УСТРОЙСТВО ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ ЛАЗЕРНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ И ЛАЗЕР С ТАКИМ УСТРОЙСТВОМ

1. Устройство для формирования лазерного излучения (3), содержащее:
гомогенизаторы (1), выполненные с возможностью отдельно гомогенизировать множество частичных лучей (6) или множество групп (7) частичных лучей (6) лазерного излучения (3) таким образом, чтобы идущие от гомогенизаторов (1) частичные лучи (6) или группы (7) частичных лучей (6) в рабочей плоскости (8) создавали соответственно линейное распределение (9, 19) интенсивности с круто спадающими на концах фронтами (10);
средства перекрытия (2) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6), выполненные и установленные таким образом, что в рабочей плоскости (8) создается линейное распределение (11, 20) интенсивности, длина которого больше длины каждого из линейных распределений (11, 20) интенсивности частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6),
отличающееся тем, что средства перекрытия (2) включают в себя линзовую матрицу с множеством линз (5).
2. Устройство для формирования лазерного излучения (3), содержащее:
гомогенизаторы (1), выполненные с возможностью отдельно гомогенизировать множество частичных лучей (6) или множество групп (7) частичных лучей (6) лазерного излучения (3) таким образом, чтобы идущие от гомогенизаторов (1) частичные лучи (6) или группы (7) частичных лучей (6) в рабочей плоскости (8) создавали соответственно линейное распределение (9, 19) интенсивности с круто спадающими на концах фронтами (10);
средства перекрытия (2) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6), выполненные и установленные таким образом, что в рабочей плоскости (8) создается линейное распределение (11, 20) интенсивности, длина которого больше длины каждого из линейных распределений (11, 20) интенсивности частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6),
отличающееся тем, что дополнительно содержит средства управления, выполненные с возможностью оказывать такое влияние на лазерное излучение (3), чтобы была одинаковой интенсивность каждого из выходящих из гомогенизаторов (1) частичных лучей (6) или каждой из выходящих из гомогенизаторов (1) групп (7) частичных лучей (6).
3. Устройство по п.2, отличающееся тем, что средства перекрытия (2) включают в себя линзовую матрицу с множеством линз (5).
4. Устройство по любому из пп.1-3, отличающееся тем, что гомогенизаторы (1) и/или линзовая матрица расположены и/или выполнены с возможностью прохождения через каждую из линз (5) одного из частичных лучей (6) или одной группы (7) частичных лучей (6).
5. Устройство по п.1, отличающееся тем, что все линзы (5) линзовой матрицы имеют одинаковое фокусное расстояние.
6. Устройство по п.2, отличающееся тем, что все линзы (5) линзовой матрицы имеют одинаковое фокусное расстояние.
1
7. Устройство по п.1, отличающееся тем, что линзы (5) линзовой матрицы имеют одинаковую ширину и/или одинаковое межцентровое расстояние (P).
2
8. Устройство по п.2, отличающееся тем, что линзы (5) линзовой матрицы имеют одинаковую ширину и/или одинаковое межцентровое расстояние (Р).
9. Устройство по п.1, отличающееся тем, что для линз (5) линзовой матрицы выполняется условие:
2
2·F·NA(50%)=M·P,
2
где М=1, 2, 3 ,…, F - фокусное расстояние каждой из линз, Р - межцентровое расстояние между линзами, NA(50%) - числовая апертура каждой из линз (5), определяемая углом, при котором интенсивность проходящего через линзы (5) света уменьшается наполовину.
10. Устройство по п.2, отличающееся тем, что для линз (5) линзовой матрицы выполняется условие:
2
2·F·NA(50%)=M·P,
2
где M=1, 2, 3 ,…, F - фокусное расстояние каждой из линз, Р - межцентровое расстояние между линзами, NA(50%) - числовая апертура каждой из линз (5), определяемая углом, при котором интенсивность проходящего через линзы (5) света уменьшается наполовину.
11. Устройство по п.1, отличающееся тем, что для лазерного излучения (3) и для линз (5) линзовой матрицы выполняется условие:
<mrow><mfrac><mrow><msub><mi>w</mi><mn>0</mn></msub></mrow><mi>d</mi></mfrac><mo>></mo><mn>1,1,</mn></mrow>
0
2
где w - расстояние в рабочей плоскости (8) между максимальной интенсивностью и интенсивностью, уменьшившейся до 1/е в распределении (19) интенсивности, создаваемом одной из линз (5), a d - расстояние в рабочей плоскости (8) между максимальными интенсивностями в распределениях (19) интенсивности, создаваемых двумя соседними линзами (5).
12. Устройство по п.2, отличающееся тем, что для лазерного излучения (3) и для линз (5) линзовой матрицы выполняется условие:
<mrow><mfrac><mrow><msub><mi>w</mi><mn>0</mn></msub></mrow><mi>d</mi></mfrac><mo>></mo><mn>1,1,</mn></mrow>
0
2
где w - расстояние в рабочей плоскости (8) между максимальной интенсивностью и интенсивностью, уменьшившейся до 1/е в распределении (19) интенсивности, создаваемом одной из линз (5), a d - расстояние в рабочей плоскости (8) между максимальными интенсивностями в распределениях (19) интенсивности, создаваемых двумя соседними линзами (5).
13. Устройство по п.1, отличающееся тем, что средства управления включают в себя сенсоры (14), выполненные с возможностью определения интенсивности каждого из выходящих из гомогенизаторов (1) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6).
14. Устройство по п.2, отличающееся тем, что средства управления включают в себя сенсоры (14), выполненные с возможностью определения интенсивности каждого из выходящих из гомогенизаторов (1) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6).
15. Устройство по п.13 или 14, отличающееся тем, что сенсоры (14) выполнены в виде фотодиода, фоторезистора, фототранзистора, фотоэлемента и т.п.
16. Устройство по п.1, отличающееся тем, что средства управления включают в себя компараторы (15), выполненные с возможностью сравнения интенсивностей выходящих из гомогенизаторов (1) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6).
17. Устройство по п.2, отличающееся тем, что средства управления включают в себя компараторы (15), выполненные с возможностью сравнения интенсивностей выходящих из гомогенизаторов (1) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6).
18. Лазер, содержащий по меньшей мере один источник (17) лазерного излучения и устройство для формирования лазерного излучения (3), отличающийся тем, что устройство для формирования лазерного излучения (3) представляет собой устройство по любому из пп.1-17.
19. Лазер по п.18, отличающийся тем, что дополнительно содержит по меньшей мере один блок питания (16) по меньшей мере для одного источника (17) лазерного излучения и средства управления, выполненные с возможностью управлять по меньшей мере одним блоком питания (16) с возможностью сравнения интенсивностей выходящих из гомогенизаторов (1) частичных лучей (6) или групп (7) частичных лучей (6), в частности с возможностью их уравнивания.