ФОКУСИРОВКА ЛАЗЕРНОГО ИМПУЛЬСА

1. Система, содержащая:
источник лазерного излучения, выполненный с возможностью генерации одного или более лазерных импульсов;
один или более оптических элементов, выполненных с возможностью изменения длительности одного или более лазерных импульсов;
устройство контроля, выполненное с возможностью измерения длительности одного или более лазерных импульсов для выявления изменения длительности импульса; и
управляющий компьютер, выполненный с возможностью:
приема от устройства контроля значения измеренной длительности импульса;
определения одного или более параметров лазера, которые компенсируют изменение длительности импульса; и
управления источником лазерного излучения в соответствии с одним или более параметров лазера.
2. Система по п. 1, в которой изменение длительности импульса является увеличением или уменьшением длительности импульса.
3. Система по п. 1, в которой устройство контроля выполнено с возможностью измерения длительности одного или более лазерных импульсов на выходе из фокусирующего объектива одного или более оптических элементов.
4. Система по п. 1, в которой управляющий компьютер выполнен с возможностью определения одного или более параметров лазера посредством определения одного или более параметров, в зависимости от которых вводится положительный или отрицательный чирп для компенсации изменения длительности импульса.
5. Система по п. 1, в которой:
один или более оптических элементов изменяют длительность импульса посредством введения отрицательного чирпа в лазерные импульсы; и
управляющий компьютер выполнен с возможностью определения одного или более параметров лазера путем определения одного или более параметров, в зависимости от которых вводится положительный или отрицательный чирп для компенсации изменения длительности импульса.
6. Система по п. 1, в которой управляющий компьютер выполнен с возможностью управления источником лазерного излучения в соответствии с одним или более параметров лазера с помощью:
команды для источника лазерного излучения для коррекции количества циклов усилителя источника лазерного излучения.
7. Система по п. 1, в которой в зависимости от одного или более параметров лазера изменение длительности импульса компенсируется в значительной степени.
8. Система по п. 1, в которой в зависимости от одного или более параметров лазера изменение длительности импульса компенсируется частично.
9. Способ, содержащий следующие этапы:
испускание источником лазерного излучения одного или более лазерных импульсов;
изменение одним или более оптических элементов длительности одного или более лазерных импульсов;
измерение устройством контроля длительности одного или более лазерных импульсов для выявления изменения длительности импульса;
прием управляющим компьютером от устройства контроля измеренного значения длительности импульса;
определение управляющим компьютером одного или более параметров лазера, которые компенсируют изменение длительности импульса; и
управление источником лазерного излучения посредством управляющего компьютера в соответствии с одним или более параметров лазера.
10. Способ по п. 9, в котором изменение длительности импульса является увеличением или уменьшением длительности импульса.
11. Способ по п. 9, в котором измерение включает измерение длительности импульса одного или более лазерных импульсов на выходе из фокусирующего объектива одного или более оптических элементов.
12. Способ по п. 9, в котором определение одного или более параметров лазера включает определение одного или более параметров, в зависимости от которых для компенсации изменения длительности импульса вводится положительный или отрицательный чирп.
13. Способ по п. 9, в котором:
длительность импульса изменяют посредством одного или более оптических элементов путем введения отрицательного чирпа в лазерные импульсы; и
определение одного или более параметров лазера включает определение одного или более параметров, в зависимости от которых для компенсации изменения длительности импульса вводится положительный чирп.
14. Способ по п. 9, в котором управление источником лазерного излучения в соответствии с одним или более параметров лазера включает:
команды для источника лазерного излучения для регулирования количества циклов усилителя источника лазерного излучения.
15. Способ по п. 9, в котором в зависимости от одного или более параметров лазера изменение длительности импульса компенсируется в значительной степени.
16. Способ по п. 9, в котором в зависимости от одного или более параметров лазера изменение длительности импульса компенсируется частично.