ФОТОСШИВАЕМАЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ДИЗАЙНА НОГТЕЙ

1. Фотосшиваемая косметическая композиция, содержащая в физиологически приемлемой среде:
- по меньшей мере, одно фотосшиваемое уретан(мет)акрилатное соединение Р1, содержащее полиэфирную цепь, где указанное соединение имеет молярную массу больше или равную 1000 г/моль,
- по меньшей мере, один пленкообразующий полимер Р2,
- по меньшей мере, один фотоинициатор, и
- по меньшей мере, один легколетучий растворитель, выбранный из ацетона, этилацетата и пропилацетата, где указанный растворитель предпочтительно, присутствует в указанной композиции с содержанием больше или равным 20%, предпочтительно, больше или равным 30%, по массе относительно общей массы указанной композиции,
в которой массовое соотношение между Р1 и Р2 меньше, чем или равно 2,0.
2. Композиция по п. 1, в которой полиэфирная цепь Р1 имеет молярную массу меньше, чем или равную 1000 г/моль.
n
2n
m
3. Композиция по любому из пп. 1 или 2, в которой полиэфирная цепь Р1 формулы -[CHO]-, в которой n представляет собой целое число в пределах от 1 до 6, и m представляет собой целое число в пределах от 2 до 50.
4. Композиция по п. 3, в которой n=2 и m находится в пределе от 2 до 20.
5. Композиция по п. 1 или 2, в которой Р1 имеет формулу (I):
1
100
в котором -А'- представляет собой двухвалентный C-С углеводородный радикал, необязательно замещенный алкильными группами, где указанный радикал чередуется, по меньшей мере, с одной уретановой функциональной группой -OC(O)-NH-, по меньшей мере, одной полиэфирной цепью, как определено выше в любом из п.п. 1-4, и, необязательно, гетероатомами, такими как атомы
кислорода, азота, серы, или насыщенными ароматическими или гетероароматическими циклическими двухвалентными группами, такими как циклоалкиленовые, ариленовые или гетероариленовые группы.
6. Композиция по п. 1 или 2, в которой Р1 имеет формулу (II):
в которой:
- i представляет собой целое число в пределах от 1 до 6, предпочтительно, равное 2,
- j представляет собой целое число в пределах от 1 до 6, предпочтительно, равное i, предпочтительно, равное 2,
- m представляет собой целое число в пределах от 1 до 20,
- n представляет собой целое число от 1 до 10, предпочтительно, равное 1,
- о представляет собой целое число от 1 до 10, предпочтительно, равное 1,
1
10
- R1, R2, R3 и R4, одинаковые или различные, представляют собой атом водорода или C-С алкильную цепь, предпочтительно, атом водорода или метильную группу, и
1
20
5
20
-А''- представляет собой линейную или разветвленную двухвалентную С-С углеводородную алкиленовую группу или С-С двухвалентный циклоалкиленовый радикал.
7. Композиция по п. 1 или 2, в которой Р2 выбран из группы, состоящей из нитроцеллюлозы, ацетопропионата целлюлозы, ацетобутирата целлюлозы и (мет)акрилатных гомополимеров и сополимеров.
8. Композиция по п. 7, в которой Р2 представляет собой нитроцеллюлозу.
9. Композиция по п. 1 или 2, в которой массовое соотношение между Р1 и Р2 меньше, чем или равно 1,5.
10. Композиция по п. 1, в которой фотоинициатор выбран из группы, состоящей из α-гидроксикетонов, α-аминокетонов, ароматических кетонов, предпочтительно, связанных с водород-донорным соединением, ароматических α-дикетонов, ацилфосфиновых оксидов.
11. Композиция по п. 1, в которой содержание летучего растворителя находится в диапазоне от 30% до 90% относительно общей массы композиции.
12. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что она является прозрачной.
13. Композиция по п. 1, в которой содержание (мет)акрилатного мономера меньше, чем или равно 10% по массе относительно общей массы указанной композиции.
14. Способ дизайна и/или ухода за ногтями и/или накладными ногтями, включающий следующие стадии:
a) нанесение фотосшиваемой композиции в соответствии с изобретением, как определено в любом из пп. 1-13, на ногти и/или накладные ногти, покрытые композицией лака или адгезивным пластичным веществом, посредством чего наносится покрывающий слой, состоящий, по меньшей мере, из одного слоя указанной фотосшиваемой композиции, и
b) воздействие на ноготь или накладной ноготь с покрывающим слоем, полученный на стадии а), УФ излучения или излучения видимого света, в результате чего осуществляется фотосшивание фотосшиваемого соединения Р1 в указанной композиции.
15. Способ по п. 14, в котором толщина покрывающего слоя фотосшиваемой композиции, нанесенной на стадии а), меньше, чем или равна 100 мкм.
16. Набор, содержащий:
- фотосшиваемую косметическую композицию по любому из пп. 1-13,
- абразивный материал, имеющий размер частиц больше или равный 200 мкм, предпочтительно, меньше, чем 300 мкм, предпочтительно, в пределах от 220 мкм до 280 мкм, и
- светодиодную лампу или УФ-лампу.
17. Способ дизайна и/или ухода за ногтями и/или накладными ногтями, включающий следующие стадии:
i) шлифовка поверхности ногтя или накладного ногтя абразивным материалом с размером частиц больше или равным 200 мкм, предпочтительно, меньше, чем 300 мкм, предпочтительно, в пределах от 220 мкм до 280 мкм,
ii) нанесение фотосшиваемой композиции по любому из пп. 1-13, посредством чего наносится покрывающий слой, состоящий, по меньшей мере, из одного слоя указанной фотосшиваемой композиции, и
iii) воздействие на ноготь или накладной ноготь с покрывающим слоем, полученный на стадии ii), излучением светодиодной лампы или УФ-лампы, в результате чего осуществляется фотосшивание в фотосшиваемой композиции.