СПОСОБ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ТАНТАЛА ИЗ ВОДНОГО РАСТВОРА ЭЛЕКТРОЛИТА (ВАРИАНТЫ)
AQUOSYSTEM TANTALUM ELECTROLYTE DEPOSITION (VERSIONS)

Изобретение относится к гальваностегии, в частности к электролитическому осаждению тантала на медь и медные сплавы.
Известен способ электролитического осаждения тантала, ниобия из расплава фторидных и хлоридных солей (Гальванотехника: Справочное издание под ред. Ажогина Ф.Ф. и др. - М.: Металлургия, 1987, с.588).
Однако такой способ получения тантала требует сложного специального оборудования и отличается высоким расходом электроэнергии.
2
Известен способ получения ниобиевых покрытий (см., например, авт. св. СССР №432233, кл. C25D 3/54, 1972), основанный на электролизе раствора, содержащего ниобиевую кислоту, фторид аммония, плавиковую кислоту и формальдегид, при температуре 40-60°С и плотности постоянного тока 0,1-0,2 А/см.
-5
-8
2
Известен способ (см., например, авт.св. №288886, кл. C25D 3/54, 1969), основанный на электролитическом осаждении микроколичеств тантала из водного раствора щавелевокислого натрия с добавкой малоновой или янтарной кислоты, причем осаждение ведут при концентрации изотопов тантала 10-10 М при плотности постоянного тока 180-220 мА/см.
Этот способ позволяет осадить на катоде только микроколичества тантала.
Изобретение направлено на получение качественного гальванического покрытия тантала из водного раствора.
2
-5
-2
2
-5
-2
Это достигается тем, что при осуществлении способа электролитического осаждения тантала из водного раствора электролита при наложении постоянного тока осаждение проводят на катоде из меди или медного сплава с получением танталового покрытия при плотности постоянного тока до 50 А/дм с одновременным воздействием импульсным током с амплитудой 0,05 до 5 А, частотой от 10 Гц до 10 кГц, длительностью импульса от 10 до 10 с из водного раствора электролита с содержанием 10-50 г/л металлического тантала и 100-300 г/л гидрофторида аммония при температуре от +18°C до +40°С. Кроме того, осаждение тантала проводят на катоде из меди или медного сплава с получением танталового покрытия при плотности постоянного тока до 50 А/дм с одновременным воздействием импульсным током с амплитудой 0,05 до 5 А, частотой от 10 Гц до 10 кГц, длительностью импульса от 10до 10 с из водного раствора электролита, приготовленного растворением металлического тантала в водном растворе, содержащем 100-300 г/л гидрофторида аммония, при наложении переменного тока частотой 50 Гц до достижения концентрации тантала в электролите 10-50 г/л.
Сущность способа заключается в следующем.
Электролит для осаждения тантала получают растворением металлического тантала в растворе гидрофторида аммония переменным током частотой 50 Гц до достижения концентрации 10-50 г/л в пересчете на металл. Полученный таким образом электролит содержит, г/л:
Тантал металлический
10-50
Аммоний гидрофторид
100-300
2
-5
-2
Электролитическое осаждение тантала осуществляют из водного раствора электролита при наложении постоянного тока плотностью до 50 А/дм и импульсного тока с амплитудой 0,05 до 5А, частотой от 10 Гц до 10 кГц и длительностью импульса от 10 до 10 с при температуре от +18°C до +40°С.
В качестве анода используется платина.
2
-5
Пример. Электроосаждение тантала проводилось из электролита, содержащего 10 г/л тантала и 250 г/л гидрофторида аммония, при температуре +25°С, плотности постоянного тока 1 А/дм, амплитуде импульсного тока 0,1 А частотой 150 Гц, длительности импульса 10 с. В качестве анода использовалась платина.
Покрытие при этом получается равномерное, серое, блестящее, с хорошей адгезией к основе.