ВЫРАВНИВАЮЩАЯ ПЛЕНКА И СПОСОБ ЕЕ ИЗГОТОВЛЕНИЯ

2
1. Выравнивающая пленка, содержащая выравнивающий слой, имеющий в составе связующую полимерную смолу и неорганический наполнитель в качестве компонентов, по меньшей мере на одной стороне прозрачного полимерного основания, при этом количество посторонних частиц со средним диаметром от 20 мкм до 100 мкм на поверхности выравнивающего слоя не превышает 5/м.
2. Выравнивающая пленка по п.1, в которой выравнивающий слой имеет толщину в диапазоне от 3 мкм до 8 мкм.
3. Выравнивающая пленка по п.1 или 2, которая предназначена для подложки с тонкопленочными транзисторами.
4. Способ изготовления выравнивающей пленки, содержащий стадию нанесения жидкого покрытия на прозрачное полимерное основание для формирования выравнивающего слоя, в котором жидкое покрытие получено путем добавления по меньшей мере связующей полимерной смолы и неорганического наполнителя в растворитель и последующего перемешивания, при этом концентрация твердого вещества в жидком покрытии находится в диапазоне от 25% до 45% по массе, а жидкое покрытие наносят с использованием гравированного цилиндра, имеющего плотность линий 50-90 линий/дюйм, при коэффициенте вращения от 60% до 100%, и затем сушат/отверждают для образования выравнивающего слоя.