СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ АТОМНЫХ СЛОЕВ

1. Способ, содержащий эксплуатацию реактора для осаждения атомных слоев, выполненного с возможностью осаждения материала на по меньшей мере одной подложке путем последовательных поверхностных реакций самонасыщения; и использование сухого воздуха в реакторе в качестве продувочного газа.
2. Способ по п. 1, содержащий использование сухого воздуха в качестве несущего газа.
3. Способ по п. 1 или 2, содержащий подачу сухого воздуха в реакционную камеру реактора в течение всей последовательности осаждения.
4. Способ по п. 1 или 2, содержащий использование сухого воздуха при нагревании реакционной камеры реактора.
5. Способ по п. 1 или 2, содержащий нагревание сухого воздуха после клапана подачи продувочного газа.
6. Способ по п. 1 или 2, содержащий обеспечение обратного соединения для подачи тепла из выпускной части реактора в нагреватель линии подачи продувочного газа.
7. Способ по п. 1 или 2, содержащий эксплуатацию указанного реактора для осаждения атомных слоев при давлении окружающей среды для осаждения материала на по меньшей мере одной подложке путем последовательных поверхностных реакций самонасыщения.
8. Способ по п. 1 или 2, содержащий использование эжектора, присоединенного к выпускной части реактора, для снижения рабочего давления в реакторе.
9. Устройство, содержащее реакционную камеру для осаждения атомных слоев, выполненную с возможностью осаждения материала на по меньшей мере одной подложке путем последовательных поверхностных реакций самонасыщения; и линию подачи сухого воздуха из источника сухого воздуха для подачи сухого воздуха в качестве продувочного газа в реакционную камеру реактора.
10. Устройство по п. 9, содержащее линию подачи прекурсора, идущую из источника сухого воздуха через источник прекурсора в реакционую камеру, для подачи паров прекурсора в реакционную камеру.
11. Устройство по п. 9 или 10, содержащее нагреватель, выполненный с возможностью нагрева сухого воздуха.
12. Устройство по п. 11, содержащее указанный нагреватель после клапана подачи продувочного газа.
13. Устройство по п. 9 или 10, содержащее обратное соединение для подачи тепла из выпускной части реактора в нагреватель линии подачи продувочного газа.
14. Устройство по п. 9 или 10, в котором реактор является облегченным реактором, выполненным с возможностью работы при давлении окружающей среды или давлении, близком к давлению окружающей среды.
15. Устройство по п. 9 или 10, содержащее эжектор, присоединенный к выпускной части реактора, для снижения рабочего давления в реакторе.
16. Производственная линия, содержащая устройство по любому из пп. 9-15, в качестве части производственной линии.
17. Устройство, содержащее средства для эксплуатации реактора для осаждения атомных слоев, выполненного с возможностью осаждения материала на по меньшей мере одной подложке путем последовательных поверхностных реакций самонасыщения; и средства для использования сухого воздуха в реакторе в качестве продувочного газа.