СИСТЕМА ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПОЛОСТИ РТА

1. Система для обработки полости рта, содержащая
загубник, содержащий стенку и прикусную платформу, проходящую от стенки, которые совместно определяют первый канал для размещения в нем зубов пользователя;
источник электромагнитного излучения, соединенный с загубником и выполненный с возможностью испускания электромагнитного излучения на поверхности зубов пользователя, расположенных в первом канале; и
одно или несколько отверстий по меньшей мере в одном из следующего: стенке или прикусной платформе, причем одно или несколько отверстий выполнены с возможностью распределения материала для обработки полости рта в первый канал таким образом, чтобы он соприкасался с поверхностями зубов пользователя, расположенных в первом канале.
2. Система для обработки полости рта по п. 1, отличающаяся тем, что дополнительно содержит резервуар для материала для обработки полости рта, причем одно или несколько отверстий соединены по текучей среде с резервуаром.
3. Система для обработки полости рта по п. 2, отличающаяся тем, что дополнительно содержит корпус, соединенный с загубником, причем корпус проходит от стенки загубника в первом направлении, и прикусную платформу, проходящую от стенки загубника во втором направлении, противоположном первому направлению.
4. Система для обработки полости рта по п. 3, отличающаяся тем, что резервуар расположен внутри корпуса.
5. Система для обработки полости рта по п. 2, отличающаяся тем, что дополнительно содержит процессор, функционально соединенный с резервуаром, и управляющее устройство, функционально соединенное с процессором, причем процессор настроен на распределение материала для обработки полости рта из резервуара в первый канал в ответ на приведение в действие управляющего устройства.
6. Система для обработки полости рта, содержащая
загубник, содержащий стенку, выполненную с возможностью размещения рядом с зубами пользователя; и
источник электромагнитного излучения, присоединенный к стенке загубника, причем источник электромагнитного излучения содержит первую гибкую схему и множество первых осветительных элементов, расположенных на первой гибкой схеме, при этом источник электромагнитного излучения выполнен с возможностью испускания электромагнитного излучения на поверхности зубов пользователя, расположенных рядом со стенкой.
7. Система для обработки полости рта по п.6, отличающаяся тем, что источник электромагнитного излучения представляет собой гибкий напечатанный светодиод или гибкий органический светодиод.
8. Система для обработки полости рта по п.6, отличающаяся тем, что первая гибкая схема содержит плоский гибкий лист, и множество первых осветительных элементов расположено на плоском гибком листе или встроено в него.
9. Система для обработки полости рта по п.6, отличающаяся тем, что множество осветительных элементов выровнено относительно каждого из зубов пользователя, расположенных внутри канала.
10. Система для обработки полости рта по п.6, отличающаяся тем, что электромагнитное излучение, испускаемое множеством осветительных элементов, проходит таким образом, чтобы ортогонально воздействовать на поверхность каждого из зубов пользователя, расположенных внутри канала.
11. Система для обработки полости рта по 6, отличающаяся тем, что первая гибкая схема расположена внутри углубления, образованного во внутренней поверхности стенки.
12. Система для обработки полости рта по п.6, отличающаяся тем, что стенка проходит от ближнего конца, соединенного с прикусной платформой, к дальнему концу, причем стенка содержит внутреннюю поверхность, обращенную к зубам пользователя, и противоположную ей внешнюю поверхность, и причем внутренняя поверхность стенки содержит первую часть, проходящую от прикусной платформы к выступу, и вторую часть, проходящую от выступа к дальнему концу, причем первая часть внутренней поверхности стенки углублена относительно второй части внутренней поверхности стенки.
13. Система для обработки полости рта по п. 12, отличающаяся тем, что стенка имеет первую толщину, измеренную между внешней поверхностью стенки и первой частью внутренней поверхности стенки, и вторую толщину, измеренную между внешней поверхностью стенки и второй частью внутренней поверхности стенки, причем вторая толщина больше первой толщины.
14. Система для обработки полости рта по п.12, отличающаяся тем, что выступ проходит от внутренней поверхности стенки в том же направлении, что и прикусная платформа.
