МОДИФИЦИРОВАННЫЙ ПРОЦЕСС МИКРОШЛИФОВАНИЯ

1. Способ механической обработки пластины, имеющей первую и вторую противоположные основные поверхности, включающий:
шлифование первой основной поверхности пластины с использованием первого связанного абразива; и
шлифование второй основной поверхности с использованием второго связанного абразива, при этом второй связанный абразив имеет размер зерна более грубый, чем размер зерна первого связанного абразива, причем по меньшей мере часть шлифования первой и второй основных поверхностей пластины происходит одновременно.
2. Способ по п. 1, в котором пластина является сапфировой подложкой.
3. Способ по п. 1, в котором:
первый связанный абразив имеет средний размер частиц абразива не более чем 5 микрон, не более чем 20 микрон, не более чем 35 микрон или не более чем 75 микрон; и
второй связанный абразив имеет средний размер частиц абразива по меньшей мере 60 микрон, по меньшей мере 80 микрон, по меньшей мере 100 микрон или по меньшей мере 200 микрон.
4. Способ по любому из предыдущих пунктов, в котором разность между средним размером частиц абразива в верхнем диске со связанным абразивом и средним размером частиц абразива в нижнем диске со связанным абразивом по меньшей мере 20 микрон, по меньшей мере 50 микрон или по меньшей мере 100 микрон.
5. Способ по любому из пп. 1-4, в котором шлифование первой основной поверхности пластины и шлифование второй основной поверхности пластины содержит шлифование этой пластины между плитой с первым абразивом и плитой со вторым абразивом, плита со вторым абразивом имеет более грубый абразив, чем плита с первым абразивом, причем плита с первым абразивом шлифует первую основную поверхность пластины, а плита со вторым абразивом шлифует вторую основную поверхность пластины.
6. Способ по п. 5, в котором плита со вторым абразивом расположена под плитой с первым абразивом таким образом, что плита со вторым абразивом шлифует нижнюю поверхность пластины, а плита с первым абразивом шлифует верхнюю поверхность пластины.
7. Способ по любому из пп. 1-3, в котором шлифование первой основной поверхности и шлифование второй основной поверхности пластины содержит:
помещение пластины между плитой с первым абразивом и плитой со вторым абразивом таким образом, что верхняя грань пластины находится в плоском контакте со шлифующей поверхностью плиты с первым абразивом, а нижняя грань пластины находится в плоском контакте со шлифующей поверхностью плиты со вторым абразивом;  и
вращение указанных абразивных плит, пластины или любой их комбинации для шлифования верхней и нижней граней сапфировой пластины.
8. Способ по любому из пп. 1-3, в котором шлифование первой основной поверхности и шлифование второй основной поверхности пластины содержит:
размещение по меньшей мере одной пластины в круглом держателе, расположенном между плитой с первым абразивом и плитой со вторым абразивом;
приведение верхней грани пластины в плоский контакт со шлифующей поверхностью плиты с первым абразивом, а нижней грани пластины в плоский контакт со шлифующей поверхностью плиты со вторым абразивом;
вращение абразивных плит; и
вращение держателя для вращения пластины между вращающимися абразивными плитами.
9. Способ по любому из предыдущих пунктов, дополнительно включающий применение шлифовальной жидкости для охлаждения шлифующих поверхностей и для удаления свободного абразивного материала или стружки.
10. Способ по п.9, дополнительно включающий повторную циркуляцию шлифовальной жидкости после того, как она была использована для охлаждения шлифовальных поверхностей и для удаления свободного абразивного материала или стружки, и фильтрацию использованной шлифовальной жидкости перед ее  повторным введением для предотвращения повреждения поверхности пластины свободными грубыми абразивными частицами в повторно циркулирующей шлифовальной жидкости во время шлифования.
11. Способ по любому из предыдущих пунктов, в котором, когда шлифовальный процесс завершен,  шероховатость поверхности на стороне пластины, обработанной при помощи второго связанного абразива, будет по меньшей мере 4000 Å, по меньшей мере 5000 Å или по меньшей мере 7000 Å.
12. Способ по любому из предыдущих пунктов, в котором, когда шлифовальный процесс завершен, шероховатость поверхности на стороне пластины, обработанной при помощи первого связанного абразива, будет не более чем 1000 Å, не более чем 500 Å или не более чем 100 Å.
13. Устройство для двустороннего шлифования плоской подложки, содержащее:
верхнюю и нижнюю шлифовальные плиты, при этом указанные две шлифовальные плиты установлены коаксиально таким образом, что между ними может быть расположена подложка, а шлифовальные плиты выполнены с возможностью вращения вокруг их коаксиальной центральной оси при помощи механизма привода шлифовальных плит;
держатель подложки, расположенный между этими двумя шлифовальными плитами и содержащий механизм привода держателя для вращения этого держателя вокруг его собственной центральной оси и вокруг коаксиальной центральной оси верхней и нижней шлифовальных плит; и
верхний диск со связанным абразивом, установленный на внутренней поверхности верхней шлифовальной плиты, и нижний диск со связанным абразивом, установленный на внутренней поверхности нижней шлифовальной плиты, причем нижний диск со связанным абразивом имеет более грубое зерно, чем верхний диск со связанным абразивом, таким образом, что двустороннее шлифование подложки удаляет материал с противоположных поверхностей подложки с различными скоростями, и что двустороннее шлифование подложки создает противоположные поверхности подложки, имеющие различные шероховатости поверхности.
14. Устройство по п. 13, в котором разность между средним размером частиц абразива в верхнем диске со связанным абразивом и средним размером частиц абразива в нижнем диске со связанным абразивом по меньшей мере 20 микрон, по меньшей мере 50 микрон или по меньшей мере 100 микрон.
15. Устройство по п. 13 или 14, в котором верхний диск со связанным абразивом, нижний диск со связанным абразивом содержат связанный абразив со связующим.