СПОСОБ ОЧИСТКИ АЗАЦИКЛОГЕКСАПЕПТИДА ИЛИ ЕГО СОЛИ

1. Способ очистки соединения формулы 1, включающий:
(1) загрузку неочищенного соединения 1 в макропористую адсорбционную смолу;
(2) промывку макропористой адсорбционной смолы водным раствором, органическим растворителем или смешанным раствором органического растворителя и воды;
(3) элюирование водным раствором, органическим растворителем или смешанным раствором органического растворителя и воды с получением очищенного соединения формулы 1
2. Способ очистки по п.1, где макропористая адсорбционная смола выбрана из неполярной ароматической адсорбционной смолы, полимеризованной из стирола и дивинилбензола, или умеренно полярной метакриловой адсорбционной смолы, включающей звено метакрилата в своей структуре.
3. Способ очистки по п.2, где макропористая адсорбционная смола выбрана из одной или более следующих смол: XAD-1, XAD-2, XAD-3, XAD-4, XAD-5, XAD-16, XAD-16HP; или из одной или более следующих смол: НР-10, НР-20, HP-20ss, НР-21, НР-30, НР-40, НР-50, SP-825, SP-850, SP-70, SP-700, SP-207; или из одной или более следующих смол: XAD-6, XAD-7, XAD-7HP, XAD-8; или HP-2MG.
1
4
1
4
4. Способ очистки по п.1, где органический растворитель выбран из C-C спирта, С-С кетона, ацетонитрила или тетрагидрофурана.
1
4
1
4
5. Способ очистки по п.4, где C-C спирт выбран из одного или более следующих соединений: метанола, этанола, пропанола и бутанола; и C-C кетон выбран из одного или более из следующих соединений: ацетона и бутанона.
6. Способ очистки по п.1, где рН водного раствора, органического растворителя или смешанного раствора органического растворителя и воды составляет не более 7.
7. Способ очистки по п.1, где на этапе (3), градиентное элюирование проводят при повышающейся концентрации (об.%) органического растворителя, в случае, когда элюирование проводят водным раствором, органическим растворителем или смешанным раствором органического растворителя и воды.
8. Способ очистки по любому из пп.1-7, где за этапом (3) следует:
(4) кристаллизация очищенного соединения формулы 1 с получением соединения формулы 1, обладающего чистотой выше 99%.
9. Соединение формулы 1, обладающее чистотой свыше 99%, где указанное соединение получают посредством способа очистки по п.8.
10. Кристалл соединения формулы 1, обладающего чистотой свыше 99% по п.9, где профиль рентгеновской порошковой дифракции (XRPD) кристалла содержит характерные пики при следующих углах дифракции 2θ: 2,940±0,2°, 5,061±0,2°, 5,880±0,2° и 8,960±0,2°.
11. Кристалл соединения формулы 1, обладающего чистотой свыше 99% по п.10, где профиль рентгеновской порошковой дифракции (XRPD) кристалла дополнительно содержит характерные пики при следующих углах дифракции 2θ: 6,661±0,2°, 10,299±0,2° и 17,900±0,2°.
12. Кристалл соединения формулы 1, обладающего чистотой свыше 99% по п.10, где указанный кристалл имеет ИК-спектрограмму, приведенную на фиг.5.
13. Кристалл соединения формулы 1, обладающего чистотой свыше 99% по п.10, где максимальный эндотермический пик расположен между 140-146°C на графике дифференциальной сканирующей калориметрии (DSC) для кристалла.