ВИДЫ ОБРАБОТКИ ПОДЛОЖКИ

1. Способ обработки подложки, включающий
фильтрование ультрафиолетового (УФ) излучения через перекрытие, определяющее узор из отверстий; и
подвергание поверхности подложки воздействию фильтрованного УФ-излучения для обработки части поверхности.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что поверхность подложки является плоской.
3. Способ по любому из пп.1–2, отличающийся тем, что обработанная часть поверхности характеризуется углом скатывания, находящимся в диапазоне от 50 градусов до 90 градусов, и краевым углом, находящимся в диапазоне от 90 градусов до 180 градусов, для капли воды объемом 50 мкл, если поверхность погружена в толуол.
4. Способ по любому из пп. 1–3, отличающийся тем, что обработка части поверхности приводит к появлению необработанной части поверхности, и необработанная часть поверхности характеризуется углом скатывания от 0 градусов до 50 градусов для капли воды объемом 50 мкл, если поверхность погружена в толуол.
5. Способ по любому из пп.1–4, отличающийся тем, что поверхность подложки является неплоской.
6. Способ по любому из пп.1–5, отличающийся тем, что обработанная часть поверхности определяет узор по всей поверхности подложки.
7. Способ по любому из пп.1–6, отличающийся тем, что поверхность подложки содержит по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента.
8. Способ по любому из пп.1–7, отличающийся тем, что подложка содержит фильтрующую среду.
9. Способ по любому из пп.1–8, отличающийся тем, что обработанная поверхность характеризуется углом скатывания, находящимся в диапазоне от 50 градусов до 90 градусов , в диапазоне от 60 градусов до 90 градусов, в диапазоне от 70 градусов до 90 градусов или в диапазоне от 80 градусов до 90 градусов
10. Способ по любому из пп.1–9, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется первой длиной волны, находящейся в диапазоне от 180 нм до 210 нм, и второй длиной волны, находящейся в диапазоне от 210 нм до 280 нм.
11. Способ по любому из пп.1–10, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется длиной волны, составляющей 185 нм.
12. Способ по любому из пп.1–11, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется длиной волны, составляющей 254 нм.
13. Способ по любому из пп.1–12, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется длиной волны, находящейся в диапазоне от 350 нм до 370 нм.
2
2
14. Способ по любому из пп.1–13, отличающийся тем, что УФ-излучение находится в диапазоне от 300 мкВт/см до 200 мВт/см.
2
2
15. Способ по любому из пп.1–14, отличающийся тем, что дополнительно включает подвергание поверхности воздействию HO при подвергании поверхности воздействию фильтрованного УФ-излучения.
16. Способ по любому из пп.1–15, отличающийся тем, что дополнительно включает подвергание поверхности воздействию озона при подвергании поверхности воздействию фильтрованного УФ-излучения.
17. Способ по любому из пп.1–16, отличающийся тем, что дополнительно включает подвергание поверхности воздействию кислорода при подвергании поверхности воздействию фильтрованного УФ-излучения.
18. Способ по любому из пп.1–17, отличающийся тем, что подвергание поверхности воздействию УФ-излучения осуществляют в течение периода времени, находящегося в диапазоне от 2 с до 20 мин.
19. Способ обработки поверхности волокна, включающий
фильтрование УФ-излучения через перекрытие, определяющее узор из отверстий;
подвергание поверхности волокна воздействию фильтрованного УФ-излучения для обработки части поверхности волокна; и
образование подложки из волокна, при этом подложка имеет поверхность.
20. Способ по п.19, отличающийся тем, что поверхность подложки характеризуется увеличенным углом скатывания для капли воды объемом 50 мкл, если поверхность подложки погружена в толуол, по сравнению с подложкой, образованной из необработанных волокон.
21. Способ по любому из пп. 19–20, отличающийся тем, что поверхность подложки характеризуется углом скатывания, находящимся в диапазоне от 50 градусов до 90 градусов, и краевым углом, находящимся в диапазоне от 90 градусов до 180 градусов , для капли воды объемом 50 мкл, если поверхность погружена в толуол.
22. Способ по любому из пп.19–21, отличающийся тем, что обработанная часть поверхности волокна определяет узор по всей поверхности волокна.
23. Способ по любому из пп.19–22, отличающийся тем, что поверхность волокна содержит по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента.
24. Способ по любому из пп.19–23, отличающийся тем, что обработанная поверхность волокна является стабильной.
