СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ КАТОДНОЙ ОБКЛАДКИ ОКСИДНО-ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО КОНДЕНСАТОРА

1. Способ получения катодной обкладки оксидно-полупроводникового конденсатора, заключающийся в нанесении многослойного катодного покрытия диоксида марганца на оксидированный объемно-пористый анод из вентильного металла, состоящем из циклических стадий пропитки анода раствором нитрата марганца с последующим пиролитическим разложением нитрата марганца до диоксида марганца при повышенных температурах и подформовкой через каждые несколько нанесенных слоев, отличающийся тем, что при пропитке производят удаление воздуха из пор анода путем предварительного вакуумирования и/или медленного погружения анода в пропитывающий раствор с последующей ультразвуковой обработкой пропитываемого анода.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что при вакуумировании поддерживают величину вакуума не ниже 0,7 атм.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что длительность погружения пористого анода в пропиточную ванну составляет не менее 3 мин.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что мощность ультразвуковой обработки составляет 1-18 Вт.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что частота ультразвуковой обработки составляет 22-44 кГц.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что ультразвуковую обработку проводят в течение не менее 2 мин.
7. Способ по п.1, отличающийся тем, что ультразвуковую обработку проводят в ванне с погружным ультразвуковым излучателем или в ультразвуковой ванне со стенками-излучателями ультразвука.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что при ультразвуковой обработке в процессе пропитки используют водные растворы нитрата марганца с концентрацией не более 20 мас.%.