СПОСОБ УДАЛЕНИЯ ВЛАГИ ИЗ АКУСТИЧЕСКИХ ПАНЕЛЕЙ

1. Способ получения плиты основания акустической панели, включающий следующие этапы:
получение сырой панели, содержащей поверхностно-активное вещество на основе алкилэфирсульфатов, причем указанная сырая панель содержит от около 10 % масс. до около 40 % масс. твердых веществ; и
удаление влаги из сырой панели с получением обезвоженной сырой панели, причем удаление влаги включает подачу горячего воздуха и применение вакуума к сырой панели.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что горячий воздух подают, и вакуум применяют к сырой панели одновременно.
3. Способ по п. 1 или 2, отличающийся тем, что поверхностно-активное вещество подают в количестве в диапазоне от около 0,10 % масс. до около 3,0 % масс. в пересчете на общую массу твердых веществ.
4. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что сырая панель дополнительно содержит минеральную вату, целлюлозу, минеральный заполнитель и крахмал.
5. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что удаление влаги дополнительно включает этап прессования.
6. Способ по п. 5, отличающийся тем, что сырая панель содержит от около 22 % масс. до около 28 % масс. твердых веществ после прессования.
7. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что горячий воздух имеет температуру в диапазоне от около 250 °F (около 120 °C) до около 500 °F (около 260 °C).
8. Способ по любому из предшествующих пунктов, дополнительно включающий этап сушки после удаления влаги для получения высушенной плиты основания.
9. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что при удалении влаги достигают уменьшения количества воды по меньшей мере приблизительно на 5% по сравнению с эквивалентной плитой основания, полученной путем удаления влаги из сырой панели, не содержащей поверхностно-активного вещества, в эквивалентных условиях.
10. Способ по п. 8, отличающийся тем, что высушенная плита основания демонстрирует уменьшение значения предела прочности при изгибе (ПППИ) не более приблизительно 10% по сравнению с эквивалентной плитой основания, не содержащей поверхностно-активного вещества.