АНАЛИЗ ОБРАЗЦА С ПОМОЩЬЮ МАССОВОЙ ЦИТОМЕТРИИ

1. Способ анализа образца с помощью массовой цитометрии, содержащий:
обеспечение образца (18), маркированного более чем одним элементарным маркером (Tn);
обеспечение кодированной подложки (12) для поддержки образца (18), сконфигурированной с кодировкой (20) подложки;
направление по меньшей мере одного лазерного импульса (24) на локализацию (22) образца (18) и генерирование дискретного шлейфа (26) для каждого из по меньшей мере одного лазерного импульса (24), причем каждый дискретный шлейф (26) содержит по меньшей мере одно из более чем одного элементарного маркера (Tn) и кодировки (20) подложки;
введение каждого дискретного шлейфа (26) в индуктивно сопряженную плазму (14) и генерирование групп элементарных ионов (28), каждая из которых соответствует по меньшей мере одному из каждого из более чем одного элементарного маркера (Tn) и кодировки (20) подложки;
обнаружение каждой из групп элементарных ионов (28) одновременно для каждого дискретного шлейфа (26);
корреляцию обнаруженных групп элементарных ионов (28) с кодировкой (20) подложки; и
идентификацию более чем одного элементарного маркера (Tn) как функции кодировки (20) подложки.
2. Способ по п. 1, дополнительно содержащий идентификацию локализации (22) более чем одного элементарного маркера (Tn) как функции кодировки (20) подложки.
3. Способ по п. 2, дополнительно содержащий генерирование профиля (34) распределения, соответствующего идентифицированным более чем одному элементарным маркерам (Tn).
4. Способ по п. 3, в котором профиль (34) распределения является трехмерным профилем элементарного маркера образца (18).
5. Способ по п. 4, в котором кодировка (20) подложки содержит композиции металлов (Xn), организованные для представления положений на кодированной подложке (12).
6. Способ по п. 5, в котором каждый из дискретных шлейфов
(26) содержит более одного элементарного маркера (Τn).
7. Способ по любому из пп. 1-6, дополнительно содержащий введение опорного элемента в маркированный образец (18).
8. Способ по п. 7, в котором дискретный шлейф дополнительно содержит опорный элемент, так что по меньшей мере одна из групп элементарных ионов соответствует опорному элементу.
9. Способ по п. 8, в котором локализация (22) маркированного образца (18) предопределена как имеющая интересующее свойство.
10. Способ по п. 9, в котором интересующее свойство выбирается по одному из флюоресценции, фосфоресценции, отражения, поглощения, распознавания формы и физической особенности.
11. Способ по п. 1, в котором образец (18) является образцом ткани.
12. Способ по п. 11, в котором по меньшей мере один элементарный маркер (Τn) является изотопом переходного металла.
13. Система массового цитометра для анализа образца, содержащая:
кодированную подложку (12) для поддержки образца (18), которая конфигурируется с кодировкой (20) подложки, содержащей матрицу закодированных композиций металлов (Xn);
систему лазерной абляции, выполненную с возможностью генерировать шлейф (26) из образца (18) и из кодировки (20) подложки; и
массовый цитометр (10), соединенный с кодированной подложкой (12) для получения шлейфа (26), имеющий источник (14) ионов для генерации групп элементарных ионов (28) из шлейфа (26) и детектор ионов для обнаружения групп элементарных ионов (28).
14. Система массового цитометра по п. 13, дополнительно содержащая полный путь, определяемый между кодированной подложкой (12) и детектором ионов, который выполнен с возможностью обеспечения общего времени задержки от 20 до 200 мс.
15. Система массового цитометра по п. 13 или 14, в которой кодированные композиции металлов (Xn) содержат совокупности
изотопов переходных металлов.
16. Система массового цитометра по п. 15, в которой кодированные композиции металлов (Xn) располагаются на поверхности кодированной подложки (12).
17. Система массового цитометра по п. 16, в которой кодированные композиции металлов (Xn) располагаются в углублениях на поверхности кодированной подложки (12).
18. Система массового цитометра по п. 13, в которой кодированные композиции металлов (Xn) содержат металл или неметаллический флуоресцентный материал.
19. Поддержка образца для массовой цитометрии лазерной абляции, содержащая кодированную подложку (12), имеющую поверхность для поддержки интересующего образца (18), и сконфигурированную с кодировкой (20) подложки, расположенной для кодирования кодированной подложки.
20. Поддержка по п. 19, в которой кодировка (20) подложки содержит матрицу кодированных композиций металлов (Xn).
21. Поддержка по п. 20, в которой каждая из кодированных композиций металлов (Xn) в матрице является различимой в соответствии с ее отношением массы к заряду.
22. Поддержка по п. 21, в которой кодированные композиции металлов (Xn) содержат изотопы переходных металлов.
23. Поддержка образца по п. 22, в которой изотопы переходных металлов находятся в углублениях на поверхности кодированной подложки (12).
24. Поддержка образца по п. 22, в которой кодированные композиции металлов (Xn) изготавливаются с помощью одного из процессов молекулярно-пучковой эпитаксии и фотолитографии.
25. Поддержка образца по п. 20, в которой каждая из кодированных композиций металлов (Xn) в матрице является различимой в соответствии с ее спектром флуоресцентного излучения.