود. با این حال، این سرمایه‌گذاری‌ها شرکت را با بدهی‌های سنگین و رتبه اعتباری پرخطر مواجه کرد. آکیهیکو تِمبو، نخستین رئیس‌جمهور از خارج از خانواده بنیان‌گذار، چندین اصلاحات را برای بهبود وضعیت مالی شرکت اجرا کرد که شامل کاهش تخفیف‌های بازپرداختی بود که به
کرد که شامل کاهش تخفیف‌های بازپرداختی بود که به توزیع‌کنندگان ارائه می‌شد. تِمبو همچنین برخی از بخش‌های عملیات شرکت را با شرکت میتسوبیشی و میتسویی شیمیکال ادغام کرد. در دهه ۱۹۹۰، آیدمتسو شروع به افتتاح ایستگاه‌های خدماتی خارج از ژاپن، در پرتغال و پورتو ریکو، و همچنین کارخانه‌ای برای تولید روان‌ساز در ایالات متحده کرد. آزادسازی صنعت نفت با لغو قانون ویژه نفت پیشرفت‌های بزرگی داشت و پمپ‌های خودکار قانونی شدند. در اواخر دهه ۱۹۹۰، تقاضا در ژاپن به دلیل بحران اقتصادی طولانی کاهش یافت. صنعت نفت بیش از حد بزرگ
اقتصادی طولانی کاهش یافت. صنعت نفت بیش از حد بزرگ شده بود و بسیاری از شرکت‌ها ادغام شدند. در آستانه هزاره سوم، آیدمتسو کوسان تنها شرکت بزرگ پالایش نفت در ژاپن بود که ادغام نشده بود. این شرکت به‌طور کامل در اختیار خانواده آیدمتسو و کارکنان شرکت قرار داشت. در سال ۱۹۹۴، "یونی‌اویل" به توزیع‌کننده انحصاری محصولات آیدمتسو در فیلیپین تبدیل شد. در سال ۲۰۰۶، آیدمتسو کوسان به‌طور عمومی در بورس اوراق بهادار توکیو عرضه شد پس از یک عرضه عمومی اولیه (IPO)، که ۱۰۹٫۴ میلیارد ین جذب کرد. ادغام با شوا شل. در سال ۲۰۱۶،
میلیارد ین جذب کرد. ادغام با شوا شل. در سال ۲۰۱۶، مدیریت آیدمتسو اعلام کرد که قصد دارد شرکت را با شوا شل کیسیو، پنجمین عمده‌فروش بزرگ نفت در ژاپن، ادغام کند. این معامله با مخالفت خانواده بنیان‌گذار آیدمتسو روبه‌رو شد که دلایل مختلفی برای این مخالفت ذکر شد، از جمله اختلافات مستمر میان خانواده آیدمتسو و تیم مدیریتی تِمبو، تفاوت‌های فرهنگی میان دو شرکت، مسائل ژئوپولیتیک (آیدمتسو به عنوان یکی از واردکنندگان بزرگ نفت ایران شناخته می‌شد در حالی که شوا شل همچنان به‌طور جزئی تحت مالکیت آرامکو سعودی باقی می‌ماند)،
جزئی تحت مالکیت آرامکو سعودی باقی می‌ماند)، و فشار از سوی رقیب نیپون اویل که به‌طور همزمان در حال برنامه‌ریزی برای ادغام خود با جی‌اکس هولدینگز بود. بدون تأیید خانواده آیدمتسو برای یک ادغام کامل، مدیریت شرکت در دسامبر ۲۰۱۶، ۳۱٪ از سهام شوا شل را خریداری کرد و همکاری‌هایی در زمینه پالایش و لجستیک از آوریل ۲۰۱۷ آغاز نمود. در نهایت، آیدمتسو در سال ۲۰۱۹، فرایند خرید و ادغام شوا شل را تکمیل کرد.
