РЕАКТОР ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ С ПЛАЗМЕННЫМ ИСТОЧНИКОМ

1. Реактор осаждения, содержащий:
подающее устройство, которое ограничивает расширительное пространство, предназначенное для проведения реагентов в виде нисходящего потока от плазменного источника по направлению к реакционной камере, причем расширительное пространство расширяется по направлению к реакционной камере; и
подъемный механизм для загрузки по меньшей мере одной подложки в реакционную камеру с верхней стороны реакционной камеры, и
реактор осаждения имеет конфигурацию, обеспечивающую осаждение материала в реакционной камере на по меньшей мере одну подложку посредством последовательных самонасыщающихся поверхностных реакций.
2. Реактор осаждения по п.1, отличающийся тем, что подъемный механизм имеет конфигурацию, обеспечивающую изменение размеров подающего устройства.
3. Реактор осаждения по п.1, отличающийся тем, что подающее устройство имеет сокращенную форму и расширенную форму, а подъемный механизм имеет конфигурацию, обеспечивающую сжатие или растяжение подающего устройства с переходом от расширенной формы к сокращенной форме, что обеспечивает возможность загрузки по меньшей мере одной подложки, когда подающее устройство находится в сокращенной форме.
4. Реактор осаждения по п.1, отличающийся тем, что подающее устройство имеет конфигурацию, способную деформироваться в вертикальном направлении.
5. Реактор осаждения по п.1, отличающийся тем, что подающее устройство содержит совокупность вкладываемых друг в друга составных частей или кольцеобразных элементов, которые могут перемещаться и входить друг в друга.
6. Реактор осаждения по п.1, отличающийся тем, что подающее устройство состоит из двух вкладываемых друг в друга составных частей.
7. Реактор осаждения по п.1, отличающийся тем, что подающее устройство прикреплено к фланцу расширительного пространства, который в свою очередь соединен с верхним фланцем реакционной камеры во время осаждения.
8. Реактор осаждения по п.1, отличающийся тем, что подъемный механизм имеет конфигурацию, обеспечивающую перемещение держателя подложки, удерживающего по меньшей мере одну подложку, между верхним положением для загрузки или удаления подложки и нижним положением для осаждения.
9. Реактор осаждения по п.1, отличающийся тем, что он содержит камеру для загрузки подложки между плазменным источником и реакционной камерой.
10. Реактор осаждения по п.9, отличающийся тем, что камера для загрузки подложки содержит стыковочное устройство для загрузочного люка.
11. Реактор осаждения по п.1, отличающийся тем, что он содержит люк для ручного доступа в подающем устройстве.
12. Реактор осаждения по п.1, отличающийся тем, что подъемный механизм содержит множество симметрично расположенных подъемников.
13. Реактор осаждения по п.1, отличающийся тем, что реактор осаждения имеет конфигурацию, позволяющую использовать держатель подложки, удерживающий по меньшей мере одну подложку, в качестве первичной преграды для потока газа в реакционное пространство.
14. Реактор осаждения по п.1, отличающийся тем, что он содержит устройство для регулирования потока газа между держателем подложки и стенкой реакционной камеры.
15. Способ, включающий эксплуатацию реактора осаждения по любому из предыдущих пунктов.