СПОСОБ ЭКСПОНИРОВАНИЯ

1. Способ экспонирования поверхности мишени (9) в системе, содержащей проекционный объектив (104) для фокусировки одного или более пучков на поверхности для экспонирования мишени, и набор датчиков (30), установленный в фиксированном взаимном расположении относительно проекционного объектива, для измерения расстояния до мишени, причем способ содержит этапы, на которых:
закрепляют мишень на подвижном столе (134);
перемещают мишень во множество положений, в которых один или более датчиков расположены над мишенью;
принимают сигналы от одного или более датчиков, расположенных над мишенью;
вычисляют одно или более значений (Rx, Ry) коррекции наклона на основании сигналов, принятых от датчиков;
регулируют наклон стола на основании одного или более значений коррекции наклона перед экспонированием;экспонируют мишень; и
регулируют положение стола по вертикали во время экспонирования на основании сигналов, принятых из датчиков.
2. Способ по п.1, дополнительно содержащий этап, на котором: получают карту высот для отклонений высоты по поверхности площади мишени, подлежащей экспонированию, из сигналов, принятых от датчиков, и при этом регулировка положения стола по вертикали во время экспонирования основана на карте высот.
3. Способ по п.1, в котором регулировка положения стола по вертикали во время экспонирования основана на интерполяции между измеренными значениями от датчиков.
4. Способ по любому из предыдущих пунктов, в котором наклон стола регулируют однократно при каждом экспонировании мишени на основании одного или более значений (Rx, Ry) коррекции наклона.
5. Способ по любому из пп.1-3, в котором вычисляют множество наборов значений (Rx, Ry) коррекции наклона для разных областей мишени и регулируют наклон стола более одного раза при каждом экспонировании мишени на основании множества наборов значений коррекции наклона.
6. Способ по п.1, в котором этап вычисления одного или более значений (Rx, Ry) коррекции наклона содержит этап, на котором: определяют локальные градиенты мишени в нескольких заданных положениях.
7. Способ по п.6, в котором заданные положения включают в себя положения, равноотстоящие друг от друга по периферии мишени.
8. Способ по любому из пп.1-3, в котором одно или более значений коррекции наклона содержат коррекцию в направлении x и коррекцию наклона в направлении y, где направления x и y перпендикулярны друг другу и обычно перпендикулярны пучку или пучкам, используемым для экспонирования мишени.
9. Литографическая система для экспонирования мишени (9), содержащая:
компоновку (104) проекционного объектива для проецирования одного или более пучков на мишень для экспонирования мишени;
подвижный стол (134) для транспортировки мишени, прикрепленной к столу;
множество датчиков (30), причем каждый датчик предназначен для измерения расстояния между датчиком и поверхностью мишени в положении измерения; и
блок обработки для приема сигналов от датчиков и для вычисления одного или более значений (Rx, Ry) коррекции наклона на основании сигналов, принятых от датчиков;
в которой стол дополнительно содержит механизм наклона для регулировки наклона стола на основании одного или более значений коррекции наклона, и в которой система дополнительно выполнена с возможностью регулировки наклона перед экспонированием мишени и адаптации к изменению расстояния между проекционным объективом и поверхностью полупроводниковой пластины во время экспонирования мишени.
10. Литографическая система по п.9, в которой адаптация к изменению расстояния между проекционным объективом и поверхностью полупроводниковой пластины основана на ранее определенной карте высот.
11. Литографическая система по п.9, в которой адаптация к изменению расстояния между проекционным объективом и поверхностью полупроводниковой пластины основана на интерполяции между измеренными значениями.
12. Литографическая система по любому из пп.9-11, дополнительно содержащая тонкопленочную структуру, причем тонкопленочная структура содержит датчик (30), имеющий первый изолирующий слой (34) и первую проводящую пленку, содержащую измерительный электрод (31), сформированный на первой поверхности первого изолирующего слоя, вторую проводящую пленку, содержащую задний охранный электрод (35), причем задний охранный электрод сформирован в одной плоскости и содержит периферийную часть в той же самой плоскости, при этом задний охранный электрод расположен на второй поверхности первого изолирующего слоя (34) и первой поверхности второго изолирующего слоя (43) или защитного слоя (38), причем периферийная часть заднего охранного электрода продолжается за пределы измерительного электрода, образуя боковой охранный электрод, который по существу или полностью окружает измерительный электрод.
