Устройство для нанесения фоторезиста на полупроводниковые пластины

Устройство для нанесения фоторезиста на полупроводниковые пластины, включающее пластинодержатель с приводом вращения, установленный в ванне, и сопло подачи фоторезиста, отличающееся тем, что оно дополнительно снабжено трубопроводом для подачи очищающей жидкости, размещенным в ванне, и соплом для подачи растворителя, при этом оба сопла установлены на кронштейне с возможностью перемещения последних из рабочей зоны ванны в нерабочую к подставке, выполненной в виде цилиндрической емкости с двумя отверстиями в крышке под установку сопел и кольцевым сливным порогом в центре дна.