برآیه یا نتیجه، پیامد پایانی یک پی‌آیه از کنش‌ها یا رویدادهایی است که به‌طور کیفی (چونایی) یا به‌طور کمی (چندایی) بیان می‌شوند. برآیه‌های احتمالی (شدنی) شامل برتری، نابرتری، بهره، آسیب، باخت، ارزش و پیروزی است. ممکن است یک گسترهٔ برون‌شدهای (برآمدهای) احتمالی همراه با یک رویداد وابسته بر دیدگاه، دوری تاریخی یا رابطه باشد. رسیدن به هیچ برآیه‌ای می‌تواند معنا دهد که کنش‌ها ناکارآمد، نااثرگذار، بی‌معنی یا کاستی‌دار اند.
جکیه (به پرتغالی: Jequié) یک منطقهٔ مسکونی در برزیل است که در باهیا واقع شده‌است. جکیه ۲٬۹۶۹٫۰۳۴ کیلومتر مربع مساحت و ۱۵۶٬۱۲۶ نفر جمعیت دارد. خواهرخوانده. شهر ترچینا خواهرخواندهٔ جکیه (برزیل) هست.
اوکس () شرکت رسانه‌ای ژاپنی است، که در سال ۱۹۸۸ بنیان‌گذاری شد. اوکس نخستین ناشر موسیقی خود را با نام اوکس تراکس در سپتامبر ۱۹۹۰ راه‌اندازی کرد. اوکس دارای چندین شرکت زیرمجوعه است که اوکس تراکس یکی از مهم‌ترین آنهاست.
زهرا نبیل ( – ) سناتور مجلس سنای ایران در دوره ششم بین سال‌های ۱۳۵۰ تا ۱۳۵۴ بود. از مهمترین مشاغل وی ریاست اداره کل باستان‌شناسی و موزه‌ها و عضویت در کمیسیون ملی و تربیتی و فرهنگی یونسکو بود. او از اعضای حزب ایران نوین و از بدو تأسیس شورای زنان عضو هیئت اجرایی آن نیز بود. زندگی‌نامه. زهرا نبیل در سال ۱۲۹۴ در تهران زاده شد. او فرزند میرزا ابراهیم خان نبیل‌السلطنه بود. زهرا تحصیلات ابتدائی و متوسطه را در تهران پایان داد و وارد دانشکده ادبیات دانشگاه تهران شد و سرانجام مدرک کارشناسی خویش را در رشته
تهران شد و سرانجام مدرک کارشناسی خویش را در رشته باستان‌شناسی دریافت کرد و به خدمت وزارت فرهنگ درآمد. او برای مدتی در هلند تحصیل کرد و از موزه ملی آثار باستانی لیدن تخصص موزه‌داری را گرفت. در مجلس سنا. او در سال ۱۳۵۰ از حوزه انتخابیه تهران نامزد مجلس سنا شد و با برگزیدگی در انتخابات یک دوره چهار ساله را در این مجلس گذراند. در آن دوره سناتورها برای ورود به مجلس سنا می‌بایست از مقام‌های بزرگ مملکتی (همانند وزیر، استاندار، معاون وزیر، سفیر، سه دوره نماینده مجلس و غیره) باشند. چون زهرا نبیل هیچ‌یک از شرایط را
و غیره) باشند. چون زهرا نبیل هیچ‌یک از شرایط را نداشت در همان ایام یک ابلاغ معاونت از وزیر مشاور برای او صادر شد و بدین ترتیب او شرایط عضویت در مجلس سنا را پیدا کرد.
