СПОСОБ МАРКИРОВКИ ПРЕДШЕСТВЕННИКА РЕЛЬЕФА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ РЕЛЬЕФНОЙ СТРУКТУРЫ

1. Способ маркировки предшественника рельефа или рельефа, содержащего носитель и рельефообразующий слой, имеющий стадии:
а) предоставление предшественника рельефа, содержащего носитель и рельефообразующий слой;
b) предоставление данных, которые маркируют тип предшественника рельефа или рельефа и содержат относящиеся к процессу параметры для его обработки, в виде по меньшей мере одного двумерного кода;
с) введение по меньшей мере одного двумерного кода в качестве рельефа в рельефообразующий слой.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что рельефообразующий слой представляет собой пригодный для гравировки слой, и на стадии с) двумерный код вводят в рельефообразующий слой в виде рельефа посредством метода, заключающегося в удалении материала.
3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что рельефообразующий слой представляет собой фоточувствительный слой, и на стадии с) двумерный код вводится в рельефообразующий слой посредством непосредственного экспонирования пучком, несущим изображение, и последующего удаления либо экспонированных, либо неэкспонированных областей рельефообразующего слоя.
4. Способ по п. 1, отличающийся тем, что рельефообразующий слой представляет собой фотополимеризуемый слой, на который наносят маскирующий слой, пригодный для создания изображения, и стадия c) включает следующие стадии:
ca) создание изображения в маскирующем слое, пригодным для создания изображения, причем двумерный код записывают в маскирующий слой,
cb) экспонирование фотополимеризуемого рельефобразующего слоя электромагнитным излучением через сформированную маску;
cc) удаление остатков маски, пригодной для создания изображения, и неэкспонированных, нефотополимеризованных частей фотополимеризуемого рельефобразующего слоя.
5. Способ по п. 1, отличающийся тем, что по меньшей мере один двумерный код представляем собой штрих-код, DatenMatrix-код, QR-код или Dot-код.
6. Способ по одному из пп. 1-5, отличающийся тем, что вводят два или более разных кода для разных стадии процесса.
7. Способ получения рельефа, исходя из предшественника рельефа, содержащего по меньшей мере один носитель, один рельефообразующий слой, а также один маскирующий слой, имеющий следующие технологические стадии:
(A) предоставление предшественника рельефа;
(B) предоставление данных, которые маркируют тип предшественника рельефа и/или содержат параметры процесса для его обработки;
(C) создание изображения в маскирующем слое, в результате чего формируется маска;
(D) экспонирование снабженного изображением предшественника рельефа электромагнитным излучением через сформированную маску;
(E) удаление остатков пригодного для создания изображения маскирующего слоя и экспонированных или неэкспонированных областей рельефообразующего слоя;
(F) при необходимости дополнительная обработка полученного рельефа;
(G) при необходимости экспонирование обратной стороны предшественника рельефа или рельефа электромагнитным излучением, по выбору между стадиями (B) и (C), (C) и (D) или (D) и (E);
отличающийся тем, что данные, которые маркируют тип предшественника рельефа и/или содержат параметры процесса для его обработки, на стадии (C) записывают в маскирующий слой в виде двумерного кода, а после стадии (C) данные, содержащиеся в коде, считывают для регулирования одной или нескольких из стадий (D), (E), (F) и (G).
8. Способ по п. 7, отличающийся тем, что данные, содержащиеся в коде, регулируют одну или несколько из стадий (D), (E), (F) и (G), относительно одного или нескольких из следующих параметров процесса:
(i) интенсивность и/или продолжительность экспонирования на стадии (D);
(ii) длина волны на стадии (D);
(iii) температура проявления и/или продолжительность проявления на стадии (E);
(iv) температура и/или время обработки на стадии (F);
(v) интенсивность и/или время экспонирования на стадии (G);
(vi) длина волны электромагнитного излучения на стадии (G);
(vii) скорость перемещения предшественника рельефа или рельефа при прохождении одной или нескольких из стадий способа (D)-(G).
