УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛА ПРИ ПОМОЩИ СФОКУСИРОВАННОГО ЭЛЕКТРОМАГНИТНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ

1. Устройство для обработки материала посредством сфокусированного электромагнитного излучения, содержащее:
- источник электромагнитного излучения,
- оптические компоненты, направляющие и фокусирующие излучение на или в материал,
- средство для генерирования паттерна в пучке электромагнитного излучения,
- по меньшей мере частично отражающую поверхность, установленную на траектории пучка перед фокусом сфокусированного излучения с возможностью проецирования на нее, по меньшей мере, частично указанного паттерна посредством по меньшей мере части указанных оптических компонентов,
- по меньшей мере один детектор, выполненный с возможностью приема отраженного, посредством указанной поверхности, изображения паттерна и генерирования электрических сигналов, соответствующих указанному изображению, которое содержит информацию о положении фокуса,
- компьютер, выполненный с возможностью приема указанных электрических сигналов и запрограммированный на обработку указанного изображения для генерирования электрического сигнала, зависящего от фокального положения, и
элемент регулировки расходимости, установленный на траектории пучка и выполненный с возможностью приема указанного электрического сигнала, генерируемого компьютером, и изменения расходимости электромагнитного излучения в соответствии с указанным сигналом.
2. Устройство по п.1, в котором указанная поверхность установлена в месте выхода электромагнитного излучения из устройства.
3. Устройство по п.1, в котором материал, подлежащий обработке, является тканью глаза, предпочтительно роговицей.
4. Устройство по п.1, в котором указанным источником является лазер, предпочтительно фемтосекундный.
5. Устройство по п.1, в котором указанная поверхность является аппланационной поверхностью, предназначенной для прижатия к роговице.
6. Устройство по п.1, в котором паттерн содержит две или более дискретные точки.
7. Устройство по п.1, в котором элемент регулировки расходимости содержит телескоп, деформируемое зеркало или деформируемую линзу.
8. Устройство по п.1, содержащее два детектора, один из которых предназначен для детектирования излучения, испускаемого указанным источником, а другой - для детектирования излучения, отраженного указанной поверхностью.
9. Устройство по п.1, в котором средство для генерирования паттерна находится в пучке электромагнитного излучения за элементом регулировки расходимости.
10. Устройство по п.1, в котором паттерн содержит дискретные точки, расположенные в форме матрицы.
11. Способ обработки материала посредством сфокусированного электромагнитного излучения, включающий:
- генерирование электромагнитного излучения посредством источника излучения,
- направление излучения на материал, подлежащий обработке,
- фокусирование излучения на или в материал,
- генерирование, посредством электромагнитного излучения, паттерна,
- установку в пучок электромагнитного излучения перед фокусом сфокусированного излучения по меньшей мере частично отражающей поверхности,
- формирование на указанной поверхности изображения указанного паттерна,
- детектирование, посредством по меньшей мере одного детектора, излучения, отраженного указанной поверхностью, причем детектируемые при этом изображения содержат информацию о положении фокуса,
- генерирование электрических сигналов, являющихся репрезентативным представлением детектированных изображений,
- обработку указанных электрических сигналов в компьютере для генерирования электрического сигнала, зависящего от фокального положения, и
- настройку расходимости генерируемого излучения в соответствии с указанным электрическим сигналом.