ОБРАБОТОЧНАЯ ПЛАСТИНА ДЛЯ УСТРОЙСТВА ОБРАБОТКИ ОДЕЖДЫ

1. Обработочная пластина (10) для устройства (100) обработки одежды, имеющая контактную поверхность (13), которая при использовании скользит по обрабатываемой одежде (200), причем контактная поверхность (13) содержит покрытие (20), содержащее металлооксидное покрытие (21), причем металлооксидное покрытие (21) содержит
первые ионы металла, выбранные из группы, состоящей из титана (Ti), циркония (Zr), гафния (Hf), скандия (Sc) и иттрия (Y); и
вторые ионы металла, выбранные из группы, состоящей из церия (Ce), марганца (Mn), и кобальта (Co), отличающаяся тем, что покрытие (20) содержит многослойное покрытие, содержащее по меньшей мере один слой, выбранный из группы, состоящей из металлического слоя, эмали, содержащего органический полимер слоя, содержащего органосиликат слоя, содержащего силикат слоя, и содержащее упомянутое металлооксидное покрытие (21) в качестве внешнего слоя.
2. Обработочная пластина (10) по п. 1, в которой первые ионы металла выбирают из группы, состоящей из титана (Ti) и циркония (Zr).
3. Обработочная пластина (10) по п. 1, в которой первые ионы металла являются ионами циркония (Zr).
4. Обработочная пластина (10) по любому из предшествующих пунктов, в которой вторые ионы металла выбирают из группы, состоящей из церия (Ce) и марганца (Mn).
5. Обработочная пластина (10) по любому из предшествующих пунктов, в которой вторые ионы металла являются ионами церия (Ce).
6. Обработочная пластина (10) по любому из предшествующих пунктов, в которой металлооксидное покрытие (21) содержит соотношение между вторыми ионами металла и первыми ионами металла, равное по меньшей мере 0,015.
7. Обработочная пластина (10) по любому из предшествующих пунктов, в которой металлооксидное покрытие (21) содержит соотношение между вторыми ионами металла и первыми ионами металла, равное по меньшей мере 0,075.
8. Обработочная пластина (10) по любому из предшествующих пунктов, в которой металлооксидное покрытие (21) содержит соотношение между вторыми ионами металла и первыми ионами металла, равное максимально 2.
9. Обработочная пластина (10) по любому из предшествующих пунктов, в которой металлооксидное покрытие (21) имеет толщину (d) слоя, выбранную из диапазона 50 нанометров - 5 микрометров.
10. Обработочная пластина (10) по любому из предшествующих пунктов, в которой металлооксидное покрытие (21) является золь-гель металлооксидным покрытием (21).
10
11. Обработочная пластина (10) по любому из предшествующих пунктов, в которой металлооксидное покрытие (21) имеет поверхностное сопротивление слоя, меньшее или равное 1×10 Ом/квадрат.
12. Устройство (100) обработки одежды, содержащее обработочную пластину (10) по любому из предшествующих пунктов, причем устройство (100) обработки одежды выбрано из группы устройств, состоящей из утюга, парового утюга, и отпаривателя.
13. Способ обеспечения обработочной пластины (10) для устройства (100) обработки одежды, причем обработочная пластина (10) имеет контактную поверхность (13), которая при использовании скользит по обрабатываемой одежде (200), причем способ содержит этап, на котором обеспечивают по меньшей мере на части контактной поверхности (13) металлооксидное покрытие (21), причем металлооксидное покрытие (21) содержит
первые ионы металла, выбранные из группы, состоящей из титана (Ti), циркония (Zr), гафния (Hf), скандия (Sc) и иттрия (Y); и
вторые ионы металла, выбранные из группы, состоящей из церия (Ce), марганца (Mn), и кобальта (Co), отличающийся тем, что содержит
этап, на котором обеспечивают исходное вещество металлооксидного покрытия (21) на упомянутой поверхности (13) для обеспечения осажденного слоя (121), и этап, на котором отверждают осажденный слой (121) для обеспечения упомянутого металлооксидного покрытия (21).