УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ДЛЯ РЕАКТОРОВ ОСАЖДЕНИЯ

1. Устройство, содержащее:
источник исходного продукта, выполненный с возможностью осаждения материала на нагретую подложку в реакторе осаждения последовательными самонасыщающимися поверхностными реакциями, и
первый пульсирующий клапан, внедренный в источник исходного продукта и выполненный с возможностью управления подачей пара исходного продукта из источника исходного продукта в реакционную камеру, содержащуюся в реакторе, который содержит подложку,
при этом устройство выполнено с возможностью пропускания нереакционноспособного газа к картриджу источника исходного продукта с обеспечением поднятия давления и облегчения последующего протекания смеси пара исходного продукта и нереакционноспособного газа к реакционной камере.
2. Устройство по п.1, которое выполнено с возможностью закрытия картриджа исходного продукта после поднятия давления до начала следующего периода импульса исходного продукта и с возможностью открытия пути к реакционной камере через пульсирующий клапан при начале следующего периода импульса исходного продукта.
3. Устройство по п.1, содержащее второй пульсирующий клапан, внедренный в источник исходного продукта и выполненный с возможностью управления подачей пара исходного продукта из источника исходного продукта в реакционную камеру, содержащуюся в реакторе, который содержит подложку.
4. Устройство по п.3, которое выполнено с возможностью пропускания нереакционноспособного газа через второй пульсирующий клапан к картриджу источника исходного продукта с обеспечением поднятия давления и облегчения последующего протекания смеси пара исходного продукта и нереакционноспособного газа к реакционной камере.
5. Устройство по п.3, которое содержит перепускную линию между первым пульсирующим клапаном и вторым пульсирующим клапаном для подачи нереакционноспособного газа из второго пульсирующего клапана в первый пульсирующий клапан.
6. Устройство по п.5, которое содержит ограничитель потока, размещенный в перепускной линии.
7. Способ, включающий:
осаждение материала на нагретую подложку в реакторе осаждения последовательными самонасыщающимися поверхностными реакциями;
управление подачей пара исходного продукта из источника исходного продукта в реакционную камеру, содержащуюся в реакторе, который содержит подложку, с помощью первого пульсирующего клапана, внедренного в источник исходного продукта; и
пропускание нереакционноспособного газа к картриджу источника исходного продукта для поднятия давления и облегчения последующего протекания смеси пара исходного продукта и нереакционноспособного газа к реакционной камере.
8. Способ по п.7, в котором закрывают картридж исходного продукта после поднятия давления до начала следующего периода импульса исходного продукта и открывают путь к реакционной камере через пульсирующий клапан при начале следующего периода импульса исходного продукта.
9. Способ по п.7, в котором управляют подачей пара исходного продукта из источника исходного продукта в реакционную камеру, содержащуюся в реакторе, который содержит подложку, с помощью второго пульсирующего клапана, внедренного в источник исходного продукта.
10. Способ по п.9, в котором пропускают нереакционноспособный газ через второй пульсирующий клапан к картриджу источника исходного продукта для поднятия давления и облегчения последующего протекания смеси пара исходного продукта и нереакционноспособного газа к реакционной камере.
11. Способ по п.9, в котором подают нереакционноспособный газ из второго пульсирующего клапана в первый пульсирующий клапан через перепускную линию.
12. Способ по п.11, в котором управляют подачей нереакционноспособного газа из второго пульсирующего клапана в первый пульсирующий клапан через перепускную линию с помощью ограничителя потока, размещенного в перепускной линии.