ФОРМА, СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОРМЫ И АНТИОТРАЖАТЕЛЬНАЯ ПЛЕНКА

1. Способ изготовления формы, имеющей на поверхности обратную микрорельефную структуру, причем обратная микрорельефная структура имеет множество углубленных участков, двумерные размеры которых при наблюдении в направлении, перпендикулярном поверхности, составляют не менее 50 нм и менее 500 нм, причем способ включает в себя этапы, на которых:
(а) обеспечивают алюминиевую пленку, нанесенную на основание, причем алюминиевая пленка имеет толщину не менее 0,5 мкм и не более 5 мкм, поверхность алюминиевой пленки имеет множество кристаллических зерен при среднем диаметре кристаллического зерна не менее 200 нм и не более 5 мкм;
(b) после этапа (а), анодируют поверхность алюминиевой пленки для формирования пористого слоя оксида алюминия, который имеет множество мелких углубленных участков; и
(с) после этапа (b), приводят слой оксида алюминия в контакт с травильным раствором, увеличивая таким образом множество мелких углубленных участков пористого слоя оксида алюминия.
2. Способ изготовления формы, имеющей на поверхности обратную микрорельефную структуру, причем обратная микрорельефная структура имеет множество углубленных участков, двумерные размеры которых при наблюдении в направлении, перпендикулярном поверхности, составляют не менее 50 нм и менее 500 нм, причем способ включает в себя этапы на которых:
(а) обеспечивают алюминиевую пленку, нанесенную на основание, причем алюминиевая пленка имеет толщину не менее 0,5 мкм и не более 5 мкм, поверхность алюминиевой пленки имеет множество кристаллических зерен, причем распределение диаметров кристаллических зерен имеет два локальных максимума, наибольший из которых равен не менее чем 200 нм;
(b) после этапа (а), анодируют поверхность алюминиевой пленки для формирования пористого слоя оксида алюминия, который имеет множество мелких углубленных участков; и
(с) после этапа (b), приводят слой оксида алюминия в контакт с травильным раствором, увеличивая таким образом множество мелких углубленных участков пористого слоя оксида алюминия.
3. Способ по п.1, в котором распределение диаметров кристаллических зерен множества кристаллических зерен шире, чем в диапазоне ±50 нм от среднего диаметра кристаллического зерна.
4. Способ по п.2, в котором распределение диаметров кристаллических зерен множества кристаллических зерен шире, чем в диапазоне ±50 нм от среднего диаметра кристаллического зерна.
5. Способ по любому из пп.2-4, в котором
средний диаметр кристаллического зерна множества кристаллических зерен составляет не менее 200 нм и не более 5 мкм, и
наибольший локальный максимум распределения диаметров кристаллических зерен множества кристаллических зерен составляет не менее 400 нм.
6. Способ по любому из пп.2-4, в котором 5% или более из множества кристаллических зерен имеют диаметр зерна, превышающий R1-{(R1-R2)/2}, где R1 является наибольшим локальным максимумом распределения диаметров кристаллического зерна множества кристаллических зерен, и R2 является меньшим локальным максимумом.
7. Способ по любому из пп.2-4, в котором n-точечная средняя шероховатость (Rz) поверхности пленки из оксида алюминия составляет не менее чем 100 нм.
8. Способ по любому из пп.1-4, который дополнительно включает в себя этап (d) дополнительного анодирования поверхности для роста множества мелких углубленных участков,
причем после этапа (с) дополнительно выполняют этап (d) и этап (с).
9. Форма, содержащая на поверхности пористый слой оксида алюминия, причем пористый слой оксида алюминия имеет
обращенную микрорельефную структуру, имеющую множество углубленных участков, двумерные размеры которых при наблюдении в направлении, перпендикулярном поверхности, составляют не менее 50 нм и менее 500 нм, и
множество приподнятых участков, чьи средние двумерные размеры при наблюдении в направлении, перпендикулярном поверхности, составляют не менее 200 нм и не более 5 мкм.
10. Форма, содержащая на поверхности пористый слой оксида алюминия, причем пористый слой оксида алюминия имеет
обращенную микрорельефную структуру, имеющую множество углубленных участков, двухмерные размеры которых при наблюдении в направлении, перпендикулярном поверхности, составляют не менее 50 нм и менее 500 нм, и
множество приподнятых участков, причем распределение двумерных размеров приподнятых участков при наблюдении в направлении, перпендикулярном поверхности, имеет два локальных максимума, причем наибольший из локальных максимумов составляет не менее 200 нм.
11. Форма по п.9, в которой распределение двумерных размеров множества приподнятых участков шире диапазона ±50 нм от среднего двумерного размера множества приподнятых участков.
12.  Форма по п.10, в которой распределение двумерных размеров множества приподнятых участков шире диапазона ±50 нм от среднего двумерного размера множества приподнятых участков.
13. Форма по любому пп.10-12, в которой
средний двумерный размер множества приподнятых участков составляет не менее 200 нм и не более 5 мкм, и
наибольший из локальных максимумов распределения двумерных размеров множества приподнятых участков составляет не менее 400 нм.
14. Форма по любому из пп.10-12, в которой 5% или более от множества приподнятых участков имеют двумерный размер более L1-{(L1-L2)/2}, где L1 является наибольшим локальным максимумом распределения двумерных размеров множества приподнятых участков, и L2 является наименьшим локальным максимумом.
15. Антиотражательная пленка, которая имеет неровную структуру, являющуюся обратной относительно неровной структуры поверхности формы по любому из пп.9-14.
16. Антиотражательная пленка по п.15, в которой отражательная способность, измеренная с использованием интегрирующей сферы, для антиотражательной пленки составляет менее чем 0,3%, а значение матовости антиотражательной пленки составляет не менее чем 1% и не более чем 5%.