ГИБКИЕ ПОДЛОЖКИ, ИМЕЮЩИЕ ПОНИЖЕННЫЕ УСАДКУ И СКРУЧИВАНИЕ

1. Гибкая подложка, обладающая пониженными усадкой и скручиванием, где на указанную подложку нанесено покрытие, имеющее систему двойного отверждения, где указанное покрытие включает компонент, отверждаемый свободно-радикальной полимеризацией, и катионно отверждаемый компонент.
2. Гибкая подложка по п.1, в которой компонент, отверждаемый свободно-радикальной полимеризацией, включает отверждаемый свободно-радикальной полимеризацией акрилат.
3. Гибкая подложка по п.1, в которой отверждаемый свободно-радикальной полимеризацией акрилат включает полифункциональный акрилатный мономер.
4. Гибкая подложка по п.1, в которой катионно отверждаемый компонент включает эпоксидную смолу.
5. Гибкая подложка по п.1, в которой катионно отверждаемый компонент включает полифункциональный эпоксид.
6. Гибкая подложка по п.1, в которой указанное покрытие дополнительно включает катионный фотоинициатор, свободно-радикальный фотоинициатор или их смесь.
7. Гибкая подложка по п.6, в которой катионный фотоинициатор включает соль триарилсульфония.
8. Гибкая подложка по п.6, в которой свободно-радикальный фотоинициатор включает фотоинициатор на основе 1-гидроксифенилкетона.
9. Гибкая подложка по п.1, в которой покрытие дополнительно включает по меньшей мере один стойкий к истиранию наполнитель.
10. Гибкая подложка по п.9, в которой стойкий к истиранию наполнитель включает по меньшей мере одно из карборунда, кварца, кремнезема (песка), стеклянных частиц, стеклянных бусин, стеклянных сфер (полых и/или заполненных), пластиковых крошек, карбида кремния, алмазной пыли (стекла), твердых пластиков и армированных полимеров.
11. Гибкая подложка по п.9, в которой стойкий к истиранию наполнитель включает оксид алюминия.
12. Гибкая подложка по п.9, в которой стойкий к истиранию наполнитель включает частицы среднего размера между 10 и 40 мкм.
13. Гибкая подложка по п.1, где указанная гибкая подложка включает винил.
14. Гибкая подложка по п.13, где указанная гибкая подложка представляет собой виниловое покрытие пола или виниловую композитную плитку.
15. Эластичная виниловая подложка, имеющая пониженную тенденцию к скручиванию и/или усадке, где на указанную подложку нанесено покрытие с покрывающей системой двойного отверждения, включающей компонент, отверждаемый свободно-радикальной полимеризацией, и катионно отверждаемый компонент.
16. Виниловая подложка по п.15, в которой указанный отверждаемый свободно-радикальной полимеризацией компонент включает отверждаемый свободно-радикальной полимеризацией акрилат, и указанный катионно отверждаемый компонент включает эпоксидную смолу.
17. Виниловая подложка по п.15, в которой указанная покрывающая система дополнительно включает катионный фотоинициатор, свободно-радикальный фотоинициатор или их смесь.
18. Виниловая подложка по п.17, где указанная подложка представляет собой виниловое покрытие пола или виниловую композитную плитку.
19. Покрывающая композиция для винилового покрытия пола, имеющая пониженные усадку и скручивание, где указанная покрывающая композиция включает компонент, отверждаемый свободно-радикальной полимеризацией, и катионно отверждаемый компонент, где указанная покрывающая композиция дополнительно включает катионный фотоинициатор, свободно-радикальный фотоинициатор или их смесь.
20. Покрытие по п.19, в котором указанный отверждаемый свободно-радикальной полимеризацией компонент включает отверждаемый свободно-радикальной полимеризацией акрилат.
21. Покрытие по п.19, наносимое со средней толщиной от 10 до 40 мкм.
22. Покрытие по п.19, наносимое на подложку настила пола, включающую нанесенный на нее верхний покровный слой.
23. Покрытие по п.22, дополнительно включающее герметизирующий слой, расположенный между покрытием и верхним покровным слоем.
24. Покрытие по п.21, в котором наполнитель включает сопротивляющийся царапанию агент и матирующий агент.
25. Отвержденное покрытие, расположенное на подложке, где указанное покрытие в неотвержденном виде включает отверждаемый свободно-радикальной полимеризацией компонент, катионно отверждаемый компонент, свободно-радикальный фотоинициатор и катионный фотоинициатор.