СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБРАБОТКИ ДИСПЕРСИОННЫХ МАТЕРИАЛОВ

1. Способ обработки дисперсионного материала в плазме, при котором плазмообразующий газ вводят в реакционную камеру и ионизируют, а дисперсионный материал вводят в реакционную камеру и в зону плазмы, подвергают обработке под воздействием плазмы и затем забирают из зоны плазмы, причем введение плазмообразующего газа и введение дисперсионного материала осуществляют независимо друг от друга и с разных направлений.
2. Способ по п.1, причем введение дисперсионного материала осуществляют в направлении, противоположном направлению введения плазмообразующего газа.
3. Способ по п.1, причем введение дисперсионного материала осуществляют в направлении, перпендикулярном направлению введения плазмообразующего газа.
4. Способ по п.3, причем введение дисперсионного материала осуществляют тангенциально к плазме.
5. Способ по любому из пп.1-4, причем плазмообразующий газ вводят с нижнего конца реакционной камеры с вертикальным восхождением.
6. Способ по любому из пп.1-4, причем дисперсионный материал, находящийся во взвешенном состоянии в рабочем газе, перемещают в циклоне.
7. Способ по п.5, причем дисперсионный материал, находящийся во взвешенном состоянии в рабочем газе, перемещают в циклоне.
8. Способ по п.6, причем циклон выполнен таким образом, что его ось совпадает с направлением введения плазмообразующего газа.
9. Способ по п.7, причем циклон выполнен таким образом, что его ось совпадает с направлением введения плазмообразующего газа.
10. Способ по п.6, причем дисперсионный материал после обработки в плазме охлаждают посредством рабочего газа циклона.
11. Способ по любому из пп.7-9, причем дисперсионный материал после обработки в плазме охлаждают посредством рабочего газа циклона.
12. Устройство для обработки дисперсионного материала в плазме, включающее реакционную камеру с плазменным генератором, который имеет первый подвод для плазмообразующего газа, и со вторым подводом для дисперсионного материала, причем второй подвод расположен пространственно отдельно относительно первого подвода таким образом, что дисперсионный материал вводится в плазму извне.
13. Устройство по п.12, причем второй подвод расположен напротив первого подвода.
14. Устройство по п.12, причем второй подвод расположен сбоку по отношению к первому подводу.
15. Устройство по п.14, причем второй подвод расположен таким образом, что дисперсионный материал вводится тангенциально к плазме.
16. Устройство по любому из пп.12-14, причем первый подвод расположен на нижнем конце реакционной камеры.
17. Устройство по любому из пп.12-15, причем в реакционной камере расположены средства для формирования циклона.
18. Устройство по п.16, причем в реакционной камере расположены средства для формирования циклона.
19. Устройство по п.17, причем средство для формирования циклона включает в себя третий подвод для рабочего газа, всасывающую трубу и расположенный во всасывающей трубе компрессор и причем третий подвод расположен напротив первого подвода, а всасывающая труба расположена перпендикулярно первому подводу и эксцентрично входит в реакционную камеру.
20. Устройство по п.18, причем средство для формирования циклона включает в себя третий подвод для рабочего газа, всасывающую трубу и расположенный во всасывающей трубе компрессор и причем третий подвод расположен напротив первого подвода, а всасывающая труба расположена перпендикулярно первому подводу и эксцентрично входит в реакционную камеру.
21. Устройство по любому из пп.12-15, 18-20, причем предусмотрен сборный резервуар для приема обработанного дисперсионного материала.
22. Устройство по п.16, причем предусмотрен сборный резервуар для приема обработанного дисперсионного материала.
23. Устройство по п.17, причем предусмотрен сборный резервуар для приема обработанного дисперсионного материала.