ЭЛЕМЕНТ ЗАЩИТЫ ДЛЯ ЗАЩИЩЕННОГО ДОКУМЕНТА И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

1. Элемент защиты (1, 1, 1") с, по меньшей мере, одним, прозрачным, по меньшей мере, на отдельных участках структурным слоем (1a, 1a'), с расположенной, по меньшей мере, на отдельных участках первой дифракционной рельефной структурой (10а) и с расположенной, по меньшей мере, на отдельных участках второй дифракционной рельефной структурой (10b), причем первая и вторая рельефные структуры (10а, 10b) отличаются, по меньшей мере, на отдельных участках и, если смотреть параллельно плоскости структурного слоя (1a, 1a'), расположены на разных уровнях элемента защиты (1, 1', 1"), причем первая рельефная структура (10а) граничит с первым отражающим слоем (11) по первому контуру, а вторая рельефная структура (10b) граничит со вторым отражающим слоем (12) по второму контуру, отличающийся тем, что первый отражающий слой (11) и второй отражающий слой (12), если смотреть перпендикулярно плоскости структурного слоя (1a, 1a'), выполнены на отдельных участках и перекрываются, по меньшей мере, на отдельных участках, причем, по меньшей мере, отдельные области первого и второго контуров, если смотреть перпендикулярно плоскости структурного слоя (1a, 1a'), являются конгруэнтными друг другу и примыкают к, по меньшей мере, одной прозрачной области структурного слоя (1a, 1a'), причем, если к наблюдателю обращен первый отражающий слой (11), то вторая информация (51), генерируемая второй рельефной структурой (10b) в зоне перекрывания, по меньшей мере, частично скрыта, и если к наблюдателю обращен второй отражающий слой (11'), то скрыта, по меньшей мере, частично первая информация (50), генерируемая первой рельефной структурой (10а) в зоне перекрывания.
2. Элемент защиты по п.1, отличающийся тем, что первая и вторая информации (50, 51) отличаются друг от друга, по меньшей мере, на отдельных участках.
3. Элемент защиты по п.1, отличающийся тем, что первый отражающий слой (11) выполнен непрозрачным и, будучи обращен к наблюдателю, по меньшей мере, на отдельных участках скрывает вторую информацию (51) и при необходимости дополнительную информацию, генерируемую второй рельефной структурой (10b), или первый отражающий слой (11) выполнен прозрачным, и, по меньшей мере, один первый непрозрачный вспомогательный слой, по меньшей мере, на отдельных участках скрывает вторую информацию (51) и при необходимости дополнительную информацию, генерируемую второй рельефной структурой (10b).
4. Элемент защиты по п.1, отличающийся тем, что второй отражающий слой (12) выполнен непрозрачным и, будучи обращен к наблюдателю, по меньшей мере, на отдельных участках скрывает первую информацию (50) и при необходимости дополнительную информацию, генерируемую первой рельефной структурой (10а), или второй отражающий слой (12) выполнен прозрачным, а, по меньшей мере, один второй непрозрачный вспомогательный слой, по меньшей мере, на отдельных участках скрывает первую информацию (50) и при необходимости дополнительную информацию, генерируемую первой рельефной структурой (10а).
5. Элемент защиты по п.3 или 4, отличающийся тем, что первая/вторая информация (50, 51) и при необходимости дополнительная генерированная информация скрыты полностью.
6. Элемент защиты по п.1, отличающийся тем, что структурный слой (1a, 1a') на первой стороне имеет первую дифракционную рельефную структуру (10а), а на второй стороне вторую дифракционную рельефную структуру (10b), причем первая сторона граничит с первым отражающим слоем (11), а вторая сторона граничит со вторым отражающим слоем (12).
7. Элемент защиты по п.1 или 6, отличающийся тем, что первый и второй отражающие слои (11, 12), если смотреть перпендикулярно плоскости структурного слоя (1a, 1a'), выполнены преимущественно или полностью конгруэнтными друг другу.
8. Элемент защиты по п.1, отличающийся тем, что первый отражающий слой (11), будучи обращен к наблюдателю, образует вид спереди, по меньшей мере, одного изобразительного мотива (100), причем вид спереди показывает первую информацию (50), генерируемую первой рельефной структурой (10а), и второй отражающий слой (12), будучи обращен к наблюдателю, образует вид сзади, по меньшей мере, одного изобразительного мотива (100), причем вид сзади показывает вторую информацию (51), генерируемую второй рельефной структурой (10b).
9. Элемент защиты по п.8, отличающийся тем, что, по меньшей мере, один изобразительный мотив (100) состоит из элементов (100а, 100с) изображения, не прозрачных, по меньшей мере, в отраженном свете, и прозрачных элементов (100b) изображения, причем не прозрачные, по меньшей мере, в отраженном свете элементы (100a) изображения вида спереди образованы первым отражающим слоем (11) и при необходимости, по меньшей мере, одним первым непрозрачным вспомогательным слоем, причем не прозрачные, по меньшей мере, в отраженном свете элементы изображения (100с) вида сзади образованы вторым отражающим слоем (12) и при необходимости, по меньшей мере, одним вторым непрозрачным вспомогательным слоем, а прозрачные элементы (100b) изображения образованы прозрачными зонами, по меньшей мере, одного структурного слоя (1a, 1a') при необходимости в комбинации с, по меньшей мере, одним следующим прозрачным слоем (1b, 20).
