УСТОЙЧИВОЕ К ЦАРАПИНАМ И ИЗНОСОСТОЙКОЕ СТЕКЛО

1. Стеклянная подложка с покрытием, содержащая
стеклянную подложку;
покрытие, содержащее гибридную сетку, содержащую по меньшей мере два оксида;
причем покрытие демонстрирует коэффициент трения менее 0,12 при измерении в соответствии со стандартом ASTM D7027; и
при этом покрытие демонстрирует критическую нагрузку царапания по меньшей мере приблизительно 10 кг при измерении в соответствии с испытанием ASTM C1624-05.
2. Стеклянная подложка с покрытием по п. 1, в которой оксиды образованы из алкоксида, имеющего следующую формулу:
x+
-
x,
M (OR)
причем x имеет значение от 1 до 4;
R представляет собой алкил или циклоалкил; и
M представляет собой катион металла или неметалла.
3. Стеклянная подложка с покрытием по п. 2, в которой M включает медь, алюминий, цинк, цирконий, кремний или титан.
4. Стеклянная подложка с покрытием по п. 1, в которой гибридная сетка содержит по меньшей мере три оксида.
5. Стеклянная подложка с покрытием по п. 1, в которой гибридная сетка содержит по меньшей мере четыре оксида.
6. Стеклянная подложка с покрытием по п. 1, в которой оксиды гибридной сетки включают по меньшей мере два элемента из кремния, титана, циркония, алюминия, меди и цинка.
7. Стеклянная подложка с покрытием по п. 1, в которой оксиды гибридной сетки включают по меньшей мере три элемента из кремния, титана, циркония, алюминия, меди и цинка.
8. Стеклянная подложка с покрытием по п. 1, в которой оксиды гибридной сетки включают по меньшей мере четыре элемента из кремния, титана, циркония, алюминия, меди и цинка.
9. Стеклянная подложка с покрытием по п. 1, в которой покрытие содержит менее чем приблизительно 5 мас.% углерода или соединений на основе углерода.
10. Стеклянная подложка с покрытием по п. 1, в которой покрытие демонстрирует выраженную в процентах прозрачность, составляющую приблизительно 75% или более.
11. Стеклянная подложка с покрытием по п. 1, в которой покрытие демонстрирует выраженную в процентах отражательную способность, составляющую менее чем приблизительно 12%.
12. Стеклянная подложка с покрытием по п. 1, в которой покрытие имеет толщину от приблизительно 15 нм до приблизительно 50 нм.
13. Способ изготовления стеклянной подложки с покрытием, содержащий этапы, на которых:
наносят покрытие на стеклянную подложку с помощью композиции для нанесения покрытия, содержащей растворитель и множество гидролизованных соединений,
нагревают покрытие и подложку с образованием гибридной сетки, содержащей по меньшей мере два оксида;
причем покрытие демонстрирует коэффициент трения менее 0,12 при измерении в соответствии со стандартом ASTM D7027; и
при этом покрытие демонстрирует критическую нагрузку царапания по меньшей мере приблизительно 10 кг при измерении в соответствии с испытанием ASTM C1624-05.
14. Способ по п. 13, в котором гидролизованное соединение представляет собой гидролизованный алкоксид, образованный из алкоксида, имеющего следующую формулу:
x+
-
x,
M (OR)
причем x имеет значение от 1 до 4;
R представляет собой алкил или циклоалкил; и
M представляет собой катион металла или неметалла.
15. Способ по п. 14, в котором M включает медь, алюминий, цинк, цирконий, кремний или титан.
16. Способ по п. 13, в котором гибридная сетка включает по меньшей мере три оксида.
17. Способ по п. 13, в котором гибридная сеть включает по меньшей мере четыре оксида.
18. Способ по п. 13, в котором оксиды гибридной сетки включают по меньшей мере два элемента из кремния, титана, циркония, алюминия, меди и цинка.
19. Способ по п. 13, в котором оксиды гибридной сетки включают по меньшей мере три элемента из кремния, титана, циркония, алюминия, меди и цинка.
20. Способ по п. 13, в котором оксиды гибридной сетки включают по меньшей мере четыре элемента из кремния, титана, циркония, алюминия, меди и цинка.
21. Способ по п. 13, в котором гидролизованное соединение представляет собой гидролизованный ацетат металла, образованный из ацетата металла.
22. Способ по п. 21, в котором ацетат металла содержит ацетат цинка, ацетат меди или их комбинацию.
23. Способ по п. 13, в котором нагревание проводят при температуре по меньшей мере приблизительно 500°C.
24. Способ по п. 13, дополнительно включающий выдерживание покрытия и стеклянной подложки перед этапом нагрева.
25. Способ по п. 24, в котором этап выдерживания выполняют при комнатной температуре.
26. Способ по п. 24, в котором этап выдерживания включает выдерживание покрытия в течение по меньшей мере приблизительно шести дней.
27. Способ по п. 24, в котором этап выдерживания включает выдерживание покрытия в течение по меньшей мере приблизительно четырнадцати дней.
28. Способ по п. 13, в котором композицию для нанесения покрытия наносят на подложку с помощью процесса нанесения покрытия способом центрифугирования.
29. Способ по п. 28, в котором скорость центрифугирования выбирают так, что после выпаривания раствора толщина покрытия составляет от приблизительно 15 нм до приблизительно 30 нм.
30. Способ по п. 13, в котором покрытие образовано в результате золь-гель процесса.