СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ СИСТЕМЫ ПРОЗРАЧНЫХ БАРЬЕРНЫХ СЛОЕВ

1. Способ изготовления системы прозрачных барьерных слоев, при котором в вакуумной камере на прозрачной полимерной пленке осаждают по меньшей мере два прозрачных барьерных слоя и один расположенный между этими двумя барьерными слоями прозрачный промежуточный слой, отличающийся тем, что для осаждения барьерных слоев испаряют алюминий и одновременно в вакуумную камеру напускают по меньшей мере один первый реактивный газ, и тем, что для осаждения промежуточного слоя испаряют алюминий и одновременно в вакуумную камеру напускают по меньшей мере один второй реактивный газ и один газообразный или парообразный органический компонент.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что барьерный слой и второй слой осаждают по очереди несколько раз.
3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в качестве первого и/или второго реактивного газа применяют кислород и/или азот.
4. Способ по п. 1, отличающийся тем, что осаждение барьерного слоя и/или осаждение второго слоя происходят в присутствии плазмы в вакуумной камере.
5. Способ по п. 4, отличающийся тем, что в качестве плазмы применяют плазму полого катода или микроволновую плазму.
6. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в качестве газообразного или парообразного органического компонента в вакуумную камеру напускают кремнийсодержащий прекурсор.
7. Способ по п. 6, отличающийся тем, что в качестве прекурсора применяют HMDSO, HMDSN или TEOS.