Статья

Статья

Исследования плазмы

1974. Т. 12. № 1. С. 5–9

Огурцова Н.Н., Подмошенский И.В., Шелемина В.М.

Влияние скорости испарения материала стенки на свойства плазмы капиллярного разряда

В условиях капиллярного разряда с испаряемой стенкой (КРИС) исследовано влияние скорости испарения материала капилляра на параметры плазмы. Вариация скорости испарения достигалась за счет подбора диэлектрических материалов с близким химическим составом, но существенно отличающихся по теплоте испарения или по количеству поглощенной энергии излучения. Экспериментально показано, что характер влияния скорости испарения материала капилляра на параметры плазмы КРИС зависит от ее оптической плотности. В условиях близких к а.ч.т. при фиксированных химическом составе материала и вводимой электрической мощности увеличение скорости испарения в два раза приводит к полуторакратному повышению давления и сжатию канала разряда.

УДК: 533.907

Ссылка на статью:

Огурцова Н.Н., Подмошенский И.В., Шелемина В.М.

Влияние скорости испарения материала стенки на свойства плазмы капиллярного разряда, ТВТ, 1974. Т. 12. № 1. С. 5

High Temp. 1974, v.12, №1, pp. 0-0