СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОЧИСТКИ ТЕКУЧИХ СРЕД

1. Устройство для очистки текучих сред, имеющее массообменный аппарат, который содержит легколетучую текучую среду и труднолетучую текучую среду, который содержит структурированную набивку, причем структурированная набивка содержит первый слой (10) набивки и второй слой (100) набивки, причем первый слой (10) набивки и второй слой (100) набивки имеют волнообразный профиль, причем этот волнообразный профиль образует открытые каналы (12, 14, 16, 112, 114, 116), причем каналы (12, 14, 16) первого слоя (10) набивки перекрещиваются с каналами (112, 114, 116) второго слоя набивки, причем через каналы (12, 14, 16, 112, 114, 116) может протекать труднолетучая текучая среда, так что каналы могут смачиваться этой труднолетучей текучей средой, причем на поверхностях каналов образуется пленка труднолетучей текучей среды, причем очистка либо легколетучей текучей среды, либо труднолетучей текучей среды может осуществляться путем массообмена между легколетучей текучей средой и труднолетучей текучей средой, отличающееся тем, что первый слой (10) набивки находится в контакте со вторым слоем (100) набивки, соприкасаясь через дистанционирующие элементы (24, 34, 44, 134, 144), причем дистанционирующие элементы являются составной частью первого или второго слоя (10, 100) набивки.
2. Устройство по п.1, причем дистанционирующие элементы (24, 34, 44, 134, 144) выполнены в виде перемычек.
3. Устройство по п. 1, причем дистанционирующие элементы находятся на вершинах (33, 43, 133, 143), ограничивающих открытые каналы (12, 14, 16, 112, 114, 116).
4. Устройство по п. 1, причем дистанционирующие элементы (24, 34, 44) расположены в краевой области первого или второго слоя (10, 100) набивки.
5. Устройство по п.4, причем краевая область включает в себя полосу, которая непосредственно примыкает к краю слоя (10, 100) набивки.
6. Устройство по п.5, причем полоса имеет длину, которая соответствует длине слоя (10, 100) набивки, причем длина слоя (10, 100) набивки при вертикальной установке слоя (10, 100) набивки в массообменный аппарат равна протяженности слоя (10, 100) набивки в горизонтальном направлении.
7. Устройство по п.5, причем полоса имеет длину, которая соответствует длине слоя (10, 100) набивки, причем длина слоя (10, 100) набивки является протяженностью слоя (10, 100) набивки в плоскости, перпендикулярной к оси массообменного аппарата.
8. Устройство по п.5, причем полоса имеет высоту, которая соответствует высоте слоя (10, 100) набивки, причем высота слоя (10, 100) набивки при вертикальной установке в массообменный аппарат является протяженностью слоя (10, 100) набивки в вертикальном направлении.
9. Устройство по п.5, причем полоса имеет высоту, которая соответствует высоте слоя (10, 100) набивки, причем высота слоя (10, 100) набивки является протяженностью слоя (10, 100) набивки в направлении оси массообменного аппарата.
10. Устройство по п.5, причем полоса имеет ширину, максимально равную двойной высоте h дистанционирующего элемента.
11. Устройство по п.5, причем полоса имеет ширину, максимально равную 1,5-кратной высоте h дистанционирующего элемента.
12. Устройство по п.1, причем дистанционирующие элементы (134, 144) находятся на втором слое (100) набивки.
13. Устройство по п.1, причем дистанционирующие элементы при вертикальной ориентации первого и второго слоев (10, 100) набивки расположены друг под другом или рядом друг с другом.
14. Устройство по п.1, причем волнообразный профиль имеет по существу постоянную высоту (28) волны.
15. Устройство по п.1, причем массообменный аппарат представляет собой абсорбер (91).
16. Устройство по п.1, причем массообменный аппарат представляет собой десорбер (92).
17. Способ очистки текучих сред в массообменном аппарате, который содержит структурированную набивку, включающий следующие шаги: подача труднолетучей текучей среды в массообменный аппарат, распределение подведенной труднолетучей текучей среды по общей поверхности, подача легколетучей текучей среды в массообменный аппарат в область входа текучей среды, распределение легколетучей текучей среды в области входа газа по общей поверхности, причем легколетучая текучая среда течет в противотоке к жидкости, сбор легколетучей текучей среды, которая выходит из набивки, в области выхода текучей среды, причем структурированная набивка содержит первый слой набивки и второй слой набивки, причем первый слой набивки и второй слой набивки имеют волнообразный профиль с постоянной высотой волны, причем этот волнообразный профиль образует открытые каналы, причем каналы первого слоя набивки перекрещиваются с каналами второго слоя набивки, причем легколетучая текучая среда течет по этим каналам от области входа текучей среды в направлении области выхода текучей среды, причем труднолетучая текучая среда охватывает текущую по каналам легколетучую текучую среду и течет по стенкам каналов, причем первый слой набивки находится в контакте со вторым слоем набивки, соприкасаясь через дистанционирующие элементы, причем дистанционирующие элементы являются составной частью первого или второго слоя набивки, так что осуществляется массообмен между легколетучей текучей средой и труднолетучей текучей средой через образованную каналами поверхность массообмена.
18. Способ по п.17, причем очистка происходит путем массообмена, который зависит от скорости, с которой компоненты, подлежащие удалению из потока легколетучей текучей среды, поглощаются труднолетучей текучей средой.
19. Способ по п.17, причем очистка происходит путем массообмена, который зависит от скорости, с которой компоненты, подлежащие удалению из труднолетучей текучей среды, отдаются в труднолетучую текучую среду.
20. Способ по п.17, причем легколетучая текучая среда представляет собой газ.
2
21. Способ по п.20, причем газ является газом, содержащим CO.
22. Способ по п.17, причем труднолетучая текучая среда представляет собой жидкость, в которой протекает химическая реакция.