НЕМЕТАЛЛИЧЕСКИЙ ЛИСТ С ПОКРЫТИЕМ, ИМЕЮЩИЙ ВНЕШНИЙ ВИД ШЕРОХОВАТОГО МЕТАЛЛА, ПОКРЫТИЯ ДЛЯ НЕГО И СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ

1. Изделие, содержащее:
подложку, имеющую первую главную поверхность и противоположную вторую главную поверхность, причем вторая главная поверхность имеет текстурированную поверхность для формирования второй поверхности подложки с заданной структурой;
верхний слой, имеющий первую поверхность и противоположную вторую поверхность, причем первая поверхность верхнего слоя находится в поверхностном контакте с текстурированной поверхностью для согласования участков первой поверхности верхнего слоя с соответствующими участками заданной структуры, при этом коэффициент пропускания видимого света и коэффициент отражения видимого света подложки, имеющей верхний слой, выбраны таким образом, чтобы заданная структура была видна, когда изделие рассматривают через первую поверхность подложки или когда изделие рассматривают через вторую поверхность верхнего слоя.
2. Изделие по п.1, в котором подложка выбрана из стекла и пластика, имеющих коэффициент пропускания видимого света, превышающий 0%, а верхний слой является покрытием.
3. Изделие по п.2, в котором первая поверхность верхнего слоя имеет коэффициент отражения видимого света больший, чем коэффициент отражения видимого света подложки, так что заданная структура видна через первую главную поверхность подложки.
4. Изделие по п.2, в котором подложка и верхний слой, каждый из них имеет коэффициент пропускания видимого света, превышающий 0%, и первая поверхность верхнего слоя имеет коэффициент отражения видимого света меньший, чем коэффициент отражения видимого света второй главной поверхности подложки, так что заданная структура видна через вторую главную поверхность верхнего слоя.
5. Изделие по п.2. в котором покрытие придаст изделию металлический внешний вид.
6. Изделие по п.5, в котором покрытие содержит эстетичный отражающий слой из одного или более металлов, металлических сплавов и их смесей.
7. Изделие по п.6, в котором эстетичный отражающий слой имеет толщину от 1 до 20 нм.
8. Изделие по п.6, в котором покрытие является теплостойким покрытием и нанесено магнетронным распылением в вакууме, покрытие содержит грунтовочный слой поверх эстетичного отражающего слоя, диэлектрический слой поверх грунтовочного слоя и защитное покрытие поверх диэлектрического слоя.
9. Изделие по п.8, в котором грунтовочный слой выполнен на эстетичном отражающем слое и имеет толщину от 1 до 10 нм, диэлектрическая пленка выполнена на грунтовочном слое и имеет толщину от 1 до 10 нм и защитное покрытие выполнено на диэлектрическом слое и имеет толщину от 10 до 500 нм.
10. Изделие по п.8, в котором эстетичный отражающий слой выбран из стали, меди, латуни, ниобия, алюминия, нихрома, олова, никеля и хрома, благородных металлов и их смесей; грунтовочная пленка выбрана из материала, содержащего титан; материала, содержащего цирконий; материала, содержащего алюминий; материала, содержащего никель; материала, содержащего хром; материала, содержащего гафний; материала, содержащего медь; материала, содержащего ниобий; материала, содержащего тантал; материала, содержащего ванадий; материала, содержащего индий; материала, содержащего цинк, и их смесей; диэлектрический слой выбран из группы оксидов титана, гафния, циркония, ниобия, цинка, висмута, свинца, индия, олова, цинка и олова; оксидов сплавов индий-олово, нитридов кремния, нитридов кремний-алюминий, оксинитридов и нитридов алюминия; а защитный слой является оксидом смеси оксида кремния и оксида алюминия.
