РЕЛЬЕФНЫЕ МИКРОСТРУКТУРЫ ПОВЕРХНОСТИ С ОПТИЧЕСКИМИ ЭФФЕКТАМИ И СПОСОБ ИХ ПОЛУЧЕНИЯ

1. Способ изготовления элемента, имеющего по меньшей мере один участок поверхности с создающей оптический эффект рельефной микроструктурой поверхности, включающий:
создание шаблона, имеющего анизотропную микроструктуру, содержащую первые и вторые зоны с разной прозрачностью, причем в первом поперечном направлении шаблона на каждые 20 мкм имеется, предпочтительно в среднем, по меньшей мере один переход от первой зоны ко второй зоне, или наоборот, а во втором поперечном направлении шаблона, перпендикулярном первому поперечному направлению, на каждые 200 мкм имеется в среднем по меньшей мере один переход от первой зоны ко второй зоне, или наоборот, и в первом поперечном направлении поперечное расположение переходов является непериодическим;
получение с помощью шаблона рельефной микроструктуры в поверхности смолы или фоторезиста (49; 55; 60; 66) с формированием возвышений (13), соответствующих первым зонам шаблона, и углублений (14), соответствующих вторым зонам шаблона, причем возвышения (13) в основном находятся на уровне верхних плато (15; 51) рельефа, а углубления (14) в основном находятся на уровне нижних плато (16; 52) рельефа, так что глубина модуляции рельефа, по существу, одинакова по всему участку поверхности.
2. Способ по п.1, в котором микроструктуру первых и вторых зон с разной прозрачностью шаблона создают путем
нанесения на слой (42) материала шаблона пленки (43) с топологически упорядоченной рифленой структурой поверхности;
уменьшения толщины пленки (43), пока не будет полностью удален материал пленки в нижних зонах рифленой поверхности и не откроются части (44) нижележащего материала шаблона;
удаления открывшихся частей (44) шаблона.
3. Способ по п.2, в котором топологически упорядоченную рифленую структуру поверхности получают приготовлением смеси по меньшей мере двух материалов, из которых по меньшей мере один материал является сшиваемым, а по меньшей мере один другой материал - несшиваемым, нанесением смеси на слой материала шаблона, сшиванием по меньшей мере значительной части сшиваемого материала и удалением по меньшей мере значительной части несшиваемого материала.
4. Способ по любому из пп.1-3, предназначенный для изготовления элемента по любому из пп.7-15.
5. Элемент, полученный способом по любому из пп.1-3.
6. Элемент по п.5, отличающийся тем, что на рельефную микроструктуру поверхности нанесен слой металла.
7. Элемент, имеющий по меньшей мере один участок поверхности с создающей оптический эффект рельефной микроструктурой (12) поверхности, причем рельефная микроструктура имеет модуляцию поверхности, состоящую из переходов от возвышений (13) к углублениям (14) и от углублений (14) к возвышениям (13), отличающийся тем, что в первом поперечном направлении участка поверхности на каждые 20 мкм имеется по меньшей мере один переход от возвышения (13) к углублению (14), или наоборот, а во втором поперечном направлении участка поверхности, перпендикулярном первому поперечному направлению, на каждые 200 мкм имеется в среднем по меньшей мере один переход от возвышения к углублению, или наоборот, причем:
по меньшей мере в первом поперечном направлении поперечное расположение переходов является непериодическим,
возвышения (13) в основном находятся на уровне верхних плато (15; 51) рельефа, а углубления (14) в основном находятся на уровне нижних плато (16; 52) рельефа, так что глубина модуляции рельефа, по существу, одинакова по участку поверхности; и
рельефная микроструктура (12) поверхности является анизотропной.
8. Элемент по п.7, отличающийся тем, что он имеет характеристическое отношение рельефа поверхности, которое больше 1,1 и меньше 50.
9. Элемент по п.7, отличающийся тем, что рельефная микроструктура поверхности по меньшей мере в направлении, перпендикулярном оси анизотропии, имеет усредненную одномерную автокорреляционную функцию AC(x) с огибающей (31), которая затухает до уровня 10% от значения AC при x=0 в пределах некоторой длины (L) автокорреляции, причем длина (L) автокорреляции меньше двукратного среднего расстояния в поперечном направлении между соседними переходами между возвышениями (13) и углублениями (14).
10. Элемент по п.7, отличающийся тем, что он имеет коэффициент заполнения рельефа поверхности от 0,2 до 0,8.
11. Элемент по п.7, отличающийся тем, что гистограмма высот на рельефной микроструктуре поверхности имеет четко выраженные первый и второй пики, так что может быть определена функция качества, имеющая вид
1
2
где Δx - ширина первого пика и Δx - ширина второго пика, измеренные на уровне 1/e от полной высоты пика, и d - расстояние между двумя пиками, причем функция М качества больше двух.
12. Элемент по п.7, отличающийся тем, что он имеет узор из множества участков поверхности с создающими оптический эффект рельефными микроструктурами поверхности.
13. Элемент по п.12, отличающийся тем, что узор включает в себя по меньшей мере два типа участков поверхности с анизотропными рельефными микроструктурами поверхности, которые имеют различную ориентацию направлений анизотропии.
14. Элемент по п.12, отличающийся тем, что узор включает в себя по меньшей мере два типа участков поверхности с рельефными микроструктурами поверхности, которые имеют различную глубину оптической модуляции.
15. Элемент по любому из пп.7-14, отличающийся тем, что на рельефную микроструктуру поверхности нанесен слой металла.
16. Способ изготовления копии рельефной микроструктуры поверхности с использованием элемента по любому из пп.5-15 в качестве мастер-матрицы.
17. Элемент, имеющий рельефную микроструктуру поверхности, полученную способом по п.16.
18. Защитное устройство, содержащее элемент, имеющий по меньшей мере один участок поверхности с создающей оптический эффект рельефной микроструктурой поверхности и выполненный по любому из пп.5-15 или 17.