ВАКУУМНОЕ ЧИСТЯЩЕЕ УСТРОЙСТВО, ИМЕЮЩЕЕ НАСАДКУ ДЛЯ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ

1. Насадочное приспособление (10) для вакуумного чистящего устройства (100), причем насадочное приспособление (10) содержит:
- щетку (12), выполненную с возможностью вращения вокруг оси (14) щетки, причем упомянутая щетка (12) имеет щеточные элементы (16), имеющие концевые части (18) для соприкосновения с очищаемой поверхностью (20) и захвата частиц (22, 24) грязи и/или жидкости с поверхности (20) при вращении щетки (12),
- приводное средство для вращения щетки (12),
- первый отражающий элемент (32) с первой поверхностью (33) отражателя, которая проходит, по существу, параллельно оси (14) щетки, причем первая поверхность (33) отражателя выполнена с возможностью взаимодействия с щеткой (12) при вращении щетки (12) для выпускания захваченных частиц (22, 24) грязи и/или жидкости из щетки (12), и
- второй отражающий элемент (34), который отстоит от щетки (12) и первого отражающего элемента (32), причем второй отражающий элемент (34) содержит вторую поверхность (35a) отражателя, которая ориентирована поперечно первой поверхности (33) отражателя, причем вторая поверхность (35a) отражателя выполнена с возможностью отражения частиц (22, 24) грязи и/или жидкости, которые выпускаются из щетки (12) на первой поверхности (33) отражателя, в выпускной канал (41), который начинается между первым (32) и вторым (34) отражающими элементами, причем вторая поверхность (35a) отражателя обращена в выпускной канал (41).
2. Насадочное приспособление по п. 1, в котором первая поверхность (33) отражателя соприкасается с концевыми частями (18) щетки (12) во время вращения щетки (12) для выпускания подобранных частиц (22, 24) грязи и/или жидкости из щетки (12).
3. Насадочное приспособление по п. 1, в котором вторая поверхность (35a) отражателя наклонена относительно первой поверхности (33) отражателя, и в котором угол γ наклона между второй поверхностью (35a) отражателя и вектором нормали первой поверхности (33) отражателя, лежит в диапазоне 5°<γ<50°, более предпочтительно в диапазоне 10°<γ<40°, и наиболее предпочтительно равен 30°.
4. Насадочное приспособление по п. 1, в котором первая поверхность (33) отражателя во время работы вакуумного чистящего устройства (100) расположена перпендикулярно очищаемой поверхности (20).
5. Насадочное приспособление по п. 1, в котором первая поверхность (33) отражателя наклонена по отношению к вертикальной оси, которая во время работы вакуумного чистящего устройства (100) перпендикулярна очищаемой поверхности (20).
6. Насадочное приспособление по п. 1, в котором вторая поверхность (35a) отражателя является изогнутой поверхностью, которая обращена в выпускной канал (41) и выполнена с возможностью направления частиц (22, 24) грязи и/или жидкости, которые выпускаются из щетки (12) у первой поверхности (33) отражателя, в выпускной канал (41).
7. Насадочное приспособление по п. 1, в котором второй отражающий элемент (34) дополнительно содержит третью поверхность (35b) отражателя, расположенную вблизи от второй поверхности (35a) отражателя, и четвертую поверхность (35c) отражателя, расположенную вблизи от третьей поверхности (35b) отражателя, причем третья поверхность (35b) отражателя расположена поперечно второй поверхности (35a) отражателя, и четвертая поверхность (35c) отражателя расположена поперечно второй и третьей поверхностям (35a, 35b) отражателя.
8. Насадочное приспособление по п. 7, в котором вторая, третья и четвертая поверхности (35a-c) отражателя вместе образуют дугообразную направляющую конфигурацию, которая обращена в выпускной канал (41) и выполнена с возможностью направления частиц (22, 24) грязи и/или жидкости в выпускной канал (41) посредством отражения их на второй и/или третьей, и/или четвертой поверхности (35a-c) отражателя.
9. Насадочное приспособление по п. 1, дополнительно содержащее регулировочное средство (42) для регулировки положения первого отражающего элемента (32) относительно очищаемой поверхности (20) в зависимости от направления (26) перемещения устройства (100), причем регулировочное средство (42) выполнено с возможностью расположения первого отражающего элемента (32) в первом положении, в котором первый отражающий элемент (32) находится на первом расстоянии d1 от очищаемой поверхности (20), когда вакуумное чистящее устройство (100) перемещается в направлении вперед, в котором первый отражающий элемент (32), если смотреть в направлении (26) перемещения устройства (100), расположен сзади щетки (12), и с возможностью расположения первого отражающего элемента (32) во втором положении, в котором первый отражающий элемент (32) находится на втором расстоянии d2 от очищаемой поверхности (20), когда вакуумное чистящее устройство (100) перемещается в противоположном направлении назад, причем второе расстояние d2 больше, чем первое расстояние d1.
10. Насадочное приспособление по п. 1, в котором линейная массовая плотность множества щеточных элементов (16), по меньшей мере на концевых частях (18), меньше, чем 150 г на 10 км, предпочтительно меньше, чем 20 г на 10 км.
11. Насадочное приспособление по п. 1, в котором приводное средство выполнено с возможностью вращения щетки (12) с угловой скоростью, которая лежит в диапазоне 3000-15000 оборотов в минуту, более предпочтительно в диапазоне 5000-8000 оборотов в минуту, во время работы устройства (100).
12. Насадочное приспособление по п. 1, в котором первый отражающий элемент (32) является частью скребка, который содержит гибкую резиновую губку.
13. Вакуумное чистящее устройство (100) для очистки поверхности (20), содержащее насадочное приспособление (10) по любому из предшествующих пунктов.
14. Чистящее устройство по п. 14, дополнительно содержащее вакуумный агрегат (38) для создания разрежения в выпускном канале (41) для всасывания частиц (22, 24) грязи и/или жидкости, причем упомянутое разрежение, создаваемое вакуумным агрегатом (38), лежит в диапазоне 3-70 мбар, предпочтительно в диапазоне 4-50 мбар, наиболее предпочтительно в диапазоне 5-30 мбар.