ПОДЛОЖКА С ПОКРЫТИЕМ И СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОДЛОЖКИ С ПОКРЫТИЕМ

1. Прозрачная подложка типа стекла с многослойным покрытием из тонких слоев, содержащих:
i) по меньшей мере один нижний слой на основе оксида титана, и
ii) основной слой на основе оксида олова толщиной более 250 нм, причем подложка с покрытием имеет помутнение менее 2%, предпочтительно менее 1,5% и более предпочтительно менее 1%.
2. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что слой на основе оксида олова ii) имеет толщину более 350 нм, предпочтительно более 400 нм и более предпочтительно более 500 нм.
3. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что толщина слоя на основе оксида титана i) составляет более 3 нм, предпочтительно более 5 и более предпочтительно более 7 нм и менее 45 нм, предпочтительно менее 25 нм и более предпочтительно менее 15 нм.
4. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что слой на основе оксида титана i) наносят непосредственно на стекло.
5. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что слой на основе оксида олова ii) допируют одним или более элементами, выбранными из фтора, сурьмы, алюминия, хрома, кобальта, железа, марганца, магния, никеля, ванадия и цинка, предпочтительно из фтора и сурьмы.
6. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что поверхностное сопротивление многослойного покрытия из слоев составляет менее 40 Ом/квадрат предпочтительно менее 15 Ом/квадрат и более предпочтительно менее 12 Ом/квадрат.
7. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что нормальная излучательная способность подложки с покрытием составляет менее 0,3, предпочтительно менее 0,15 и более предпочтительно менее 0,12.
8. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что нормальная излучательная способность подложки с покрытием составляет менее 0,12, а помутнение составляет менее 2%, предпочтительно 1%.
9. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что помутнение составляет менее 1%, а нормальная излучательная способность подложки с покрытием составляет менее 0,3, предпочтительно менее 0,15.
10. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что поверхностное сопротивление подложки с покрытием составляет менее 12 Ом/квадрат, а помутнение составляет менее 2%, предпочтительно менее 1%.
11. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что помутнение составляет менее 1%, а сопротивление на квадрат составляет менее 4 Ом/квадрат, предпочтительно менее 20 Ом/квадрат.
12. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что слои многослойного покрытия наносят газофазным пиролизом (ХОП).
13. Подложка по п.1, отличающаяся тем, что нижний слой (i) наносят во флоат-ванне.
14. Подложка по любому из предшествующих пунктов, отличающаяся тем, что нижний слой (i) содержит первый слой на основе оксида титана (ia) и второй слой на основе оксида кремния (ib).
15. Подложка по п.14, отличающаяся тем, что слой на основе оксида кремния (ib) имеет толщину в интервале между 15 и 50 нм, предпочтительно между 20 и 40 нм.
16. Способ изготовления подложки с покрытием, предусматривающий следующие стадии:
а) по меньшей мере один нижний слой на основе оксида металла (i) наносят на прозрачную подложку типа стекла газофазным пиролизом;
б) слой на основе оксида олова (ii) более 250 нм наносят газофазным пиролизом, используя испаренную смесь следующих предшественников: источник олова, источник фтора и вода, причем объемное отношение вода/источник олова составляет менее 10, предпочтительно менее 5 и более предпочтительно менее 1.
17. Способ по п.16, отличающийся тем, что по меньшей мере один нижний слой на основе оксида металла (i) наносят, используя нехлорированные предшественники.
18. Способ по п.16, отличающийся тем, что нижний слой наносят на ленту стекла при температуре в интервале между 600 и 750°С, предпочтительно между 620 и 720°С и более предпочтительно между 650 и 700°С.
19. Способ по п.16, отличающийся тем, что предшественник, используемый для нанесения нижнего слоя (i), представляет собой металл, в частности титан.
20. Способ по любому из пп.16-19, отличающийся тем, что предшественник, используемый для нанесения слоя (ii), представляет собой органическое и/или галогенированное соединение олова.