25. Способ по любому из пп.19–24, отличающийся тем, что волокно содержит фенольную смолу.
26. Способ по любому из пп.19–25, отличающийся тем, что волокно содержит по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента.
27. Способ по любому из пп.19–26, отличающийся тем, что обработка поверхности волокна предусматривает подвергание поверхности воздействию УФ-излучения в течение промежутка времени, находящегося в диапазоне от 2 с до 20 мин.
28. Способ по любому из пп.19–27, отличающийся тем, что обработка поверхности волокна предусматривает подвергание поверхности воздействию ультрафиолетового (УФ) излучения, характеризующегося длиной волны, находящейся в диапазоне от 350 нм до 370 нм.
29. Способ по любому из пп.19–28, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется длиной волны, составляющей 254 нм.
30. Подложка, содержащая
первую поверхность подложки, определяющую участки поверхности, обработанные УФ-излучением, и участки поверхности, не обработанные УФ-излучением, при этом участки поверхности, обработанные УФ-излучением, определяют узор.
31. Подложка по п.30, отличающаяся тем, что участки поверхности, обработанные УФ-излучением, определяют угол скатывания, находящийся в диапазоне от 50 градусов до 90 градусов, и краевой угол, находящийся в диапазоне от 90 градусов до 180 градусов, для капли воды объемом 50 мкл, если первая поверхность погружена в толуол.
32. Подложка по любому из пп.30–31, отличающаяся тем, что участки поверхности, не обработанные УФ-излучением, определяют угол скатывания от 0 градусов до  50 градусов для капли воды объемом 50 мкл, если первая поверхность погружена в толуол.
33. Подложка по любому из пп.30–32, отличающаяся тем, что участки поверхности, обработанные УФ-излучением, содержат по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента, и участки поверхности, не обработанные УФ-излучением, не содержат ароматический компонент и ненасыщенный компонент.
34. Подложка по любому из пп.30–33, отличающаяся тем, что подложка содержит фильтрующую среду.
35. Подложка по любому из пп.30–34, отличающаяся тем, что содержит волокнистое полотно, образующее первую поверхность.
36. Подложка по любому из пп.30–35, отличающаяся тем, что содержит мембрану, образующую первую поверхность.
37. Подложка по любому из пп.30–36, отличающаяся тем, что содержит нетканое волокнистое полотно, образующее первую поверхность.
38. Подложка по любому из пп.30–37, отличающаяся тем, что поверхность, обработанная УФ-излучением, характеризуется углом скатывания, находящимся в диапазоне от 60 градусов до 90 градусов, в диапазоне от 70 градусов до 90 градусов или в диапазоне от 80 градусов до 90 градусов.
39. Подложка по любому из пп.30–38, отличающаяся тем, что поверхность, обработанная УФ-излучением, содержит целлюлозу, сложный полиэфир, полиамид, полиолефин, стекло или их комбинацию.
40. Подложка по любому из пп.30–39, отличающаяся тем, что подложка содержит целлюлозу, сложный полиэфир, полиамид, полиолефин, стекло или их комбинацию.
41. Подложка по любому из пп.30–40, отличающаяся тем, что подложка содержит по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента.
42. Подложка, содержащая
первую поверхность, определяющую один или несколько обработанных участков поверхности и один или несколько необработанных участков поверхности, при этом один или несколько обработанных участков поверхности характеризуются большим углом скатывания для капли воды объемом 50 мкл, если первая поверхность погружена в толуол, чем необработанные участки поверхности, при этом один или несколько обработанных участков поверхности определяют узор на первой поверхности.
43. Подложка по п.42, отличающаяся тем, что один или несколько обработанных участков поверхности содержат множество отдельных участков.
44. Подложка по любому из пп.42–43, отличающаяся тем, что подложка содержит фильтрующую среду.
45. Подложка по любому из пп.42–44, отличающаяся тем, что содержит волокнистое полотно, образующее первую поверхность.
46. Подложка по любому из пп.42–45, отличающаяся тем, что содержит мембрану, образующую первую поверхность.
47. Подложка по любому из пп.42–46, отличающаяся тем, что содержит нетканое волокнистое полотно, образующее первую поверхность.
48. Подложка по любому из пп.42–47, отличающаяся тем, что один или несколько необработанных участков поверхности определяют угол скатывания от 0 градусов до 50 градусов для капли воды объемом 50 мкл, если первая поверхность погружена в толуол.
