КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ПОКРЫТИЙ, (МЕТ)АКРИЛОВЫЙ ПОЛИМЕР И СМЕСЬ МОНОМЕРОВ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ (МЕТ)АКРИЛОВОГО ПОЛИМЕРА

1. Композиция для покрытий, отличающаяся тем, что она содержит по меньшей мере один фотоинициатор и по меньшей мере один (мет)акриловый полимер с мономерными единицами, производными (мет)акриловых мономеров, алкильный остаток которых содержит по меньшей мере одну двойную связь и от 8 до 40 атомов углерода.
2. Композиция для покрытий по п.1, отличающаяся тем, что фотоинициатором является соединение, активируемое путем облучения светом с длиной волны от 200 до 800 нм.
3. Композиция для покрытий по п.1, отличающаяся тем, что фотоинициатором является соединение с молекулярной массой менее 1000 г/моль.
4. Композиция для покрытий по п.1, отличающаяся тем, что фотоинициатором является соединение с молекулярной массой более или равной 1000 г/моль.
5. Композиция для покрытий по п.1, отличающаяся тем, что (мет)акриловый полимер содержит от 0,5 до 60 мас.% мономерных единиц, производных (мет)акриловых мономеров, алкильный остаток которых содержит по меньшей мере одну двойную связь и от 8 до 40 атомов углерода.
6. Композиция для покрытий по п.1, отличающаяся тем, что йодное число (мет)акрилового полимера составляет от 1 до 300 г йода.
7. Композиция для покрытий по п.1, отличающаяся тем, что температура стеклования (мет)акрилового полимера составляет от -20 до 40°С.
8. Композиция для покрытий по п.1, отличающаяся тем, что (мет)акриловый полимер является эмульсионным полимером.
9. Композиция для покрытий по п.1, отличающаяся тем, что коэффициент набухания (мет)акрилового полимера, измеренный при 20°С с использованием смеси тетрагидрофурана с водой, составляет по меньшей мере 2.
10. Композиция для покрытий по п.1, отличающаяся тем, что фотоинициатор и (мет)акриловый полимер соединены друг с другом связью, в связи с чем (мет)акриловый полимер содержит мономерные единицы, производные мономерного фотоинициатора.
11. Композиция для покрытий по п.1, отличающаяся тем, что измеряемое согласно DIN EN ISO 2114 кислотное число (мет)акрилового полимера составляет от 0,1 до 40 мг КОН/г.
12. Композиция для покрытий по п.1, отличающаяся тем, что она дополнительно содержит аминный ускоритель.
13. Композиция для покрытий по одному из пп.1-12, отличающаяся тем, что она является водной дисперсией.
14. (Мет)акриловый полимер для получения композиции для покрытий, отличающийся тем, что он содержит мономерные единицы, производные (мет)акриловых мономеров, алкильный остаток которых содержит по меньшей мере одну двойную связь и от 8 до 40 атомов углерода, и мономерные единицы, производные мономерных фотоинициаторов.
15. (Мет)акриловый полимер по п.14, отличающийся тем, что он является эмульсионным полимером.
16. (Мет)акриловый полимер по п.14 или 15, отличающийся тем, что он является полимером типа «ядро-оболочка».
17. Смесь мономеров для получения (мет)акрилового полимера по одному из пп.14-16, отличающаяся тем, что она содержит по меньшей мере один (мет)акриловый мономер, алкильный остаток которого содержит по меньшей мере одну двойную связь и от 8 до 40 атомов углерода, и по меньшей мере один мономерный фотоинициатор.
18. Смесь мономеров по п.17, отличающаяся тем, что мономерным фотоинициатором является содержащий кетогруппу (мет)акрилат общей формулы (I):
1
в которой R означает водород или метил,
Х означает кислород или группу формулы NR', в которой R' означает водород или остаток с 1-6 атомами углерода,
Z означает связь или соединительную группу,
2
R означает водород, галоген, гидрокси или остаток с 1-20 атомами углерода,
m означает целое число от 0 до 4 и
3
R означает остаток с 1-20 атомами углерода.
19. Смесь мономеров по п.17, отличающаяся тем, что массовое отношение (мет)акриловых мономеров, алкильный остаток которых содержит по меньшей мере одну двойную связь и от 8 до 40 атомов углерода, к мономерным фотоинициаторам составляет от 30:1 до 1:1.
20. Смесь мономеров по одному из пп.17-19, отличающаяся тем, что она содержит
1-30 мас.% (мет)акрилата, алкильный остаток которого содержит по меньшей мере одну двойную связь и от 8 до 40 атомов углерода,
1-5 мас.% мономерного фотоинициатора,
0,1-10 мас.% мономера с кислотными группами и
5-98,9 мас.% (мет)акрилата с 1-10 атомами углерода в алкильном остатке соответственно в пересчете на массу мономеров.
21. Способ получения покрытия, отличающийся тем, что композицию для покрытий по одному из пп.1-13 наносят на подложку и отверждают.
2
22. Способ по п.21, отличающийся тем, что наносимую на подложку композицию для покрытий отверждают путем облучения светом с длиной волны от 200 до 800 нм, причем интенсивность облучения составляет от 0,1 до 100 мВт/см.
23. Подложка, на которую наносят покрытие, полученное способом по п.21 или 22.