Устройство для сушки полимерной пленки

Устройство для сушки полимерной пленки .
Предлагаемая полезная модель относится к устройствам для тепловой обработки материалов или изделий и может найти применение, в частности, в технологии изготовления оптических деталей с поверхностным микрорельефом методом ионно-лучевого травления в вакууме.
Для получения микроуглублений требуемого контура при ионном травлении в вакууме используются твердые прижимные маски многократного применения с защитной полимерной пленкой, нанесенной на поверхность, примыкающую к обрабатываемой детали  1 .
В результате многократного теплового влияния ионного пучка, а также механического воздействия вследствие прижима маски к обрабатываемой детали, со временем происходит частичное разрушение защитной полимерной пленки с прилипанием отслоившихся ее фрагментов к участкам поверхности обрабатываемой детали, закрытым от воздействия ионов. Это приводит к необходимости введения дополнительной операции отмывки и протирки обрабатываемой детали, что сказывается на снижении класса чистоты. Разрушение происходит вследствие неполного удаления растворителя из ее объема при нагревании в процессе сушки после нанесения и обработки пленки на традиционном оборудовании.
МПК: 7 F 27В 5/05; G 02В 1/12
векционную печь (термостат), состоящую из корпуса с нагревательным элементом, расположенным между стенками корпуса  2 .
Наиболее близким техническим решением к предлагаемой полезной модели является устройство для сушки пленок, нанесенных на подложку, представляющее собой плиту с плоской гладкой поверхностью и нагревательным элементом, расположенным под плитой, на поверхности которой располагаются детали для сушки  3 .
Существенный недостаток использования подобных устройств, как аналога  2 , так и прототипа  3  состоит в том, что при сушке верхний слой пленки вследствие контакта с горячим воздухом высыхает быстрее, с образованием корки, препятствующей дальнейшему удалению растворителя из нанесенной пленки. Кроме того, присутствие кислорода в пространстве, окружающем деталь, также ускоряет процесс образования корки.
Основной задачей, на решение которой направлена полезная модель, является повышение качества обрабатываемых ионным пучком деталей за счет увеличения прочности защитной полимерной пленки и производительности устройства путем устранения необходимости частого удаления разрушившейся защитной пленки и повторного ее нанесения на маски.
Поставленная задача решается с помощью устройства для сушки полимерной пленки, которое, как и прототип содержит плиту с плоской гладкой поверхностью и нагревательный элемент, расположенный под плитой.
В отличие от прототипа предлагаемое устройство дополнительно оснащено вакуумной камерой, а плита с плоской поверхностью и нагревательным элементом, расположенным под плитой, размещены внутри вакуумной камеры.
Сущность предлагаемой полезной модели заключается в том, что благодаря оснащению устройства вакуумной камерой, появилась возможность удалять растворитель путем нагрева масок за счет контактной теплопроводности в вакууме без конвекционного взаимодействия с газовой средой, в результате чего образуется полимерная пленка с равномерно распределенными по толщине свойствами.
Предлагаемая полезная модель поясняется чертежом, где на фиг.1 показан общий вид устройства для сушки полимерной пленки, на фиг.2 изображена обрабатываемая ионным потоком деталь с применением контактной прижимной маски.
Устройство представляет собой вакуумную камеру 1 в подколпачный объем которой помещен нагревательный элемент 2, размещенный под плитой 3 с плоской гладкой поверхностью, на которой размещаются маски 4 с нанесенной пленкой 5, которые используются при ионной обработке деталей 6.
Работа устройства осуществляется следующим образом.
После откачки включается нагревательный элемент 2, который лучистым теплообменом нагревает плиту 3 с расположенными на ней масками 4. Тепловая энергия, посредством теплопроводности, переносится от
маски 4 к пленке 5, начиная с нижнего слоя, примыкающего к маске к верхнему, удаляя растворитель и завершая процесс сушки. Из подколпачного объема вакуумной камеры 1 пары растворителя удаляются насосом.
Благодаря повышенной устойчивости полученной таким образом полимерной пленки к механическому и тепловому воздействию улучшается качество обрабатываемых деталей , повышается процент выхода годных, а также долговечность комплекта масок.
4
1.Российская Федерация, свидетельство на полезную модель № 22832, МПК: 7 G 02В 1/2 от 08.08.2001г.
2.Введение в фотографию под ред. В.П.Лавришева, Москва, Энергия,
1977, с.151
3.У.Моро, Микролитография, принципы, методы, материалы, ч.I, Москва, МИР, 1990, с. 438 - прототип.
Устройство для сушки полимерной пленки, содержащее плиту с плоской гладкой поверхностью и нагревательный элемент, расположенный под плитой, отличающееся тем, что оно дополнительно оснащено вакуумной камерой, а плита с плоской гладкой поверхностью и нагревателем, расположенным под ней размещены, внутри вакуумной камеры.
УСТРОЙСТВО ДЛЯ СУШКИ ПОЛИМЕРНОЙ ПЛЕНКИ
514