УСОВЕРШЕНСТВОВАННОЕ УСТРОЙСТВО ДЛЯ БЫСТРОГО ПРОТОТИПИРОВАНИЯ

1. Система (ES) экспонирования для стереолитографического устройства (SA), содержащая:
по меньшей мере один светоизлучающий диод (LD), излучающий свет с длиной волны между 200 и 100000 нм,
по меньшей мере один пространственный модулятор (SLM) света, с множеством индивидуально управляемых модуляторов (LM) света,
входную оптическую систему (IO), оптически соединенную с по меньшей мере одним пространственным модулятором (SLM) света,
выходную оптическую систему (OO), оптически соединенную с по меньшей мере одним пространственным модулятором (SLM) света,
по меньшей мере одно управляющее устройство (CU),
в которой входная оптическая система (IO) и выходная оптическая система (OO) способствуют пропусканию света, излучаемого от по меньшей мере одного светоизлучающего диода (LD) через индивидуально управляемые модуляторы (LM) света пространственного модулятора (SLM) света на освещаемую область (IA),
в которой пространственный модулятор (SLM) света выполнен с возможностью установления изображения света от входной оптической системы (IO) в соответствии с управляющими сигналами от управляющего устройства (CU),
в которой выходная оптическая система (OO) выполнена с возможностью фокусировать изображение света от по меньшей мере одного пространственного модулятора (SLM) света на пятне (ISP) освещения,
в которой система (ES) экспонирования выполнена с возможностью выравнивать свет, излучаемый светоизлучающим диодом (LD) под углом более 45° к оптической оси (OALD) светоизлучающего диода (LD) так, чтобы направлять этот свет в направлении, параллельном этой оптической оси (OALD),
и в которой система (ES) экспонирования содержит средство для выравнивания сета, излучаемого от по меньшей мере одного светодиода (LD) до того, как свет войдет во входную оптическую систему (IO).
2. Система (ES) экспонирования по п.1, в которой система экспонирования содержит средство для направленного выравнивания части света, излучаемого от по меньшей мере одного светоизлучающего диода под углом более 45° к оптической оси этого по меньшей мере одного светоизлучающего диода так, чтобы изменить направление этого света так, чтобы угол этого выровненного света к оптической оси этого по меньшей мере одного светоизлучающего диода составлял 1,5 градуса или менее.
3. Система (ES) экспонирования по любому из пп.1 и 2, в которой средство для выравнивания света, излучаемого по меньшей мере одним светоизлучающим диодом (LD), содержит по меньшей мере один рефлектор (RE) и/или по меньшей мере одну оптическую линзу (ОР) и/или по меньшей мере один защитный экран (Р).
4. Система (ES) экспонирования по любому из пп.1 и 2, в которой отношение суммы энергии света, сфокусированного на соответствующем пятне (ISP) освещения, исходящего от одного пространственного модулятора (SLM) света, и суммы энергии света, излучаемого от, по меньшей мере, одного светоизлучающего диода (LD), соответствующего этому пространственному модулятору (SLM) света, равно, по меньшей мере, 0,1.
5. Система (ES) экспонирования для стереолитографического устройства (SA), содержащая:
по меньшей мере, два светоизлучающих диода (LD), излучающих свет с длиной волны между 200 и 100000 нм,
по меньшей мере, два пространственных модулятора (SLM) света, содержащих множество индивидуально управляемых модуляторов (LM) света,
входную оптическую систему (IO), оптически соединенную с, по меньшей мере, двумя пространственными модуляторами (SLM) света,
выходную оптическую систему (OO), оптически соединенную с, по меньшей мере, двумя пространственными модуляторами (SLM) света,
по меньшей мере один измерительный узел (MU),
по меньшей мере одно управляющее устройство (CU),
в которой входная оптическая система (IO) и выходная оптическая система (OO) способствуют пропусканию света, излучаемого от светоизлучающих диодов (LD) через индивидуально управляемые модуляторы (LM) света пространственных модуляторов (SLM) света на освещаемую область (IA),
в которой пространственные модуляторы (SLM) света выполнены с возможностью установления изображения света от входной оптической системы (IO) в соответствии с управляющими сигналами от управляющего устройства (CU),
в которой выходная оптическая система (OO) выполнена с возможностью фокусировать сформированный свет от, по меньшей мере, двух пространственных модуляторов (SLM) света на освещаемой области (IA),
в которой измерительный узел (MU) выполнен с возможностью измерения интенсивности света, пропускаемого каждым индивидуальным пространственным модулятором (SLM) света,
в которой управляющее устройство (CU) выполнено с возможностью регулировать интенсивность света, излучаемого каждым индивидуальным светоизлучающим диодом (LD) на основе измеренных величин,
в которой измерительный узел (MU) содержит, по меньшей мере, один светочувствительный датчик и выход этого светочувствительного датчика представляет репрезентативную величину интенсивности света, излучаемого от каждого из по меньшей мере двух светоизлучающих диодов (LD),
и в которой по меньшей мере один светочувствительный датчик расположен в устройстве в положении, которое позволяет измерять интенсивность света до установления изображения этого света пространственным модулятором (SLM) света.
6. Система (ES) экспонирования по п.5, в которой управляющее устройство (CU) выполнено с возможностью регулировать интенсивность света от каждого отдельно из по меньшей мере двух светоизлучающих диодов (LD) на основе одной или более из измеренных репрезентативных величин.
