ЭЛЕМЕНТ АНОДНОГО ДИСКА С ОГНЕУПОРНЫМ ПРОМЕЖУТОЧНЫМ СЛОЕМ И ФОКАЛЬНЫМ ПУТЕМ VPS

1. Анод (30), включающий:
углеродную или керамическую подложку (50);
нанесенный электролитическим способом слой (52) из огнеупорного карбида металла, покрывающий по меньшей мере участок (36) фокального пути подложки;
нанесенный электролитическим способом слой (54) из пластичного огнеупорного металла, покрывающий карбидный слой (52) по меньшей мере на участке фокального пути; и
нанесенный плазменным вакуумным напылением слой (56) из тяжелых огнеупорных металлов, покрывающий слой (54) из пластичного огнеупорного металла по меньшей мере на участке фокального пути.
2. Анод по п. 1, при этом нанесенный плазменным вакуумным напылением слой из тяжелых огнеупорных металлов представляет собой сплав вольфрама-рения.
3. Анод по любому из пп. 1 и 2, при этом слой (54) из пластичного огнеупорного металла включает ниобий, а карбидный слой (52) включает карбид ниобия.
4. Рентгеновская трубка (14), включающая:
вакуумную оболочку (40);
анод по любому из пп. 1-3;
мотор (32) для вращения анода и
катод (34).
5. Визуализирующее устройство, включающее:
гентри (12);
рентгеновскую трубку (14) по п. 4, установленную на гентри; и
детектор излучения (16), установленный на гентри и расположенный поперек участка для исследований (20) со стороны рентгеновской трубки (14).
6. Диагностическое визуализирующее устройство (10) по п. 5, дополнительно включающее:
процессор, соединенный с детектором (16) для превращения сигналов от него в визуальное изображение; и
устройство отображения (24), на котором отображается визуальное изображение.
7. Способ изготовления анода (30) по любому из пп. 1-3, включающий:
формирование (60) углеродной или керамической подложки (50);
покрытие (66) электролитическим способом подложки пластичным огнеупорным металлом для формирования карбидного слоя (52) и слоя (54) из пластичного огнеупорного металла по меньшей мере на участке (36) фокального пути; и
вакуумное плазменное напыление по меньшей мере на участок (36) фокального пути тяжелого огнеупорного металла для формирования нанесенного вакуумным плазменным напылением слоя (54) из огнеупорного тяжелого металла.
8. Способ по п. 7, дополнительно включающий:
сжатие подложки; и
осуществление импрегнирования (64) подложки пироуглеродом.
9. Способ по любому из пп. 7 или 8, при этом на стадии
нанесения электролитического покрытия пластичный огнеупорный металл выбран из группы IV В, V В или VI В.
10. Способ по п. 9, при этом пластичный огнеупорный металл включает ниобий.
5
2
11. Способ по п. 10, при этом нанесение электролитического покрытия включает электролитическое нанесение покрытия на подложку в смеси фторида ниобия (NbF), смеси фторидов щелочных металлов (NaF+KF) и фторида щелочноземельного метала (CaF) при температуре от температуры на 10°С выше точки плавления соляной ванны и ниже 600°С.
12. Способ по любому из пп. 7, 8, 10 или 11, при этом нанесенный методом вакуумного химического осаждения из паровой фазы тяжелый огнеупорный металл включает сплав вольфрама-рения.
13. Способ по п. 9, при этом нанесенный методом вакуумного химического осаждения из паровой фазы тяжелый огнеупорный металл включает сплав вольфрама-рения.
14. Способ по любому из пп. 7, 8, 10, 11 или 13, при этом стадия нанесения электролитического покрытия включает создание слоя толщиной от 0,13 мм (0,005 дюйма) до 0,50 мм (0,02 дюйма) из пластичного огнеупорного металла.
15. Способ по п. 9, при этом стадия нанесения электролитического покрытия включает создание слоя толщиной от 0,13 мм (0,005 дюйма) до 0,50 мм (0,02 дюйма) из пластичного огнеупорного металла.
16. Способ по п. 12, при этом стадия нанесения электролитического покрытия включает создание слоя толщиной от 0,13 мм (0,005 дюйма) до 0,50 мм (0,02 дюйма) из пластичного
огнеупорного металла.
17. Способ по любому из пп. 7, 8, 10, 11, 13, 15 или 16, при этом стадия плазменного напыления обеспечивает получение слоя толщиной 1,00-1,52 мм (0,04-0,06 дюйма) из тяжелого огнеупорного металла.
18. Способ по п. 9, при этом стадия плазменного напыления обеспечивает получение слоя толщиной 1,00-1,52 мм (0,04-0,06 дюйма) из тяжелого огнеупорного металла.
19. Способ по п. 12, при этом стадия плазменного напыления обеспечивает получение слоя толщиной 1,00-1,52 мм (0,04-0,06 дюйма) из тяжелого огнеупорного металла.
20. Способ по п. 14, при этом стадия плазменного напыления обеспечивает получение слоя толщиной 1,00-1,52 мм (0,04-0,06 дюйма) из тяжелого огнеупорного металла.
21. Способ применения анода (30) по любому из пп. 1-3, включающий:
вращение анода (30);
испускание катодом электронов (34);
прикладывание потенциала постоянного тока между катодом и анодом для ускорения влияния электронов на анод и генерирования рентгеновских лучей.