УСТРОЙСТВО ПЛАЗМЕННОГО ОСАЖДЕНИЯ

1. Устройство плазменного осаждения, включающее вакуумную камеру с крышкой, в которой расположены держатель подложки (пьедестал) с подложкой, индуктор ВЧ разряда, отличающееся тем, что индуктор ВЧ разряда расположен внутри вакуумной камеры и выполнен в виде металлической спирали, расположенной внутри диэлектрической охлаждаемой оболочки, повторяющей форму индуктора и прозрачной для ВЧ электромагнитного поля.
2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что на вертикальной стенке по периметру вакуумной камеры между крышкой и пьедесталом, для отрабатываемых пластин, размещены цилиндрические вводы СВЧ плазмы.
3. Устройство по п.1, отличающееся тем, что индуктор ВЧ разряда имеет возможность вертикального перемещения.
4. Устройство по п.1, отличающееся тем, что вакуумная камера снабжена каналами с оптически прозрачными окнами для лазера и спектрометра.
5. Устройство по п.1, отличающееся тем, что пьедестал имеет возможность вертикального перемещения.