СИСТЕМА ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ, СОДЕРЖАЩАЯ УСТРОЙСТВО-МАНИПУЛЯТОР ДЛЯ МАНИПУЛЯЦИИ ОДНИМ ИЛИ БОЛЕЕ ПУЧКАМИ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ

1. Система заряженных частиц, такая как система многолучевой литографии, содержащая устройство-манипулятор для манипулирования одним или более пучками заряженных частиц, при этом устройство-манипулятор содержит:
плоскую подложку, содержащую, по меньшей мере, одно сквозное отверстие в плоскости плоской подложки, при этом каждое сквозное отверстие выполнено с возможностью пропускания, по меньшей мере, одного пучка заряженных частиц сквозь него, и каждое сквозное отверстие снабжено электродами, размещенными в первом наборе множества первых электродов вдоль первой части периметра упомянутого сквозного отверстия и во втором наборе множества вторых электродов вдоль второй части упомянутого периметра; и
электронную схему управления, выполненную с возможностью предоставления разностей напряжения парам электродов, причем каждая пара состоит из первого электрода из первого набора и второго электрода из второго набора в зависимости от позиции первого и второго электродов по периметру сквозного отверстия, для того, чтобы обеспечивать электрическое поле, которое является, по существу, однородным по всему сквозному отверстию.
2. Система заряженных частиц по п.1, в которой электронная схема управления выполнена с возможностью предоставления упомянутых разностей напряжения упомянутым парам в зависимости от расстояния между первым электродом и вторым электродом соответствующей пары, при этом предпочтительно упомянутые разности напряжения прямо пропорциональны упомянутому расстоянию.
3. Система заряженных частиц по п.1, в которой электроды равномерно распределены по упомянутому периметру.
4. Система заряженных частиц по п.1, в которой плоскость определена между первой частью периметра и второй частью периметра, и первый электрод упомянутой пары расположен напротив второго электрода упомянутой пары относительно плоскости.
5. Система заряженных частиц по любому из пп.1-4, в которой электронная схема управления содержит резисторы, размещенные в качестве делителя напряжения для предоставления напряжений соответствующим электродам, предпочтительно в качестве резистора цепи обратной связи операционного усилителя.
6. Система заряженных частиц по любому из пп.1-4, в которой устройство-манипулятор содержит экран от перекрестных помех, причем экран от перекрестных помех содержит плоскую подложку экрана, содержащую, по меньшей мере, одно сквозное отверстие в плоскости плоской подложки экрана, при этом, по меньшей мере, одно сквозное отверстие плоской подложки экрана размещено соосно, по меньшей мере, с одним сквозным отверстием плоской подложки.
7. Система заряженных частиц по любому из пп.1-4, дополнительно содержащая плоскую подложку ограничителя тока, содержащую, по меньшей мере, одну апертуру ограничителя тока, при этом плоская подложка ограничителя тока размещена выше плоской подложки устройства-манипулятора, и, по меньшей мере, одна апертура ограничителя тока размещена соосно, по меньшей мере, с одним сквозным отверстием плоской подложки устройства-манипулятора, предпочтительно при этом, по меньшей мере, одна апертура ограничителя тока меньше, чем, по меньшей мере, одно сквозное отверстие плоской подложки устройства-манипулятора, предпочтительно дополнительно содержащая охлаждающие трубки для переноса охлаждающей текучей среды, при этом упомянутые охлаждающие трубки размещены рядом, по меньшей мере, с одной апертурой ограничителя тока, предпочтительно при этом охлаждающие трубки размещены на плоской поверхности плоской подложки устройства-манипулятора.
8. Система заряженных частиц по любому из пп.1-4, в которой:
упомянутое устройство-манипулятор представляет собой первое устройство-манипулятор, выполненное с возможностью отклонения одного или более пучков заряженных частиц в x-направлении;
при этом система заряженных частиц дополнительно содержит второе устройство-манипулятор по любому из пп.1-7, при этом второе устройство-манипулятор размещено параллельно и рядом с первым устройством-манипулятором, и, по меньшей мере, одно сквозное отверстие второго устройства манипулятора размещено соосно, по меньшей мере, с одним сквозным отверстием первого устройства-манипулятора.
