СЛОЙ MCrAlX С РАЗЛИЧНЫМ СОДЕРЖАНИЕМ ХРОМА И АЛЮМИНИЯ

1. Система (1, 120, 130, 155) слоев, имеющая подложку (4) и двухслойный MCrAlX-слой (13), при этом слой (13) имеет: наружный MCrAlX-слой (10) и внутренний MCrAlX-слой (7), при этом содержание хрома наружного MCrAlX-слоя (10) ниже содержания хрома внутреннего MCrAlX-слоя (7), и при этом содержание алюминия наружного MCrAlX-слоя (10) выше содержания алюминия внутреннего MCrAlX-слоя (7), в которой внутренний MCrAlX-слой (7) имеет, мас.%:
Co: 8-22, предпочтительно 19-21,
Cr: 21-29, предпочтительно 23-25,
Al: 4-9, предпочтительно 6-8,
Y: 0,4-0,9, предпочтительно 0,4-0,6,
Re: 0-1,0, предпочтительно 0,
Ni,
в частности остаток никель (Ni).
2. Система (1, 120, 130, 155) слоев, имеющая подложку (4) и двухслойный MCrAlX-слой (13), при этом слой (13) имеет: наружный MCrAlX-слой (10) и внутренний MCrAlX-слой (7), при этом Х обозначает по меньшей мере иттрий (Y), и при этом содержание иттрия наружного слоя (10) ниже содержания иттрия внутреннего слоя (7), в которой внутренний MCrAlX-слой (7) имеет, мас.%:
Co: 8-22, предпочтительно 19-21,
Cr: 21-29, предпочтительно 23-25,
Al: 4-9, предпочтительно 6-8,
Y: 0,4-0,9, предпочтительно 0,4-0,6,
Re: 0-1,0, предпочтительно 0,
Ni,
в частности остаток никель (Ni).
3. Система слоев по любому из пп.1 или 2, в которой наружный MCrAlX-слой (10) имеет следующий состав, мас.%:
Ni: 29-39, предпочтительно 34-36,
Cr: 17-24, предпочтительно 19-21,
Al: 9-14, предпочтительно 11-12,
Y: 0,05-0,5, предпочтительно 0,1-0,2,
необязательно, Si: 0,1-1,1, предпочтительно 0,2-0,4,
Co,
предпочтительно остаток Co.
4. Система слоев по п.1 или 2, в которой наружный NiCoCrAlX-слой (10) имеет по меньшей мере один элемент из группы гафний (Hf), циркон (Zr), фосфор (P), в частности по меньшей мере 0,05 мас.%, в частности до 0,3 мас.%.
5. Система слоев по п.1 или 2, в которой MCrAlX-слой (13) является лишь двухслойным (7, 10).
6. Система слоев по п.1 или 2, в которой внутренний MCrAlX-слой (7) имеет ту же толщину слоя, что и наружный MCrAlX-слой (10).
7. Система слоев по п.1 или 2, в которой наружный MCrAlX-слой (10) значительно тоньше, чем внутренний MCrAlX-слой (7).
8. Система слоев по п.1 или 2, в которой MCrAlX-слой (7, 10) имеет NiCoCrAlX-слой (7, 10), в частности, состоит из него, при этом X=Y, Re.
9. Система слоев по п.3, в которой доля кремния (Si) в наружном слое (10) составляет 0,2-0,4 мас.%.
10. Система слоев по п.3, в которой доля кремния (Si) в наружном слое (10) составляет 0,7-1,0 мас.%.
11. Система слоев по п.1, в которой наружный слой (10) не содержит кремния (Si).
12. Система слоев по п.2, в которой содержание иттрия в наружном слое (10) составляет 0,05 - меньше 0,4 мас.%, в частности 0,1-0,2 мас.%.
13. Система слоев по п.2, в которой содержание иттрия во внутреннем слое (7) составляет больше 0,4-0,9 мас.%, в частности до 0,6 мас.%.
14. Система слоев по п.1 или 2, в которой на двухслойном MCrAlX-слое (13) имеется наружный керамический теплоизоляционный слой (16).
15. Система слоев по п.1 или 2, в которой система слоев состоит из подложки (4), двухслойного MCrAlX-слоя (7, 10), керамического теплоизоляционного слоя (16) на MCrAlX-слое (7, 10) и, необязательно, слоя TGO на наружном MCrAlX-слое (10).
16. Система слоев по п.1 или 2, в которой система слоев состоит из подложки (4), двухслойного MCrAlX-слоя (7, 10) и, необязательно, слоя TGO на наружном MCrAlX-слое (10).
17. Система слоев по п.1 или 2, в которой Х является иттрием.