СПОСОБ УДАЛЕНИЯ ПОКРЫТИЯ С ОБРАБАТЫВАЕМЫХ ДЕТАЛЕЙ

1. Способ удаления покрытия с имеющих покрытия обрабатываемых деталей с электрически непроводящей поверхностью, причем способ осуществляется с помощью электролита и включает следующие этапы:
- приготовление ванны, причем внутри ванны предусмотрен электрод, подключаемый к одному полюсу блока электропитания,
- заполнение ванны электролитом так, что электрод входит в контакт с электролитом,
- погружение одной или многих обрабатываемых деталей в электролит,
- приложение напряжения между обрабатываемой деталью и электродом по меньшей мере для частичного удаления покрытия с обрабатываемой детали,
отличающийся тем, что напряжение во время по меньшей мере частичного удаления покрытия регулируют так, что в первый момент времени прилагают первое напряжение, и в более поздний момент времени прилагают второе, более высокое по сравнению с первым напряжением второе напряжение, которое не ведет к возникновению отверстий, причем приложение более высокого второго напряжения в первый момент времени приводит к появлению отверстий.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что напряжение во время по меньшей мере частичного удаления покрытия регулируют так, что величину разности потенциалов между электродом и обрабатываемой деталью повышают непрерывно и/или ступенчато.
3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что разность потенциалов во время по меньшей мере частичного удаления покрытия возрастает монотонно, предпочтительно строго монотонно.
4. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что напряжение регулируют так, что в начале удаления покрытия на протяжении первого интервала EI1 времени разность потенциалов поддерживают, по существу, постоянной на уровне первого значения U1, и разность потенциалов в интервале EI2 времени, следующим за первым интервалом времени, поддерживают постоянной на уровне второго значения U2, причем U1<U2.
5. Способ по п.3, отличающийся тем, что напряжение регулируют так, что в начале удаления покрытия на протяжении первого интервала EI1 времени разность потенциалов поддерживают, по существу, постоянной на уровне первого значения U1, и разность потенциалов в интервале EI2 времени, следующим за первым интервалом времени, поддерживают постоянной на уровне второго значения U2, причем U1<U2.