СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ НА БРИТВЫ МЕТОДОМ АТОМНО-СЛОЕВОГО ОСАЖДЕНИЯ

1. Способ нанесения покрытия на бритвенное лезвие, характеризующийся тем, что на по меньшей мере одно лезвие бритвы, помещенное в вакуумной камере, наносят по меньшей мере одно покрытие из по меньшей мере одного материала, используя при этом процесс атомно-слоевого осаждения, причем упомянутым по меньшей мере, одним покрытием покрывают полностью поверхность по меньшей мере одной боковой стороны режущей части лезвия и по меньшей мере часть поверхности тела лезвия упомянутого по меньшей мере одного лезвия, и производят травление упомянутого по меньшей мере одного покрытия.
2. Способ по п.1, характеризующийся тем, что упомянутое травление упомянутого покрытия производят на по меньшей мере одной боковой стороне режущей части лезвия, или на упомянутом теле лезвия, или на упомянутой боковой стороне режущей части и на упомянутом теле лезвия.
3. Способ по п.1, характеризующийся тем, что упомянутое травление производят, удаляя упомянутое покрытие до получения режущей кромки лезвия радиусом округления в диапазоне от примерно 15 нм до примерно 40 нм.
4. Способ по п.1, характеризующийся тем, что упомянутое травление производят во время упомянутого процесса атомно-слоевого осаждения, или после него, или во время процесса атомно-слоевого осаждения и после него.
5. Способ по п.1, характеризующийся тем, что процесс травления включает направленное травление, ионное травление in-situ, химическое травление, радиочастотное травление, плазменное травление, травление, основанное на использовании оптического излучения, или любую их комбинацию.
6. Способ по п.1, характеризующийся тем, что нанесенное покрытие является конформным, имеет, в сущности, равномерную толщину, гладкую морфологию поверхности и практически нулевую пористость.
7. Способ по п.1, характеризующийся тем, что нанесенное покрытие имеет толщину в диапазоне от примерно 0,1 нм до примерно 500 нм.
8. Способ по п.1, характеризующийся тем, что процесс атомно-слоевого осаждения включает этапы, на которых:
(a) наносят первый монослой из первого материала на по меньшей мере одно бритвенное лезвие,
(b) наносят второй монослой из второго материала на упомянутое по меньшей мере одно бритвенное лезвие, и
(с) повторяют этапы (а) и (b) до получения оптимальной толщины упомянутого по меньшей мере одного покрытия.
9. Способ по п.8, характеризующийся тем, что в качестве первого и второго материалов используют один и тот же материал.
10. Способ по п.8, характеризующийся тем, что этапы (а) или (b) дополнительно содержат этапы, на которых:
создают вакуум в упомянутой вакуумной камере,
вводят в упомянутую камеру первый осаждаемый прекурсор для формирования адсорбционного слоя на упомянутом по меньшей мере одном лезвии,
очищают вакуумную камеру и
вводят в упомянутую камеру второй осаждаемый прекурсор для получения монослоя упомянутого материала на упомянутом по меньшей мере одном бритвенном лезвии.
11. Способ по п.10, характеризующийся тем, что первый осаждаемый прекурсор содержит хлорид циркония, хлорид гафния, хлорид алюминия, хлорид титана или любую их комбинации, а второй осаждаемый прекурсор содержит водяной пар.
12. Способ по п.1, характеризующийся тем, что процесс атомно-слоевого осаждения ведут в течение от примерно 1 мин до примерно 10 ч, а упомянутое травление ведут в течение от примерно 2 мин до примерно 1 ч.
13. Способ по п.1, характеризующийся тем, что упомянутое бритвенное лезвие содержит сталь, хром, алмазоподобный углерод, аморфный алмаз, соединения хрома и платины, титан, нитрид титана, ниобий или любые их комбинации.
14. Бритвенное лезвие, сформированное с применением способа по п.1.
15. Бритвенное лезвие, содержащее по меньшей мере одно покрытие, включающее по меньшей мере один слой материала, сформированный с использованием процесса атомно-слоевого осаждения, при этом одно покрытие из упомянутых по меньшей мере одного покрытия подвергнуто травлению.
16. Бритвенное лезвие, содержащее первое покрытие из первого материала и второе покрытие из второго материала, причем по меньшей мере одно из упомянутых первого или второго покрытий нанесено с использованием процесса атомно-слоевого осаждения, при этом упомянутое второе покрытие нанесено на верхнюю поверхность упомянутого первого покрытия.
17. Бритвенное лезвие по п.16, характеризующееся тем, что упомянутое второе покрытие частично покрывает упомянутое первое покрытие.
18. Бритвенное лезвие по п.16, характеризующееся тем, что упомянутое второе покрытие нанесено с использованием трафарета или маски.
19. Бритвенное лезвие по п.16, характеризующееся тем, что по меньшей мере часть упомянутого второго покрытия удалена путем травления.
20. Бритвенное лезвие по п.16, характеризующееся тем, что упомянутый первый материал имеет первые свойства, а упомянутый второй материал имеет вторые свойства.
21. Бритвенное лезвие по п.16, характеризующееся тем, что упомянутый первый материал имеет первый цвет, а упомянутый второй материал имеет второй цвет.
22. Способ нанесения покрытия на компонент бритвы, включающий этап, на котором
наносят на, по меньшей мере, один компонент бритвы, размещенный в вакуумной камере, по меньшей мере одно покрытие из по меньшей мере одного материала с использованием процесса атомно-слоевого осаждения.
23. Способ по п.22, характеризующийся тем, что упомянутый компонент бритвы включает зажим картриджа или, по меньшей мере, его часть, держатель лезвий или, по меньшей мере, его часть, тело лезвия или, по меньшей мере, его часть, боковую сторону режущей части лезвия или, по меньшей мере, ее часть, согнутое лезвие или, по меньшей мере, его часть, рукоятку бритвы или, по меньшей мере, ее часть или любую комбинацию упомянутых компонентов.
24. Способ по п.22, характеризующийся тем, что дополнительно включает этап травления упомянутого по меньшей мере одного покрытия.
25. Способ по п.22, характеризующийся тем, что упомянутое покрытие имеет толщину от примерно 0,1 нм до примерно 2000 нм.