СПОСОБ, СИСТЕМА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБРАБОТКИ ТЕКУЧИХ СРЕД

1. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
камеру для обработки текучей среды, содержащую центральную ось; и,
по меньшей мере, одну ультрафиолетовую световую головку;
в котором, по меньшей мере, одна ультрафиолетовая световая головка содержит, по меньшей мере, один эмитирующий ультрафиолетовое излучение диод и, по меньшей мере, один элемент, направляющий ультрафиолетовое излучение;
при этом, по меньшей мере, один элемент, направляющий ультрафиолетовое излучение, выполнен с возможностью коллимировать, по меньшей мере, часть (УФ)-световых лучей, эмитируемых, по меньшей мере, одним эмитирующим ультрафиолетовое излучение диодом в процессе эксплуатации таким образом, чтобы коллимированные световые лучи были параллельны в первой плоскости, совпадающей с центральной осью, или параллельны центральной оси.
2. Устройство по п. 1 в котором, по меньшей мере, один элемент, направляющий ультрафиолетовое излучение, выполнен с возможностью сводить в одной точке или рассеивать, по меньшей мере, часть (УФ)-световых лучей, эмитируемых, по меньшей мере, одной ультрафиолетовой световой головкой в процессе эксплуатации таким образом, чтобы рассеянные или сходящиеся в одной точке (УФ)-световые лучи не были параллельны во второй плоскости, перпендикулярной первой плоскости.
3. Устройство по п. 2 в котором элемент, направляющий ультрафиолетовое излучение, выполнен с возможностью сводить УФ-световые лучи в одной точке, лежащей во второй плоскости.
4. Устройство по п. 3 в котором элемент, направляющий ультрафиолетовое излучение, выполнен с возможностью сводить (УФ)-световые лучи в точке фокуса или близко к центральной оси.
5. Устройство по п. 2 в котором элемент, направляющий ультрафиолетовое излучение, выполнен с возможностью рассеивать (УФ)-световые лучи во второй плоскости.
6. Устройство по любому из предыдущих пунктов, содержащее множество ультрафиолетовых световых головок.
7. Устройство по п. 6, в котором множество ультрафиолетовых световых головок расположено по окружности или по периферии камеры для обработки текучей среды.
8. Устройство по п. 7 в котором множество ультрафиолетовых световых головок расположено радиально по окружности или по периферии камеры для обработки текучей среды.
9. Устройство по п. 6 в котором множество ультрафиолетовых световых головок расположено на расстоянии от окружности или периферии камеры для обработки текучей среды.
10. Устройство по п. 8 или 9, в котором множество ультрафиолетовых световых головок расположено в одном или нескольких кольцах или кольцевых участках по окружности или по периферии камеры для обработки текучей среды.
11. Устройство по п. 10, в котором расположенные рядом кольца ультрафиолетовых световых головок смещены с поворотом относительно друг друга на интервал, необходимый для обеспечения желательной схемы воздействия УФ-излучения на текучую среду, подлежащую обработке в процессе эксплуатации.
12. Устройство по любому из предыдущих пунктов, в котором камера для обработки текучей среды является прозрачной.
13. Устройство по п. 12, в котором, по меньшей мере, одна ультрафиолетовая световая головка расположена на внешней поверхности камеры для обработки текучей среды или вне ее.
14. Устройство по п. 13, дополнительно содержащее защитную оболочку, расположенную на внешней поверхности камеры для обработки текучей среды, в котором, по меньшей мере, одна ультрафиолетовая световая головка вмонтирована в защитную оболочку, соединена с защитной оболочкой или опирается на защитную оболочку.
15. Устройство по п. 14 в котором защитная оболочка образована из материала, который блокирует ультрафиолетовое излучение, и содержит, по меньшей мере, одно отверстие, расположенное таким образом, чтобы позволить ультрафиолетовому излучению, эмитируемому ультрафиолетовой световой головкой, проходить в камеру для обработки текучей среды в процессе эксплуатации.
16. Устройство по любому из предыдущих пунктов, в котором элемент, направляющий излучение, представляет собой рефлектор.
17. Устройство по п. 16, в котором каждый, по меньшей мере, один из эмитирующих УФ-излучение диодов расположен в фокальной точке рефлектора.
18. Устройство по п. 16 или 17, в котором центральная ось камеры для обработки текучей среды расположена в фокальной точке рефлектора или близко к ней.
