СПОСОБ УЛУЧШЕННОЙ ФОТОЭПИЛЯЦИИ НА ОСНОВЕ НАНОКОМПЛЕКСОВ МЕТАЛЛОВ

1. Композиция для местного применения на коже для фотоэпиляции, содержащая нанокомплексы, которые содержат наночастицы материала, выбранного из группы, состоящей из металлов, полупроводников и их смесей, поддерживающие локализованный поверхностный плазмонный (ЛПП) резонанс, которые покрыты путем образования по меньшей мере связи, координационной или ковалентной, с по меньшей мере поликатионным полимером или гетеробифункциональным соединением собирающегося на поверхностности монослоя, которое содержит по меньшей мере тиольную группу на одном конце молекулы и по меньшей мере положительно заряженную функциональную группу на другом конце.
2. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что нанокомплекс имеет максимум локализованного поверхностного плазмонного резонанса между 650 и 1200 нм, и предпочтительно между 700 и 900 нм.
3. Композиция по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что указанная наночастица представляет собой наночастицу золота.
4. Композиция по п. 3, отличающаяся тем, что указанная наночастица представляет собой наностержень золота.
5. Композиция по любому из пп. 1, 2 или 4, отличающаяся тем, что наночастица представляет собой нанооболочку.
6. Композиция по п. 3, отличающаяся тем, что наночастица представляет собой нанооболочку.
7. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что поликатионный полимер представляет собой полиаминсодержащий полимер.
8. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что поликатионный полимер выбран из группы, состоящей из четвертичных аммониевых полимеров, полиаллиламиновых полимеров и их сополимеров с полиаминами и полиглюкозаминами.
9. Композиция по п. 7, отличающаяся тем, что полиаминсодержащий полимер
представляет собой хитозан.
10. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что гетеробифункциональное соединение, относящееся к типу собирающегося на поверхности монослоя, имеет следующую общую формулу:
2
n
- HS-(CH)-X,
<mrow><mo>−</mo><mi>N</mi><msubsup><mrow><mrow><mo>(</mo><mrow><mi>C</mi><msub><mi>H</mi><mn>3</mn></msub></mrow><mo>)</mo></mrow></mrow><mn>3</mn><mo>+</mo></msubsup><mi>C</mi><mi>l</mi></mrow>
где X представляет собой
, и
n составляет от 2 до 22, предпочтительно от 10 до 18,
или следующую формулу:
2
n
2
2
m
- HS-(CH)-(CH-CH-O)-X,
<mrow><mo>−</mo><mi>N</mi><msubsup><mrow><mrow><mo>(</mo><mrow><mi>C</mi><msub><mi>H</mi><mn>3</mn></msub></mrow><mo>)</mo></mrow></mrow><mn>3</mn><mo>+</mo></msubsup><mi>C</mi><mi>l</mi></mrow>
где X представляет собой
, и
n составляет от 2 до 22, предпочтительно от 10 до 18, и m составляет от 3 до 200.
11. Композиция по любому из пп. 1-10, представляющая собой водную суспензию.
12. Способ фотоэпиляции, который включает этапы: (i) нанесения на поверхность кожи композиции по любому из пп. 1-11 и (ii) воздействия излучением на указанную поверхность кожи.
13. Применение нанокомплексов, определенных в любом из пп. 1-10, в способе фотоэпиляции.