11. Изделие по п.5, в котором покрытие является теплостойким покрытием, имеющим низкую излучательную способность, и содержит слой материала, поглощающего видимый свет, поверх одной из поверхностей подложки; первый диэлектрический слой поверх слоя материала, поглощающего видимый свет; первый серебряный слой поверх первого диэлектрического слоя; первый грунтовочный слой поверх первого серебряного слоя; второй диэлектрический слой поверх первого грунтовочного слоя; второй серебряный слой поверх второго диэлектрического слоя; второй грунтовочный слой поверх второй серебряной пленки; третий диэлектрический слой поверх второго грунтовочного слоя: и защитное покрытие поверх диэлектрического слоя.
12. Изделие по п.11, в котором изделие с покрытием имеет следующие координаты цветности по стандарту CIE 1976, с источником света D65, при угле наблюдения 10°: а*=0,3; b*=4,5 и L*=78, причем указанные координаты цветности могут варьироваться в диапазоне ±10%.
13. Изделие по п.12, в котором первая поверхность слоя материала, поглощающего видимый свет, является первой поверхностью верхнего слоя и имеет толщину в диапазоне от 2 до 10 нм; первый диэлектрический слой выполнен на противоположной второй поверхности слоя материала, поглощающего видимый свет, и имеет толщину от 30 до 50 нм; первый серебряный слой выполнен на первом диэлектрическом слое и имеет толщину от 10 до 100 нм; первый грунтовочный слой выполнен на первом серебряном слое и имеет толщину от 1 до 6 нм; второй диэлектрический слой выполнен на первом грунтовочном слое и имеет толщину от 30 до 50 нм; второй серебряный слой выполнен на втором диэлектрическом слое и имеет толщину от 10 до 100 нм; второй грунтовочный слой выполнен на втором серебряном слое и имеет толщину от 1 до 6 нм; третий диэлектрический слой выполнен на втором грунтовочном слое и имеет толщину от 30 до 50 нм и защитное покрытие выполнено на третьем диэлектрическом слое и имеет толщину от 10 до 500 нм.
14. Изделие по п.13, в котором материал, поглощающий видимый свет, выбран из нитрида титана; никеля; хрома и их смесей.
15. Изделие но п.2, в котором подложка имеет коэффициент пропускания видимого света, превышающий 0%, верхний слой имеет коэффициент пропускания видимого света 0% и первая поверхность верхнего слоя имеет коэффициент пропускания видимого света больший, чем коэффициент пропускания видимого света подложки.
16. Изделие по п.15, в котором верхний слой является покрытием, содержащим базовый слой из одного или более металлов, металлических сплавов и их смесей на второй поверхности подложки, толщина которого находится от 10 до 100 нм; грунтовочный слой выполнен на базовом слое и имеет толщину от 1 до 6 нм; диэлектрический слой выполнен на грунтовочном слое и имеет толщину от 1 до 10 нм; и защитное покрытие выполнено на диэлектрическом слое и имеет толщину от 10 до 50 нм.
17. Изделие по п.1, в котором подложка имеет коэффициент пропускания видимого света 0%, а верхний слой имеет коэффициент пропускания видимого света, превышающий 0%.
18. Изделие по п.1, в котором подложка является пластиковой или стеклянной подложкой и подложка с верхним слоем имеет координаты цветности по стандарту CIE 1976, с источником света D65, при угле наблюдения 10°, выбранные из:
а*=3,0; b*=27,6; и L*=69,6;
а*=0,6; b*=2,7; и L*=70,1;
а*=0,3; b* - 3,4; и L*=83,6;
а*=0,5; b*=5,4; и L*=77,1;
а*=10,8; b*=-35,8; и L*=76,2;
а*=13,3; b*=14,9; и L*=85,6;
a*=22,3; b*=29,7; и L* - 71,3;
a*=7,5; b*=46,0; и L*=55,9;
a*=0,4; b*=23,3; и I.*=84,2 и
а*=0,8; b*=6,3; и L*=79,2,
причем указанные координаты цветности могут варьироваться в диапазоне ±10%.
19. Изделие по п.1, в котором текстурированная поверхность выбрана из следующих вариантов: множество линейных и/или нелинейных линий и/или линейных сегментов; выступающих участков поверхности; вдавленных участков поверхности и углублений.