49. Подложка по любому из пп.42–48, отличающаяся тем, что один или несколько обработанных участков поверхности содержат по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента, и один или несколько необработанных участков поверхности не содержат ароматический компонент и ненасыщенный компонент.
50. Подложка по любому из пп.42–49, отличающаяся тем, что один или несколько обработанных участков поверхности характеризуются углом скатывания, находящимся в диапазоне от 50 градусов до 90 градусов, и краевым углом, находящимся в диапазоне от 90 градусов до 80 градусов , для капли воды объемом 50 мкл, если первая поверхность погружена в толуол.
51. Подложка по любому из пп.42–50, отличающаяся тем, что первая поверхность является стабильной.
52. Подложка по любому из пп.42–51, отличающаяся тем, что подложка определяет поры со средним диаметром, составляющим не более 2 мм.
53. Подложка по любому из пп.42–52, отличающаяся тем, что дополнительно содержит фенольную смолу.
54. Подложка по любому из пп.42–53, отличающаяся тем, что дополнительно содержит по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента.
55. Способ обработки складчатой фильтрующей среды, включающий
складывание фильтрующей среды с образованием пакета среды, имеющего первый набор загибов складок, второй набор загибов складок и множество складок, простирающихся между первым набором загибов складок и вторым набором загибов складок; и
подвергание первого набора загибов складок воздействию УФ-излучения для увеличения угла скатывания для капли воды объемом 50 мкл, если загиб складки погружен в толуол.
56. Способ по п.55, отличающийся тем, что каждый загиб складки в первом наборе загибов складок характеризуется углом скатывания, находящимся в диапазоне от 50 градусов до 90 градусов, и краевым углом, находящимся в диапазоне от 90 градусов до 180 градусов, для капли воды объемом 50 мкл, если загиб складки погружен в толуол.
57. Способ по любому из пп.55–56, отличающийся тем, что дополнительно включает сжатие складчатой фильтрующей среды во время подвергания первого набора загибов складок воздействию УФ-излучения, вследствие чего подвергание складок его воздействию ограничивается.
58. Способ по любому из пп.55–57, отличающийся тем, что дополнительно включает разделение складок складчатой фильтрующей среды во время подвергания первого набора загибов складок воздействию УФ-излучения, вследствие чего складки складчатой фильтрующей среды подвергаются его воздействию.
59. Способ по любому из пп.55–58, отличающийся тем, что подвергание первого набора загибов складок предусматривает обеспечение поступательного перемещения складчатой фильтрующей среды через УФ-излучение.
60. Способ по любому из пп.55–59, отличающийся тем, что фильтрующая среда содержит по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента.
61. Способ по любому из пп.55–60, отличающийся тем, что дополнительно включает подвергание первого набора загибов складок воздействию кислорода при подвергании первого набора загибов складок воздействию УФ-излучения.
62. Способ по любому из пп.55–61, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется первой длиной волны, находящейся в диапазоне от 180 нм до 210 нм, и второй длиной волны, находящейся в диапазоне от 210 нм до 280 нм.
63. Способ по любому из пп.55–62, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется длиной волны, составляющей 254 нм.
2
2
64. Способ по любому из пп.55–63, отличающийся тем, что УФ-излучение находится в диапазоне от 300 мкВт/см до 200 мВт/см.
65. Пакет фильтрующей среды, содержащий
подложку, определяющую множество складок, простирающихся между первым набором загибов складок и вторым набором загибов складок, при этом каждый из загибов складок в первом наборе загибов складок характеризуется углом скатывания, находящимся в диапазоне от 50 градусов до 90 градусов, и краевым углом, находящимся в диапазоне от 90 градусов до 180 градусов, для капли воды объемом 50 мкл, если первый набор загибов складок погружен в толуол, и при этом по меньшей мере часть участка поверхности каждой из складок характеризуется углом скатывания от 0 градусов до 50 градусов  ля капли воды объемом 50 мкл, если участок поверхности погружен в толуол.
66. Пакет среды по п.65, отличающийся тем, что существует градация угла скатывания по части участка поверхности каждой из складок для капли воды объемом 50 мкл, если складка погружена в толуол.
67. Пакет среды по любому из пп.65–66, отличающийся тем, что подложка содержит фильтрующую среду.
68. Пакет среды по любому из пп.65–67, отличающийся тем, что подложка содержит по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента.
69. Пакет среды по любому из пп.65–68, отличающийся тем, что поверхность определяет сторону, расположенную ниже по потоку, пакета фильтрующей среды.
