СПОСОБ УЛУЧШЕНИЯ СМАЧИВАНИЯ ЖИДКОФАЗНЫМИ СИСТЕМАМИ ПОВЕРХНОСТИ ПЛЕНОК

Способ улучшения смачивания жидкофазными системами поверхности пленок, включающий фотонный отжиг, отличающийся тем, что фотонный отжиг осуществляют в течение 3-4 с, затем проводят контроль поверхностного сопротивления пленки и при достижении его минимального значения осуществляют смачивание поверхности пленки в жидкофазной системе, после чего определяют угол смачивания и при его снижении на 10-15° судят об улучшении смачивания пленки.