ПЛАЗМОТРОН, УСТРОЙСТВО ДОЗИРОВАНИЯ ПЛАЗМЕННОГО МАТЕРИАЛА И СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ПЛАЗМЫ

1. Плазмотрон, содержащий корпус в котором расположены устройство подачи плазменной массы, высокочастотное излучающее устройство, низкочастотный излучатель, коаксиально расположенные изолированные конденсаторные пластины, играющие роль катода и анода, образующие емкостную камеру, переходящую в разрядную, конденсаторные пластины которой выполнены из металла, обладающего высоким значением пробивного напряжения, выход которой заканчивается не изолированными конденсаторными пластинами, имеющими форму усеченных конусов с плазменным промежутком, обеспечивающим образование плазменной дуги при заполнении промежутка плазменной массой.
2. Плазмотрон по п. 1, отличающийся тем, что между обкладками конденсатора расположен электромагнитный излучатель, энергия которого проходит через емкостную и разрядную камеры.
3. Устройство подачи плазменной массы по п. 1, отличающееся тем, что устройство, обеспечивающее через отверстия 19 подачу плазменной массы в емкостную камеру, содержит сильфон, внутренний объем которого, заполненный плазменной массой, изменяется в функции заданного давления.
4. Способ формирования плазмы, отличающийся тем, что вдоль оси распространения энергии суммарного магнитного поля происходит захват плазмы, образованной из плазменной массы путем действия на нее электрического поля, напряженность которого превышает напряжение пробоя плазменной массы.