ВЫПУСКНОЙ УЗЕЛ С УСТРОЙСТВОМ НАПРАВЛЕНИЯ ФЛЮИДА ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ И БЛОКИРОВКИ ВИХРЕВОГО ПОТОКА ФЛЮИДА

1. Выпускной узел, содержащий первый вход для флюида; первый выход для флюида; и по меньшей мере одно устройство направления флюида, причем флюид поступает в выпускной узел в одном направлении, в другом направлении или в обоих указанных направлениях, а указанное по меньшей мере одно устройство направления флюида обеспечивает завихрение потока флюида в указанном узле при поступлении флюида в указанном одном направлении и препятствует завихрению потока флюида в указанном узле при поступлении флюида в указанном другом направлении.
2. Узел по п.1, отличающийся тем, что при поступлении в указанный узел поток флюида направлен по касательной к окружности первого выхода для флюида.
3. Узел по п.1, отличающийся тем, что размеры и форма устройства направления флюида выбраны таким образом, чтобы оно обеспечивало завихрение потока флюида в указанном выпускном узле при поступлении флюида в указанном одном направлении и препятствовало завихрению потока флюида в указанном узле при поступлении флюида в указанном другом направлении.
4. Узел по п.1, отличающийся тем, что устройство направления флюида имеет по меньшей мере три стенки.
5. Узел по п.4, отличающийся тем, что по меньшей мере одна из указанных стенок обеспечивает завихрение потока флюида в указанном узле.
6. Узел по п.5, отличающийся тем, что другая стенка из указанных стенок препятствует завихрению потока флюида в указанном узле.
7. Узел по п.6, отличающийся тем, что содержит первое устройство направления флюида и второе устройство направления флюида, причем указанная по меньшей мере одна стенка, обеспечивающая завихрение потока флюида, первого устройства направления флюида находится напротив указанной другой стенки, препятствующей завихрению потока флюида, второго устройства направления флюида, при этом указанная другая стенка, препятствующая завихрению потока флюида, первого устройства направления флюида находится напротив по меньшей мере одной стенки, способствующей завихрению потока флюида, второго устройства направления флюида.
8. Узел по п.7, отличающийся тем, что между первым и вторым устройствами направления флюида имеется по меньшей мере одно отверстие.
9. Узел по п.1, отличающийся тем, что содержит по меньшей мере один элемент направления потока.
10. Узел по п.9, отличающийся тем, что элемент направления потока способствует поддержанию циркуляции вихревого потока флюида в указанном узле и способствует поддержанию протекания невихревого потока флюида в указанном узле.
11. Узел по п.10, отличающийся тем, что элемент направления потока имеет форму, которая способствует поддержанию циркуляции вихревого потока флюида в указанном узле и способствуют поддержанию протекания невихревого потока флюида в указанном узле.
12. Узел по п.11, отличающийся тем, что форма элемента направления потока по существу совпадает с формой устройства направления флюида.
13. Узел по п.1, отличающийся тем, что увеличение интенсивности протекания флюида в указанном одном направлении обусловлено одной из характеристик флюида.
14. Узел по п.13, отличающийся тем, что при увеличении интенсивности протекания флюида в указанном одном направлении интенсивность завихрения потока флюида в указанном узле увеличивается.
15. Узел по п.14, отличающийся тем, что при увеличении интенсивности завихрения потока флюида в указанном узле сопротивление потоку флюида в указанном узле возрастает.
16. Узел по п.1, отличающийся тем, что увеличение интенсивности протекания флюида в указанном другом направлении обусловлено одной из характеристик флюида.
17. Узел по п.16, отличающийся тем, что при увеличении интенсивности протекания флюида в указанном другом направлении интенсивность завихрения потока флюида в указанном узле уменьшается.
18. Узел по п.17, отличающийся тем, что при уменьшении интенсивности завихрения потока флюида в указанном узле сопротивление потоку флюида в указанном узле уменьшается.
19. Узел по п.1, отличающийся тем, что содержит второй вход для флюида.
20. Узел по п.19, отличающийся тем, что флюид, поступающий в указанный узел через первый вход для флюида, протекает в указанном одном направлении, а флюид, поступающий в указанный узел через второй вход для флюида, протекает в указанном другом направлении.
21. Узел по п.1, отличающийся тем, что предназначен для использования в регуляторе потока флюида.
22. Регулятор потока флюида, содержащий переключатель потока флюида; и выпускной узел, содержащий (1) первый вход для флюида; (2) первый выход для флюида; и (3) по меньшей мере одно устройство направления флюида, причем переключатель потока флюида пропускает флюид в указанный выпускной узел в одном направлении, в другом направлении или в обоих указанных направлениях, а по меньшей мере одно устройство направления флюида обеспечивает завихрение потока флюида в указанном узле при поступлении флюида в указанном одном направлении и препятствует завихрению потока флюида в указанном узле при поступлении флюида в указанном другом направлении.
23. Регулятор по п.22, отличающийся тем, что содержит первый проточный канал.
24. Регулятор по п.23, отличающийся тем, что содержит второй проточный канал и третий проточный канал.
25. Регулятор по п.24, отличающийся тем, что содержит место разветвления, в котором первый проточный канал разделяется на второй и третий проточные каналы.
26. Регулятор по п.24, отличающийся тем, что переключатель потока направляет флюид по меньшей мере во второй проточный канал, в третий проточный канал или в оба этих канала.
27. Регулятор по п.26, отличающийся тем, что при направлении флюида переключателем потока по меньшей мере во второй проточный канал этот флюид поступает в указанный выпускной узел в указанном одном направлении.
28. Регулятор по п.26, отличающийся тем, что при направлении флюида переключателем потока в третий проточный канал, этот флюид поступает в указанный выпускной узел в указанном другом направлении.
29. Регулятор по п.22, отличающийся тем, что предназначен для использования в подземном пласте.
30. Регулятор по п.22, отличающийся тем, что предназначен для использования для формирования импульсов давления по меньшей мере в части подземного слоя.