УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЭЛЕКТРООБРАБОТКИ ГИДРОПОННЫХ СУБСТРАТОВ

Полезная модель относится к сельскохозяйственному производству, электронно-ионной технологии и может быть использована для электрообработки гидропонных субстратов.
Известна установка для обработки семян (Басов А.М. и др. Электрозерноочистительные машины. М.: Машиностроение, 1967 г.), включающая приемный и загрузочный бункеры, транспортер, источник высокого напряжения и два параллельно расположенных электрода: потенциальный и заземленный. Использование данной электродной системы позволяет осуществлять обработку семян в электростатическом поле плоского конденсатора.
Однако данная установка недостаточно эффективна, поскольку не позволяет осуществлять зарядку семян путем осаждения на их поверхности ионов, содержащихся в газе межэлектродного пространства.
Наиболее близкой по технической сущности к заявленному техническому решению является машина для предпосевной обработки семян в электрическом поле (Арнольд А.Э. и др. Машина для предпосевной обработки семян в электрическом поле. АС СССР №721031; кл. А 01 G 7/04), включающая загрузочный и приемный бункеры, приводные барабаны, транспортерную ленту со сквозными ячейками и четыре электрода: два потенциальных и два осадительных (заземленных). При этом осадительные электроды выполнены в виде пластин с отверстиями и установлены под верхней и под нижней ветвями транспортерной ленты. Данная машина имеет две электродные системы: первая образована потенциальным электродом, расположенным над верней ветвью транспортерной ленты, и осадительным электродом, размещенным под верхней ветвью транспортерной ленты, а вторая - потенциальным электродом, установленным над нижней ветвью транспортерной
ленты, и осадительным электродом, расположенным под нижней ветвью транспортерной ленты.
Однако данная машина недостаточно эффективна по причине плохого контакта ионов с обрабатываемыми семенами, так как ионы осаждаются не всей поверхности семян, а только по той ее части, которая не соприкасается с транспортерной лентой.
Целью изобретения является повышение эффективности машины за счет улучшения контакта ионов с обрабатываемым материалом.
Это достигается тем, что осадительные электроды выполняются гофрированными, в результате чего частицы обрабатываемого материала переворачиваются, двигаясь по транспортерной ленте, и ионы осаждаются по всей их поверхности.
В результате поиска, проведенного по научно-технической и патентной литературе, не обнаружено идентичное техническое решение, что доказывает соответствие технического решения критерию «новизна».
Предлагаемое устройство включает загрузочный бункер 1 (рис.) для подачи частиц субстрата на верхнюю ветвь 2 транспортерной ленты, потенциальные электроды 3 и 4, расположенные, соответственно, над верхней 2 и над нижней 5 ветвями транспортерной ленты, которые поддерживаются пластинами 6 и 7. При этом пластины 6 и 7 являются осадительными электродами и выполняются гофрированными. Транспортерная лента имеет сквозные ячейки и натянута на приводные барабаны 8 и 9. Гофрированные пластины 6 и 7 имеют соответственно отверстия 10 и 11, расположенные в конце пластин по ходу транспортерной ленты. Отверстие 10 предназначено для перемещения обрабатываемых субстратов на нижнюю ветвь 5 транспортерной ленты, а отверстие 11 - для подачи обработанных субстратов в приемный бункер 12. Высокое напряжение на потенциальные электроды 3 и 4 подается от высоковольтного источника 13 питания. При этом потенциальные электроды являются коронирующими (игольчатыми, проволочными), т.е. предназначенными для создания поля коронного разряда.
Устройство работает следующим образом. Субстрат, подлежащий обработке, засыпается в загрузочный бункер 1, откуда его частицы подаются на верхнюю ветвь 2 транспортерной ленты, заполняют ее ячейки и, перемещаясь по гофрированной пластине 6, подвергаются воздействию поля коронного разряда, созданного с помощью потенциального электрода 3 и гофрированной пластины 6 (осадительного электрода). При этом частицы субстрата переворачиваются, благодаря чему ионы осаждаются по всей их поверхности. Через отверстие 10 в пластине 6 частицы субстрата поступают на нижнюю ветвь 5 транспортерной ленты и, перемещаясь в противоположном направлении, вновь подвергаются воздействию поля коронного разряда, созданного потенциальным электродом 4 и гофрированной пластиной 7 (осадительным электродом). При этом частицы субстрата поворачиваются, благодаря чему ионы осаждаются по всей их поверхности. Достигнув отверстия 11, частицы субстрата через него высыпаются в приемный бункер 12.
Использование предложенного устройства позволяет улучшить контакт ионов с поверхностью обрабатываемых субсратов.