СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРИМЕШИВАНИЯ РАЗНООБРАЗНЫХ ПОТОКОВ В ПОТОК ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЙ ЖИДКОСТИ

1. Способ введения разнообразных потоков в поток технологической жидкости, причем способ включает стадии, в которых
а. вводят первый поток нагнетанием его с помощью жидкостного носителя в технологическую жидкость, проходящую в технологическом трубопроводе (20),
b. введение осуществляют по существу перпендикулярно направлению течения технологической жидкости для формирования поля смешения, причем поле смешение первого потока включает два вращающихся в противоположных направлениях завихрения в технологическом трубопроводе (20),
с. вводят второй поток по существу перпендикулярно направлению течения технологической жидкости нагнетанием его в технологическую жидкость между завихрениями для усиления поля смешения, созданного первым нагнетаемым потоком.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что нагнетание осуществляют с помощью жидкостного носителя с использованием по меньшей мере одного инжекционного смесителя (12, 14) для каждого потока.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что формируют одну или более пар инжекционных смесителей (12, 14), вводящих первый и второй поток, причем каждую из указанных пар смесителей (12, 14) размещают в ее собственной плоскости, проходящей по существу вдоль оси технологического трубопровода (20).
4. Способ по п.3, отличающийся тем, что пару инжекционных смесителей составляют из предшествующего смесителя (12) и последующего смесителя (14), причем последующий смеситель (14) позиционируют в воображаемом секторе А на оси технологического трубопровода (20), угол которого составляет не более 40 градусов, и в плоскости, разделяющей угол пополам, размещают предшествующий смеситель (12).
5. Способ по п.4, отличающийся тем, что, когда присутствует более чем одна пара смесителей (12, 14), пары смесителей (12, 14) распределяют по существу равномерно по окружности технологического трубопровода (20).
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что предотвращают осаждение или закрепление по меньшей мере одного химического реагента или продуктов реакций указанного по меньшей мере одного химического реагента, введенного с потоками, на поверхности технологического трубопровода (20) или расположенных в нем конструкций, путем размещения электрического очищающего устройства (30) внутри технологического трубопровода (20).
7. Способ по п.6, отличающийся тем, что формируют электрическое поле, создающее слой, имеющий значение рН, неблагоприятное для образования осадков, внутри технологического трубопровода (20) с помощью очищающего устройства (30).
8. Способ по п.6, отличающийся тем, что создают электрическое поле или магнитное поле внутри технологического трубопровода (20) для предотвращения присоединения или закрепления материала, увлеченного технологической жидкостью или сформированного в ней, на поверхности (20) технологического трубопровода или расположенных в нем конструкций.
9. Способ по п.1, отличающийся тем, что предотвращают осаждение или закрепление по меньшей мере одного химического реагента или продуктов реакций указанного по меньшей мере одного химического реагента, введенного с потоками, на поверхности технологического трубопровода (20) или расположенных в нем конструкций, путем изготовления этих конструкций из материала, или покрытием указанных конструкций материалом, к которому указанные материалы не присоединяются или на котором не закрепляются.
10. Устройство для введения разнообразных потоков в поток технологической жидкости, включающее технологический трубопровод (20), проводящий технологическую жидкость, и по меньшей мере один инжекционный смеситель (12), вводящий и примешивающий первый поток в технологический трубопровод (20) по существу перпендикулярно относительно направления течения технологической жидкости, причем смеситель присоединен к стенке технологического трубопровода (20), отличающееся тем, что по меньшей мере один инжекционный смеситель (14), вводящий и примешивающий второй поток по существу перпендикулярно относительно направления течения технологической жидкости, размещают на стенке технологического трубопровода (20) по существу в той же плоскости, проходящей через ось технологического трубопровода, ниже по потоку и на расстоянии по меньшей мере от одного инжекционного смесителя (12), вводящего первый поток, причем инжекционные смесители (12, 14), вводящие первый поток и второй поток, формируют пару инжекционных смесителей.
11. Устройство по п.10, отличающееся тем, что, когда присутствует более чем одна пара смесителей (12, 14), пары смесителей (12, 14) распределены по существу равномерно по окружности технологического трубопровода (20).
12. Устройство по п.10, отличающееся тем, что инжекционный смеситель (14) пары инжекционных смесителей (12, 14), вводящий второй поток, размещены в месте, положение которого по окружности технологического трубопровода (20) отклоняется не более чем на 20 градусов от линии, параллельной оси технологического трубопровода, проходящей через инжекционный смеситель (12), вводящий первый поток.
13. Устройство по п.10, отличающееся тем, что пара инжекционных смесителей сформирована из предшествующего смесителя (12) и последующего смесителя (14), причем последующий смеситель (14) пары инжекционных смесителей (12, 14) позиционирован в воображаемом секторе А на оси технологического трубопровода (20), угол которого составляет не более 40 градусов, и в плоскости, разделяющей угол пополам, размещен предшествующий смеситель (12) из пары.
14. Устройство по любому из п.п. 10-13, отличающееся тем, что расстояние между смесителями пары смесителей составляет от 0,05 до 2 метров, предпочтительно, от 0,05 до 1 метра.
15. Устройство по любому из п.п. 11-13, отличающееся тем, что указанное расстояние представляет собой расстояние, соответствующее менее чем одной секунде, рассчитанной из скорости течения технологической жидкости.
16. Устройство по п.10, отличающееся тем, что внутри технологического трубопровода (20) размещено устройство (30) для очистки технологического трубопровода.
17. Устройство по п.16, отличающееся тем, что очищающее устройство (30) включает стержневидный электрод (36), размещенный по существу по центру внутри технологического трубопровода (20), по меньшей мере один электрод (42), размещенный на поверхности технологического трубопровода, и систему (40) управления, включающую источник напряжения.
18. Устройство по п.16, отличающееся тем, что очищающее устройство (30) дополнительно включает измерительный датчик (44) для отслеживания развития реакции в технологическом трубопроводе.
19. Устройство по п.16, отличающееся тем, что очищающее устройство представляет собой постоянный или электрический магнит (50), размещенный вокруг реактора (20).
20. Устройство по п.19, отличающееся тем, что электромагнит (50), размещенный вокруг технологического трубопровода (20), включает проводник (52), намотанный вокруг технологического трубопровода (20), и подсоединенную к нему систему (54) управления.
21. Устройство по п.10, отличающееся тем, что технологический трубопровод (20) или конструкции внутри него выполнены из материала или покрыты материалом, с которым не способны сцепляться материалы, увлеченные технологической жидкостью, введенные в нее или сформированные в ней.