زون یا گاهی منطقه، می‌تواند بازبرد داشته باشد به:
لایهٔ فیزیکی پیشرفته اترنت (به انگلیسی: APL یا Advanced Physical Layer) یک لایهٔ فیزیکی برای فناوری ارتباطات اترنت را توصیف می‌کند که به ویژه برای نیازهای صنایع فرایندی توسعه یافته‌است. توسعه APL اترنت با توجه به نیاز به ارتباط در سرعتهای بالا و در مسافتهای طولانی، تأمین نیرو و سیگنالهای ارتباطی از طریق کابل‌های جفت پیچ خورده (۲ سیم) و همچنین اقدامات محافظتی برای استفاده ایمن تعیین شد. APL اترنت علاوه بر بودن زیر مجموعه ای از استاندارد پرکاربرد اترنت و نیز طراحی ویژه برای کاربردهای صنعتی غالب، قدرت بالایی
طراحی ویژه برای کاربردهای صنعتی غالب، قدرت بالایی را برای عملکردهای قابل اطمینان فراهم می‌کند. مدت طولانی است که اترنت به راه حل ارتباطی استاندارد در زمینه فناوری اطلاعات تبدیل شده‌است، در حالی که توصیف رایج ای از انواع این استاندارد برای صنایع تولیدی و فرآوری است. APL اترنت پیوندها و لینک‌های گمشده را فراهم کرده و نیز ارتباطات اترنت یکپارچه را تا زمینهٔ ابزار دقیق گسترش می‌دهد. ساختار. به عنوان یک لایه فیزیکی، APL اترنت مستقل از هرگونه پروتکل یا ارتباطات پشته ای است و برای تصویب و کاربرد گسترده در
پشته ای است و برای تصویب و کاربرد گسترده در اتوماسیون فرایند طراحی شده‌است. اترنت به عنوان پایه ای برای APL. APL اترنت یک اترنت خاص و تک جفت که بر اساس 10BASE-T1L تعریف شده در IEEE 802.3cg و با مقررات اضافی برای صنایع فرایندی است؛ بنابراین ارتباطات APL اترنت بخشی از، و کاملاً سازگار با IEEE 802.3 مشخصات اترنت است. ارتباطات APL اترنت به ارتباط دو طرفه کامل ۱۰ مگابیت بر ثانیه از طریق یک کابل جفت پیچ خورده متکی است. این از تمام توپولوژی‌های عمده شبکه از جمله توپولوژی شناخته شده تنه و شاخه که به‌طور گسترده‌ای
شناخته شده تنه و شاخه که به‌طور گسترده‌ای در صنایع فرایندی استفاده می‌شود، پشتیبانی می‌کند. حداکثر طول تنه (ترانک) ۱۰۰۰ متر در است. حداکثر طول شاخه (اسپر) به عنوان ۲۰۰ متر در منطقه ۰، Div 1 است. APL اترنت دارای تعدادی از پیشرفت به ویژه متناسب با نیازهای فرایند و سایر صنایع مانند است و نمایه‌های دور را برای منابع تغذیه اختیاری و حفاظت از مناطق خطرناک اضافه می‌کند. ایمنی ذاتی. ایمنی ذاتی یک نیاز حیاتی به ویژه در صنایع فرایندی در سراسر جهان که خواستار یک راه حل آسان برای کنترل و قدرت استفاده از ابزارهای دقیق
آسان برای کنترل و قدرت استفاده از ابزارهای دقیق در مناطق خطرناک هستند، است. به همین دلیل، ایمنی ذاتی اختیاری کاملاً در تعاریف استاندارد ارتباطی APL اترنت ادغام شده‌است. در مشخصات فنی IEC TS 60079-47 ED1 امنیت ذاتاً اترنت ۲ سیمه ذاتی تعریف خواهد شد. سد ایمنی ذاتی یک مدار الکترونیکی در هر خروجی یا ورودی یک سوئیچ یا ابزار است. این سد از رسیدن انرژی الکتریکی قابل اشتعال به اتصال دهنده جلوگیری می‌کند. سد ایمنی ذاتی از از مدار ارتباطات (PHY) جدا است. این اصول طراحی تضمین می‌کند: APL اترنت برای پشتیبانی آسان از
تضمین می‌کند: APL اترنت برای پشتیبانی آسان از برنامه‌ریزی، اعتبارسنجی، نصب، مستندسازی و اجرای عملکرد ذاتی ایمن ابزارهای دقیق در مناطق خطرناک طراحی شده‌است. این شامل جنبه‌های دیگر مداوم کار کردن روی کابل‌ها و ابزارهای فاقد اجازه گرم کار کردن است. کلیه محصولات مناسب دارای تاییدیه توسط یک نهاد اعلام شده هستند. مشخصات نمایه درگاه (پورت). بخشی از استانداردهای APL اترنت شامل تعریف نمایه‌های پورت برای قابلیت همکاری در سناریوهای مختلف برنامه‌ها است. این شامل جنبه‌هایی مانند نوع قطعه، متمایز کردن تنه به تنه پورت از
مانند نوع قطعه، متمایز کردن تنه به تنه پورت از پورت شاخه به شاخه پورت است. سایر مشخصات به ویژگی‌های قدرت اشاره دارد، تفاوت بین پورت‌های منبع به بار و پورت‌های بدون نیرو به بدون نیرو. مفاد دیگر، تعریف طبقات قدرت است. این شامل محدودیت حداکثر ولتاژ منبع تغذیه و جریان تغذیه برای منبع تغذیه ایمن ذاتی است. مباحث دیگری که در مشخصات مشخصات پورت مشخص شده‌است، قوانین سیم کشی، تعیین پین برای ترمینال‌ها و اتصالات و همچنین قوانین محافظ و اتصال به زمین است.