9. Способ получения рельефа, исходя из предшественника рельефа, содержащего по меньшей мере один носитель и один фоточувствительный, рельефообразующий слой, имеющий следующие технологические стадии:
(A) предоставление предшественника рельефа;
(B) предоставление данных, которые маркируют тип предшественника рельефа и/или содержат параметры процесса для его обработки;
(C) непосредственное экспонирование пучком, несущим изображение, предшественника рельефа;
(D) удаление экспонированных или неэкспонированных областей рельефообразующего слоя;
(E) при необходимости дополнительная обработка полученного рельефа;
(F) при необходимости экспонирование обратной стороны предшественника рельефа или рельефа электромагнитным излучением, по выбору между стадиями (B) и (C), или (C) и (D);
отличающийся тем, что данные, которые маркируют тип предшественника рельефа и/или указывают на параметры процесса для его обработки, на стадии (C) при помощи непосредственного экспонирования записывают в рельефообразующий слой в виде двумерного кода, а после стадии (C) данные, содержащиеся в коде, считывают для регулирования одной или нескольких из стадий (D), (E) и (F).
10. Способ по п. 9, отличающийся тем, что данные, содержащиеся в коде, регулируют одну или несколько из стадий (D), (E) и (F) относительно одного или нескольких из следующих параметров процесса:
(i) температура проявления и/или продолжительность проявления на стадии (D);
(ii) температура и/или время проявления на стадии (Е);
(iii) интенсивность и/или время экспонирования на стадии (F);
(iv) длина волны электромагнитного излучения на стадии (F);
(v) скорость перемещения предшественника рельефа или рельефа при прохождении одной или нескольких из стадий способа (D) - (F).
11. Способ получения рельефа, исходя из предшественника рельефа, содержащего по меньшей мере один носитель и один рельефообразующий, пригодный к гравировке слой, имеющий следующие технологические стадии:
(A) предоставление предшественника рельефа;
(B) предоставление данных, которые маркируют тип предшественника рельефа и/или содержат параметры процесса для его обработки;
(C) при необходимости экспонирование всей поверхности или термическая обработка предшественника рельефа;
(D) записывание трехмерного рельефа в рельефообразующий слой посредством методов, заключающихся в удалении материала;
(E) при необходимости удаление остатков с рельефной поверхности;
(F) при необходимости дополнительная обработка полученного рельефа;
(G) при необходимости дополнительное экспонирование полученного рельефа с помощью электромагнитного излучения;
отличающийся тем, что данные, которые маркируют тип предшественника рельефа и/или содержат параметры процесса для его обработки, на стадии (D) при помощи гравировки лазером записывают в рельефообразующий слой в виде двумерного кода, а после стадии (D) данные, содержащиеся в коде, считывают для регулирования одной или нескольких из стадий (E), (F) и (G).
12. Способ по п. 11, отличающийся тем, что данные, содержащиеся в коде, регулируют одну или несколько из стадий (E), (F) и (G), относительно одного или нескольких из следующих параметров процесса:
(i) продолжительность и/или температура на стадии (Е);
(ii) повышенное или пониженное давление на стадии (Е);
(iii) температура и/или продолжительность на стадии (F);
(iv) интенсивность и/или время экспонирования на стадии (G);
(v) длина волны электромагнитного излучения на стадии (G);
(vi) скорость перемещения рельефа при прохождении одной или нескольких из стадий способа (E)-(G).
13. Способ по пп. 1, 7, 9 или 11, отличающийся тем, что считывание данных, содержащихся в коде, осуществляют бесконтактным способом.
14. Способ по пп. 1, 7, 9 или 11, отличающийся тем, что данные, содержащиеся в коде, маркируют тип предшественника рельефа, а сопутствующие параметры процесса считывают из базы данных.
15. Рельефная структура с кодом, получаемая согласно способу по одному из пп. 1-14.
16. Применение рельефной структуры по п. 15 в качестве печатной формы для глубокой печати, формы для тампонной печати, флексографской печатной формы, типографской книжной формы, микрофлюидного стуктурного элемента, в качестве микрореактора, в качестве форетической ячейки, в качестве элемента управления светом для цветного дисплея, в качестве фотонного кристалла или в качестве гибких частей предметов одежды.