СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТЕРМОСТОЙКОГО НЕГАТИВНОГО ФОТОРЕЗИСТА

1. Способ получения негативного термостойкого фоторезиста, включающий получение полимерной матрицы путем проведения поликонденсации кислотной и аминной компоненты в амидном растворителе с введением в полимерный раствор светочувствительного компонента, отличающийся тем, что в качестве полимерной матрицы используют продукт поликонденсации дихлорида изофталевой кислоты и смеси 3,3'-дигидрокси-4,4'-диаминодифенилметана и бис-(3-аминопропил)диметилсил океана амидном растворителе с содержанием влаги 0,03-0,04 мас.% в присутствии эпихлоргидрина, а в качестве светочувствительного компонента используют β,β-бис-нафтохинондиазидо-(1,2)-4-сульфоэфир-(4-гидроксифенил)пропана.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что смесь 3,3'-дигидрокси-4,4'-диаминодифенилметана и бис-(3-аминопропил)диметил-силоксана вводят реакцию при массовом соотношении от 9:1 до 1:9.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что количество вводимого эпихлоргидрина составляет 2 г/моль.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что β,β-бис-нафтохинондиазидо-(1,2)-4-сульфоэфир-(4-гидроксифенил)пропана вводят в количестве 7,5-3,5 мас.%
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что указанные компоненты использую при следующем соотношении, мас.%:
Кремнийсодержащий поли(о-гидроксиамид)
28-21
Эпихлоргидрин
25-18
β,β-(3-бис-нафтохинондиазидо-
(1,2)-4-сульфоэфир-(4-гидроксифенил)пропана
7,5-3,5
Амидный растворитель
Остальное