7. Система (ES) экспонирования по пп.5 или 6, в которой управляющее устройство (CU) выполнено с возможностью управлять интенсивностью света, излучаемого от каждого отдельно из, по меньшей мере, двух светоизлучающих диодов (LD) на основе одной или более из измеренных репрезентативных величин так, чтобы интенсивность света, излучаемого от каждого из, по меньшей мере, двух светоизлучающих диодов (LD), была одинакова.
8. Система (ES) экспонирования по пп.5 или 6, в которой управляющее устройство (CU) содержит средство для управления интенсивностью света, излучаемого от, по меньшей мере, двух светоизлучающих диодов (LD), путем управления напряжением или током, подаваемым на эти, по меньшей мере, два светоизлучающих диода (LD).
9. Система (ES) экспонирования по любому из пп.5 или 6, в которой светочувствительный датчик установлен на устройстве (REC) для нанесения слоя.
10. Стереолитографическое устройство (SA) с системой (ES) экспонирования, при этом система (ES) экспонирования содержит:
по меньшей мере одну печатную плату (РСВ) с по меньшей мере одним гнездом (SO) и по меньшей мере одним светоизлучающим диодом (LD),
по меньшей мере два пространственных модулятора (SLM) света с множеством индивидуально управляемых модуляторов света,
входную оптическую систему (IO), оптически соединенную с пространственными модуляторами (SLM) света,
выходную оптическую систему (OO), оптически соединенную с пространственными модуляторами (SLM) света,
по меньшей мере одно управляющее устройство (CU),
по меньшей мере одно основание (LSB) источника света, запирающее печатную плату (РСВ) с возможностью отпирания так, чтобы оптическая ось (OALD) светоизлучающего диода находилась на одной линии с оптической осью (ОАОР) входной оптической системы,
в котором входная оптическая система (IO) и выходная оптическая система (OO) способствуют пропусканию света, излучаемого светоизлучающими диодами (LD) через индивидуально управляемые модуляторы (LM) света в пространственном модуляторе (SLM) света на освещаемую область (IA),
в котором пространственные модуляторы (SLM) света выполнены с возможностью установления изображения света от входной оптической системы (IO) в соответствии с управляющими сигналами от управляющего устройства (CU),
в котором выходная оптическая система (OO) выполнена с возможностью фокусировать изображение света от пространственных модуляторов (SLM) света на освещаемой области (IA).
11. Стереолитографическое устройство (SA) по п.10, в котором печатная плата (РСВ) заперта с возможностью отпирания на основании (LSB) источника света посредством запирающего механизма (RLM), выполненного с возможностью отпирания, и
в котором печатная плата (РСВ) заперта с возможностью отпирания этим запирающим механизмом (RLM), выполненным с возможностью отпирания так, что оптическая ось (OALD) по меньшей мере одного светоизлучающего диода (LD) совпадает с оптической осью (ОАОР) входной оптической системы (IO).
12. Стереолитографическое устройство (SA) по любому из пп.10 и 11, в котором стереолитографическое устройство (SA) содержит сигнализатор для индикации неисправности или нарушения работы устройства.
13. Стереолитографическое устройство (SA) по любому из пп.10 и 11, в котором по меньшей мере одна печатная плата (РСВ) содержит охлаждающее средство (СМ), содержащее по меньшей мере одну охлаждающую поверхность (CS).
14. Стереолитографическое устройство (SA) по любому из пп.10 и 11, в котором запирающий механизм (RLM), выполненный с возможностью отпирания, подвижно соединен с основанием (LSB) источника света.
15. Стереолитографическое устройство (SA) по любому из пп.10 и 11, в котором ошибка совпадения оптической оси (OALD) светоизлучающего диода и оптической оси (ОАОР) входной оптической системы меньше, чем 20 мкм.
16. Стереолитографическое устройство (SA) по любому из пп.10 и 11, в котором основание (LSB) источника света, система (ЕS) экспонирования или печатная плата (РСВ) содержит регулировочный механизм для регулировки положения оптической оси (OALD) по меньшей мере одного светоизлучающего диода (OALD) или оптической оси (ОАОР) входной оптической системы.
17. Система (ES) экспонирования по любому из пп.1 и 2, где количество светоизлучающих диодов (LD) равно или меньше, чем количество пространственных модуляторов (SLM) света.
18. Система (ES) экспонирования по любому из пп.5 и 6, где количество светоизлучающих диодов (LD) равно или меньше, чем количество пространственных модуляторов (SLM) света.
19. Стереолитографическое устройство (SA) по любому из пп.10 и 11, где количество светоизлучающих диодов (LD) равно или меньше, чем количество пространственных модуляторов (SLM) света.
20. Система (ES) экспонирования по любому из пп.1 и 2, содержащая средство световода для направления света, излучаемого одним или более светоизлучающим диодом (LD) на пространственный модулятор (SLM), при этом средство световода выполнено в форме оптических волокон.
21. Система (ES) экспонирования по любому из пп.5 и 6, содержащая средство световода для направления света, излучаемого одним или более светоизлучающим диодом (LD) на пространственный модулятор (SLM), при этом средство световода выполнено в форме оптических волокон.
22. Стереолитографическое устройство (SA) по любому из пп.10 и 11, содержащее средство световода для направления света, излучаемого одним или более светоизлучающим диодом (LD) на пространственный модулятор (SLM), при этом средство световода выполнено в форме оптических волокон.
23. Способ изготовления трехмерных объектов и светочувствительного материала путем использования устройства по любому из пп.1-22.
24. Трехмерный объект, изготовленный с помощью устройства по любому из пп.1-22, или способом по п.23.