КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ МЕСТНОГО НАНЕСЕНИЯ, СОДЕРЖАЩИЕ БИМАТОПРОСТ, И СПОСОБЫ СТИМУЛЯЦИИ РОСТА ВОЛОС С ИХ ПОМОЩЬЮ

1. Композиция для роста волос для местного нанесения, содержащая:
биматопрост в несвязанной форме или в форме его фармацевтически приемлемой соли, при этом биматопрост содержится в количестве, составляющем от 0,3до 4% масс.;
этанол,
пропиленгликоль,
простой моноэтиловый эфир диэтиленгликоля, бензиловый спирт, и
по меньшей мере одно соединение, выбранное из группы, состоящей из глицерилмоноолеата и олеиновой кислоты
при этом указанную композицию изготавливают для местного нанесения на кожу.
2. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что содержит биматопрост в количестве, составляющем от 1до 4% масс.
3. Композиция по п. 2, отличающаяся тем, что содержит биматопрост в количестве, составляющем от 2,5до 3,5% масс.
4. Композиция по п. 3, отличающаяся тем, что содержит биматопрост в количестве, составляющем 3% масс.
5. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что существует в одной из форм, выбранных из группы, состоящей из растворов, гелей, мазей, пен, пленок, линиментов, кремов, шампуней, лосьонов, паст, желе, спреев и аэрозолей.
6. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что упакована в набор с аппликатором для нанесения на кожу.
7. Способ стимуляции роста волос, включающий введение в кожу пациента эффективного количества композиции биматопроста по любому из п.п. 1-6, при этом введение приводит к усиленному росту волос.
8. Способ по п. 7, отличающийся тем, что композицию наносят на волосистую часть кожи головы.
9. Способ по п. 7, отличающийся тем, что композицию наносят по меньшей мере один раз в день.
10. Способ по п. 7, отличающийся тем, что композицию наносят на волосистую часть кожи головы для лечения состояния, выбранного из группы, состоящей из очаговой алопеции, телогеновой алопеции, анагеновой алопеции, рубцовой алопеции, шрамовой алопеции; нарушений волосяного стержня, узловатого трихорексиса, синдрома ослабленных анагенных волос, трихотилломании, тракционной алопеции; инфекционных поражений волос, стригущего лишая, себорейного дерматита, фолликулита волосистой части кожи головы и андрогенной алопеции.
11. Способ по п. 7, отличающийся тем, что композицию наносят на одну или обе из волосистой части кожи головы и бровей у пациентов, страдающих от выпадения волос вследствие химиотерапии, гормонального дисбаланса, грибковой инфекции волосистой части кожи головы, приема антикоагулянтов, препаратов для лечения подагры, депрессии, высокого артериального давления и заболеваний сердечно-сосудистой системы.
12. Композиция для стимуляции роста волос, содержащая:
по меньшей мере одно вещество, способствующее проникновению; включающее комбинацию:
первой группы веществ, способствующих проникновению, включающей этанол, пропиленгликоль и простой моноэтиловый эфир диэтиленгликоля, и
второй группы веществ, способствующих проникновению, включающей эффективное количество по меньшей мере двух соединений, выбранных из выбранных из группы, состоящей из глицерилмоноолеата, олеиновой кислоты и бензилового спирта, и
биматопрост в свободной форме или в форме его фармацевтически приемлемой соли, при этом биматопрост содержится в количестве, составляющем 1-4% масс.;
при этом указанную композицию изготавливают для местного нанесения на кожу.
13. Композиция по п. 12, включающая этанол в количестве 70% масс., простой моноэтиловый эфир диэтиленгликоля в количестве 10% масс., пропиленгликоль в количестве 10% масс., глицерилмоноолеат в количестве 2% масс., олеиновая кислота в количестве 2% масс., бензиловый спирт в количестве 1% масс.
14. Композиция по п. 12, включающая этанол в количестве 67% масс., простой моноэтиловый эфир диэтиленгликоля в количестве 10% масс., пропиленгликоль в количестве 10% масс., глицерилмоноолеат в количестве 2% масс., олеиновая кислота в количестве 2% масс., бензиловый спирт в количестве 1% масс.
15. Композиция по любому из п.п. 13 или 14, где биматопрост содержится в количестве 1% масс.
16. Композиция по любому из п.п. 13 или 14, где биматопрост содержится в количестве 3% масс.
17. Композиция по п. 2, содержащая биматопрост в количестве 1% масс.