СИСТЕМА НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ (ВАРИАНТЫ)

1. Система нанесения покрытия, содержащая:
камеру нанесения покрытия, имеющую периферийную стенку камеры, верхнюю стенку и нижнюю стенку, причем периферийная стенка камеры определяет центр камеры;
источник плазмы, расположенный в центре камеры;
держатель образца, выполненный с возможностью удержания множества подложек, подлежащих покрытию, причем держатель образца имеет возможность вращения вокруг центра камеры на первом расстоянии от центра камеры; и
первый изоляционный экран, расположенный вокруг центра камеры на втором расстоянии от центра камеры, причем первый изоляционный экран отрицательно заряжен.
2. Система нанесения покрытия по п. 1, дополнительно содержащая по меньшей мере один удаленный анод, расположенный на третьем расстоянии от центра камеры, большем, чем первое расстояние и второе расстояние.
3. Система нанесения покрытия по п. 1, в которой первый изоляционный экран представляет собой металлический сетчатый экран.
4. Система нанесения покрытия по п. 1, в которой второе расстояние больше, чем первое расстояние.
5. Система нанесения покрытия по п. 4, дополнительно содержащая второй изоляционный экран, расположенный на четвертом расстоянии от центра камеры, меньшем, чем первое расстояние.
6. Система нанесения покрытия по п. 5, в которой первый изоляционный экран представляет собой внешний металлический сетчатый экран, а второй изоляционный экран представляет собой внутренний металлический сетчатый экран.
7. Система нанесения покрытия по п. 6, в которой подложки имеют такой же потенциал смещения, что и внутренний металлический сетчатый экран.
8. Система нанесения покрытия по п. 6, в которой внешний металлический сетчатый экран и внутренний металлический сетчатый экран имеют отверстия, каждое из которых, независимо от других, имеет размер от 1 мм до 50 мм.
9. Система нанесения покрытия по п. 6, в которой внешний сетчатый экран и внутренний сетчатый экран имеют отверстия, каждое из которых, независимо от других, имеет размер от 1 мм до 50 мм.
10. Система нанесения покрытия по п. 6, в которой подложки, подлежащие покрытию, заключены в контейнере, определяемом первым изоляционным экраном, отделяющим подложки от периферийной стенки камеры, и вторым изоляционным экраном, отделяющим подложки от центрального катодного стержня.
11. Система нанесения покрытия по п. 1, в которой второе расстояние меньше, чем первое расстояние.
12. Система нанесения покрытия по п. 1, в которой источник плазмы содержит центральный катодный стержень и центральную катушку, окружающую центральный катодный стержень.
13. Система нанесения покрытия по п. 12, в которой центральный катодный стержень и центральную катушку окружает множество катодных стержней.
14. Система нанесения покрытия по п. 13, в которой множество катодных стержней включает в себя четное количество стержнеобразных катодов, продольная ось которых ориентирована параллельно периферийной стенке камеры.
15. Система нанесения покрытия по п. 14, в которой каждый катодный стержень из множества катодных стержней имеет возможность вращения вокруг продольной оси.
16. Система нанесения покрытия по п. 15, дополнительно содержащая множество блокирующих экранов, так, чтобы между чередующимися парами катодных стержней во множестве катодных стержней был расположен блокирующий экран.
17. Система нанесения покрытия по п. 1, выполненная с возможностью ионной очистки и ионного кондиционирования поверхности в газоразрядной плазме полого катода, генерируемой внутри отрицательно заряженного металлического сетчатого контейнера.
18. Система нанесения покрытия по п. 1, выполненная с возможностью плазмостимулируемого магнетронного распыления (PEMS).
19. Система нанесения покрытия по п. 2, выполненная с возможностью плазмостимулированного магнетронного распыления, сопровождаемого ионизацией газо-металлической плазмы посредством дистанционного дугового разряда, создаваемого между центральным катодным стержнем и удаленным анодом, расположенным у периферийной стенки камеры, что дополнительно усиливается посредством плазмы полого катода, генерируемой внутри первого изоляционного экрана.
20. Система нанесения покрытия по п. 1, выполненная с возможностью катодно-дугового плазменного осаждения отдельно или в комбинации с магнетронным распылением, стимулируемым уплотненной плазмой полого катода, генерируемой внутри первого изоляционного экрана.
21. Система нанесения покрытия по п. 1, в которой первый изоляционный экран включает в себя множество параллельных стержней с расстоянием между соседними стержнями в диапазоне от 1 мм до 50 мм.
22. Система нанесения покрытия по п. 1, в которой первый изоляционный экран предусмотрен для увеличения плотности и электронной температуры, а так же концентрации высокоэнергетичных электронов в зоне внутри первого изоляционного экрана в течение всех этапов процесса осаждения покрытия, по сравнению с системой, не имеющей первого изоляционного экрана.
23. Система нанесения покрытия по п. 1, дополнительно содержащая источник питания постоянного тока с положительной клеммой и отрицательной клеммой, причем отрицательная клемма соединена с первым изоляционным экраном.
24. Система нанесения покрытия по п. 1, дополнительно содержащая первую коаксиальную магнитную катушку, расположенную вне камеры нанесения покрытия, и вторую коаксиальную магнитную катушку, расположенную вне камеры нанесения покрытия.
25. Система нанесения покрытия, содержащая:
камеру нанесения покрытия, имеющую периферийную стенку камеры, верхнюю стенку и нижнюю стенку, причем периферийная стенка камеры определяет центр камеры;
источник плазмы, расположенный в центре камеры, причем источник плазмы содержит центральный катодный стержень;
держатель образца, выполненный с возможностью удержания множества подложек, подлежащих покрытию, причем держатель образца имеет возможность вращения вокруг центра камеры на первом расстоянии от центра камеры;
первый изоляционный экран, расположенный вокруг центра камеры на втором расстоянии от центра камеры, причем первый изоляционный экран отрицательно заряжен; и
первую коаксиальную магнитную катушку, расположенную вне камеры нанесения покрытия, и вторую коаксиальную магнитную катушку, расположенную вне камеры нанесения покрытия.
26. Система нанесения покрытия по п. 25, в которой первая коаксиальная магнитная катушка расположена вблизи периферийной стенки камеры, и вторая коаксиальная магнитная катушка расположена вблизи периферийной стенки камеры.
27. Система нанесения покрытия по п. 25, дополнительно содержащая по меньшей мере один удаленный анод, расположенный на третьем расстоянии от центра камеры, большем, чем первое расстояние и второе расстояние.
28. Система нанесения покрытия по п. 25, в которой первый изоляционный экран представляет собой металлический сетчатый экран.
29. Система нанесения покрытия по п. 25, в которой второе расстояние больше, чем первое расстояние.
30. Система нанесения покрытия по п. 29, дополнительно содержащая второй изоляционный экран, расположенный на четвертом расстоянии от центра камеры, меньшем, чем первое расстояние.
31. Система нанесения покрытия по п. 30, в которой первый изоляционный экран представляет собой внешний металлический сетчатый экран, а второй изоляционный экран представляет собой внутренний металлический сетчатый экран.