УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТРОЛЯ ШИН

1. Устройство (10) для контроля шины (200) на линии по производству шин, содержащее:
систему (104) обнаружения, которая содержит камеру (105), имеющую линию (106) визирования, лежащую в оптической плоскости (107), проходящей через камеру (105);
первый источник (110) света, второй источник (108) света и третий источник (109) света, причем второй источник (108) света и третий источник (109) света расположены с противоположных сторон относительно оптической плоскости (107) и симметрично относительно первого источника (110) света;
при этом первый источник (110) света выполнен с возможностью излучения первого рассеянного светового излучения на указанныйучасток поверхности, и второй источник (108) света и третий источник света (109) выполнены с возможностью излучения второго светового излучения, падающего под скользящим углом, и третьего светового излучения, падающего под скользящим углом, на участок поверхности шины (200), совпадающий с линией (106) визирования или близкий к ней; и
отражательный элемент (150), образующий отражающую плоскость, расположенную перпендикулярно оптической плоскости (107), причем отражательный элемент (150) расположен между вторым источником (108) света и третьим источником (109) света, при этом отражательный элемент (150) выполнен с возможностью отражения линии (106) визирования под углом, находящимся в диапазоне между приблизительно 60° и приблизительно 120°, причем минимальное расстояние между отражающей плоскостью и плоскостью (121) фокусировки камеры (105), проходящей через отражаемую линию визирования, меньше минимального расстояния между одним из первого источника (110) света, второго источника (108) света и третьего источника (109) света и плоскостью (121) фокусировки.
2. Устройство (10) по п.1, в котором минимальное расстояние между отражающей плоскостью и плоскостью (121) фокусировки камеры (105), проходящей через отражаемую линию визирования, меньше каждого минимального расстояния между первым источником (110) света, вторым источником (108) света и третьим источником (109) света и плоскостью фокусировки.
3. Устройство (10) по п.1 или 2, в котором первый источник (110) света включает в себя первый подысточник (113а) и второй подысточник (113b), при этом первый подысточник и второй подысточник расположены симметрично относительно оптической плоскости (107).
4. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором каждый из второго источника (108) света и третьего источника (109) света содержит один подысточник (111; 112).
5. Устройство (10) по п.3, в котором первый подысточник (113а) и второй подысточник (113b) первого источника (110) света являются копланарными и определяют плоскость (Р1), по существу параллельную плоскости (121) фокусировки.
1a
1b
6. Устройство (10) по п.5, в котором расстояние (d, d) между плоскостью (121) фокусировки и плоскостью (Р1), проходящей через первый подысточник (113а) и второй подысточник (113b), находится в диапазоне между приблизительно 85 мм и приблизительно 95 мм.
7. Устройство (10) по пп.4, 5 или 6, в котором первый источник (110) света включает в себя третий подысточник (113с) и четвертый подысточник (113d), при этом третий подысточник и четвертый подысточник расположены симметрично относительно оптической плоскости (107).
8. Устройство (10) по п.7, в котором третий подысточник (113с) и четвертый подысточник (113d) являются копланарными и определяют плоскость (Р2), по существу параллельную плоскости (121) фокусировки.
1c
1d
9. Устройство (10) по п.8, в котором расстояние (d, d) между плоскостью (121) фокусировки и плоскостью (Р2), проходящей через третий подысточник (113с) и четвертый подысточник (113d), находится в диапазоне между приблизительно 75 мм и приблизительно 85 мм.
10. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором расстояние между первым источником (110) света и плоскостью (121) фокусировки больше расстояния между вторым источником (108) света и плоскостью фокусировки или между третьим источником (109) света и плоскостью фокусировки.
11. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором второй источник (108) света и третий источник (109) света являются копланарными и определяют плоскость (Р3), по существу параллельную плоскости (121) фокусировки.
12. Устройство (10) по п.11, в котором расстояние между плоскостью (Р1, Р2), параллельной плоскости (121) фокусировки и проходящей через подысточник (113а, 113b, 113c, 113d) первого источника (110) света, и плоскостью (Р3), параллельной плоскости (121) фокусировки и проходящей через второй источник (108) света и третий источник (109) света, находится в диапазоне между приблизительно 10 мм и приблизительно 40 мм.
13. Устройство (10) по любому из пп.3-12, в котором, по меньшей мере, один из подысточников (113а, 113b, 113c, 113d; 111; 112) первого источника (110) света или второго источника (108) света или третьего источника (109) света определяет основное направление (114) протяженности, по существу параллельное оптической плоскости (107).
14. Устройство (10) по п.13, в котором все подысточники (113а, 113b, 113c, 113d; 111; 112) первого источника (110) света, второго источника (108) света и третьего источника (109) света определяют основное направление (114) протяженности, по существу параллельное оптической плоскости (107).
15. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором отражающая плоскость (150) определяет основное направление (118) протяженности, по существу параллельное указанной оптической плоскости (107).
16. Устройство (10) по любому из пп.13-15, в котором первый подысточник (113а), второй подысточник (113b), третий подысточник (113c) или четвертый подысточник (113d) первого источника (110) света или второго источника (108) света или третьего источника (109) света или отражающая плоскость имеет по существу прямолинейную конфигурацию вдоль основного направления (114) протяженности.
17. Устройство (10) по п.15 или 16, в котором длина (L) отражающей плоскости вдоль основного направления (118) протяженности превышает длину (ls) первого подысточника (113а), второго подысточника (113b), третьего подысточника (113c) или четвертого подысточника (113d) первого источника (110) света или второго источника (108) света или третьего источника (109) света вдоль основного направления (114) протяженности.
18. Устройство (10) по любому из пп.15-17, в котором длина (ls) одного из первого подысточника (113a), второго подысточника (113b), третьего подысточника (113c) и четвертого подысточника (113d) первого источника (110) света и второго источника (108) света или длина одного из первого подысточника (113а), второго подысточника (113b), третьего подысточника (113с) и четвертого подысточника (113d) первого источника (110) света и третьего источника (109) света является по существу одинаковой.
19. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором второй источник (108) света и третий источник (109) света расположены симметрично относительно оптической плоскости (107).
20. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, содержащее блок (140) привода и управления, выполненный с возможностью:
избирательного включения, по меньшей мере, одного из первого источника (110) света, второго источника (108) света и третьего источника (109) света;
приведения в действие камеры (105) для получения соответствующего двумерного изображения участка (212) поверхности синхронно с включением указанного, по меньшей мере, одного из первого источника (110) света, второго источника (108) света и третьего источника (109) света.
21. Устройство (10) по п.20, в котором блок (140) привода и управления выполнен с возможностью управления системой (104) обнаружения для получения трех различных изображений, при этом каждое изображение соответствует включению отличного от других источника света из первого источника (110) света, второго источника (108) света и третьего источника (109) света.
22. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором отражательный элемент (150) выполнен с возможностью отражения линии визирования под углом, составляющим приблизительно 90°.
23. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором отражательный элемент (150) включает в себя отражающий слой, образующий отражающую плоскость, при этом отражающий слой представляет собой самый наружный слой отражательного элемента, на котором отражается оптический путь светового излучения, направляемого к камере (105).
24. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, включающее в себя первую опору (161), к которой прикреплена камера (105).
25. Устройство (10) по п.20 или 24, в котором блок (140) привода и управления прикреплен к первой опоре (161).
26. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, включающее в себя вторую опору (162), к которой прикреплены первый источник (110) света, второй источник (108) света и третий источник (109) света и отражательный элемент (150).
27. Устройство (10) по п.24 или 26, в котором первая опора (161) и вторая опора (162) соединены и образованы как одно целое друг с другом посредством соединительного рычага (164).
28. Устройство (10) по любому из пп.26-27, в котором вторая опора (162) содержит две равноотстоящие пластины (11, 12), между которыми расположены первый источник (110) света, второй источник (108) света и третий источник (109) света.
29. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором первый источник (110) света или второй источник (108) света или третий источник (109) света включает в себя собирающую линзу (170), выполненную с возможностью уменьшения угла поля излучения для первого светового излучения или второго светового излучения или третьего светового излучения до величины, находящейся в диапазоне между приблизительно 15° и приблизительно 45°.
30. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором первый источник (110) света или второй источник (108) света или третий источник (109) света включает в себя один или более светоизлучающих диодов (LED) (169).
31. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором соответствующий угол, образованный между плоскостью (121) фокусировки и любой плоскостью, проходящей через линию (106) визирования и любую точку соответственно второго источника (108) света или третьего источника (109) света, меньше или равен 60°.
32. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором участок (212) поверхности принадлежит участку поверхности плечевой зоны (205) шины (200).
33. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором участок (212) поверхности соответствует, внутри шины, участку поверхности боковины (207) шины (200).
34. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором участок (212) поверхности принадлежит участку поверхности борта (206) шины (200).
35. Устройство (10) по любому из предшествующих пунктов, в котором камера (105) представляет собой линейную камеру, а участок (212) поверхности представляет собой линейный участок поверхности.
36. Комплект для контроля шины (200), содержащий:
устройство (10) по любому из пп.1-35; и
деформирующий элемент (130), выполненный с возможностью образования упруго деформированного участка на шине (200) посредством физического контакта.
37. Комплект по п.36, в котором деформированная поверхность, по меньшей мере, частично включает в себя участок (212) поверхности.
38. Комплект по п.37, в котором расстояние между первым источником (110) света и поверхностью, деформированной деформирующим элементом (130), находится в диапазоне между приблизительно 85 мм и приблизительно 95 мм.