20. Изделие по п.19, в котором изделие имеет металлический внешний вид, подложка является неметаллической подложкой и заданная структура на второй поверхности подложки содержит одно или более углублений, имеющих длину вплоть до 5 см, ширину от 1 до 100 мкм, глубину от 0,05 до 1 мкм; а слой является покрытием поверх, но меньшей мере, одного участка второй поверхности подложки.
21. Изделие по п.1, в котором изменение степени матовости подложки составляет более 0%.
22. Изделие по п.21, в котором изменение степени матовости подложки составляет по меньшей мере 15%.
23. Изделие по п.1. в котором изделие является изделием промышленною производства, выбранным из группы мебель, устройства бытовой техники, окна коммерческих и жилых зданий и детали транспортных средств.
24. Покрытие, содержащее:
эстетичный отражающий слой, выбранный из стали, меди, латуни, ниобия, алюминия, нихрома, олова, никеля, хрома, благородных металлов и их смесей;
грунтовочный слой поверх эстетичного отражающего слоя, причем грунтовочный слой выбран из материала, содержащего титан; материала, содержащего цирконий; материала, содержащего алюминий; материала, содержащего никель; материала, содержащего хром; материала, содержащего гафний; материала, содержащего медь; материала, содержащего ниобий; материала, содержащего тантал; материала, содержащего ванадий; материала, содержащего индий; материала, содержащего цинк, и их смесей; диэлектрический слой выбран из оксидов титана, гафния, циркония, ниобия, цинка, висмута, свинца, индия, олова, цинка и олова, оксидов сплавов индий-олово, нитридов кремния, нитридов кремний-алюминий, оксинитридов и нитридов алюминия; и
диэлектрический слой поверх грунтовочного слоя.
25. Покрытие по п.24, в котором эстетическая отражающая пленка имеет толщину от 1 до 20 нм; грунтовочный слой имеет толщину от 1 до 10 нм; диэлектрическая пленка имеет толщину от 1 до 10 нм.
26. Покрытие по п.25, дополнительно содержащее защитное покрытие на диэлектрическом слое, причем диэлектрический слой является оксидом смеси оксида кремния и оксида алюминия и имеет толщину от 10 до 500 нм.
27. Термостойкое покрытие, имеющее низкую излучательную способность, содержащее:
слой материала, поглощающего видимый свет;
первый диэлектрический слой поверх слоя материала, поглощающего видимый свет;
первый серебряный слой поверх первого диэлектрического слоя;
первый грунтовочный слой поверх первого серебряного слоя;
второй диэлектрический слой поверх первого грунтовочного слоя;
второй серебряный слой поверх второго диэлектрического слоя;
второй грунтовочный слой поверх второй серебряной пленки;
третий диэлектрический слой поверх второго грунтовочного слоя и
защитное покрытие поверх диэлектрического слоя.
28. Покрытие по п.27, в котором покрытие имеет следующие координаты цветности по стандарту CIE 1976 с источником света D65 при угле наблюдения 10°: а*=0,3, b*=4,5, и L*=78, причем указанные координаты цветности могут варьироваться в диапазоне ±10%.
29. Покрытие по п.28, в котором слой материала, поглощающего видимый свет, выбран из нитрида титана, никеля, хрома и их смесей и имеет толщину от 2 до 10 нм; первый диэлектрический слой выполнен на слое материала, поглощающего видимый свет, и имеет толщину от 30 до 50 нм; первый серебряный слой выполнен на первом диэлектрическом слое и имеет толщину от 10 до 100 нм; первый грунтовочный слой выполнен на первом серебряном слое и имеет толщину от 1 до 6 нм; второй диэлектрический слой выполнен на первом грунтовочном слое и имеет толщину от 30 до 50 нм; второй серебряный слой выполнен на втором диэлектрическом слое и имеет толщину от 10 до 100 нм; второй грунтовочный слой выполнен па втором серебряном слое и имеет толщину от 1 до 6 нм; третий диэлектрический слой выполнен на втором грунтовочном слое и имеет толщину от 30 до 50 нм и защитное покрытие выполнено на третьем диэлектрическом слое и имеет толщину от 10 до 500 нм.