کردیت سِزُن ( Kredit Sezon) شرکت خدمات مالی ژاپنی است، که در سال ۱۹۴۶ تأسیس شد. این شرکت، صادرکننده کارت‌های اعتباری مانند ویزا کارت و مسترکارت، با برند خودش در ژاپن است.
لیتوگرافی تماسی یا طرح‌نگار تماسی (به انگلیسی: Contact lithography)، یک نوع طرح‌نگار نوری است که به عنوان چاپ تماسی نیز شناخته می‌شود که در آن، تصویر آماده چاپ با تاباندن نور به یک ماسک تصویر در تماس مستقیم با یک زیرلایه پوشش داده شده با یک لایه تصویربرداری مقاوم در برابر نور (لاک نوری) است. تاریخچه. اولین مدارهای مجتمع دارای ویژگی‌های ۲۰۰ میکرومتر بودند که با استفاده از لیتوگرافی تماسی چاپ شدند. این روش در دهه ۱۹۶۰ میلادی محبوب بود تا اینکه با چاپ مجاورتی جایگزین شد، جایی که یک شکاف بین ماسک نوری و زیرلایه
شد، جایی که یک شکاف بین ماسک نوری و زیرلایه ایجاد می‌شود. چاپ مجاورتی وضوح ضعیف‌تری نسبت به چاپ تماسی داشت (به دلیل وجود شکافی که باعث پراش بیشتر می‌شود) اما نقایص بسیار کمتری ایجاد می‌کرد. وضوح برای تولید تا ۲ میکرومتر کافی بود. در سال ۱۹۷۸، سیستم تصویر مرحله و تکرار ظاهر شد. این سیستم به دلیل کاهش تصویر ماسک مورد استقبال گسترده قرار گرفت و امروزه همچنان مورد استفاده قرار می‌گیرد. لیتوگرافی تماسی هنوز هم کاربردی است و معمولاً در کاربردهایی که به مقاومت لاک نوری ضخیم و/یا تراز و نوردهی دو طرفه نیاز دارند،
نوری ضخیم و/یا تراز و نوردهی دو طرفه نیاز دارند، استفاده می‌شود. کاربردهای پیشرفته بسته‌بندی سه‌بعدی، دستگاه‌های نوری و سیستم‌های میکرو الکترومکانیکی (MEMS) در این گروه قرار می‌گیرند. علاوه بر این، سیستم تماس مشابه همانی است که در فرایندهای چاپ استفاده می‌شود. طبق دو تحول اخیر، پتانسیل لازم برای بازگشت طرح‌نگار تماسی به طرح‌نگار نیمه‌هادی فراهم شده‌است. تحول اول، بهبودهای تشدید پلاسمون سطحی است که شامل استفاده از فیلم‌های نقره به عنوان لنز است که به وضوح کمتر از ۵۰ و حتی ۲۲ نانومتر با استفاده از طول موج
کمتر از ۵۰ و حتی ۲۲ نانومتر با استفاده از طول موج ۳۶۵ و ۴۳۶ نانومتر می‌رسند. رابطه پراکندگی اگزوتیک (خارجی) پلاسمون سطحی منجر به طول موج بسیار کوتاه شده‌است که به شکستن حد پراش کمک می‌کند. تحول دوم، طرح‌نگار نانو چاپ است که در خارج از بخش نیمه‌هادی محبوبیت پیدا کرده‌است (به عنوان مثال هارد دیسک، بیوتکنولوژی) و کاندیدای طرح‌نگار نیمه‌هادی زیر ۴۵ نانومتر، روش‌های کاهش نقص در محرک و بهبود یکنواختی ماسک‌های در تماس با زیرلایه است. طرح‌نگار چاپی مرحله‌ای و تابش (SFIL)، یک شکل محبوب از طرح‌نگار نانوچاپ است که
