СПОСОБ ПОДГОТОВКИ ВНЕШНЕЙ ПОВЕРХНОСТИ ПЛАНАРНОГО ВОЛНОВОДА ДЛЯ ПРИДАНИЯ ЕЙ СПОСОБНОСТИ СВЯЗЫВАТЬ ИСПЫТУЕМЫЕ ОБРАЗЦЫ ВДОЛЬ МНОЖЕСТВА ЗАРАНЕЕ ЗАДАННЫХ ЛИНИЙ И ПЛАНАРНЫЙ ВОЛНОВОД

1. Способ подготовки внешней поверхности (11) планарного волновода (1), способной связывать испытуемые образцы вдоль множества заранее заданных линий (4), содержащий этапы:
- предоставление планарного волновода (1), имеющего внешнюю поверхность (11), приспособленную для присоединения линкерных молекул (2) к внешней поверхности (11);
- последовательное нанесение по меньшей мере одного множества линкерных молекул (2, 5; 2) на внешнюю поверхность (11), причем каждое множество из по меньшей мере одного множества линкерных молекул (2, 5; 2) компонуют, формируя индивидуальный слой линкерных молекул (2, 5; 2), причем индивидуальные слои формируют один над другим, начиная от внешней поверхности (11) планарного волновода (1), причем каждая линкерная молекула (2, 5; 2) содержит функциональную группу (22, 52; 22) и головную группу (21, 51; 21), причем головная группа (21, 51; 21) способна присоединяться к внешней поверхности (11) планарного волновода (1) или к функциональным группам (22) предыдущего слоя линкерных молекул (2), в котором функциональные группы (52; 22) линкерных молекул (5; 2) из самого верхнего слоя связывают с фотолабильными защитными группами (3) так, чтобы каждая функциональная группа (52; 22) самого верхнего слоя, связанная с упомянутой фотолабильной защитной группой (3), была не способна присоединять комплементарную функциональную группу дополнительной молекулы и
- экспонирование этих фотолабильных защитных групп (3) самого верхнего слоя, расположенных вдоль множества заранее заданных линий (4), светом заранее заданной длины волны для удаления экспонированных фотолабильных защитных групп (3) из функциональных групп (52; 22) для придания этим функциональным группам (52; 22) способности присоединять комплементарную функциональную группу дополнительной молекулы.
2. Способ по п. 1, в котором этап последовательного нанесения по меньшей мере одного множества линкерных молекул (2, 5) состоит в нанесении только двух множеств линкерных молекул (2, 5), которые компонуют для формирования двух индивидуальных слоев линкерных молекул (2, 5) одного над другим, считая от внешней поверхности (11) планарного волновода (1).
3. Способ по п.п. 1 или 2, дополнительно содержащий этапы:
- присоединение комплементарных функциональных групп молекул (6) захвата к функциональным группам (52) самого верхнего слоя линкерных молекул, расположенных вдоль множества заранее заданных линий (4), с учетом способности каждой молекулы (6) захвата связываться с испытуемым образцом (8);
- экспонирование светом заранее заданной длины волны этих фотолабильных защитных групп (3), расположенных между множеством заранее заданных линий (4), для удаления экспонированных фотолабильных защитных групп (3) из функциональных групп (52) для придания этим функциональным группам (52) способности присоединять комплементарную функциональную группу упомянутой дополнительной молекулы и
- присоединение комплементарных функциональных групп модифицированных молекул (7) захвата к функциональным группам (52), расположенным между множеством заранее заданных линий (4), с учетом неспособности молекулы (7) захвата связываться с испытуемым образцом (8), с которым способны связываться молекулы (6) захвата.
4. Способ по п. 1, в котором этап последовательного нанесения по меньшей мере одного множества линкерных молекул (2) состоит из нанесения только одного множества линкерных молекул (2).
