СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НЕЗАВИСИМОЙ ПОДЛОЖКИ ИЗ НИТРИДА III ГРУППЫ

1. Способ получения независимой подложки (100) из нитрида III группы, включающий следующие стадии:
- осаждение первого слоя (102) нитрида III группы на подложку (101) для выращивания;
- формирование механически ослабленного жертвенного слоя (110) в полученной таким образом структуре;
- осаждение второго слоя (107) нитрида III группы на первый слой (102) нитрида III группы и
- отделение второго слоя (107) нитрида III группы от подложки (101) для выращивания по механически ослабленному жертвенному слою (110),
отличающийся тем, что стадия формирования механически ослабленного жертвенного слоя (110) включает:
- образование отверстий (105), проходящих от свободной поверхности первого слоя (102) нитрида III группы до граничной области (109) между первым слоем (102) нитрида III группы и подложкой (101) для выращивания, и
- латеральное травление через отверстия (105) первого слоя (102) нитрида III группы в указанной граничной области (109);
и на стадии осаждения второго слоя (107) нитрида III группы обеспечивают латеральное заращивание отверстий (105), чтобы обеспечить непрерывный слой.
2. Способ по п.1, в котором второй слой (107) нитрида III группы осаждают при температуре, большей или равной 700°C, для облегчения отделения второго слоя (107) нитрида III группы от подложки (101) для выращивания по жертвенному слою (110) посредством термического напряжения, возникающего в ходе охлаждения полученной структуры от указанной температуры осаждения.
3. Способ по п.1, в котором при указанном образовании отверстий (105) формируют металлический маскирующий слой (103) на первом слое (102) нитрида III группы и на него наносят рисунок с получением в нем дырок (104), и первый слой (102) нитрида III группы протравливают через дырки (104) в металлическом маскирующем слое (103).
4. Способ по п.3, в котором указанное латеральное травление первого слоя нитрида III группы в указанной граничной области (109) включает электрохимическое травление с использованием металлического маскирующего слоя (103) в качестве электрода, на который подают напряжение смещения постоянного тока.
5. Способ по п.4, в котором указанное латеральное травление первого слоя нитрида III группы в указанной граничной области (109) включает воздействие УФ-излучения на граничную область (109) для осуществления фотохимического травления.
6. Способ по любому из пп.1-4, включающий стадию отжига осажденной структуры (101, 102, 107) при температуре осуществления термического разложения нитрида первого слоя (102) нитрида III группы в граничной области.
7. Способ по п.6, в котором в течение стадии отжига обеспечивают атмосферу аммиака, окружающую осажденную структуру (101, 102, 107).