ПОДЛОЖКА, СНАБЖЕННАЯ ТОНКОСЛОЙНОЙ СИСТЕМОЙ С ТЕРМИЧЕСКИМИ СВОЙСТВАМИ, СОДЕРЖАЩЕЙ ПО МЕНЬШЕЙ МЕРЕ ОДИН СЛОЙ ОКСИДА НИКЕЛЯ

x
x
1. Прозрачная подложка (30), снабженная на одной главной стороне тонкослойной системой, содержащей по меньшей мере один, и даже только один, металлический функциональный слой (140), способный отражать инфракрасное и/или солнечное излучение, в частности, на основе серебра или металлического сплава, содержащего серебро, и два просветляющих покрытия (120, 160), причем каждое из указанных просветляющих покрытий содержит по меньшей мере один диэлектрический слой (122, 126; 162, 168), и указанный функциональный слой (140) расположен между этими двумя просветляющими покрытиями (120, 160), отличающаяся тем, что по меньшей мере один слой оксида никеля NiO (135) находится ниже и в контакте с функциональным слоем (140) в направлении от указанной подложки (30), и физическая толщина указанного слоя оксида никеля NiO (135) составляет по меньшей мере 0,3 нм, или от 0,6 до 8,0 нм, или же от 1,0 до 5,0 нм.
x
2. Подложка (30) по п. 1, отличающаяся тем, что значение x в указанном слое оксида никеля NiO (135) составляет от 1,2 до 0,5 или же от 0,9 до 0,6.
x
3. Подложка (30) по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что слой на основе оксида цинка находится ниже и в контакте с указанным слоем оксида никеля NiO (135).
y
x
4. Подложка (30) по любому из пп. 1-3, отличающаяся тем, что слой оксида никеля NiO (134, 136) находится выше и в контакте и/или ниже и в контакте с указанным слоем оксида никеля NiO (135), причем слой оксида никеля, ближайший к указанному функциональному слою (140), является менее окисленным, чем другой, более удаленный, слой оксида никеля.
x
x
5. Подложка (30) по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что слой оксида никеля NiO находится на и в контакте с функциональным слоем (140), причем физическая толщина указанного слоя оксида никеля NiO составляет по меньшей мере 0,3 нм, или от 0,6 до 8,0 нм, или же от 1,0 до 5,0 нм.
6. Подложка (30) по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что металлический слой, в частности, содержащий никель и хром, находится на и в контакте с функциональным слоем (140), при этом физическая толщина указанного металлического слоя составляет по меньшей мере 0,3 нм, или от 0,6 до 8,0 нм, или же от 1,0 до 5,0 нм.
x
x
x
7. Подложка (30) по любому из пп. 1-6, отличающаяся тем, что слой оксида никеля NiO находится выше указанного функционального слоя (140) в направлении от подложки (30), причем между указанным слоем оксида никеля NiO и указанным функциональным слоем (140) находится по меньшей мере один слой или единственный слой из другого материала, при этом слой оксида никеля NiO предпочтительно имеет толщину от 0,3 до 10,0 нм, или от 0,6 до 8,0 нм, или же от 1,0 до 5,0 нм.
8. Подложка (30) по любому из пп. 1-7, отличающаяся тем, что каждое из указанных нижележащего (20) и вышележащего (60) просветляющих покрытий содержит по меньшей мере один диэлектрический слой (22, 66) на основе нитрида кремния, возможно легированный по меньшей мере одним другим элементом, таким как алюминий.
9. Остекление (100), включающее по меньшей мере одну подложку (30) по любому из пп. 1-8, возможно в сочетании с по меньшей мере одной другой подложкой.
10. Остекление (100) по п. 9, установленное как монолитное стекло, или акк стеклопакет типа однокамерного или двухкамерного стеклопакета, или как многослойное ламинированное стекло, характеризующееся тем, что по меньшей мере подложка, несущая тонкослойную систему, является изогнутой и/или закаленной.
11. Применение подложки по любому из пп. 1-8 для получения прозрачного электрода обогреваемого остекления, или электрохромного остекления, или осветительного устройства, или устройства визуализации, или фотоэлектрической панели.