10. Элемент защиты по п.8 или 9, отличающийся тем, что, по меньшей мере, один изобразительный мотив (100) является узорным изображением, портретом, буквенно-цифровыми знаками, текстом, графическим рисунком, символом или логотипом.
11. Элемент защиты по п.3 или 4, отличающийся тем, что, по меньшей мере, один первый непрозрачный вспомогательный слой и/или, по меньшей мере, один второй непрозрачный вспомогательный слой образованы, по меньшей мере, одним металлическим слоем, и/или, по меньшей мере, одним слоем печатной краски, и/или, по меньшей мере, одним непрозрачным окрашенным слоем лака и/или непрозрачными областями структурного слоя (1а').
12. Элемент защиты по п.1, отличающийся тем, что первый и/или второй отражающие слои (11, 12) образованы, по меньшей мере, одним металлическим слоем и/или, по меньшей мере, одним диэлектрическим слоем.
13. Элемент защиты по п.1 или 12, отличающийся тем, что первый и второй отражающие слои (11, 12) различаются материалом и/или цветом.
14. Элемент защиты по п.1, отличающийся тем, что структурный слой (1a, 1a') имеет толщину от 0,2 до 15 мкм, в частности от 0,3 до 3 мкм.
15. Элемент защиты по п.1, отличающийся тем, что структурный слой (1а) является в целом прозрачным.
16. Элемент защиты по п.1, отличающийся тем, что элемент защиты, если смотреть в проходящем свете, в области, по меньшей мере, одного из отражающих слоев (11, 12) содержит зоны с ощутимо разным пропусканием, которые показывают дополнительную информацию.
17. Защищенный документ, по меньшей мере, с одним элементом защиты (1, 1', 1") по одному из пп.1-16, отличающийся тем, что, по меньшей мере, один элемент защиты (1, 1', 1") расположен в, по меньшей мере, одной прозрачной области защищенного документа (500, 500') или частично перекрывает ее.
18. Защищенный документ по п.17, отличающийся тем, что защищенный документ (500) содержит просвечивающую или непрозрачную подложку (501) и, по меньшей мере, в одной прозрачной области подложки (501) имеется окошко (502).
19. Защищенный документ по п.17, отличающийся тем, что защищенный документ (500') содержит прозрачную подложку (501') и, по меньшей мере, один элемент защиты (1, 1', 1") расположен на подложке (501') или введен в нее.
20. Защищенный документ по одному из пп.17-19, отличающийся тем, что защищенный документ (500, 500') имеет, по меньшей мере, один прозрачный защитный слой (503, 504).
21. Защищенный документ по п.20, отличающийся тем, что защищенный документ имеет два прозрачных защитных слоя (503, 504), между которыми находятся, по меньшей мере, подложка (501, 501') и, по меньшей мере, один элемент защиты (1, 1', 1").
22. Защищенный документ по п.17, отличающийся тем, что защищенный документ (500, 500') является удостоверением, паспортом, сертификатом, банковской картой, кредитной картой, телефонной картой, банкнотой, водительскими правами или визой.
23. Способ изготовления элемента защиты (1) по одному из пп.1-16, отличающийся следующими этапами:
a) подготовка первого прозрачного репликаторного слоя (1b);
b) образование дифракционной основной рельефной структуры (10) на первой поверхности первого репликаторного слоя (1b);
c) образование выполненного на отдельных участках первого отражающего слоя (11), кроме того, при необходимости, по меньшей мере, одного выполненного на отдельных участках первого непрозрачного вспомогательного слоя на первой поверхности;
d) образование структурного слоя (1а), прозрачного, по меньшей мере, на отдельных участках, посредством второго репликаторного слоя, который расположен на первом отражающем слое (11) и при необходимости на, по меньшей мере, одном первом непрозрачном вспомогательном слое и свободных от него областях первой поверхности;
e) образование второй дифракционной рельефной структуры (10b) на второй стороне структурного слоя (1а) и
f) образование выполненного на отдельных участках второго отражающего слоя (12) на второй стороне структурного слоя (1а) толщиной, при которой вторая рельефная структура (10b) формируется на стороне второго отражающего слоя (12), противоположной структурному слою (1a).
24. Способ по п.23, отличающийся тем, что первый отражающий слой и/или второй отражающий слой выполняют непрозрачными.
25. Способ по п.п.23 или 24, отличающийся тем, что первый и/или второй отражающий слой выполняют прозрачными, и если смотреть перпендикулярно плоскости структурного слоя, то, по меньшей мере, один непрозрачный вспомогательный слой располагают конгруэнтно прозрачному отражающему слою (слоям).