70. Пакет среды по любому из пп.65–69, отличающийся тем, что подложка содержит целлюлозу, сложный полиэфир, полиамид, полиолефин, стекло или их комбинацию.
71. Пакет среды по любому из пп.65–70, отличающийся тем, что каждая из складок первого набора загибов складок характеризуется углом скатывания, находящимся в диапазоне от 60 градусов до 90 градусов, в диапазоне от 70 градусов до 90 градусов или в диапазоне от 80 градусов до 90 градусов.
72. Пакет среды по любому из пп.65–71, отличающийся тем, что подложка определяет поры со средним диаметром, составляющим не более 2 мм.
73. Способ, включающий
расположение поверхности подложки в диапазоне обработки источника УФ-излучения, при этом поверхность подложки является плоской, и при этом расположение поверхности подложки предусматривает наклон поверхности подложки относительно источника УФ-излучения под углом от 0 градусов до 90 градусов;
и испускание УФ-излучения из источника УФ-излучения для обработки поверхности подложки, вследствие чего создается градиент УФ-обработки по всей поверхности подложки.
74. Способ по п.73, отличающийся тем, что наклон поверхности подложки осуществляют в машинном направлении подложки.
75. Способ по любому из пп.73–74, отличающийся тем, что наклон поверхности подложки осуществляют в направлении поперек машинного подложки.
76. Способ по любому из пп.73–75, отличающийся тем, что источник УФ-излучения определяет плоскость, из которой обеспечивают испускание УФ-излучения, и угол между поверхностью подложки и плоскостью составляет от 0 градусов до 90 градусов.
77. Способ по любому из пп.73–76, отличающийся тем, что подложка содержит фильтрующую среду.
78. Способ по любому из пп.73–77, отличающийся тем, что по меньшей мере часть поверхности подложки характеризуется углом скатывания, находящимся в диапазоне от 50 градусов до 90 градусов, и краевым углом, находящимся в диапазоне от 90 градусов до 180 градусов, для капли воды объемом 50 мкл, если поверхность погружена в толуол.
79. Способ по любому из пп.73–78, отличающийся тем, что подложка содержит по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента.
80. Способ по любому из пп.73–79, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется первой длиной волны, находящейся в диапазоне от 180 нм до 210 нм, и второй длиной волны, находящейся в диапазоне от 210 нм до 280 нм.
81. Способ по любому из пп. 73–80, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется длиной волны, составляющей 254 нм.
82. Способ, включающий
расположение по меньшей мере части поверхности подложки в диапазоне обработки источника УФ-излучения;
испускание УФ-излучения из источника УФ-излучения на поверхность подложки; и
варьирование интенсивности испускаемого УФ-излучения на поверхности подложки, вследствие чего создается варьирование интенсивности УФ-обработки по всей поверхности подложки.
83. Способ по п.82, отличающийся тем, что источник УФ-излучения определяет плоскость, из которой обеспечивают испускание УФ-излучения, и варьирование интенсивности испускаемого УФ-излучения на поверхности подложки является результатом варьирования расстояний между данной плоскостью и поверхностью подложки.
84. Способ по любому из пп.82–83, отличающийся тем, что варьирование расстояний между плоскостью и подложкой является результатом конфигурирования поверхности подложки в неплоскую конфигурацию.
85. Способ по любому из пп.82–84, отличающийся тем, что варьирование интенсивности испускаемого УФ-излучения на поверхности подложки предусматривает преломление испускаемого УФ-излучения путем вставки линзы между источником УФ-излучения и поверхностью подложки.
86. Способ по любому из пп.82–85, отличающийся тем, что варьирование интенсивности испускаемого УФ-излучения на поверхности подложки предусматривает наклон поверхности подложки относительно источника УФ-излучения.
87. Способ по любому из пп.82–86, отличающийся тем, что варьирование интенсивности испускаемого УФ-излучения на поверхности подложки предусматривает обеспечение поступательного перемещения поверхности подложки мимо источника УФ-излучения с варьирующимися скоростями.
88. Способ по любому из пп.82–87, отличающийся тем, что варьирование интенсивности испускаемого УФ-излучения на поверхности подложки предусматривает отражение испускаемого УФ-излучения из источника УФ-излучения от отражателя на подложку.
89. Способ по любому из пп.82–88, отличающийся тем, что поверхность подложки является по существу плоской.
90. Способ по любому из пп.82–89, отличающийся тем, что подложка содержит фильтрующую среду.
