ПОЛИРОВАЛЬНАЯ КОМПОЗИЦИЯ

1. Полировальная композиция, используемая в варианте применения для полирования сапфировой подложки, имеющей неполярную плоскость или полуполярную плоскость, причем полировальная композиция включает:
частицы коллоидного кремнезема и воду,
2
при этом значение, полученное делением удельной площади поверхности (м/г) частиц коллоидного кремнезема на среднечисленный диаметр частиц (нм) коллоидного кремнезема составляет 0,5 или более, и 3,0 или менее.
2
2. Полировальная композиция по п. 1, в которой значение, полученное делением удельной площади поверхности (м/г) частиц коллоидного кремнезема на среднечисленный диаметр частиц (нм) коллоидного кремнезема, составляет 0,5 или более, и 2,0 или менее.
3
97
97
3
3. Полировальная композиция по п. 1, в которой, когда размер частиц при 3%-ной предельной точке размеров более мелких частиц обозначают как D и размер частиц при 97%-ной предельной точке размеров более мелких частиц обозначают как D, в интегральном коэффициенте распределения частиц коллоидного кремнезема, значение, полученное делением D на D, предпочтительно составляет 2,0 или более.
3
97
97
3
4. Полировальная композиция по п. 2, в которой, когда размер частиц при 3%-ной предельной точке размеров более мелких частиц обозначают как D и размер частиц при 97%-ной предельной точке размеров более мелких частиц обозначают как D, в интегральном коэффициенте распределения частиц коллоидного кремнезема, значение, полученное делением D на D, предпочтительно составляет 2,0 или более.
5. Полировальная композиция по п. 1, в которой аспектное отношение частиц коллоидного кремнезема составляет 1,10 или более.
6. Полировальная композиция по п. 2, в которой аспектное отношение частиц коллоидного кремнезема составляет 1,10 или более.
7. Полировальная композиция по п. 3, в которой аспектное отношение частиц коллоидного кремнезема составляет 1,10 или более.
8. Полировальная композиция по п. 4, в которой аспектное отношение частиц коллоидного кремнезема составляет 1,10 или более.
9. Полировальная композиция по любому из п.п. 1-8, в которой значение рН составляет 5 или более и 11 или менее.
10. Способ полирования для полирования сапфировой подложки, имеющей неполярную плоскость или полуполярную плоскость, с использованием полировальной композиции по любому из п.п. 1-9.
11. Способ изготовления сапфировой подложки, включающий стадию, в которой выполняют полирование способом полирования по п. 10.