ОПТИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

1. Оптическое устройство, содержащее:
рельефно-структурированный слой, содержащий первую и вторую области, прилегающие одна к другой, при этом первая область содержит первую и вторую подобласти, причем первая подобласть прилегает ко второй области и продолжается вдоль границы между первой и второй областями, и вторая подобласть прилегает ко второй области через первую подобласть, помещенную между ними, причем вторая область снабжена впадинами или выступами и имеет отношение площади поверхности к видимой площади больше чем у первой области;
первый слой, выполненный из первого материала, имеющего показатель преломления, отличающийся от показателя преломления материала рельефно-структурированного слоя, и покрывающий, по меньшей мере, вторую подобласть, причем участок первого слоя, соответствующий второй подобласти, имеет профиль поверхности, соответствующий профилю поверхности второй подобласти, и отношение количества первого материала в положении второй области к площади второй области устройства равно нулю или меньше чем отношение количества первого материала в положении второй подобласти к площади второй подобласти устройства; и
второй слой, выполненный из второго материала, отличающегося от первого материала, и покрывающий первый слой, причем отношение количества второго материала в положении второй области к площади второй области устройства равно нулю или меньше чем отношение количества второго материала в положении второй подобласти к площади второй подобласти устройства.
2. Оптическое устройство по п. 1, в котором первая область снабжена впадинами или выступами, при этом впадины или выступы второй области имеют средние значения отношений глубины к диаметру или ширине просветов впадин или среднее значение отношений высоты к диаметру или ширине оснований выступов больше чем упомянутое отношение впадин или выступов первой области.
3. Оптическое устройство по п. 2, в котором впадины или выступы первой области имеют среднее значение отношений глубины к диаметру или ширине просветов впадин или среднее значение отношений высоты к диаметру или ширине оснований выступов не более чем 0,5, и впадины или выступы второй области имеют среднее значение отношений глубины к диаметру или ширине просветов впадин или среднее значение отношений высоты к диаметру или ширине оснований выступов в пределах от 0,8 до 2,0.
4. Оптическое устройство по п. 1, в котором впадины или выступы второй области расположены двумерным образом.
5. Оптическое устройство по п. 1, в котором участок второго слоя, соответствующий второй подобласти, имеет среднюю толщину в пределах от 0,3 нм до 200 нм.
6. Оптическое устройство по п. 1, в котором второй слой является слоем, сформированным способом осаждения из паровой фазы.
7. Оптическое устройство по п. 1, в котором первый слой обеспечен только в положении, соответствующем второй подобласти, или в положении, соответствующем первой области.
8. Оптическое устройство по п. 1, в котором первая ортогональная проекция контура первого слоя на основную поверхность полностью перекрывает вторую ортогональную проекцию контура второго слоя на основную поверхность, при этом первая ортогональная проекция имеет форму, подобную второй ортогональной проекции, и охватывается второй ортогональной проекцией, или часть первой ортогональной проекции перекрывает часть второй ортогональной проекции, и остальная часть первой ортогональной проекции имеет форму, подобную остальной части второй ортогональной проекции, и охватывается второй ортогональной проекцией.
9. Оптическое устройство по п. 1, в котором максимальное значение кратчайшего расстояния от границы между первой и второй областями до контура первого слоя составляет не более чем 20 мкм.
10. Способ изготовления оптического устройства, содержащий следующие этапы:
формируют рельефно-структурированный слой, содержащий первую и вторую области, прилегающие одна к другой, при этом вторая область снабжена впадинами или выступами и имеет отношение площади поверхности к видимой площади больше чем первая область;
наносят осаждением из паровой фазы первый материал, имеющий показатель преломления, отличающийся от показателя преломления материала рельефно-структурированного слоя, полностью поверх первой и второй областей, чтобы сформировать слой отражательного материала, причем слой отражательного материала имеет профиль поверхности, соответствующий профилям поверхностей первой и второй областей, или слой отражательного материала имеет профиль поверхности, соответствующий профилю поверхности первой области, на участке, соответствующем первой области, и является частично просветным соответственно схеме расположения впадин или выступов на участке, соответствующем второй области;
наносят осаждением из паровой фазы второй материал, отличающийся от первого материала, на слой отражательного материала, чтобы сформировать маскирующий слой, причем маскирующий слой имеет профиль поверхности, соответствующий профилям поверхностей первой и второй областей, или маскирующий слой имеет профиль поверхности, соответствующий профилю поверхности первой области на участке, соответствующем первой области, и является частично просветным соответственно схеме расположения впадин или выступов на участке, соответствующем второй области; и
воздействуют на маскирующий слой химически активным(ой) газом или жидкостью, способным вызывать химическую реакцию с первым материалом, чтобы вызывать химическую реакцию, по меньшей мере, в положении второй области, с получением первого слоя, выполненного из первого материала, и второго слоя, выполненного из второго материала.
11. Способ по п. 10, в котором слой отражательного материала частично удаляют посредством химической реакции.
12. Способ по п. 11, в котором частичное удаление слоя отражательного материала обеспечивает первый слой в виде слоя, покрывающего только первую область из первой и второй областей.
13. Способ по п. 10, в котором химическая реакция видоизменяет часть слоя отражательного материала в слой, выполненный из материала, отличающегося от первого материала.
14. Способ по п. 10, в котором слой отражательного материала формируют так, чтобы получить среднюю толщину в пределах от 5 нм до 500 нм на участке, соответствующем первой области, и маскирующий слой формируют так, чтобы получить среднюю толщину в пределах от 0,3 нм до 200 нм на участке, соответствующем первой области.
15. Способ по п. 10, в котором
основная поверхность рельефно-структурированного слоя дополнительно содержит третью область, при этом третья область снабжена впадинами или выступами и имеет отношение площади поверхности к видимой площади больше чем упомянутое отношение первой области, слой отражательного материала формируют осаждением из паровой фазы первого материала полностью по всем поверхностям от первой по третью, и способ дополнительно содержит формирование слоя покрытия, покрывающего только третью область из второй и третьей областей перед инициированием реакции.