91. Способ по любому из пп.82–90, отличающийся тем, что по меньшей мере часть обработанной поверхности характеризуется углом скатывания, находящимся в диапазоне от 50 градусов до 90 градусов, и краевым углом, находящимся в диапазоне от 90 градусов до 180 градусов, для капли воды объемом 50 мкл, если поверхность подложки погружена в толуол.
92. Способ по любому из пп.82–91, отличающийся тем, что подложка содержит по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента.
2
2
93. Способ по любому из пп.82–92, отличающийся тем, что УФ-излучение находится в диапазоне от 300 мкВт/см до 200 мВт/см.
94. Способ, включающий
расположение поверхности подложки в диапазоне обработки источника УФ-излучения;
вставку линзы между источником УФ-излучения и поверхностью подложки;
испускание УФ-излучения из источника УФ-излучения и прохождение через линзу, вследствие чего испускаемое УФ-излучение преломляется; и
подвергание поверхности подложки воздействию преломленного УФ-излучения из линзы для модификации поверхности подложки.
95. Способ по п.94, отличающийся тем, что подвергание поверхности подложки воздействию УФ-излучения приводит к модификациям поверхности подложки, которые отражают градиенты интенсивности подвергания его воздействию.
96. Способ по любому из пп.94–95, отличающийся тем, что подложка содержит фильтрующую среду.
97. Способ по любому из пп.94–96, отличающийся тем, что по меньшей мере часть поверхности подложки характеризуется углом скатывания, находящимся в диапазоне от 50 градусов до 90 градусов, и краевым углом, находящимся в диапазоне от 90 градусов до 180 градусов, для капли воды объемом 50 мкл, если поверхность погружена в толуол.
98. Способ по любому из пп.94–97, отличающийся тем, что поверхность подложки содержит по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента.
99. Способ по любому из пп.94–98, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется длиной волны, находящейся в диапазоне от 350 нм до 370 нм.
100. Способ по любому из пп.94–99, отличающийся тем, что поверхность подложки является стабильной.
101. Способ по любому из пп.94–100, отличающийся тем, что дополнительно включает подвергание поверхности воздействию кислорода при подвергании поверхности воздействию фильтрованного УФ-излучения.
102. Способ по любому из пп.94–101, отличающийся тем, что подвергание поверхности воздействию УФ-излучения осуществляют в течение периода времени, находящегося в диапазоне от 2 с до 20 мин.
103. Способ по любому из пп.94–102, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется первой длиной волны, находящейся в диапазоне от 180 нм до 210 нм, и второй длиной волны, находящейся в диапазоне от 210 нм до 280 нм.
104. Способ, включающий
обеспечение того, чтобы один или несколько волноводов простирались от источника УФ-излучения до места обработки;
расположение поверхности подложки в диапазоне УФ-обработки, относящемся к месту обработки;
испускание УФ-излучения из источника УФ-излучения и прохождение через один или несколько волноводов; и
подвергание поверхности подложки воздействию УФ-излучения из одного или нескольких волноводов для модификации частей поверхности подложки.
105. Способ по п.104, отличающийся тем, что подложка содержит фильтрующую среду.
106. Способ по любому из пп.104–105, отличающийся тем, что модифицированные части поверхности подложки характеризуются углом скатывания, находящимся в диапазоне от 50 градусов до 90 градусов, и краевым углом, находящимся в диапазоне от 90 градусов до 180 градусов, для капли воды объемом 50 мкл, если поверхность погружена в толуол.
107. Способ по любому из пп.104–106, отличающийся тем, что поверхность подложки содержит по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента.
108. Способ по любому из пп.104–107, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется длиной волны, составляющей 185 нм.
109. Способ по любому из пп.104–108, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется длиной волны, находящейся в диапазоне от 350 нм до 370 нм.
2
2
110. Способ по любому из пп.104–109, отличающийся тем, что УФ-излучение находится в диапазоне от 300 мкВт/см до 200 мВт/см.
2
2
111. Способ по любому из пп.104–110, отличающийся тем, что дополнительно включает подвергание поверхности воздействию HO при подвергании поверхности воздействию УФ-излучения.
112. Способ по любому из пп.104–111, отличающийся тем, что дополнительно включает подвергание поверхности воздействию кислорода при подвергании поверхности воздействию УФ-излучения.