15. Система для обработки полости рта по п.6, отличающаяся тем, что дополнительно содержит первое ребро, проходящее вверх от прикусной платформы и отделенное от верхней части стенки первым зазором, и второе ребро, проходящее вниз от прикусной платформы и отделенное от нижней части стенки вторым зазором, причем первое и второе ребра смещены относительно друг друга.
16. Система для обработки полости рта по п.6, отличающаяся тем, что источник электромагнитного излучения заключен внутри стенки загубника.
17. Система для обработки полости рта, содержащая
загубник, содержащий стенку и прикусную платформу, проходящую от стенки, причем стенка загубника содержит верхнюю часть стенки, проходящую вверх от прикусной платформы, и нижнюю часть стенки, проходящую вниз от прикусной платформы, при этом верхняя часть стенки и верхняя поверхность прикусной платформы образуют первый канал, выполненный с возможностью размещения в нем верхних зубов пользователя, нижняя часть стенки и нижняя поверхность прикусной платформы образуют второй канал, выполненный с возможностью размещения в нем нижних зубов пользователя, причем прикусная платформа размещается между верхними и нижними зубами пользователя;
первый источник электромагнитного излучения, присоединенный к верхней части стенки и выполненный с возможностью испускания электромагнитного излучения на поверхности верхних зубов пользователя, расположенных в первом канале, причем первый источник электромагнитного излучения содержит первую гибкую схему и множество первых осветительных элементов, расположенных на первой гибкой схеме; и
второй источник электромагнитного излучения, присоединенный к нижней части стенки и выполненный с возможностью испускания электромагнитного излучения на поверхности нижних зубов пользователя, расположенных во втором канале, причем второй источник электромагнитного излучения содержит вторую гибкую схему и множество вторых осветительных элементов, расположенных на второй гибкой схеме.
18. Система для обработки полости рта по п.17, отличающаяся тем, что первый и второй источники электромагнитного излучения представляют собой гибкие напечатанные светодиоды или гибкие органические светодиоды.
19. Система для обработки полости рта по п.17, отличающаяся тем, что первая гибкая схема представляет собой плоский гибкий лист, содержащий первые осветительные элементы, расположенные на нем или встроенные в него, и вторая гибкая схема представляет собой плоский гибкий лист, содержащий вторые осветительные элементы, расположенные на нем или встроенные в него.
20. Система для обработки полости рта по п.17, отличающаяся тем, что верхняя часть стенки содержит внутреннюю поверхность, и нижняя часть стенки содержит внутреннюю поверхность, при этом первый источник электромагнитного излучения расположен на внутренней поверхности верхней части стенки, и второй источник электромагнитного излучения расположен на внутренней поверхности нижней части стенки; и причем внутренние поверхности верхней и нижней частей стенки смещены относительно друг друга.
21. Система для обработки полости рта по п.20, отличающаяся тем, что первый источник электромагнитного излучения смещен относительно второго источника электромагнитного излучения.
22. Система для обработки полости рта по п. 21, отличающаяся тем, что прикусная платформа проходит от стенки к дальнему концу, и при этом первый источник электромагнитного излучения находится на первом расстоянии от дальнего конца прикусной платформы, и второй источник электромагнитного излучения находится на втором расстоянии от дальнего конца прикусной платформы, причем первое расстояние больше второго расстояния.
23. Система для обработки полости рта по п.22, отличающаяся тем, что нижняя часть стенки содержит внешнюю поверхность, которая смещена относительно внутренней поверхности верхней части стенки, причем внутренняя поверхность верхней части стенки расположена на большем расстоянии от дальнего конца прикусной платформы, чем внешняя поверхность нижней части стенки.
24. Система для обработки полости рта по п.20, отличающаяся тем, что внутренние поверхности верхней и нижней частей стенки по существу параллельны друг другу.
25. Система для обработки полости рта по  п.17, отличающаяся тем, что дополнительно содержит первое ребро, проходящее вверх от прикусной платформы и отделенное от верхней части стенки первым зазором, и второе ребро, проходящее вниз от прикусной платформы и отделенное от нижней части стенки вторым зазором, причем первое и второе ребра смещены относительно друг друга.