Un olter grupp de tecnich nanotecnologic al preved qual duperà per la fabricasiun de nanotub e nanocavi, qual duperà en la fabricasion de semicondutur cumè la litografia ultravioleta profunda, la litografia a fascio de eletrun, la lavuraziun a fascio ionico fucalisà, litografia a nanoimprunta, deposiziun a stratu atomic, deposiziun a vapur molecùlar e olter tecnich de autoassemblament molecùlar cumè quei che duperan i copolimer bi-bloc.