КРЕМНИЕВЫЙ ТОНКОПЛЕНОЧНЫЙ СОЛНЕЧНЫЙ ЭЛЕМЕНТ, ИМЕЮЩИЙ УСОВЕРШЕНСТВОВАННОЕ ПОДСТИЛАЮЩЕЕ ПОКРЫТИЕ

1. Кремниевый тонкопленочный солнечный элемент, включающий:
подложку;
подстилающее покрытие, сформированное поверх по меньшей мере части подложки, включающее:
первый слой, содержащий оксид олова или диоксид титана; и
второй слой, содержащий однородную или неоднородную по составу смесь оксидов, содержащую оксиды по меньшей мере двух элементов из Sn, P, Si, Ti, Al и Zr; и
проводящее покрытие, сформированное поверх по меньшей мере части подстилающего покрытия, где проводящее покрытие содержит оксиды одного или нескольких элементов из Zn, Fe, Mn, Al, Се, Sn, Sb, Hf, Zr, Ni, Zn. Bi, Ti, Co, Cr, Si или In, или сплав из двух или более из этих материалов.
2. Солнечный элемент по п.1, в котором подложка является стеклом.
3. Солнечный элемент по п.1, в котором первый слой имеет толщину в диапазоне от 10 нм до 25 нм.
4. Солнечный элемент по п.1, в котором второй слой содержит оксиды Ti, Si и Р.
5. Солнечный элемент по п.1, в котором второй слой содержит оксиды Sn, Si и Р.
6. Солнечный элемент по п.1, в котором второй слой содержит 30-80 об.% диоксида кремния, 1-15 об.% оксида фосфора, и 5-69 об.% диоксида титана и имеет толщину в диапазоне от 10 нм до 120 нм.
7. Солнечный элемент по п.1, в котором второй слой имеет толщину в диапазоне от 20 нм до 40 нм.
8. Солнечный элемент по п.1, в котором проводящее покрытие содержит по меньшей мере одно легирующее вещество, выбранное из F, In, Al, Р и Sb.
9. Солнечный элемент по п.8, в котором проводящее покрытие содержит оксид олова, легированный фтором.
10. Солнечный элемент по п.1, в котором подложка является стеклом, первый слой содержит оксид олова с толщиной в диапазоне от 10 нм до 25 нм; второй слой содержит смесь диоксида кремния, оксида олова и оксида фосфора с толщиной в диапазоне от 20 нм до 40 нм с содержанием оксида олова в диапазоне от 1 мол.% до 40 мол.%; а проводящее покрытие содержит оксид олова, легированный фтором, с толщиной более 470 нм.
11. Солнечный элемент по п.1, в котором подложка является стеклом, первый слой содержит диоксид титана с толщиной в диапазоне от 10 нм до 15 нм; второй слой содержит смесь диоксида кремния, диоксида титана и оксида фосфора с толщиной в диапазоне от 20 нм до 40 нм с содержанием диоксида титана менее 25 мол.%; а проводящее покрытие содержит оксид олова, легированный фтором, с толщиной более 470 нм.
12. Изделие с покрытием, содержащее:
подложку;
диэлектрический слой, содержащий смесь оксидов, содержащую оксиды по меньшей мере двух элементов из Sn, P, Si, и Ti, где диэлектрический слой является градиентным слоем; и
проводящий слой над диэлектрическим покрытием, содержащий оксид олова, легированный фтором.
13. Изделие по п.12, в котором диэлектрический слой содержит диоксид кремния, диоксид титана, и оксид фосфора.
14. Изделие по п.12, в котором диэлектрический слой содержит диоксид кремния, оксид олова и оксид фосфора.