УСТРОЙСТВО УФ-ОБЛУЧЕНИЯ С ДОПОЛНИТЕЛЬНЫМ МОНОХРОМАТИЧЕСКИМ ИСТОЧНИКОМ ИЗЛУЧЕНИЯ

1. Компонент, поверхность которого по меньшей мере частично имеет покрытие, при этом покрытие содержит расположенное между первым лаковым слоем и вторым лаковым слоем PVD-покрытие, и первый лаковый слой образует слой базового покрытия на поверхности, а второй лаковый слой образует слой верхнего покрытия с толщиной верхнего покрытия на PVD-покрытии, при этом по меньшей мере слой верхнего покрытия изготовлен с помощью УФ-отверждаемого лака, отличающийся тем, что исходя из поверхности раздела PVD-покрытия в области, меньшей, чем толщина верхнего покрытия, слой верхнего покрытия имеет меньшую степень вызванного УФ-излучением сшивания, чем в прилегающей к этой области части слоя верхнего покрытия.
2. Компонент по п. 1, отличающийся тем, что степень сшивания слоя верхнего покрытия на поверхности раздела с окружающей средой является наибольшей.
3. Компонент по п. 2, отличающийся тем, что слой базового покрытия также изготовлен с помощью УФ-отверждаемого лака.
4. Компонент по п. 3, отличающийся тем, что PVD-слой содержит по крайней мере два слоя и предпочтительно изготовлен из множества PVD-наслоений.
5. Способ изготовления компонента с металлизированной окончательной отделкой, содержащий стадии:
подготовки пластмассовой подложки с подлежащей покрытию поверхностью,
покрытия поверхности слоем лака базового покрытия,
нанесения PVD-покрытия на покрытую слоем лака базового покрытия поверхность,
покрытия PVD-покрытия слоем УФ-отверждаемого лака верхнего покрытия,
подача УФ-излучения на слой верхнего покрытия, при этом в качестве источника излучения используется сначала ртутная лампа (Hg-лампа) и затем узкополосный, предпочтительно монохроматический источник УФ-излучения.
6. Способ по п. 5, отличающийся тем, что излучение Hg-лампы перед его подачей на слой верхнего покрытия фильтруют посредством зеркала "холодного света".