ИЗМЕРИТЕЛЬНОЕ УСТРОЙСТВО, ЭКСПОНИРУЮЩЕЕ УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ УСТРОЙСТВА

1. Измерительное устройство для измерения оптических характеристик объекта измерения, при этом измерительное устройство содержит:
контроллер поляризации, который регулирует поляризацию света, который падает на объект измерения;
блок деления волнового фронта, который делит волновой фронт света, исходящего из контроллера поляризации;
поляризующий блок, который поляризует свет, проходящий через объект измерения;
детектор, который регистрирует свет, прошедший через, по меньшей мере, один из упомянутого блока деления волнового фронта и упомянутого поляризующего блока;
процессор, который вычисляет оптические характеристики объекта измерения по результату регистрации упомянутым детектором; и
первый приводной блок, который перемещает упомянутый блок деления волнового фронта относительно упомянутого детектора для установки упомянутого блока деления волнового фронта в оптический путь или вне оптического пути, проходящего от объекта измерения до упомянутого детектора,
причем упомянутый процессор вычисляет оптические характеристики объекта измерения с использованием результата регистрации, полученного, когда упомянутый блок деления волнового фронта установлен в оптический путь, и результата регистрации, полученного, когда упомянутый блок деления волнового фронта установлен вне оптического пути.
2. Устройство по п.1, дополнительно содержащее
второй приводной блок, который перемещает упомянутый поляризующий блок относительно упомянутого детектора для установки упомянутого поляризующего блока в оптический путь или вне оптического пути, и
блок управления, который управляет упомянутым первым приводным блоком и упомянутым вторым приводным блоком так, что упомянутый второй приводной блок устанавливает упомянутый поляризующий блок вне оптического пути, когда упомянутый первый приводной блок устанавливает упомянутый блок деления волнового фронта в оптический путь, и так, что упомянутый второй приводной блок устанавливает упомянутый поляризующий блок в оптический путь, когда упомянутый первый приводной блок устанавливает упомянутый блок деления волнового фронта вне оптического пути.
3. Устройство по п.1,
в котором упомянутый блок деления волнового фронта содержит одно из дифракционной решетки, параллельной пластины, полупрозрачной отражающей подложки и призмы, и
упомянутый поляризующий блок содержит одно из волновой пластинки, поляризатора и поляризационного расщепителя пучка.
4. Устройство по п.1,
в котором упомянутый поляризующий блок содержит поворотный элемент,
упомянутый детектор регистрирует интерференционные полосы, когда упомянутый блок деления волнового фронта установлен в оптический путь, и изменение распределения интенсивности света, вызванное поворотом, по меньшей мере, одного элемента упомянутого поляризующего блока, когда упомянутый блок деления волнового фронта установлен вне оптического пути, и
упомянутый процессор вычисляет дифференциальные данные аберрации, вызванной объектом измерения, по зарегистрированным интерференционным полосам и данные о двулучепреломлении объекта измерения по зарегистрированному изменению распределения интенсивности света.
5. Устройство по п.1,
в котором упомянутый блок деления волнового фронта содержит дифракционную решетку,
при этом устройство дополнительно содержит селективную диафрагму, которая выделяет только волновой фронт предварительно заданного порядка из волновых фронтов, дифрагированных упомянутой дифракционной решеткой, и
упомянутая селективная диафрагма устанавливается в оптический путь или вне его одновременно с упомянутым блоком деления волнового фронта.
6. Экспонирующее устройство, содержащее осветительную систему, которая освещает фотооригинал, проекционную оптическую систему, которая проецирует рисунок фотооригинала, освещаемого упомянутой осветительной системой, на подложку, и измерительное устройство по одному из пп.1-5,
при этом объект измерения содержит упомянутую проекционную оптическую систему,
упомянутый контроллер поляризации установлен в упомянутой осветительной системе и
упомянутый блок деления волнового фронта и упомянутый поляризующий блок установлены между упомянутой проекционной оптической системой и упомянутым детектором.
7. Экспонирующее устройство, содержащее осветительную систему, которая освещает фотооригинал, проекционную оптическую систему, которая проецирует рисунок фотооригинала, освещаемого упомянутой осветительной системой, на подложку, и измерительное устройство по одному из пп.1-5,
при этом объект измерения содержит упомянутую проекционную оптическую систему,
упомянутый контроллер поляризации установлен в упомянутой осветительной системе,
упомянутый блок деления волнового фронта установлен между упомянутой осветительной системой и упомянутой проекционной оптической системой и
упомянутый поляризующий блок установлен между упомянутой проекционной оптической системой и упомянутым детектором.
8. Устройство по п.6, дополнительно содержащее отражающее зеркало, которое отражает свет, прошедший через упомянутую проекционную оптическую систему,
при этом упомянутый детектор установлен для регистрации света, отраженного упомянутым отражающим зеркалом и снова прошедшим через упомянутую проекционную оптическую систему.
9. Устройство по п.7, дополнительно содержащее отражающее зеркало, которое отражает свет, прошедший через упомянутую проекционную оптическую систему,
при этом упомянутый детектор установлен для регистрации света, отраженного упомянутым отражающим зеркалом и снова прошедшим через упомянутую проекционную оптическую систему.
10. Экспонирующее устройство, содержащее осветительную систему, которая освещает фотооригинал, проекционную оптическую систему, которая проецирует рисунок фотооригинала, освещаемого упомянутой осветительной системой, на подложку, и измерительное устройство по одному из пп.1-5,
при этом объект измерения содержит упомянутую осветительную систему.
11. Экспонирующее устройство по п.6, дополнительно содержащее блок управления, который управляет, по меньшей мере, одним из упомянутой осветительной системы и упомянутой проекционной оптической системы на основе результата, вычисленного упомянутым процессором.
12. Способ изготовления устройства, при этом способ содержит следующие этапы:
экспонируют подложку с применением экспонирующего устройства по п.6;
проявляют экспонированную подложку и
обрабатывают проявленную подложку для изготовления устройства.