УСТАНОВКА ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ И СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ

1. Установка (1) для осаждения вещества (SB) на поверхность (ST1) подложки (ST), содержащая источник (20) осаждения и маску (30) для осаждения, установленную между источником (20) осаждения и указанной поверхностью осаждения,
причем маска (30) для осаждения имеет первую поверхность (38), обращенную к источнику осаждения, и вторую поверхность (39), обращенную к поверхности (ST1) подложки,
маска (30) для осаждения имеет пространственную структуру, заданную по меньшей мере одним закрытым участком (34) и по меньшей мере одним перфорированным участком (36), заданным множеством сквозных отверстий (37), и
при этом предусмотрен держатель (10, 70, 72) подложки для поддержки подложки с ее поверхностью (ST1) на расстоянии (D) от второй поверхности (39) маски так, что при работе установки вещество осаждается согласно пространственной структуре, которая соответствует пространственной структуре, заданной по меньшей мере одним закрытым участком и по меньшей мере одним перфорированным участком маски для осаждения, с тем, что:
указанный по меньшей мере один закрытый участок соответствует по меньшей мере первому участку на первой поверхности подложки, который имеет одинаковую форму с указанным по меньшей мере одним закрытым участком маски для осаждения, и
указанный по меньшей мере один перфорированный участок соответствует по меньшей мере второму участку на первой поверхности подложки, который имеет одинаковую форму с указанным по меньшей мере одним перфорированным участком маски для осаждения,
при этом осажденный слой в указанном по меньшей мере втором участке является по существу однородным;
причем установка для осаждения содержит приспособления (42, 48, 52, 54) для перемещения подложки (ST) вдоль указанного держателя (10, 70, 72) подложки, и
отличается тем, что
маска (30) для осаждения выполнена в виде цилиндрического корпуса, а источник (20) осаждения установлен внутри цилиндрического корпуса;
установка для осаждения содержит привод (56) для вращения цилиндрического корпуса с определенной угловой скоростью,
причем приспособления (42, 48, 52, 54) для перемещения выполнены для перемещения подложки (ST) с ее поверхностью (ST1) по цилиндрической траектории и по меньшей мере по существу соосно со второй поверхностью (39) маски, и
при перемещении по указанной цилиндрической траектории подложка движется с такой же угловой скоростью вдоль поверхности осаждения.
2. Установка для осаждения по п. 1, в которой держатель подложки образован парой опорных роликов (70, 72), расположенных на соответствующих боковых поверхностях маски для осаждения, а их наружный диаметр превышает наружный диаметр маски для осаждения.
3. Установка для осаждения по п. 2, в которой
держатель подложки дополнительно содержит один, два или более дополнительных опорных роликов (70a,…,70n), а
подложка (ST) выполнена с возможностью направления по одной из боковых сторон между опорным роликом (70) и связанными с ним дополнительными опорными роликами (70a,…,70n).
4. Установка для осаждения по п. 3, в которой по меньшей мере один из указанных одного, двух или более дополнительных опорных роликов (70a,…,70n) оказывает давление на подложку (ST) в направлении опорного ролика (70).
5. Установка для осаждения по п. 3 или 4, в которой каждый из опорных роликов (70; 72) имеет комплект из одного, двух или более дополнительных опорных роликов (70a,…,70n; 72a,…,72n).
6. Установка для осаждения по п. 4 или 5, в которой опорные ролики (70; 72) совместно используют в работе комплект из одного, двух или более дополнительных опорных роликов (70a,…,70n).
7. Установка для осаждения по одному из предыдущих пунктов, в которой держатель подложки также содержит дополнительный опорный ремень (70a,…,70n), а
подложка (ST) направляется по одной из его боковых сторон между опорным роликом (70,72) и связанным с ним дополнительным опорным ремнем (76,77).
8. Установка для осаждения по п. 7, в которой дополнительный опорный ремень (76, 77) оказывает давление на подложку (ST) в направлении опорного ролика (70,72).
9. Установка для осаждения по п. 7 или 8, в которой каждый из опорных роликов (70, 72) имеет соответствующий дополнительный опорный ремень (76, 77).
10. Установка для осаждения по п. 7 или 8, в которых опорные ролики (70; 72) совместно используют в работе дополнительный опорный ремень (76).
11. Установка для осаждения по любому из пунктов 3-10, в которой опорные ролики (70, 72) имеют ось вращения, направленную с отклонением от оси вращения маски (30) для осаждения,
причем отклонение опорного ролика (70) с левой стороны подложки, если смотреть в направлении перемещения, направлено против часовой стрелки, а
отклонение опорного ролика (72) с правой стороны подложки, если смотреть в направлении перемещения, направлено по часовой стрелке.
12. Установка для осаждения по одному из предыдущих пунктов, в которой сквозные отверстия (37) расширяются в направлении от второй поверхности (39) маски к первой поверхности (38) маски.
13. Установка для осаждения по одному из предыдущих пунктов, в которой сквозные отверстия (37) расширяются в направлении от первой поверхности (38) маски ко второй поверхности (39) маски.
14. Способ осаждения вещества (SB) на поверхность (ST1) подложки (ST), включающий
обеспечение вещества (SB);
обеспечение возможности прохождения вещества через маску (30) для осаждения в направлении от первой поверхности (38) указанной маски (30) для осаждения ко второй поверхности (39) указанной маски (30) для его осаждения на поверхность (ST1) подложки, обращенную ко второй поверхности (39) маски;
причем маска (30) для осаждения имеет пространственную структуру, заданную по меньшей мере одним закрытым участком (34) и по меньшей мере одним перфорированным участком (36), заданным множеством сквозных отверстий (37);
поддержку подложки с ее поверхностью (ST1) на расстоянии от второй поверхности (39) маски таким образом, что вещество осаждается на поверхность подложки согласно пространственной структуре, которая соответствует пространственной структуре, заданной по меньшей мере одним закрытым участком и по меньшей мере одним перфорированным участком маски для осаждения, с тем, что:
указанный по меньшей мере один закрытый участок соответствует по меньшей мере первому участку на первой поверхности подложки, который  имеет одинаковую форму с указанным по меньшей мере одним закрытым участком маски для осаждения, и
указанный по меньшей мере один перфорированный участок соответствует по меньшей мере второму участку на первой поверхности подложки, который  имеет одинаковую форму с указанным по меньшей мере одним перфорированным участком маски для осаждения,
при этом осажденный слой в указанном по меньшей мере втором участке является по существу однородным; и перемещение подложки (ST) по держателю (10, 70,72) подложки;
отличающийся тем, что маска (30) для осаждения выполнена в виде цилиндрического корпуса, а источник (20) осаждения установлен внутри цилиндрического корпуса
при этом способ дополнительно включает
вращение цилиндрического корпуса с определенной угловой скоростью и перемещение подложки (ST) с ее поверхностью (ST1) по цилиндрической траектории и по меньшей мере по существу соосно со второй поверхностью (39) маски, причем при перемещении по указанной цилиндрической траектории подложка движется с такой же угловой скоростью вдоль поверхности осаждения.