КОМПОЗИЦИИ МОЮЩИХ СРЕДСТВ

1. Композиция, содержащая оттеночный агент для ткани и вариант родительской липазы, причем указанный вариант, по сравнению с указанным родительским, содержит в общем по меньшей мере три замещения, выбранные из одной или больше из следующих групп замещений:
a) по меньшей мере двух замещений в Области I,
b) по меньшей мере одно замещение в Области II,
c) по меньшей мере одно замещение в Области III, и/или
d) по меньшей мере одно замещение в Области IV.
2. Композиция моющего средства по п.1, где липаза далее отличается тем, что по меньшей мере два замещения в Области I родительской липазы включают замещения в положениях, соответствующих положениям 231 и 233.
3. Композиция моющего средства по п.2, где липаза далее отличается тем, что аминокислоты родительской липазы в положениях, соответствующих положениям 231 и 233, замещены на R.
4. Композиция моющего средства по п.2, где указанный вариант включает замещение в положении, соответствующем положению 4 SEQ ID NO:2.
5. Композиция моющего средства по п.4, где указанное замещение в положении, соответствующем положению 4 SEQ ID NO:2, представляет собой V.
6. Композиция моющего средства по п.2, где указанный вариант включает замещение в положении, соответствующем положению 227 SEQ ID NO:2.
7. Композиция моющего средства по п.6, где указанное замещение в положении, соответствующем положению 227 SEQ ID NO:2, представляет собой G.
8. Композиция моющего средства по п.1, где липаза далее отличается тем, что по меньшей мере одно замещение в Области II родительской липазы включает замещения, выбранные из группы, состоящей из замещений в положениях, соответствующих положениям 202, 211, 255 и 256.
9. Композиция моющего средства по п.8, где липаза далее отличается тем, что по меньшей мере одно замещение в родительской липазе выбрано из группы, состоящей из X202G, Х211L, X255Y/V и Х256K.
10. Композиция моющего средства по п.1, где указанное по меньшей мере одно замещение в Области II включает замещение в положении, соответствующем положению 210.
11. Композиция моющего средства по п.10, где положение, соответствующее положению 210, представляет собой Х210K.
12. Композиция моющего средства по п.1, где липаза далее отличается тем, что по меньшей мере одно замещение в Области III родительской липазы включает замещения, выбранные из группы, состоящей из замещений в положениях, соответствующих положениям 86 и 90,
13. Композиция моющего средства по п.12, где липаза далее отличается тем, что по меньшей мере одно замещение в родительской липазе выбрано из группы, состоящей из X86V и X90A/R.
14. Композиция моющего средства по п.1, где указанное по меньшей мере одно замещение в Области III включает замещение в положении, соответствующем положению 83.
15. Композиция моющего средства по п.14, где положение, соответствующее положению 83, представляет собой Х83Т.
16. Композиция моющего средства по п.1, где липаза далее отличается тем, что по меньшей мере одно замещение в Области IV родительской липазы включает замещения, выбранные из группы, состоящей из замещений в положениях, соответствующих положениям 27, 58 и 60.
17. Композиция моющего средства по п.16, где липаза далее отличается тем, что по меньшей мере одно замещение в родительской липазе выбрано из группы, состоящей из X27R, X58N/A/G/P/T и X60S/V/G/N/R/K/A/L.
18. Композиция моющего средства по п.1, где липаза далее отличается тем, что родительская липаза далее включает по меньшей мере одно замещение за пределами указанных Областей I-IV.
19. Композиция моющего средства по п.18, где липаза далее отличается тем, что по меньшей мере одно замещение в родительской липазе выбрано из группы, состоящей из замещений в положениях, соответствующих положениям 81, 147, 150 и 249.
20. Композиция моющего средства по п.18, где липаза далее отличается тем, что по меньшей мере одно замещение в родительской липазе выбрано из группы, состоящей из X81Q/E, X147M/Y, X150G и X249R/I/L.
21. Композиция моющего средства по п.2, где липаза далее отличается тем, что родительская липаза по меньшей мере на 90% идентична SEQ ID NO:2.
22. Композиция моющего средства по п.1, где родительская липаза идентична SEQ ID NO:2 и указанный вариант включает одну из следующих групп замещений:
a) T231R+N233R+I255Y
b) I202G+T231R+N233R
c) I86V+L227G+T231R+N233R+Р256K
d) Q4V+S58N+V60S+Т231R+N233R
e) S58N+V60S+I90R+Т231R+N233R
f) I90A+Т231R+N233R+I255V
g) S58N+V60S+I86V+A150G+L227G+T231R+N233R+Р256K
h) S58N+V60S+L147M+F211L+Т231R+N233R
i) Q4V+S58A+V60S+S83T+I86V+A150G+E210K+L227G+T231R+N233R+Р256K
j) S58N+V60S+I86V+A150G+L227G+Т231R+N233R+Р256K.
23. Композиция моющего средства по п.1, где родительская липаза идентична SEQ ID NO:2 и указанный вариант включает одну из следующих групп замещений:
a) Q4V+S58A+V60S+S83T+I86V+A150G+E210K+L227G+T231R+N233R+Р256K
b) S58N+V60S+I86V+A150G+L227G+T231R+N233R+Р256K.
24. Композиция моющего средства по п.1, где вариант липазы отличается тем, что соотношение Польза-Риск, измеренное, как указано в описании, имеет значение больше 1.
25. Композиция моющего средства, включающая оттеночный агент для ткани и полипептид, обладающий липазной активностью и далее имеющая среднюю относительную эффективность по меньшей мере 0,8 и соотношение Польза-Риск по меньшей мере 1,1 в условиях тестирования, приведенных в описании.
26. Композиция по п.1, в которой композиция включает от 0,1% до 40% анионного поверхностно-активного вещества.
27. Композиция по п.26, представляющая собой композицию для очистки и/или обработки.
28. Способ очистки и/или обработки поверхности или ткани, включающий стадию, на которой вводят в контакт указанную поверхность или ткань с композицией по п.1, а затем, опционально, стирают и/или полощут указанную поверхность или ткань.
29. Композиция по п.1, в которой указанный вариант липазы является вариантом SEQ ID NO:2, содержащим по меньшей мере одну из мутаций Q4V, S58N/A/G/P/T, I90R или Q249I/L.