УСТАНОВКА И СПОСОБ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ МОНОСИЛАНА

1. Установка для получения моносилана посредством каталитического диспропорционирования трихлорсилана, которая содержит:
- реакционную колонну (100) с реактивной/дистилляционной реакционной зоной (104; 105), в которой трихлорсилан преобразуется на катализаторе, и отводящей трубой (102) для отведения моносилансодержащего продукта реакции,
- ректификационную колонну (109), в которой очищают моносилансодержащий продукт реакции, и
- один или более конденсаторов (103), расположенных между реактивной/дистилляционной реакционной зоной (104; 105) реакционной колонны (100) и ректификационной колонной (109), в котором или в которых моносилансодержащий продукт реакции частично конденсируется перед последующей очисткой в ректификационной колонне (109),
причем ни один из конденсаторов (103), расположенных между реактивной/дистилляционной реакционной зоной (104; 105) и ректификационной колонной (109), не имеет рабочей температуры ниже -40°С.
2. Установка по п.1, отличающаяся тем, что рабочая температура конденсаторов или конденсатора (103), расположенных между реактивной/дистилляционной реакционной зоной (104; 105) и ректификационной колонной (109), лежит в диапазоне от -20°С до -40°С.
3. Установка по п.1, отличающаяся тем, что конденсатор или конденсаторы (103) встроены в верхнюю часть реакционной колонны (100).
4. Установка по п.1, отличающаяся тем, что ректификационная колонна (109) содержит нагреваемую зону (110), в которой поступающий из реакционной колонны (100) моносилансодержащий продукт реакции может быть полностью испарен.
5. Установка по п.4, отличающаяся тем, что в нагреваемой зоне (110) установлена температура в диапазоне от 0°С до 20°С.
6. Установка по п.4, отличающаяся тем, что ректификационная колонна содержит охлаждаемую зону, в которой по направлению от нагреваемой зоны ректификационной колонны (109) температура постепенно снижается.
7. Установка по п.6, отличающаяся тем, что внутри ректификационной колонны (109) температура снижается до диапазона от минус 80°С до минус 100°С.
8. Установка по п.1, отличающаяся тем, что ректификационная колонна (109) соединена возвратной трубой с реакционной колонной (100), так что хлорсилансодержащий продукт, сконденсированный в ректификационной колонне (109), можно направить обратно в реакционную колонну (100).
9. Установка по п.1, отличающаяся тем, что реактивная/дистилляционная реакционная зона состоит из двух или более раздельных реактивных/дистилляционных зон (104; 105), которые соединены друг с другом последовательно и/или параллельно.
10. Установка по п.9, отличающаяся тем, что она содержит по меньшей мере один промежуточный конденсатор (108), который расположен между двумя раздельными зонами (104; 105).
11. Установка по п.10, отличающаяся тем, что по меньшей мере один промежуточный конденсатор (108) работает при температуре, лежащей в диапазоне от минус 20°С до 30°С.
12. Установка по любому из предыдущих пунктов, отличающаяся тем, что температуру в реактивной/дистилляционной реакционной зоне (104; 105) устанавливают в диапазоне от 50°С до 200°С.
4
3
13. Способ получения моносилана (SiH) посредством каталитического диспропорционирования трихлорсилана (SiHCl) в установке согласно любому из предыдущих пунктов, в котором трихлорсилан в реакционной колонне (100), содержащей реактивную/дистилляционную реакционную зону (104; 105), преобразуют с получением моносилансодержащего продукта реакции, который затем очищают в ректификационной колонне (109), причем моносилансодержащий продукт реакции перед поступлением в ректификационную колонну (109) частично конденсируется в по меньшей мере одном конденсаторе (103), но не проходит ни через один конденсатор, который работает при температуре ниже -40°С.