Устройство и способ для увеличения сцепления составляющего слоя с несущим объектом

1. Способ для сцепления объекта (3) с подложкой (15) объекта в процессе стереолитографии, при котором объект (3) формируют путем отверждения светочувствительного вещества (5) под действием отверждающего излучения, причем в по меньшей мере одной частичной зоне подложки (15) объекта на подложку (15) объекта направляют дополнительное излучение в направлении, отличном от направления отверждающего излучения, для прикрепления объекта (3) с возможностью сцепления, отличающийся тем, что происходит поступление дополнительного излучения сбоку в целом плоскую, проницаемую для излучения подложку (15) объекта и его преломление в подложке (15) объекта.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что дополнительное излучение получают из отверждающего излучения.
3. Способ по п. 1 или 2, отличающийся тем, что в качестве дополнительного излучения используют излучение, независимое от отверждающего излучения.
4. Способ по любому из пп. 1-3, отличающийся тем, что дополнительное излучение поступает в подложку (15) объекта по световоду (31).
5. Способ по любому из пп. 1-4, отличающийся тем, что дополнительное излучение регулируют в зоне сцепления во время процесса создания сцепления.
6. Устройство для выполнения способа по любому из пп. 1-5, отличающееся тем, что источник (17) дополнительного излучения размещен сбоку на некотором расстоянии от подложки (15) объекта, и тем, что подложка (15) объекта, по меньшей мере, частично проницаема для дополнительного излучения.
7. Устройство по п. 6, отличающееся тем, что источник (17) дополнительного излучения образован световодом (31).
8. Устройство по п. 7, отличающееся тем, что световод (31) соединен с источником (9) основного стереолитографического излучения с возможностью проведения света.
9. Устройство по п. 6, отличающееся тем, что создан источник (17) дополнительного излучения, независимый от источника (9) основного излучения.
10. Устройство по любому из пп. 6-9, отличающееся тем, что подложка (15) объекта выполнена частично проницаемой для излучения и, по меньшей мере, частично отражающей для преломления дополнительного излучения в зону сцепления для объекта (3).
11. Устройство по любому из пп. 6-10, отличающееся тем, что подложка (15) объекта включает в себя зеркальную поверхность (21).
12. Устройство по п. 11, отличающееся тем, что зеркальная поверхность (21) выполнена с возможностью диффузного отражения.
13. Устройство по п. 11, отличающееся тем, что подложка объекта включает в себя расположенное с возможностью перемещения преломляющее зеркало (21ʺ).
14. Устройство по любому из пп. 6-13, отличающееся тем, что подложка объекта содержит адгезионную основу (19), по меньшей мере, частично проницаемую для излучения.