5. Способ по п.п. 1, 2 или 4, дополнительно содержащий этап присоединения головных групп дополнительного множества линкерных молекул к функциональным группам (22) предыдущего слоя линкерных молекул (2), расположенного вдоль множества заранее заданных линий (4), с учетом того, что функциональные группы (52) линкерных молекул (5) дополнительного множества линкерных молекул не связаны с фотолабильными защитными группами (3) и способны присоединять комплементарную функциональную группу дополнительной молекулы.
6. Способ по п. 5, дополнительно содержащий этапы:
- присоединение комплементарных функциональных групп молекул (6) захвата к функциональным группам (52) линкерных молекул (5) дополнительного множества линкерных молекул (5), расположенных вдоль множества заранее заданных линий (4);
- экспонирование светом заранее заданной длины волны фотолабильных защитных групп (3), расположенных между множеством заранее заданных линий (4), с целью удаления экспонированных фотолабильных защитных групп (3) из функциональных групп (22) для придания этим функциональным группам (22) способности присоединять комплементарную функциональную группу дополнительной молекулы;
- присоединение комплементарных функциональных групп еще одного множества линкерных молекул (5) к функциональным группам (22) предыдущего слоя линкерных молекул (2), расположенным между множеством заранее заданных линий (4), с учетом того, что функциональные группы (52) линкерных молекул (5) еще одного дополнительного множества линкерных молекул (5) не связаны с фотолабильными защитными группами (3) и способны присоединять комплементарную функциональную группу упомянутой дополнительной молекулы, и
- присоединение комплементарных функциональных групп модифицированных молекул (7) захвата к функциональным группам (52) линкерных молекул (5) дополнительного множества линкерных молекул (5), расположенных между множеством заранее заданных линий (4).
7. Способ по п. 3, в котором этап экспонирования фотолабильных защитных групп (3), расположенных вдоль множества заранее заданных линий (4), проводят, применяя первую дозу экспонирования, и в котором этап экспонирования фотолабильных защитных групп (3), расположенных между множеством заранее заданных линий (4), проводят, применяя вторую дозу экспонирования с учетом того, что первая доза экспонирования отличается от второй дозы экспонирования.
8. Способ по п. 4 или 6, в котором этап экспонирования фотолабильных защитных групп (3), расположенных вдоль множества заранее заданных линий (4), проводят, применяя первую дозу экспонирования, и в котором этап экспонирования фотолабильных защитных групп (3), расположенных между множеством заранее заданных линий (4), проводят, применяя вторую дозу экспонирования с учетом того, что первая доза экспонирования отличается от второй дозы экспонирования.
9. Способ по п. 5, в котором этап экспонирования фотолабильных защитных групп (3), расположенных вдоль множества заранее заданных линий, (4) проводят, применяя первую дозу экспонирования, и в котором этап экспонирования фотолабильных защитных групп (3), расположенных между множеством заранее заданных линий (4), проводят, применяя вторую дозу экспонирования с учетом того, что первая доза экспонирования отличается от второй дозы экспонирования.
2
10. Способ по п. 7, в котором первая доза экспонирования и вторая доза экспонирования составляет менее 10 Дж/см.
2
11. Способ по п. 8, в котором первая доза экспонирования и вторая доза экспонирования составляет менее 10 Дж/см.
2
12. Способ по п. 9, в котором первая доза экспонирования и вторая доза экспонирования составляет менее 10 Дж/см.
13. Способ по любому из пп. 1, 2 или 4, в котором этап экспонирования фотолабильных защитных групп (3), расположенных вдоль множества заранее заданных линий (4), содержит этапы:
1
1
2
- помещение фазовой маски (9) поблизости фотолабильных защитных групп (3) с учетом того, что фазовая маска (9) обладает множеством выступов (91), имеющих первый показатель преломления n, причем первый показатель преломления n отличается от второго показателя преломления n среды, расположенной между фазовой маской (9) и внешней поверхностью (11) планарного волновода (1), и
- пропускание света заранее заданной длины волны через фазовую маску (9) для экспонирования фотолабильных защитных групп (3), расположенных вдоль множества заранее заданных линий (4).
