Статья

Статья

Исследования плазмы

1976. Т. 14. № 2. С. 254–261

Брагинский С.И., Вихрев В.В.

Образование волокнистой структуры токовой оболочки в мощном импульсном разряде

Рассмотрены вопросы устойчивости токовой оболочки в процессе ее образования при ионизации газа в мощном импульсном разряде. Указано, что причиной дробления токового слоя на волокна могут являться неоднородности ионизации газа после пробоя. Скин-эффект и диффузионные процессы выравнивания определяют расстояние между волокнами. Усиление возмущений ионизации газа происходит в момент повышения роли ступенчатой ионизации по сравнению с прямой.

Ссылка на статью:

Брагинский С.И., Вихрев В.В.

Образование волокнистой структуры токовой оболочки в мощном импульсном разряде, ТВТ, 1976. Т. 14. № 2. С. 254

High Temp. 1976, v.14, №2, pp. 232-239