СПОСОБ И СИСТЕМА ИЗГОТОВЛЕНИЯ УЛУЧШЕННОЙ ОСНОВЫ ДЛЯ ТРЕХМЕРНОГО ОТОБРАЖЕНИЯ, И СООТВЕТСТВУЮЩАЯ ИЗГОТОВЛЕННАЯ ОСНОВА

1. Способ выполнения основы для трехмерной передачи, включающий следующие этапы:
предоставляют необработанную прозрачную основу (10);
выполняют лазерную гравировку на необработанной прозрачной основе (10) с использованием луча импульсного лазера (21);
перемещают луч импульсного лазера (21) таким образом, что гравировка необработанной прозрачной основы (10) создает участки (11а; 11b) с более низким коэффициентом пропускания (TR_11) относительно коэффициента пропускания (TR_10) необработанной прозрачной основы (10), при этом чередование участков (11а; 11b) с более низким коэффициентом пропускания (TR_11) и необработанной прозрачной основы (10) приводит к созданию полос (B1i; B2i; с i=1…n), реализующих автостереоскопический барьер (B1; В2).
2. Способ по п. 1, включающий этап, на котором выполняют антиотражательную обработку участков (11a; 11b) с более низким коэффициентом пропускания (TR_11) и/или необработанной прозрачной основы (10).
3. Способ по п. 1 или 2, отличающийся тем, что на указанном этапе выполнения лазерной гравировки на необработанной прозрачной основе (10) с использованием луча импульсного лазера (21) выполняют параллельные надрезы, создающие параллельные полосы (B1i; B2i), реализующие указанную автостереоскопическую систему (В1; В2).
4. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что на указанном этапе выполнения лазерной гравировки на необработанной прозрачной основе (10) с использованием луча импульсного лазера (21) выполняют надрезы на первой поверхности (10а) необработанной прозрачной основы (10).
5. Способ по любому из пп. 1-3, отличающийся тем, что на указанном этапе выполнения лазерной гравировки на необработанной прозрачной основе (10) с использованием луча импульсного лазера (21) выполняют надрезы внутри прозрачной основы (10).
6. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что указанный этап выполнения лазерной гравировки на необработанной прозрачной основе (10) с использованием луча импульсного лазера (21) осуществляется в соответствии с заранее установленными расчетными значениями первых размеров (d1) участков с более низким коэффициентом пропускания (11а; 11b) и вторых размеров (62) расстояний между участками с более низким коэффициентом пропускания (11a; 11b). 7. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что указанный этап выполнения лазерной гравировки осуществляется с эмиссией указанных импульсов через определенные интервалы времени порядка фемтосекунд.
8. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что участки (11) с более низким коэффициентом пропускания (TR_11) имеют коэффициент пропускания в диапазоне от 30% до 50% коэффициента пропускания (TR_10) необработанной прозрачной основы (10), предпочтительно 50%.
9. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что указанный этап предоставления необработанной прозрачной основы (10) осуществляется посредством предоставления прозрачной основы, изготовленной из аморфного полимерного материала или стекломатериала.
10. Способ по любому из пп. 1-9, отличающийся тем, что автостереоскопическая система (В1) является параллаксным барьером.
11. Способ по п. 10, отличающийся тем, что параллаксный барьер (В1) имеет по существу вертикальные полосы.
12. Способ по п. 10 или 11, отличающийся тем, что участки (11а) с более низким коэффициентом пропускания (TR_11) характеризуются первой толщиной (sp1), которая меньше второй толщины (sp2) необработанной прозрачной основы (10).
13. Способ по любому из пп. 1-9, отличающийся тем, что автостереоскопическая система (В2) является лентикулярным барьером.
14. Способ по п. 13, отличающийся тем, что лентикулярный барьер (В2) имеет наклонные полосы.
15. Способ по п. 13 или 14, отличающийся тем, что участки (11b) с более низким коэффициентом пропускания (TR_11) характеризуются третьей минимальной толщиной (sp3), которая меньше второй толщины (sp2) необработанной прозрачной основы (10).
16. Система выполнения основы для трехмерной передачи изображений, содержащая
необработанную прозрачную основу (10);
лазерное гравировочное устройство (20), выполненное с возможностью нанесения гравировки на прозрачную основу (10) с созданием множества участков (11а; 11b) с более низким коэффициентом пропускания (TR_11) по сравнению с коэффициентом пропускания (TR_10) необработанной прозрачной основы (10);
процессорный блок (30), выполненный с возможностью управления лазерным гравировочным устройством (20), для обеспечения перемещения луча импульсного лазера (21) таким образом, чтобы гравировка необработанной прозрачной основы (10) создавало участки (11а; 11b) с более низким коэффициентом пропускания (TR_11) относительно коэффициента пропускания (TR_10) необработанной прозрачной основы (10), при этом чередование участков (11) с более низким коэффициентом пропускания (TR_11) и необработанной прозрачной основы (10) приводит к созданию полос (B1i; B2i), реализующих автостереоскопический барьер (B1; В2).
17. Система по п. 16, отличающаяся тем, что процессорный блок (30) выполнен с возможностью перемещения луча лазера (21) в соответствии с заранее установленными расчетными значениями первых размеров (d1) участков с более низким коэффициентом пропускания (11) и вторых размеров (d2) расстояний между участками с более низким коэффициентом пропускания (11).
18. Система по п. 16 или 17, отличающаяся тем, что необработанная прозрачная основа (10) является основой дисплея сотового телефона, планшета или аналогичных устройств, или основой экрана ПК, телевизора или аналогичных устройств.
19. Прозрачная основа (10), содержащая
множество участков (11а; 11b) с более низким коэффициентом пропускания (TR 11) относительно коэффициента пропускания (TR_10) прозрачной основы в необработанном состоянии (10), при этом чередование участков (11а; 11b) с более низким коэффициентом пропускания (TR_11) и необработанной прозрачной основы (10) приводит к созданию полос (B1i; B2i; i=1…n), реализующих автостереоскопический барьер (B1; В2).
20. Прозрачная основа (10) по п. 19, содержащая множество участков (11а; 11b) с более низким коэффициентом пропускания (TR_11) с одной стороны (10а) необработанной прозрачной основы (10).
21. Прозрачная основа (10) по п. 19, содержащая множество участков (11а; 11b) с более низким коэффициентом пропускания (TR_11) внутри прозрачной основы (10).
22. Прозрачная основа (10) по одному из пп. 19-21, содержащая одно из: дисплей сотового телефона, планшета или тому подобного, или экран ПК, телевизора или аналогичных устройств.