ЭЛЕКТРОМАГНИТНАЯ ЛИНЗА

Заявляемая полезная модель относится к деталям электроннооптических устройств, а именно к конструкции электронно-магнитных линз для окончательной фокусировки электронного пучка в электронных микроскопах.
Известна конструкция электромагнитной линзы (ЭМЛ) для окончательной фокусировки электронного пучка в электронном микроскопе РЭМ-200. ЭШ содержит корпусов котором расположена обмотка возбуждения, поджатая фланцем, и, жестко закрепленный снизу корпуса, башмак с полюсным наконечником, имеющем осевое отверстие (Техническое описание и инструкция по эксплуатации растрового электронного микроскопа РЭМ-200 г.Оумы ГО Электрон 1978 г.).
Недостатком данной конструкции является реально существующая возможность повреждения полюсного наконечника исследуемым образцом при его перемещении, что приводит в негодность всю линзу
Задачей рещаемой заявляемой полезной моделью является обеспечение гарантированного срока службы ЭМЯ.
Технический результат - устранение возможности повреждения полюсного наконечника
Поставленная задача рещается заявляемой совокупностью существенных признаков
Предлагается конструкция ЭМЛ, содержащая корпус, в котором расположена обмотка возбуждения поджатая фланцем, бащмак жестко закрепленный снизу корпуса, в котором размещен полюсннй наконечник, имеющий осевое отверстие, и защитный экран, выполненный из
немагнитного металла, толщиной 2-4 мм, В защитном экране выполнено отверстие соосное отверстию полюсного наконечника, диаметром на 2-3 мм более диаметра отверстия полюсного наконечника. Защитный экран жестко закреплен на башмак с зазором 1-1,5 мм
Отличительными признаками заявляемой полезной модели являются:
-дополнительное введение в конструкцию ЭМЛ защитного экрана, выполненного из немагнитного металла толщиной 2-4 мм и имеющего отверстие соосное отверстию полюсного наконечника, и имеющего диаметр на 2-3 мм больще диаметра отверстия в полюсном наконечнике;
-жесткое крепление экрана под полюсным наконечником с зазором 1-1,5 мм.
Выполнение экрана из металла обеспечивает его электропроводность, в результате чего на экране не скапливается статистический заряд, который через крепежные винты и бащмак стекает на корпус линзы и далее на общее заземление прибора.
Выбор толщины экрана обусловлен тем, что при значении ее менее 2 мм не обеспечивается механическая прочность и жесткость, а при больших чем 4 мм толщинах завышается минимальное значение рабочего расстояния от линзы до образца, что ухудшает параметры изображения.
Жесткое крепление обеспечивает над ежность защиты полюсного наконечника, а винтовое соединение позволяет легко и быстро заменять поврежденный экран.
Зазор необходим для того, чтобы при случайных прогибах экрана не повредить полюсного наконечника поэтому его величина должна быть не менее I мм. Больщий же чем 1,5 мм зазор будет излишне увеличивать рабочее расстояние прибора.
Шнимальное превышение отверстия в экране по сравнению с отверстием в полюсном наконечнике на 2 мм позволит избежать контакта электронного пучка с экраном, а увеличение диаметра отверстия башмака более чем на 3 мм создает опасность доступа образца к полюсному наконечнику.
На рис.1 изображена конструкция электромагнитной линзы.
ЭМЛ состоит из корпуса I, имеющего осевой цилиндрический канал 2, в корпусе расположена обмотка возбуждения 3, которая поджимается фланцем 4, Снизу к корпусу винтами 5 крепится башмак б с полюсным наконечником 7, имеющим осевое отверстие 8 и защитный экран 9 с осевым отверстием 10. Зазор между экраном и башмаком задается шайбами II.
ЭШ работает следующим образом.
Исследуемый образец (на рис.не показан) вводится в камеру объектов (на рис .не показана), расположенную под ЭМ. Электронный пучок, проходя через канал 2ЭМЛ, и далее через отверстия 8,10 в полюсном наконечнике 7 и экрана 9 фокусируется на образец. Произвольно перемещаемый в ходе исследования образец иногда может касаться ЭШ. IIpi этом он вступает в контакт с защитным экраном 9, повреждая и деформируя его. Однако, в силу своей жесткости и прочности экран воспринимает воздействие образца на себя и не передает нагрузку или деформацию на полюсный наконечник. Небольшие размеры отверстия в экране также не позволяют образцу вступить в непосредственный контакт с полюсным наконехшиком.
В результате касания объектом полюсного наконечника становится невозможным, что приводит к сохранению последнего при взаимодействии ЭШ с исследуемым образцом.
Это позволяет длительно эксплуатировать ЭМЛ, а также сохранять постоянными параметры всей электронно-оптической системы в целом - разрешение, глубину резкости, достигаемое увеличение. (