(SFIL)، یک شکل محبوب از طرح‌نگار نانوچاپ است که شامل پختن فیلم چاپی با اشعه فرابنفش است و اساساً از همان چیدمان طرح‌نگار تماسی استفاده می‌کند. اصول عملکرد. به‌طور کلی، ماسک تصویر خریداری/تولید شده، متشکل از الگوهای کروم مات بر روی یک صفحه شیشه‌ای شفاف است. در این روش، یک نمونه (یا " زیرلایه") با یک فیلم نازک از لاک نوری حساس به اشعه فرابنفش پوشانده می‌شود. سپس نمونه در زیر ماسک تصویر قرار می‌گیرد و در مقابل آن، جهت "تماس" فشار داده می‌شود. نمونه "در معرض تابش نور" قرار می‌گیرد که در طی آن، نور فرابنفش از
نور" قرار می‌گیرد که در طی آن، نور فرابنفش از سمت بالای ماسک تصویر تابانده می‌شود. لاک نوری که در زیر شیشه شفاف قرار دارد، در معرض نور قرار گرفته و توسط یک توسعه دهنده قابل حل می‌شود، در حالی که لاک نوری زیر کروم، هیچگونه اشعه فرابنفشی دریافت نکرده و پس از توسعه سالم باقی خواهد ماند؛ بنابراین الگو ممکن است به صورت ماده مقاوم حساس به نور از ماسک تصویر به یک نمونه منتقل شود. سپس ممکن است الگو از طریق هر تعداد فرایند میکرو ساخت، مانند اچ یا لیفت آف، به‌طور دائمی به زیرلایه منتقل شود. از یک ماسک تصویر ممکن است
به زیرلایه منتقل شود. از یک ماسک تصویر ممکن است بارها برای تولید مجدد یک الگو بر روی زیرلایه‌های مختلف استفاده شود. به‌طور کلی برای انجام این عملیات از "تراز کننده تماس " استفاده می‌شود، بنابراین ممکن است الگوهای قبلی روی یک زیرلایه با الگویی که می‌خواهد در معرض تابش قرار داده شود، مطابقت داشته باشد. با خروج از سطح مشترک ماسک تصویر-لاک نوری، نور تشکیل دهنده تصویر حین عبور از لاک نوری در معرض پراش میدان نزدیک قرار می‌گیرد. پراش باعث می‌شود تا با افزایش عمق لاک نوری، کنتراست تصویر از بین برود. این را می‌توان
نوری، کنتراست تصویر از بین برود. این را می‌توان با محو شدن سریع امواج میرای مرتبه بالاتر با افزایش فاصله از سطح مشترک ماسک تصویر-لاک نوری توضیح داد. با استفاده از لاک نوری نازک‌تر، می‌توان تا حدی این اثر را کاهش داد. بهبودهای کنتراست براساس تشدید پلاسمون و فیلم‌های عدسی اخیراً فاش شده‌است. مزیت اصلی طرح‌نگار تماسی از بین بردن نیاز به طرح اپتیک پیچیده بین شی و تصویر است. محدودیت وضوح در سیستم‌های طرح نوری امروزی از اندازه محدود لنز تصویربرداری نهایی و فاصله آن از صفحه تصویر سرچشمه می‌گیرد. به‌طور دقیق‌تر،
آن از صفحه تصویر سرچشمه می‌گیرد. به‌طور دقیق‌تر، طرح نوری فقط می‌تواند طیف بسامد فضایی محدودی را از جسم بگیرند (ماسک تصویر). چاپ تماسی چنین محدودیتی برای وضوح ندارد اما به وجود نقص در ماسک یا روی زیرلایه حساس است. انواع ماسک‌های تماسی. انواع مختلفی از ماسک‌های لیتوگرافی تماسی وجود دارد که می‌توان به سه مورد زیر اشاره کرد: ماسک دامنه شدت باینری استاندارد، مناطق تاریک و روشن را ایجاد می‌کند که در آن نور به ترتیب مسدود یا منتقل می‌شود. نواحی تاریک فیلم‌هایی طرح‌دار هستند که از کروم یا فلز دیگر تشکیل شده‌اند.