9. Система заряженных частиц по п.8, в которой второй манипулятор выполнен с возможностью отклонения упомянутого одного или более пучков заряженных частиц в y-направлении, при этом x-направление перпендикулярно y-направлению.
10. Система заряженных частиц по п.8, дополнительно содержащая охлаждающие трубки для переноса охлаждающей текучей среды, предпочтительно при этом охлаждающие трубки размещены на плоской поверхности плоской подложки устройства-манипулятора, предпочтительно при этом упомянутые охлаждающие трубки размещены между первым и вторым устройствами-манипуляторами.
11. Система заряженных частиц по любому из пп.1-4, в которой электроды размещены в первом наборе множества первых электродов и во втором наборе множества вторых электродов, и электронная схема управления формируют единое CMOS-устройство.
12. Система заряженных частиц по любому из пп.1-4, дополнительно содержащая:
подложку первой планарной линзы, содержащую, по меньшей мере, одну апертуру первой планарной линзы, при этом, по меньшей мере, одна апертура первой планарной линзы размещена соосно, по меньшей мере, с одним сквозным отверстием плоской подложки устройства-манипулятора, и подложка первой планарной линзы размещена выше и параллельно с плоской подложкой устройства-манипулятора; и
подложку второй планарной линзы, содержащую, по меньшей мере, одну апертуру второй планарной линзы, при этом, по меньшей мере, одна апертура второй планарной линзы размещена соосно, по меньшей мере, с одним сквозным отверстием плоской подложки устройства-манипулятора, и подложка второй планарной линзы размещена ниже и параллельно с плоской подложкой устройства-манипулятора,
при этом система выполнена с возможностью обеспечения разности напряжения между подложкой первой планарной линзы и плоской подложкой устройства-манипулятора и между плоской подложкой устройства-манипулятора и подложкой второй планарной линзы для формирования линзы Энзеля для упомянутых пучков.
13. Система заряженных частиц, такая как система многолучевой литографии, содержащая:
первое устройство-манипулятор, выполненное с возможностью отклонения одного или более пучков заряженных частиц в x-направлении, причем первое устройство-манипулятор содержит плоскую подложку, содержащую, по меньшей мере, одно сквозное отверстие в плоскости плоской подложки, при этом каждое сквозное отверстие выполнено с возможностью пропускания, по меньшей мере, одного пучка заряженных частиц сквозь него;
второе устройство-манипулятор, выполненное с возможностью отклонения упомянутого одного или более пучков заряженных частиц в y-направлении, при этом x-направление перпендикулярно y-направлению, причем второе устройство-манипулятор содержит плоскую подложку, содержащую, по меньшей мере, одно сквозное отверстие в плоскости плоской подложки, при этом каждое сквозное отверстие выполнено с возможностью пропускания, по меньшей мере, одного пучка заряженных частиц сквозь него, при этом второе устройство-манипулятор размещено параллельно и рядом с первым устройством-манипулятором, и, по меньшей мере, одно сквозное отверстие второго устройства-манипулятора расположено соосно, по меньшей мере, с одним сквозным отверстием первого устройства-манипулятора; и
охлаждающие трубки, выполненные с возможностью переноса охлаждающей текучей среды, при этом охлаждающие трубки размещены между первым и вторым устройствами-манипуляторами.
14. Система заряженных частиц, такая как система многолучевой литографии, содержащая устройство-манипулятор для манипулирования одним или более пучками заряженных частиц, при этом устройство-манипулятор содержит:
плоскую подложку, содержащую, по меньшей мере, одно сквозное отверстие в плоскости плоской подложки, при этом каждое сквозное отверстие выполнено с возможностью пропускания, по меньшей мере, одного пучка заряженных частиц сквозь него, и каждое сквозное отверстие снабжено электродами, размещенными в первом наборе множества первых электродов вдоль первой части периметра упомянутого сквозного отверстия и во втором наборе множества вторых электродов вдоль второй части упомянутого периметра; и
электронную схему управления, выполненную с возможностью предоставления различных напряжений, по меньшей мере, двум первым электродам из первого набора множества первых электродов для того, чтобы обеспечивать электрическое поле, которое, по существу, однородно по всему сквозному отверстию.
15. Устройство-манипулятор для манипулирования пучком заряженных частиц в системе заряженных частиц, такой как система многолучевой литографии, по любому из пп.1-14.