СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ ТРАЕКТОРИЕЙ ДВИЖЕНИЯ КАТОДНОГО ПЯТНА ВАКУУМНО-ДУГОВОГО ИСТОЧНИКА ПЛАЗМЫ И УСТРОЙСТВО ВАКУУМНО-ДУГОВОГО ИСТОЧНИКА ПЛАЗМЫ

1. Способ управления траекторией движения катодного пятна вакуумно-дугового источника плазмы с использованием магнитной системы, состоящей из магнитопровода и двух катушек с токами противоположного направления, при реализации которого изменением соотношения токов в катушках регулируют кривизну линий магнитного поля, что обеспечивает контролируемое изменение радиуса траектории движения катодного пятна вакуумной дуги.
2. Устройство вакуумно-дугового источника плазмы, характеризующееся тем, что содержит катод, анод, устройство поджига и магнитную систему, состоящую из магнитопровода и двух катушек, расположенных соосно катоду, при этом электрический ток в катушках имеет противоположное направление.
3. Устройство по п.2, отличающееся тем, что в качестве анода используется корпус устройства или установленный соосно катоду дополнительный электрод.
4. Устройство по пп.2-3, отличающееся тем, что устройство поджига выполнено из электрода поджига и керамической втулки.
5. Устройство по пп.2-3, отличающееся тем, что снабжено установленной соосно катоду электрически изолированной от катода и анода нейтральной вставкой.