26. Способ по п.23, отличающийся тем, что, по меньшей мере, один непрозрачный вспомогательный слой образуют тем, что структурный слой частично экспонируют, и содержащийся в структурном слое прозрачный краситель превращается в засвеченных зонах в непрозрачный цветной краситель.
27. Способ по п.23, отличающийся тем, что первую и вторую рельефные структуры (10a, 10b) образуют одновременно путем тиснения.
28. Способ по п.23, отличающийся тем, что рельефные структуры (10, 10а, 10b) образуют тиснением, в частности термической репликацией или УФ-репликацией.
29. Способ по п.23, отличающийся тем, что на этапе с) или этапе i) первый отражающий слой (11) наносят по всей поверхности, на первый отражающий слой (11) по всей поверхности наносят первый фоторезистивный слой, первый фоторезистивный слой частично экспонируют и удаляют, первый отражающий слой (11) удаляют травлением в областях, с которых был удален первый фоторезистивный слой, и тем, что при необходимости удаляют оставшиеся участки первого фоторезистивного слоя или используют их как первый непрозрачный вспомогательный слой.
30. Способ по п.29, отличающийся тем, что экспонирование первого фоторезистивного слоя проводят сквозь первый отражающий слой (11), причем частичное экспонирование первого фоторезистивного слоя осуществляют в зависимости от формы и/или расположения первой рельефной структуры (10а).
31. Способ по п.23, отличающийся тем, что на этапе f) или этапе k) второй отражающий слой (12) наносят по всей поверхности, на второй отражающий слой (12) по всей поверхности наносят второй фоторезистивный слой, второй фоторезистивный слой частично экспонируют и удаляют, второй отражающий слой (12) удаляют травлением в зонах, с которых был удален второй фоторезистивный слой, и при необходимости удаляют оставшиеся участки второго фоторезистивного слоя.
32. Способ по п.31, отличающийся тем, что экспонирование второго фоторезистивного слоя проводят сквозь первый и второй отражающие слои (11, 12), причем частичное экспонирование второго фоторезистивного слоя осуществляют в зависимости от формы и/или расположения первой рельефной структуры (10а) и/или второй рельефной структуры (10b).
33. Способ изготовления элемента защиты (1') по одному из пп.1-16, отличающийся следующими этапами:
g) подготовка прозрачного структурного слоя (1a, 1a');
h) образование первой дифракционной рельефной структуры (10а) на первой стороне и второй дифракционной рельефной структуры (10b) на второй стороне структурного слоя (1a, 1a');
i) образование выполненного, по меньшей мере, на отдельных участках первого отражающего слоя (11) и при необходимости, по меньшей мере, одного первого непрозрачного вспомогательного слоя на первой стороне структурного слоя (1a, 1a'); и
k) образование выполненного, по меньшей мере, на отдельных участках второго отражающего слоя (12) и при необходимости, по меньшей мере, одного второго непрозрачного вспомогательного слоя на второй стороне структурного слоя (1a, 1a').
34. Способ по п.33, отличающийся тем, что, по меньшей мере, один непрозрачный вспомогательный слой образуют тем, что структурный слой частично экспонируют, и содержащийся в структурном слое прозрачный краситель превращается в засвеченных зонах в непрозрачный цветной краситель.
35. Способ по п.33, отличающийся тем, что первую и вторую рельефные структуры (10а, 10b) образуют одновременно путем тиснения.
36. Способ по п.33, отличающийся тем, что рельефные структуры (10, 10а, 10b) образуют тиснением, в частности термической репликацией или УФ-репликацией.
37. Способ по п.33, отличающийся тем, что на этапе с) или этапе i) первый отражающий слой (11) наносят по всей поверхности, на первый отражающий слой (11) по всей поверхности наносят первый фоторезистивный слой, первый фоторезистивный слой частично экспонируют и удаляют, первый отражающий слой (11) удаляют травлением в областях, с которых был удален первый фоторезистивный слой, и тем, что при необходимости удаляют оставшиеся участки первого фоторезистивного слоя или используют их как первый непрозрачный вспомогательный слой.
38. Способ по п.37, отличающийся тем, что экспонирование первого фоторезистивного слоя проводят сквозь первый отражающий слой (11), причем частичное экспонирование первого фоторезистивного слоя осуществляют в зависимости от формы и/или расположения первой рельефной структуры (10а).
39. Способ по п.33, отличающийся тем, что на этапе f) или этапе k) второй отражающий слой (12) наносят по всей поверхности, на второй отражающий слой (12) по всей поверхности наносят второй фоторезистивный слой, второй фоторезистивный слой частично экспонируют и удаляют, второй отражающий слой (12) удаляют травлением в зонах, с которых был удален второй фоторезистивный слой, и при необходимости удаляют оставшиеся участки второго фоторезистивного слоя.
40. Способ по п.39, отличающийся тем, что экспонирование второго фоторезистивного слоя проводят сквозь первый и второй отражающие слои (11, 12), причем частичное экспонирование второго фоторезистивного слоя осуществляют в зависимости от формы и/или расположения первой рельефной структуры (10а) и/или второй рельефной структуры (10b).