113. Способ по любому из пп.104–112, отличающийся тем, что подвергание поверхности воздействию УФ-излучения осуществляют в течение периода времени, находящегося в диапазоне от 2 с до 20 мин.
114. Способ, включающий
размещение поверхности подложки в месте обработки;
испускание УФ-излучения из источника УФ-излучения;
расположение отражателя так, чтобы принимать испускаемое УФ-излучение и отражать принятое УФ-излучение на поверхность подложки; и
подвергание поверхности подложки воздействию отраженного УФ-излучения из отражателя для модификации поверхности подложки.
115. Способ по п.114, отличающийся тем, что подложка содержит фильтрующую среду.
116. Способ по любому из пп.114–115, отличающийся тем, что модифицированная поверхность подложки характеризуется углом скатывания, находящимся в диапазоне от 50 градусов до 90 градусов, и краевым углом, находящимся в диапазоне от 90 градусов до 180 градусов, для капли воды объемом 50 мкл, если поверхность погружена в толуол.
117. Способ по любому из пп.114–116, отличающийся тем, что поверхность подложки содержит по меньшей мере один из ароматического компонента и ненасыщенного компонента.
2
2
118. Способ по любому из пп.114–117, отличающийся тем, что УФ-излучение находится в диапазоне от 300 мкВт/см до 200 мВт/см.
119. Способ по любому из пп.114–118, отличающийся тем, что УФ-излучение характеризуется первой длиной волны, находящейся в диапазоне от 180 нм до 210 нм, и второй длиной волны, находящейся в диапазоне от 210 нм до 280 нм.
2
2
120. Способ по любому из пп.114–119, отличающийся тем, что обработка поверхности предусматривает подвергание поверхности воздействию HO.
121. Способ по любому из пп.114–120, отличающийся тем, что обработка поверхности предусматривает подвергание поверхности воздействию ультрафиолетового (УФ) излучения, характеризующегося длиной волны, находящейся в диапазоне от 350 нм до 370 нм.
122. Способ по любому из пп.114–121, отличающийся тем, что обработка поверхности предусматривает подвергание поверхности воздействию УФ-излучения в течение промежутка времени, находящегося в диапазоне от 2 с до 20 мин.
123. Способ обработки подложки, включающий
нанесение покрытия на поверхность подложки с определением покрытой поверхности, определяющей первый узор, и непокрытой поверхности, определяющей второй узор, при этом одна из покрытой поверхности и непокрытой поверхности характеризуется увеличенным углом скатывания для капли воды объемом 50 мкл, если поверхность погружена в толуол, по сравнению с другой из покрытой поверхности и непокрытой поверхности.
124. Способ по п.123, отличающийся тем, что дополнительно включает следующее: после нанесения покрытия поверхность подложки подвергают воздействию УФ-излучения, что приводит к обработке одной из покрытой поверхности и непокрытой поверхности.
125. Способ по любому из пп.123–124, отличающийся тем, что подвергание поверхности подложки воздействию УФ-излучения приводит к модифицированию покрытой поверхности.
126. Способ по любому из пп.123–125, отличающийся тем, что подвергание поверхности подложки воздействию УФ-излучения приводит к модифицированию непокрытой поверхности.
127. Способ по любому из пп.123–126, отличающийся тем, что подложка содержит фильтрующую среду.
128. Способ по любому из пп.123–127, отличающийся тем, что покрытие содержит волокнистый слой.
129. Способ по любому из пп.123–128, отличающийся тем, что покрытие содержит нановолокно.
130. Способ по любому из пп.123–129, отличающийся тем, что угол скатывания для по меньшей мере одной из покрытой поверхности и непокрытой поверхности находится в диапазоне от 50 градусов до 90 градусов для капли воды объемом 50 мкл, если поверхность погружена в толуол, и угол скатывания для другой из покрытой поверхности и непокрытой поверхности составляет от 0 градусов до 50 градусов.
131. Способ по любому из пп.123–130, отличающийся тем, что подвергание поверхности подложки воздействию УФ-излучения предусматривает обеспечение поступательного перемещения подложки мимо источника УФ-излучения.
132. Способ по любому из пп.123–131, отличающийся тем, что покрытие содержит полимер, содержащий гидрофильную группу, и непокрытая поверхность не содержит полимер, содержащий гидрофильную группу.
133. Способ по любому из пп.123–132, отличающийся тем, что непокрытая поверхность содержит полимер, содержащий гидрофильную группу, и покрытая поверхность не содержит полимер, содержащий гидрофильную группу.