ГРАНИЧНЫЙ БАРЬЕРНЫЙ ДЛЯ ДИФФУЗИИ СЛОЙ, ВКЛЮЧАЮЩИЙ В СЕБЯ ИРИДИЙ, НА МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ПОДЛОЖКЕ

1. Изделие, включающее в себя:
подложку;
барьерный для диффузии слой, образованный на подложке, при этом барьерное для диффузии покрытие содержит иридий; и
защитный слой, образованный на барьерном для диффузии слое.
2. Изделие по п.1, в котором барьерный для диффузии слой конфигурирован для уменьшения диффузии между, по меньшей мере, одним из подложки и защитного слоя и защитного слоя и подложки.
3. Изделие по п.1, в котором защитный слой содержит металл и сплав.
4. Изделие по п.3, в котором защитный слой содержит, по меньшей мере, один из алюминия и хрома.
5. Изделие по п.4, дополнительно содержащее окалину, образованную на защитном слое, при этом окалина содержит оксид, по меньшей мере, одного из алюминия и хрома.
6. Изделие по п.1, в котором барьерный для диффузии слой дополнительно содержит, по меньшей мере, один из хрома и кремния.
7. Изделие по п.1, в котором барьерный для диффузии слой дополнительно содержит, по меньшей мере, одно из платины, палладия, рения, рутения и родия.
8. Изделие по п.1, в котором толщина барьерного для диффузии слоя и защитного слоя, измеренная в направлении, по существу перпендикулярном поверхности подложки, на которой образуются барьерный для диффузии слой и защитный слой, составляет между примерно 6,35 и примерно 127 мкм.
9. Изделие по п.8, в котором толщина барьерного для диффузии слоя составляет между примерно 5 и примерно 50% от толщины барьерного для диффузии слоя и защитного слоя.
10. Изделие по п.1, в котором барьерный для диффузии слой непосредственно после осаждения является, по существу, свободным от элементов, которые являются вредными для стойкости против окислительной и высокотемпературной коррозии.
11. Изделие по п.10, в котором элементы, которые являются вредными для стойкости против окислительной и высокотемпературной коррозии, представляют собой Ti и Co.
12. Изделие по п.1, в котором подложка содержит сверхсплав на Ni-основе.
13. Способ, включающий в себя:
образование барьерного для диффузии слоя на подложке, при этом барьерный для диффузии слой содержит Ir; и
образование защитного слоя на барьерном для диффузии слое.
14. Способ по п.13, в котором барьерный для диффузии слой конфигурируют для уменьшения диффузии между, по меньшей мере, одним из подложки и защитного слоя и защитного слоя и подложки.
15. Способ по п.13, в котором образование защитного слоя на барьерном для диффузии слое включает в себя образование защитного слоя, содержащего металл и сплав на барьерном для диффузии слое.
16. Способ по п.15, в котором образование защитного слоя на барьерном для диффузии слое включает в себя образование защитного слоя, содержащего, по меньшей мере, один из алюминия и хрома, на барьерном для диффузии слое.
17. Способ по п.16, дополнительно включающий образование окалины на защитном слое, при этом окалина содержит, по меньшей мере, один из оксида алюминия и оксида хрома.
18. Способ по п.13, в котором образование на подложке барьерного для диффузии слоя включает в себя образование барьерного для диффузии слоя, содержащего Ir и, по меньшей мере, один из Cr и Si, на подложке.
19. Способ по п.13, в котором образование на подложке барьерного для диффузии слоя включает в себя образование барьерного для диффузии слоя, содержащего Ir и, по меньшей мере, один из Pt, Pd, Re, Ru и Rh, на подложке.
20. Способ по п.13, в котором толщина барьерного для диффузии слоя и защитного слоя, измеренная в направлении, по существу перпендикулярном поверхности подложки, на которой образуются барьерный для диффузии слой и защитный слой, составляет между примерно 6,35 и примерно 127 мкм.
21. Способ по п.20, в котором толщина барьерного для диффузии слоя составляет между примерно 5 и примерно 50% от толщины барьерного для диффузии слоя и защитного слоя.
22. Способ по п.13, в котором образование на подложке барьерного для диффузии слоя включает в себя образование барьерного для диффузии слоя, по существу свободного от Ti и Co.
23. Способ по п.13, в котором подложка содержит сверхсплав на основе Ni.
24. Способ по п.13, в котором образование барьерного для диффузии слоя на подложке включает в себя образование барьерного для диффузии слоя на подложке, используя, по меньшей мере, одно из направленного физического осаждения из паровой фазы, электроосаждения и электроосаждения нанопокрытия.
25. Способ по п.13, в котором образование защитного слоя на барьерном для диффузии слое включает в себя образование защитного слоя на барьерном для диффузии слое, используя, по меньшей мере, одно из направленного физического осаждения из паровой фазы, электроосаждения и электроосаждения нанопокрытия.