هستند که از کروم یا فلز دیگر تشکیل شده‌اند. ماسک کوپلاژ نور دارای سطح دی‌الکتریک موج‌دار است. هر برآمدگی به عنوان یک موجبر موضعی عمل می‌کند. در نتیجه این اثر هدایت موضعی، نور عمدتاً از طریق برآمدگی‌ها منتقل می‌شود. از آنجا که به منطقه تماس کمتری نیاز است، احتمال نقص در آن کمتر است. یک ماسک ترکیبی تماسی-نانوچاپ از تصویربرداری تماسی و چاپ مکانیکی استفاده می‌کند و برای بهینه‌سازی تصویربرداری از ویژگی‌های بزرگ و کوچک همزمان با حذف مسائل مربوط به لایه باقیمانده پیشنهاد شده‌است. ماسک‌های تماسی به‌طور سنتی نسبتاً
شده‌است. ماسک‌های تماسی به‌طور سنتی نسبتاً بزرگ (بزرگتر از ۱۰۰ میلی‌متر) بوده‌اند اما ممکن است که تلرانسهای هم‌ترازی به اندازه‌های ماسک کوچکتر نیاز داشته باشند تا گام‌بندی بین تابش‌ها انجام شود. همانند طرح‌نگار نانوچاپ، ماسک باید تقریباً دارای همان اندازه ویژگی تصویر مورد نظر باشد. ماسک‌های تماسی را می‌توان مستقیماً از ماسک‌های تماسی دیگر یا با نوشتن مستقیم (به عنوان مثال طرح‌نگار پرتو الکترونی) تشکیل داد. بهبودهای وضوح. همان‌طور که در بالا اشاره شد، لاک نوری نازک‌تر می‌تواند به بهبود کنتراست تصویر کمک
نوری نازک‌تر می‌تواند به بهبود کنتراست تصویر کمک کند. هنگام کاهش جذب و محو شدن موج میرا، بازتابش از لایه زیرین لاک نوری نیز باید در نظر گرفته شود. پیش‌بینی شده‌است که وضوح لیتوگرافی تماسی از دوره تناوب ۱/۲۰ طول موج پیشی بگیرد. وضوح گام طرح‌نگار تماسی را می‌توان به راحتی با تابش‌های متعدد و ایجاد تصاویر ویژگی بین ویژگی‌های قبل تابش، افزایش داد. این همانند ویژگی‌های آرایه تو در تو همانند طرح حافظه مناسب است. پلاسمون‌های سطحی نوسانات جمعی الکترون‌های آزاد محدود به سطوح فلزی هستند. آنها شدیداً به نور کوپل
محدود به سطوح فلزی هستند. آنها شدیداً به نور کوپل می‌شوند و پلاریتونهای پلاسمون سطح را تشکیل می‌دهند. این تحریکات به‌طور مؤثری مانند امواج با طول موج بسیار کوتاه (نزدیک به منطقه اشعه ایکس) رفتار می‌کنند. با تحریک چنین نوساناتی در شرایط مناسب، چندین ویژگی می‌توانند در بین یک جفت شیار در ماسک تماسی ظاهر شوند. وضوح قابل دستیابی با امواج ایستاده پلاریتون پلاسمون سطحی بر روی یک فیلم فلزی نازک‌تر از ۱۰ نانومتر با طول موج در محدوده ۳۹۰–۳۸۰ نانومتر با استفاده از یک فیلم نقره با ضخامت کوچکتر از ۲۰ نانومتر است.