19. Устройство по любому из предыдущих пунктов, в котором центральная ось образует продольную ось камеры для обработки текучей среды.
20. Устройство по любому из предыдущих пунктов, в котором центральная ось смещена относительно продольной оси камеры для обработки текучей среды на угол не более 45 градусов.
21. Устройство по любому из предыдущих пунктов, в котором камера для обработки текучей среды представляет собой трубу.
22. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
камеру для обработки текучей среды; и,
по меньшей мере, одну ультрафиолетовую световую головку;
в котором, по меньшей мере, одна ультрафиолетовая световая головка содержит, по меньшей мере, один эмитирующий ультрафиолетовое излучение диод и, по меньшей мере, один элемент, направляющий ультрафиолетовое излучение; и
при этом, по меньшей мере, один элемент, направляющий ультрафиолетовое излучение, выполнен с возможностью коллимировать, по меньшей мере, часть (УФ)-световых лучей, эмитируемых, по меньшей мере, одним эмитирующим ультрафиолетовое излучение диодом в процессе эксплуатации таким образом, чтобы ультрафиолетовые лучи, эмитируемые каждой ультрафиолетовой световой головкой, были параллельны только в первом направлении.
23. Устройство по любому из предыдущих пунктов, дополнительно содержащее один или более элементов для стимулирования в процессе эксплуатации вращательного или вихревого движения текучей среды, подлежащей обработке.
24. Устройство по любому из предыдущих пунктов, дополнительно содержащее охлаждающее устройство для регулирования температуры эмитирующего ультрафиолетовое излучение диода.
25. Устройство по п. 24, в котором охлаждающее устройство выполнено с возможностью регулируемой передачи тепла в процессе эксплуатации, по меньшей мере, от одного эмитирующего ультрафиолетовое излучение диода к текучей среде, подлежащей обработке.
26. Устройство по п. 24 или 25, в котором охлаждающее устройство содержит контур хладагента, содержащий хладагент, и в котором:
первая часть контура хладагента находится в контакте, по меньшей мере, с одним эмитирующим ультрафиолетовое излучение диодом для передачи тепла между эмитирующим ультрафиолетовое излучение диодом и хладагентом в процессе эксплуатации; и
вторая часть контура хладагента содержит теплообменник для передачи тепла между хладагентом и текучей средой, подлежащей обработке в процессе эксплуатации.
27. Устройство по п. 26, дополнительно содержащее регулирующий элемент, выполненный с возможностью изменения светоотдачи устройства в ответ на изменение температуры хладагента в процессе эксплуатации.
28. Устройство по п. 26 или 27, дополнительно содержащее регулирующий элемент, выполненный с возможностью изменения светоотдачи устройства в ответ на изменение светопроницаемости текучей среды, подлежащей обработке в процессе эксплуатации.
29. Устройство по п. 26 или 27, содержащее множество ультрафиолетовых световых головок, в котором регулирующий элемент выполнен с возможностью увеличения и/или уменьшения количества ультрафиолетовых световых головок, эмитирующих излучение, в ответ на увеличение и/или уменьшение температуры хладагента.
30. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
массив эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов, ориентированных радиально вокруг внешней поверхности прозрачной трубы, внутри которой содержится текучая среда, подвергаемая обработке;
в котором каждый эмитирующий ультрафиолетовое излучение диод установлен в фокальной точке рефлектора; и
в котором рефлектор коллимирует отраженное излучение в направлении продольной оси трубы и концентрирует отраженные лучи в поперечном сечении трубы в процессе эксплуатации.
31. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
массив эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов, ориентированных радиально вокруг внешней поверхности прозрачной трубы, внутри которой содержится текучая среда, подлежащая обработке;
в котором каждый эмитирующий ультрафиолетовое излучение диод установлен в фокальной точке рефлектора; и
в котором рефлектор коллимирует отраженное излучение в направлении продольной оси трубы и рассеивает отраженные лучи в поперечном сечении трубы в процессе эксплуатации.
32. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
массив эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов, ориентированных радиально вокруг внешней поверхности прозрачной трубы, внутри которой содержится текучая среда, подлежащая обработке;
в котором ультрафиолетовое излучение каждого эмитирующего УФ-излучение диода пропускают через линзу; и
в котором линза коллимирует излучение в направлении продольной оси и концентрирует излучение в поперечном сечении трубы в процессе эксплуатации.
33. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
массив эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов, ориентированных радиально вокруг внешней поверхности прозрачной трубы, внутри которой содержится текучая среда, подлежащая обработке; и
систему охлаждения для охлаждения массива эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов;
в котором система охлаждения выполнена с возможностью циркуляции охлаждающей жидкости таким образом, чтобы происходил теплообмен i) между эмитирующими ультрафиолетовое излучение диодами и охлаждающей жидкостью и ii) между охлаждающей жидкостью и текучей средой, подлежащей обработке.
34. Устройство по п. 33, в котором охлаждающая жидкость представляет собой гликолевую смесь.
35. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
массив эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов, ориентированных радиально вокруг внешней поверхности прозрачной трубы, внутри которой содержится текучая среда, подлежащая обработке; и
систему охлаждения для охлаждения массива эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов;
в котором система охлаждения содержит один или несколько датчиков температуры для мониторинга температуры охлаждающей жидкости; и
при этом система охлаждения выполнена с возможностью включать эмитирующие ультрафиолетовое излучение диоды в ответ на увеличение температуры охлаждающей жидкости и выключать эмитирующие ультрафиолетовое излучение диоды в ответ на уменьшение температуры охлаждающей жидкости.
36. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
массив эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов, ориентированных радиально вокруг внешней поверхности прозрачной трубы, внутри которой содержится текучая среда, подлежащая обработке;
один или несколько датчиков проницаемости ультрафиолетового света; и
программное обеспечение для мониторинга обработки, выполненное с возможностью выключать эмитирующие ультрафиолетовое излучение диоды в ответ на увеличение светопроницаемости текучей среды, подлежащей обработке, и включать эмитирующие ультрафиолетовое излучение диоды в ответ на уменьшение светопроницаемости текучей среды, подлежащей обработке.
37. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
массив эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов, обеспечиваемых радиально или по периферии вокруг прозрачной трубы, внутри которой перемещается или содержится текучая среда, подвергаемая обработке;
в котором каждый эмитирующий ультрафиолетовое излучение диод (диоды) обеспечивают в фокальной точке рефлектора; и
в котором рефлектор коллимирует, по меньшей мере, часть отраженных УФ-световых лучей в направлении продольной оси трубы и концентрирует, по меньшей мере, часть отраженных УФ-световых лучей в поперечном сечении трубы в процессе эксплуатации.
38. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
массив эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов, обеспечиваемых радиально или по периферии вокруг прозрачной трубы, внутри которой перемещается или содержится текучая среда, подлежащая обработке;
в котором каждый эмитирующий ультрафиолетовое излучение диод (диоды) установлен в фокальной точке рефлектора; и
в котором рефлектор коллимирует, по меньшей мере, часть отраженных УФ-световых лучей в направлении продольной оси трубы и рассеивает, по меньшей мере, часть отраженных УФ-световых лучей в поперечном сечении трубы в процессе эксплуатации.
39. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
массив эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов, обеспечиваемых радиально или по периферии вокруг прозрачной трубы, внутри которой перемещается или содержится текучая среда, подлежащая обработке;
в котором лучи ультрафиолетового излучения от каждого эмитирующего УФ-излучение диода проходят через линзу; и
в котором линза коллимирует излучение в направлении продольной оси трубы, и концентрирует излучение в поперечном сечении трубы в процессе эксплуатации.
40. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
массив эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов, обеспечиваемых радиально или по периферии вокруг прозрачной трубы, внутри которой перемещается или содержится текучая среда, подлежащая обработке; и
систему охлаждения для охлаждения, по меньшей мере, одного массива эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов;
в котором система охлаждения выполнена с возможностью циркуляции охлаждающей жидкости таким образом, чтобы происходил теплообмен i) между, по меньшей мере, одним эмитирующим ультрафиолетовое излучение диодом и хладагентом и ii) между хладагентом и текучей средой, подлежащей обработке.
41. Устройство по п. 40 в котором хладагент представляет собой гликолевую смесь.
42. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
массив эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов, обеспечиваемых радиально или по периферии вокруг прозрачной трубы, внутри которой перемещается или содержится текучая среда, подлежащая обработке; и
систему охлаждения для охлаждения, по меньшей мере, одного массива эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов;
в котором система охлаждения содержит один или несколько датчиков температуры для мониторинга температуры хладагента; и
в котором система охлаждения выполнена с возможностью включать эмитирующие ультрафиолетовое излучение диоды в ответ на увеличение температуры хладагента и выключать эмитирующие ультрафиолетовое излучение диоды в ответ на уменьшение температуры хладагента.
43. Устройство для обработки текучей среды, содержащее:
массив эмитирующих ультрафиолетовое излучение диодов, обеспечиваемых радиально или по периферии вокруг прозрачной трубы, внутри которой перемещается или содержится текучая среда, подлежащая обработке;
один или несколько датчиков проницаемости ультрафиолетового света; и
устройство для мониторинга обработки и/или программное обеспечение, выполненное с возможностью выключать эмитирующие ультрафиолетовое излучение диоды в ответ на увеличение светопроницаемости текучей среды, подлежащей обработке, и включать эмитирующие ультрафиолетовое излучение диоды в ответ на уменьшение светопроницаемости текучей среды, подлежащей обработке.
44. Применение устройства по любому из предыдущих пунктов для обработки текучей среды.
45. Система для обработки текучей среды, содержащая множество устройств по любому из предыдущих пунктов.
46. Способ обработки текучей среды, содержащий стадии:
введения текучей среды в камеру для обработки текучей среды, содержащую центральную ось;
направления излучения, эмитируемого, по меньшей мере, одним эмитирующим ультрафиолетовое излучение диодом, в текучую среду;
в котором, по меньшей мере, часть ультрафиолетового излучения, эмитируемого, по меньшей мере, одним эмитирующим ультрафиолетовое излучение диодом, коллимируется таким образом, чтобы ультрафиолетовые лучи, эмитируемые каждой ультрафиолетовой световой головкой, были параллельны в первой плоскости, совпадающей с центральной осью, или параллельны центральной оси.
47. Способ по п. 46, в котором, по меньшей мере, один элемент, направляющий ультрафиолетовое излучение, сводит в одну точку или рассеивает, по меньшей мере, часть (УФ)-световых лучей, эмитируемых, по меньшей мере, одной ультрафиолетовой световой головкой в процессе эксплуатации таким образом, чтобы рассеянные или сходящиеся в одной точке (УФ)-световые лучи не были параллельны во второй плоскости, перпендикулярной первой плоскости.
48. Устройство для охлаждения, по меньшей мере, одного эмитирующего УФ-излучение диода в системе для обработки текучей среды по любому из предыдущих пунктов, причем упомянутое устройство выполнено с возможностью регулируемой передачи тепла от эмитирующего (УФ)-излучение диода к текучей среде, подлежащей обработке в процессе эксплуатации.
49. Устройство по п. 48, в котором устройство содержит контур хладагента; и
в котором первая часть контура хладагента находится в контакте, по меньшей мере, с одним эмитирующим (УФ)-излучение диодом для передачи тепла между контуром хладагента и, по меньшей мере, одним эмитирующим (УФ)-излучение диодом в процессе эксплуатации; и
в котором вторая часть контура хладагента содержит теплообменник для передачи тепла между хладагентом в контуре хладагента и, текучей средой, подлежащей обработке в процессе эксплуатации.
50. Устройство по п. 49, дополнительно содержащее регулирующий элемент, выполненный с возможностью изменения светоотдачи, по меньшей мере, одного эмитирующего (УФ)-излучение диода в ответ на изменение температуры хладагента или (УФ)-светопроницаемости текучей среды, подлежащей обработке в процессе эксплуатации.
51. Способ охлаждения, по меньшей мере, одного эмитирующего (УФ)-излучение диода в системе для обработки текучей среды, содержащий стадии:
опосредованной передачи тепла, по меньшей мере, от одного эмитирующего (УФ)-излучение диода к текучей среде, подлежащей обработке в системе в процессе эксплуатации.
52. Способ по п. 51, в котором опосредованную передачу тепла осуществляют с помощью контура хладагента.
53. Способ по п. 52, дополнительно содержащий стадию регулирования светоотдачи, по меньшей мере, одного эмитирующего (УФ)-излучение диода в ответ на изменение температуры хладагента или изменение светопроницаемости текучей среды, подлежащей обработке в процессе эксплуатации.