СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТЕРМОСТОЙКОГО ПОЗИТИВНОГО ФОТОРЕЗИСТА

1. Способ получения позитивного термостойкого фоторезиста, включающий проведение поликонденсации дихлорида изофталевой кислоты и 3,3'-дигидрокси-4,4'-диаминодифенилметана в амидном растворителе с содержанием влаги 0,03-0,04 мас.%, использование 1,05-1,07 г-мол дихлорангидрида изофталевой кислоты из расчета на 1-г-мол, дополнительное введение в реакционный раствор по окончании поликонденсации 0.05-0.07 г-мол о-аминофенола, 2-г-мол эпихлоргидрина, добавление в полимерный раствор β,β-бис-нафтохинондиазидо-(1,2)-5-сульфоэфир-(4-гидроксифенил)пропана, отличающийся тем, что в поликонденсацию с дихлоридом изофталевой кислотой вводят смесь 3,3'-дигидрокси-4,4'-диаминодифенилметана и бис-(3-аминопропил)диметил-силоксана.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что соотношение 3,3'-дигидрокси-4,4'-диаминодифенилметана и бис-(3-аминопропил)диметил-силоксана выбирают в пределах от 9:1 до 1:9 мол.%.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что β,β-бис-нафтохинондиазидо-(1,2)-5-сульфоэфир-(4-гидроксифенил)пропан вводят непосредственно в реакционный раствор после завершения поликонденсации, при этом для получения фоторезиста выбирают следующее соотношение указанных компонентов, мас.%:
реакционный раствор поли(о-гидроксиамида)
80-90
β,β-бис-нафтохинондиазидо-(1,2)-5-сульфоэфир-
(4-гидроксифенил)пропан
1,5-6,5
амидный растворитель
остальное