ЦИРКОНИЕВЫЕ КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ ПРЕДВАРИТЕЛЬНОЙ ОБРАБОТКИ, СОДЕРЖАЩИЕ ЛИТИЙ, СООТВЕТСТВУЮЩИЕ СПОСОБЫ ОБРАБОТКИ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ СУБСТРАТОВ И СООТВЕТСТВУЮЩИЕ МЕТАЛЛИЧЕСКИЕ СУБСТРАТЫ С ПОКРЫТИЯМИ

1. Композиция предварительной обработки для обработки металлических субстратов, включающая:
металл Группы IIIB и/или Группы IVB;
свободный фторид и
литий.
2. Композиция предварительной обработки по п. 1, включающая металл Группы IVB.
3. Композиция предварительной обработки по п. 2, в которой металл Группы IVB присутствует в форме гексафторциркониевой кислоты, гексафтортитановой кислоты, или их солей.
4. Композиция предварительной обработки по п. 2, в которой металлом Группы IVB является цирконий.
5. Композиция предварительной обработки по п. 1, в котором металл Группы IVB присутствует в форме оксидов или гидроксидов циркония.
6. Композиция предварительной обработки по п. 1, в котором металл Группы IVB присутствует в форме нитрата цирконила, сульфата цирконила или основного карбоната циркония.
7. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой металл Группы IIIB и/или Группы IVB присутствует в форме кислоты или соли.
-1
8. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой металл Группы IIIB и/или Группы IVB содержит от 50 до 500 млн металла, в расчете на общий вес ингредиентов композиции предварительной обработки.
-1
9. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой металл Группы IIIB и/или Группы IVB включает от 75 до 250 млн металла, в расчете на общий вес ингредиентов композиции предварительной обработки.
10. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой мольное отношение металла Группы IIIB и/или Группы IVB к литию составляет от 100:1 до 1:10.
-1
11. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой на свободный фторид приходится от 5 до 250 млн от композиции предварительной обработки.
-1
12. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой на свободный фторид приходится от 25 до 200 млн от композиции предварительной обработки.
13. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой литий присутствует в форме соли.
14. Композиция предварительной обработки по п. 13, в которой указанной солью является нитрат лития, сульфат лития, фторид лития, хлорид лития, гидроксид лития, карбонат лития или йодид лития.
-1
15. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой литий присутствует в количестве от 5 до 500 млн в расчете на общий вес ингредиентов композиции предварительной обработки.
-1
16. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой лития менее 200 млн в расчете на общий вес ингредиентов композиции предварительной обработки.
-1
17. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой литий присутствует в количестве от 25 до 125 млн в расчете на общий вес ингредиентов композиции предварительной обработки.
18. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой композиция предварительной обработки в основном не содержит фосфат-ионов.
19. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой композиция предварительной обработки в основном не содержит хромат.
20. Композиция предварительной обработки по п. 1, которая является водной композицией.
21. Композиция предварительной обработки по п. 1, предназначенная для использования при нанесении методом окунания.
22. Композиция предварительной обработки по п. 1, предназначенная для использования при нанесении методом распыления.
23. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой отношение K равно А/В, где А - вес в молях соединения (А), содержащего металл Группы IIIB и/или Группы IVB, и В - вес в молях в пересчете на HF соединения, содержащего фтор, в качестве источника фторида, причем K>0,10.
24. Композиция предварительной обработки по п. 1, в которой отношение K равно А/В, где А - вес в молях соединения (А), содержащего металл Группы IIIB и/или Группы IVB, и В - вес в молях в пересчете на HF соединения, содержащего фтор, в качестве источника фторида, причем 0,11<K<0,25.
25. Композиция предварительной обработки по п. 1, дополнительно включающая электроположительный металл.
26. Композиция предварительной обработки по п. 25, в которой электроположительный металл выбран из группы, состоящей из меди, никеля, серебра, золота и их комбинаций.
27. Композиция предварительной обработки по п. 25, в которой электроположительный металл включает медь.
28. Композиция предварительной обработки по п. 27, в которой медь присутствует в форме нитрата меди, сульфата меди, хлорида меди, карбоната меди или фторида меди.
-1
29. Композиция предварительной обработки по п. 25, в которой на электроположительный металл приходится от 0 до 100 млн в расчете на общий вес ингредиентов композиции предварительной обработки.
-1
30. Композиция предварительной обработки по п. 25, в которой на электроположительный металл приходится от 2 до 35 млн в расчете на общий вес ингредиентов композиции предварительной обработки.
31. Композиция предварительной обработки по п. 1, дополнительно включающая молибден.
32. Композиция предварительной обработки по п. 31, в которой молибден присутствует в форме соли.
33. Композиция предварительной обработки по п. 32, в которой солью является молибдат натрия, молибдат кальция, молибдат калия, молибдат аммония, хлорид молибдена, ацетат молибдена, сульфамат молибдена, формиат молибдена или лактат молибдена.
-1
34. Композиция предварительной обработки по п. 31, в которой на молибден приходится от 5 до 500 млн в расчете на общий вес ингредиентов композиции предварительной обработки.
-1
35. Композиция предварительной обработки по п. 31, в которой на молибден приходится от 5 до 150 млн в расчете на общий вес ингредиентов композиции предварительной обработки.
36. Способ обработки металлического субстрата, включающий контактирование металлического субстрата с композицией предварительной обработки, включающей металл Группы IIIB и/или Группы IVB, свободный фторид и литий.
37. Способ по п. 36, в котором композиция предварительной обработки дополнительно включает молибден.
38. Способ по п. 36, дополнительно включающий электрофоретическое осаждение композиции покрытия на металлический субстрат.
39. Способ по п. 38, в котором композиция покрытия включает иттрий.
40. Способ покрытия металлического субстрата, включающий электрофоретическое осаждение композиции покрытия на металлический субстрат, причем металлический субстрат включает обработанный поверхностный слой, содержащий металл Группы IIIB и/или Группы IVB, фторид и литий.
41. Предварительно обработанный металлический субстрат, включающий поверхностный слой, содержащий металл Группы IIIB и/или IVB, свободный фторид, и литий на по меньшей мере части субстрата.
42. Электрофоретически покрытый металлический субстрат, включающий:
обработанный поверхностный слой, содержащий металл Группы ШВ и/или Группы IVB, фторид и литий на поверхности металлического субстрата; и
покрытие, электрофоретически осажденное поверх по меньшей мере части обработанного поверхностного слоя.