13. Способ измерения топологии поверхности мишени (9) в системе, содержащей набор датчиков (30) для измерения расстояния до мишени, содержащий этапы, на которых:
перемещают мишень в первое положение, в котором точка измерения на мишени совпадает с первым поднабором датчиков;
измеряют расстояние между каждым датчиком из первого поднабора датчиков и мишенью и сохраняют одно или более значений, основанных на первых измерениях;
перемещают мишень во второе положение, в котором точка измерения на мишени совпадает с точкой под проекционным объективом (104) и со вторым поднабором датчиков;
измеряют расстояние между каждым датчиком из второго поднабора датчиков и мишенью и сохраняют одно или более значений, основанных на вторых измерениях; и
вычисляют значение расстояния до мишени в точке под проекционным объективом на основании сохраненных значений результатов первых и вторых измерений.
14. Способ по п.13, в котором значение расстояния до мишени (9) в точке под проекционным объективом (104) определяют путем интерполяции между сохраненными значениями результатов вторых измерений на основании сохраненных значений результатов первых измерений.
15. Способ по п.13 или 14, дополнительно содержащий этап, на котором: определяют топологию мишени (9) в точке измерения на мишени на основании результатов первых измерений.
16. Способ по п.13, дополнительно содержащий этап, на котором: определяют величину прогиба мишени (9) в точке измерения на мишени на основании результатов первых измерений.
17. Способ по п.16, в котором значение расстояния до мишени (9) в точке под проекционным объективом (104) определяют путем интерполяции между сохраненными значениями результатов вторых измерений на основании величины прогиба мишени в точке измерения на мишени.
18. Способ по п.13, дополнительно содержащий этап, на котором: измеряют наклон мишени (9) на основании сохраненных значений результатов первых и вторых измерений.
19. Способ по п.18, в котором сохраненные значения, используемые для определения наклона, получают по результатам измерений, по меньшей мере, трех датчиков, расположенных в форме треугольника.
20. Способ по п.13 или 14, в котором набор датчиков (30) содержит матрицу датчиков.
21. Литографическая система для экспонирования мишени (9), содержащая:
компоновку (104) проекционного объектива для проецирования одного или более пучков на мишень для экспонирования мишени;
подвижный координатный стол (134) для транспортировки мишени, причем координатный стол является подвижным, по меньшей мере, в первом направлении;
множество датчиков (30), причем каждый датчик предназначен для измерения расстояния между датчиком и мишенью в положении измерения, причем множество датчиков содержит:
по меньшей мере, первый датчик, для которого положение измерения расположено на одной линии с компоновкой проекционного объектива и на расстоянии от нее в направлении, параллельном и противоположном первому направлению;
первый поднабор из одного или более датчиков, причем каждый датчик из первого поднабора расположен на одной линии с первым датчиком в направлении, перпендикулярном к первому направлению;
второй поднабор из одного или более датчиков, причем каждый датчик из второго поднабора расположен на одной линии с проекционным объективом и на расстоянии от него в направлении, перпендикулярном к первому направлению; и
вычислительный блок для вычисления значения, зависящего от расстояния между компоновкой проекционного объектива и мишенью, причем упомянутое значение основано на результатах измерений от первого поднабора датчиков и на результатах измерений от второго поднабора датчиков.
22. Литографическая система по п.21, дополнительно содержащая тонкопленочную структуру, причем тонкопленочная структура содержит датчик (30), имеющий первый изолирующий слой (34) и первую проводящую пленку, содержащую измерительный электрод (31), сформированный на первой поверхности первого изолирующего слоя, вторую проводящую пленку, содержащую задний охранный электрод (35), причем задний охранный электрод сформирован в одной плоскости и содержит периферийную часть в той же самой плоскости, при этом задний охранный электрод расположен на второй поверхности первого изолирующего слоя (34) и первой поверхности второго изолирующего слоя (43) или защитного слоя (38), причем периферийная часть заднего охранного электрода продолжается за пределы измерительного электрода, образуя боковой охранный электрод, который по существу или полностью окружает измерительный электрод.