ПЛАВНО СКОЛЬЗЯЩИЙ НАКОНЕЧНИК ДЛЯ УСТРОЙСТВА ДЛЯ МИКРОДЕРМАБРАЗИИ

1. Устройство (1) для микродермабразии, содержащее вакуумную систему (100) и наконечник (200) устройства, в котором вакуумная система (100) содержит канал (110) с впускным отверстием (120) канала на наконечнике (200) устройства, причем впускное отверстие (120) канала окружено ободком (220) канала, и наконечник (200) устройства содержит зону (240) микродермабразии, предусмотренную удаленно от впускного отверстия (120) канала с выемкой (230), предусмотренной между зоной (240) микродермабразии и ободком (220) канала, причем впускное отверстие (120) канала по периметру окружено ободком (220) канала, и зона (240) микродермабразии по периметру окружает ободок (220) канала.
2. Устройство (1) для микродермабразии по п. 1, в котором ободок (220) канала обладает формой круглого кольца, причем выемка (230) обладает формой круглого кольца, и зона (240) микродермабразии обладает формой круглого кольца.
3. Устройство (1) для микродермабразии по п. 1, в котором ободок (220) канала обладает формой овального кольца, причем выемка (230) обладает формой овального кольца, и зона (240) микродермабразии обладает формой овального кольца.
4. Устройство (1) для микродермабразии по любому из предшествующих пунктов, в котором выемка (230) обладает дном (231) выемки, ободок (220) канала обладает относительно дна (231) выемки высотой (h1) ободка канала, зона (240) микродермабразии обладает относительно дна (231) выемки высотой (h2) зоны (240) микродермабразии, и высота (h1) ободка канала и высота (h2) зоны микродермабразии обладают разностью (h3) высот в диапазоне до 5 мм.
5. Устройство (1) для микродермабразии по п. 4, в котором высота (h1) ободка канала и высота (h2) зоны микродермабразии обладают разностью (h3) высот в диапазоне до 3 мм.
6. Устройство (1) для микродермабразии по любому из пп. 4-5, в котором высота (h1) ободка канала больше, чем высота (h2) зоны микродермабразии.
2
7. Устройство (1) для микродермабразии по любому из предшествующих пунктов с площадью воздействия вакуума в диапазоне от 10 до 400 мм.
8. Устройство (1) для микродермабразии по любому из предшествующих пунктов, причем устройство предназначено для обеспечения отрицательного давления в диапазоне от 5 до 80 кПа.
2
9. Устройство (1) для микродермабразии по любому из предшествующих пунктов с площадью воздействия вакуума в диапазоне от 45 до 75 мм, и устройство предназначено для обеспечения отрицательного давления в диапазоне от 15 до 60 кПа.
10. Устройство (1) для микродермабразии по любому из предшествующих пунктов, в котором зона (240) микродермабразии содержит абразивные структуры, присоединенные к зоне (240) микродермабразии, со средним размером в диапазоне от 2 до 300 мкм.
11. Устройство (1) для микродермабразии по любому из предшествующих пунктов с отношением адгезионного трения ободка канала к адгезионному трению зоны абразивного воздействия составляет 0,7 или менее.
12. Устройство (1) для микродермабразии по любому из предшествующих пунктов, дополнительно содержащее вторую зону (260) скольжения, по периметру окружающую зону (240) микродермабразии.
13. Способ контролируемого удаления по меньшей мере части рогового слоя, согласно которому осуществляют контакт устройства (1) для микродермабразии по любому из пп. 1-11 с частью поверхности кожи и удаляют по меньшей мере часть рогового слоя при приложении вакуума к вакуумному каналу (110).
14. Применение устройства (1) для микродермабразии по любому из пп. 1-12 для снижения бокового усилия, которое должно быть приложено пользователем при удалении по меньшей мере части рогового слоя с помощью устройства (1).
15. Применение устройства (1) для микродермабразии по любому из пп. 1-12 для снижения деформации кожи пользователем при удалении по меньшей мере части рогового слоя с помощью этого устройства (1).
16. Применение устройства (1) для микродермабразии по любому из пп. 1-12 для снижения бокового усилия, которое должен приложить пользователь при удалении по меньшей мере части рогового слоя с помощью этого устройства (1).