یک فیلم نقره با ضخامت کوچکتر از ۲۰ نانومتر است. همچنین، شکاف‌های باریک عمیق در توریهای انتقال فلزی، امکان تشدیدهایی را دارند که نور عبوری از شکاف‌ها را تقویت می‌کنند. یک لایه از فیلم فلزی، به عنوان یک «لنز عالی» برای تقویت امواج میرا عمل می‌کند و در نتیجه کنتراست تصویر افزایش می‌یابد. این امر مستلزم تنظیم گذردهی برای داشتن یک عدد واقعی منفی است، به عنوان مثال نقره در طول موج ۴۳۶ نانومتر. استفاده از چنین لنزی اجازه می‌دهد تا تصویربرداری با تلرانس بیشتر فاصله بین ماسک و لاک نوری حاصل شود که با استفاده از
بین ماسک و لاک نوری حاصل شود که با استفاده از تداخل پلاسمون سطحی، به عنوان مثال یک‌نیمه گام ۲۵ نانومتری با طول موج ۴۳۶ نانومتر، افزایش وضوح بیشتر تصویر بدست می‌آید. اثر لنز کامل فقط برای شرایط خاص مؤثر است اما وضوح (با تقریب زیاد) برابر ضخامت لایه را می‌دهد. از این رو، وضوح زیر ۱۰ نانومتر نیز با این رویکرد امکان‌پذیر به نظر می‌رسد. استفاده از تداخل پلاسمون سطحی نسبت به سایر تکنیک‌های طرح‌نگاری، برتری دارد زیرا تعداد ویژگی‌های ماسک می‌تواند بسیار کمتر از تعداد ویژگی‌های تصویر مورد نظر باشد که ساخت و بازرسی
ویژگی‌های تصویر مورد نظر باشد که ساخت و بازرسی ماسک را آسان می‌کند. در حالی که نقره متداول‌ترین فلز برای نشان دادن پلاسمون‌های سطحی برای طرح‌نگاری است، البته از آلومینیوم نیز در طول موج ۳۶۵ نانومتر استفاده شده‌است. در حالی که این تکنیک‌های بهبود وضوح اجازه می‌دهند تا ویژگی‌های ۱۰ نانومتری مورد بررسی قرار گیرند، برای اجرای عملی باید عامل‌های دیگری را هم در نظر گرفت. به نظر می‌رسد اساسی‌ترین محدودیت، ناهمواری لاک نوری باشد که برای تناوب‌های زیر-طول موج کوتاه‌تر که انتظار می‌رود فقط مرتبه پراش صِفر انتشار
که انتظار می‌رود فقط مرتبه پراش صِفر انتشار یابد، غالب می‌شود. تمام جزئیات الگو در این حالت توسط امواج میرا منتقل می‌شود که برای وضوح دقیق‌تر با سرعت بیشتری محو می‌شوند. در نتیجه، ناهمواری ذاتی لاک نوری پس از توسعه می‌تواند بهتر از الگو شود. مشکلات نقص و آلودگی. مانند هر فناوری که به تماس سطح بستگی دارد، نقص‌ها یک نگرانی جدی هستند. نقص‌ها به ویژه از دو نظر برای طرح‌نگار تماسی مضر هستند. اولاً، یک نقص سخت می‌تواند فاصله بین ماسک و زیرلایه را افزایش دهد که می‌تواند به راحتی باعث از بین رفتن تصاویر مبتنی بر