СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОЛИГИДРОКСИКАРБОНОВОЙ КИСЛОТЫ

1. Способ получения полимолочной кислоты, включающий стадии:
(i) осуществления полимеризации с раскрытием цикла, с использованием катализатора, и либо соединение деактиватора катализатора, либо добавку, блокирующую концевые группы, для получения неочищенной полимолочной кислоты с молекулярной массой более 10000 г/моль,
(ii) очистки неочищенной полимолочной кислоты путем удаления и отделения низкокипящих соединений, включающих лактид и примеси, из неочищенной полимолочной кислоты, посредством удаления летучих низкокипящих соединений в виде газофазного потока,
(iii) очистки лактида из стадии удаления летучих компонентов и удаления примесей из газофазного потока испаренных низкокипящих соединений с помощью кристаллизации десублимацией из газовой фазы,
в котором лактид очищают, и удаленные примеси включают остаток катализатора и соединение, содержащее, по меньшей мере, одну гидроксильную группу, так, что очищенный лактид затем полимеризуют, подавая его обратно в полимеризацию раскрытия кольца.
2. Способ по п. 1, в котором десублимация происходит на охлажденной поверхности.
3. Способ по п. 1 или 2, в котором устройство для кристаллизации и устройство для удаления летучих компонентов работает по существу в одинаковых условиях вакуума.
4. Способ по п. 1 или 2, в котором десублимация и кристаллизация происходят в одном и том же устройстве.
5. Способ по п. 3, в котором десублимация и кристаллизация происходят в одном и том же устройстве.
6. Способ по п. 3, в котором устройство для кристаллизации не имеет потока инертного газа.
7. Способ по п. 4, в котором устройство для кристаллизации не имеет потока инертного газа.
8. Способ по п. 1 или 2, в котором испаренный газофазный поток из стадии удаления летучих компонентов содержит, по меньшей мере, 30% лактида, предпочтительно, по меньшей мере, 60%, наиболее предпочтительно, по меньшей мере, 90%.
9. Способ по п. 1 или 2, в котором лактид сначала поступает на стадию выпотевания, за которой следует стадия плавления, перед его подачей обратно на стадию полимеризации с раскрытием цикла.
10. Способ по п. 1 или 2, в котором удаление летучих компонентов происходит при парциальном давлении лактида, составляющем менее 20 мбар (2 кПа), предпочтительно менее 10 мбар (1 кПа), особенно предпочтительно менее 5 мбар (0,5 кПа).
11. Способ по п.п. 1 или 2, в котором удаленные примеси включают или металлорганическое соединение, или карбоновую кислоту.
12. Способ по п. 3, в котором удаленные примеси включают или металлорганическое соединение, или карбоновую кислоту.
13. Способ по п. 4, в котором удаленные примеси включают или металлорганическое соединение, или карбоновую кислоту.
14. Способ по п. 5, в котором удаленные примеси включают или металлорганическое соединение, или карбоновую кислоту.
15. Способ по п. 6, в котором удаленные примеси включают или металлорганическое соединение, или карбоновую кислоту.
16. Способ по п. 7, в котором удаленные примеси включают или металлорганическое соединение, или карбоновую кислоту.
17. Способ по п. 8, в котором удаленные примеси включают или металлорганическое соединение, или карбоновую кислоту.
18. Способ по п. 9, в котором удаленные примеси включают или металлорганическое соединение, или карбоновую кислоту.
19. Способ по п. 1 или 2, в котором, по меньшей мере, часть потока продувки из кристаллизации возвращается обратно в стадию очистки неочищенного лактида, стадию предварительной полимеризации и димеризации или в стадию удаления растворителя в производстве очищенного лактида.
20. Способ по п. 9, в котором жидкость из стадии выпотевания собирают и повторно кристаллизуют для извлечения лактида.
21. Устройство для осуществления способа по п. 1, включающее:
реактор полимеризации для проведения полимеризации с раскрытием цикла, чтобы получить неочищенную полимолочную кислоту,
устройство удаления летучих компонентов для отделения низкокипящих соединений, включающих лактид и примеси, от неочищенной полимолочной кислоты,
и устройство кристаллизации для очистки лактида и удаления примесей с помощью десублимации и кристаллизации в том же самом устройстве кристаллизации.
22. Устройство по п. 21, в котором никакие средства дросселирования или вакуумные насосы не располагаются между устройством кристаллизации и устройством удаления летучих компонентов.
23. Устройство по любому из пп. 21-22, в котором теплообменник расположен между устройством удаления летучих компонентов и устройством кристаллизации.
24. Устройство по любому из пп. 21-22, в котором устройство кристаллизации имеет поверхности теплообмена для затвердевания газообразного потока.
25. Устройство по п. 23, в котором устройство кристаллизации имеет поверхности теплообмена для затвердевания газообразного потока.