УСТРОЙСТВО ОБЛУЧЕНИЯ

1. Устройство облучения для обеспечения обрабатывающего света для герметизации объекта, содержащего элемент герметизации для герметизации объекта вдоль линии герметизации, причем устройство (10; 610; 710) облучения содержит:
- группы (20, 21, 22; 220, 221, 222; 420, 421; 620; 720) источников света для генерирования света для обработки объекта,
- блок (16; 616; 716) формирования изображения для формирования изображения групп (20, 21, 22; 220, 221, 222; 420, 421; 620; 720) источников света в рабочей плоскости, в которой объект должен быть герметизирован, таким образом генерируя обрабатывающий свет (11),
причем группы (20, 21, 22; 220, 221, 222; 420, 421; 620; 720) источников света и блок (16; 616; 716) формирования изображения адаптируются таким образом, что в рабочей плоскости обрабатывающий свет (11) формируется с распределением интенсивности, которое конфигурируется таким образом, что, если распределение интенсивности интегрируется в направлении пространственной интеграции, результирующее распределение интегрированной интенсивности имеет понижение интенсивности, причем одна или несколько из групп (20, 21, 22; 220, 221, 222; 420, 421; 620; 720) источников света являются управляемыми независимо от других из групп (20, 21, 22; 220, 221, 222; 420, 421; 620; 720) источников света для модифицирования распределения интегрированной интенсивности, причем группы (20, 21, 22; 220, 221, 222; 420, 421) источников света и блок (16) формирования изображения адаптируются таким образом, что распределение интегрированной интенсивности имеет первый максимум, вызванный светом, выданного группой (20; 220; 420) из групп источников света, и второй максимум, вызванный светом, выданного другой группой (22; 222; 422) из групп источников света, причем понижение интенсивности расположено между первым максимумом и вторым максимумом, и при этом по меньшей мере одна из группы (20; 220; 420), вызывающей первый максимум, и другой группы (22; 222; 422), формирующей второй максимум, является индивидуально управляемой таким образом, что интегрированная интенсивность в позиции по меньшей мере одного из первого максимума и второго максимума, соответственно, является уменьшаемой так, что упомянутый элемент герметизации может быть однородно освещен, если элемент герметизации скомпонован вдоль искривленной линии герметизации.
2. Устройство облучения по п. 1, в котором по меньшей мере одна из групп источников света является индивидуально управляемой таким образом, что глубина понижения интенсивности является модифицируемой.
3. Устройство облучения по п. 1, в котором группы (720) источников света и блок (716) формирования изображения адаптируются таким образом, что распределение интенсивности, производимое устройством (710) облучения, содержит несколько параллельных линий света, причем в по меньшей мере одной из линий света распределение интенсивности имеет первый максимум и второй максимум с промежуточной, более низкой, интенсивностью.
4. Устройство облучения по п. 1, в котором источники света по меньшей мере двух групп имеют различные формы.
5. Устройство облучения по п. 1, в котором блок (16) формирования изображения содержит микролинзы, назначенные на источники (24, 26, 28; 224, 226, 228) света таким образом, что для формирования изображения соответствующего источника света используется соответствующая микролинза, причем по меньшей мере для одного источника (24, 28; 224, 228) света микролинза асимметрично располагается относительно источника света таким образом, что центр микролинз не совпадает с центром источника света.
6. Устройство облучения по п. 1, в котором блок формирования изображения адаптируется для формирования изображения групп источников света в рабочей плоскости, таким образом, что изображения различных групп источников света накладываются в рабочей плоскости.
7. Устройство облучения по п. 1, в котором устройство облучения дополнительно содержит по меньшей мере один блок (621) обнаружения теплового излучения, скомпонованный смежно с группой (620) источников света для измерения температуры в рабочей плоскости таким образом, что группа источников света является управляемой в зависимости от измеренной температуры посредством блока (12) управления.
8. Устройство облучения по п. 1, в котором одна или несколько из групп (720) источников света являются управляемыми независимо от других из групп (720) таким образом, что распределение интенсивности является модифицируемым в двух различных пространственных направлениях.
9. Устройство облучения по п. 1, в котором группы источников света располагаются на одной или нескольких подложках таким образом, что одна или несколько подложек содержат светоизлучающие плоскости и не светоизлучающие плоскости, причем не светоизлучающие плоскости адаптированы для поглощения и/или рассеивания света, попадающего на не светоизлучающие плоскости таким образом, что свет, отраженный обратно от рабочей плоскости, не отражается обратно на рабочую плоскость.
10. Устройство обработки для герметизации объекта, содержащего элемент герметизации для герметизации объекта вдоль линии герметизации, причем устройство обработки (1) содержит:
- устройство (10; 610; 710) облучения для обеспечения обрабатывающего света (11), как определено в п. 1,
- блок (9) перемещения для перемещения устройства (10; 610; 710) облучения и объекта друг относительно друга таким образом, что обрабатывающий свет (11) перемещается вдоль линии обработки.
11. Способ обработки для герметизации объекта, содержащего элемент герметизации для герметизации объекта вдоль линии герметизации, причем способ обработки содержит:
- обеспечение обрабатывающего света посредством устройства (10; 610; 710) облучения по п. 1,
- перемещение устройства (10; 610; 710) света и объекта друг относительно друга таким образом, что обрабатывающий свет перемещается вдоль линии обработки посредством блока перемещения,
причем обрабатывающий свет формируется посредством управления группами (20, 21, 22; 220, 221, 222; 420, 421) источников света и блоком (16) формирования изображения таким образом, что распределение интегрированной интенсивности имеет первый максимум, вызванный светом, выданным группой (20; 220; 420) из групп источников света, и второй максимум, вызванный светом, выданным другой группой (22; 222; 422) из групп источников света, причем понижение интенсивности расположено между первым максимумом и вторым максимумом, и причем по меньшей мере одна из группы (20; 220; 420), вызывающей первый максимум, и другой группы (22; 222; 422), формирующей второй максимум, являются индивидуально управляемыми так, что интегрированная интенсивность в позиции по меньшей мере одного из первого максимума и второго максимума, соответственно, является уменьшаемой, так что упомянутый элемент герметизации может быть однородно освещен, если элемент герметизации скомпонован вдоль искривленной линии герметизации.
12. Компьютерная программа обработки для герметизации объекта в рабочей плоскости, причем компьютерная программа обработки содержит средство программного кода для вынуждения устройства обработки по п. 1 выполнять этапы способа обработки по п. 11, когда компьютерная программа обработки запускается на компьютере, управляющим устройством обработки.