14. Способ по п. 3, в котором этап экспонирования фотолабильных защитных групп (3), расположенных вдоль множества заранее заданных линий (4), содержит этапы:
1
1
2
- помещение фазовой маски (9) поблизости фотолабильных защитных групп (3) с учетом того, что фазовая маска (9) обладает множеством выступов (91), имеющих первый показатель преломления n, причем первый показатель преломления n отличается от второго показателя преломления n среды, расположенной между фазовой маской (9) и внешней поверхностью (11) планарного волновода (1) и
- пропускание света заранее заданной длины волны через фазовую маску (9) для экспонирования фотолабильных защитных групп (3), расположенных вдоль множества заранее заданных линий (4).
15. Способ по любому из пп. 1, 2 или 4, в котором, множество линкерных молекул (2) с головными группами (21), присоединенными к внешней поверхности (11) компонуют, образуя индивидуальный слой, имеющий толщину от 0,5 до 10 нм.
16. Способ по п. 3, в котором множество линкерных молекул (2) с головными группами (21), присоединенными к внешней поверхности (11) компонуют, образуя индивидуальный слой, имеющий толщину от 0,5 до 10 нм.
17. Способ по любому из пп. 1, 2 или 4, в котором множество линкерных молекул (2) с головными группами (21), присоединенными к внешней поверхности (11), компонуют, образуя монослой линкерных молекул (2).
18. Способ по п. 3, в котором множество линкерных молекул (2) с головными группами (21), присоединенными к внешней поверхности (11), компонуют, образуя монослой линкерных молекул (2)
19. Способ по любому из пп.1, 2 или 4, в котором множество линкерных молекул (5) с головными группами (51), присоединенными к функциональным группам (22) предыдущего слоя линкерных молекул (2), компонуют, образуя самый верхний индивидуальный слой толщиной от 10 до 200 нм.
20. Способ по п. 3, в котором множество линкерных молекул (5) с головными группами (51), присоединенными к функциональным группам (22) предыдущего слоя линкерных молекул (2) компонуют, образуя самый верхний индивидуальный слой толщиной от 10 до 200 нм.
2
21. Способ по любому из пп. 1, 2 или 4, в котором множество заранее заданных линий (4) располагают в по меньшей мере двух раздельных дифракционных пятнах (41) у внешней поверхности (11) планарного волновода (1) с учетом того, что каждое дифракционное пятно (41) имеет площадь, превышающую 25 мкм и в котором множество заранее заданных линий (4) имеет расстояние между соседними линиями (4) менее 1,5 мкм, предпочтительно менее 1 мкм.
2,
22. Способ по п. 3, в котором множество заранее заданных линий (4) располагают в по меньшей мере двух раздельных дифракционных пятнах (41) у внешней поверхности (11) планарного волновода (1) с учетом того, что каждое дифракционное пятно (41) имеет площадь, превышающую 25 мкм и в котором множество заранее заданных линий (4) имеет расстояние между соседними линиями (4) менее 1,5 мкм, предпочтительно менее 1 мкм.
2
23. Планарный волновод (1), имеющий внешнюю поверхность (11), подготовленную для осуществления связывания с испытуемыми образцами вдоль множества заранее заданных линий (4), на которой множество заранее заданных линий (4) располагают в по меньшей мере двух раздельных дифракционных пятнах (41) у внешней поверхности (11), каждое дифракционное пятно (41) имеет площадь, превышающую 25 мкм, и на которой множество заранее заданных линий (4) имеет расстояние между соседними линиями (4) менее чем 1,5 мкм, предпочтительно менее 1 мкм.
24. Планарный волновод (1) по п. 23, на котором множество заранее заданных линий (4) с уменьшающимися расстояниями между соседними линиями (4) в направлении распространения света располагают в направлении распространения света, вводимого в планарный волновод (1) через оптическую развязку, или располагают под углом относительно направления распространения света.
25. Комплект, содержащий планарный волновод (1) по п. 23 или 24 и фазовую маску (9) для подготовки внешней поверхности (11) планарного волновода (1) с целью создания способности к связыванию с испытуемыми образцами вдоль множества заранее заданных линий (4).