СИНХРОНИЗИРУЕМОЕ РЕГУЛИРОВАНИЕ КОЛИЧЕСТВА ГИПСОВОГО ТЕСТА

1. Способ производства штукатурной плиты, содержащий этапы, на которых:
- предоставляют ленточное транспортирующее устройство (10), имеющее поддерживающий ремень (11),
- помещают первую оболочку (12) на поддерживающий ремень (11),
- добавляют гипсовую суспензию (13) на первую оболочку (12) с образованием гипсового намета (14) и
- помещают вторую оболочку (15) на добавленную гипсовую суспензию (13) с формированием гипсового слоя (16), содержащего первую оболочку (12), гипсовый намет (14) и вторую оболочку (15),
- выравнивают гипсовый слой (16) выравнивающим бруском (17) или выравнивающим валиком,
отличающийся тем, что
V
Δ
количество V(t) гипсовой суспензии (13), добавленной между первой оболочкой (12) и второй оболочкой (15), уменьшают по сравнению с заданным количеством V с заранее определенной частотой синхронизации f за заранее заданный промежуток времени t.
Δ
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что промежуток времени t уменьшения количества составляет менее чем 20%, предпочтительно между 10 и около 5%, промежутка, заранее заданного частотой синхронизации f.
3. Способ по п. 1 или 2, отличающийся тем, что вдавленности (18) или углубления (19), формируемые перпендикулярно  направлению движения, вводят в гипсовый слой (16) на заранее заданном расстоянии до затвердевания или после того, как затвердевание уже началось, причем частоту синхронизации f заранее определяют или устанавливают таким образом, чтобы уменьшение количества подаваемой гипсовой суспензии предусматривалось в местоположениях гипсового слоя (16), в которых впоследствии будут сформированы вдавленности (18) или углубления (19).
4. Способ по п. 3, отличающийся тем, что заранее заданное расстояние а, на котором вводят вдавленности (18) или углубления (19), учитывает длину l штукатурной плиты, впоследствии создаваемой разрезанием перпендикулярно  направлению движения плюс потеря на разрезание и последующую обработку концевых краев d, предпочтительно гипсовый слой (16) для производства штукатурных плит длиной l впоследствии разрезают в области вдавленностей (18) или углублений (19).
5. Способ по п. 3, отличающийся тем, что обеспечивают синхронизацию между вдавленностями (18) или углублениями (19) расположенными перпендикулярно  направлению движения, и предшествующими уменьшениями количества, предпочтительно между заранее заданными расстояниями вдавленностей (18) или углублений (19) в гипсовом слое (16) и частотой f уменьшения количества гипсовой суспензии (13), равно как синхронизацию с возможностью регулировки при сбое по фазе.
6. Способ по п. 3, отличающийся тем, что вдавленности (18) создают при помощи формовочных брусков (20), передвигающихся вместе с гипсовым слоем (16) на ленточном транспортирующем устройстве (10) в течение заранее заданного промежутка времени.
7. Способ по п. 3, отличающийся тем, что углубления (19) создают при помощи устройства (31) для создания углублений, предпочтительно валика (21) для создания углублений, предпочтительно устройства, располагаемого стационарно относительно ленточного транспортирующего устройства (10).
8. Штукатурная плита, полученная способом по п.п. 1 - 7.
9. Установка для производства штукатурной плиты, предпочтительно для осуществления способа по любому из п.п. 1-7, содержащая
- ленточное транспортирующее устройство (10), имеющее поддерживающий ремень (11),
- первый канал подачи (24) для первой оболочки (12), отличающийся тем, что первую оболочку (12) направляют на поддерживающий ремень (11),
- канал подачи (22) гипса, подающий со смесителя (23) гипсовую суспензию (13) на первую оболочку (12) с целью сформировать таким способом гипсовый намет (14) на первой оболочке (12),
- второй канал подачи (25) для второй оболочки (15), отличающийся тем, что вторую оболочку (15) наносят на гипсовый намет (14) и формируют гипсовый слой (16), содержащий первую оболочку (12), гипсовый намет (14) и вторую оболочку (15), а также
- выравнивающее устройство, такое как, например, выравнивающий брусок (17) или выравнивающий валик, с целью выравнивания гипсового слоя (16),
V
Δ
отличающаяся тем, что дозирующее устройство (26), конструируют и устанавливают с целью уменьшения по сравнению с заданным количеством V количества V(t) гипсовой суспензии (13), введенной между первой оболочкой (12) и второй оболочкой (15), с заранее заданной частотой синхронизации f за заранее заданный промежуток времени t.
10. Установка по п. 9, отличающаяся тем, что дозирующее устройство (26) взаимодействует с контрольным устройством (27), заранее задающим и по возможности регулирующим частоту синхронизации f.
11. Установка по любому из п.п. 9 и 10, отличающаяся тем, что дозирующее устройство располагают вблизи формовочного стола (28), предпочтительно интегрируют внутрь формовочного стола (28), на котором формируют и запрессовывают гипсовый слой (16) путем соединения первой оболочки (12), гипсовой суспензии (13) и второй оболочки (15).
12. Установка по п. 11, отличающаяся тем, что дозирующее устройство (26) содержит ограничительное лезвие (29) или ограничительный валик, расположенное перпендикулярно  направлению движения ленточного транспортирующего устройства (10) и сконструированное подвижным в направлении гипсового намета (14) с заранее заданным ходом h в направлении, ортогональном к направлению движения, и в продольном направлении ограничительного лезвия (29) или ограничительного валика.
13. Установка по п. 12, отличающаяся тем, что ограничительное лезвие (29) или ограничительный валик действует на гипсовый слой сверху с соответственно заранее заданным ходом h и вызывает уменьшение количества гипсового намета (14) в гипсовом слое (16) посредством опускания в заранее заданный промежуток времени.
14. Установка по п. 12, отличающаяся тем, что ограничительное лезвие (29) или ограничительный валик действует на гипсовый слой снизу с соответственно заранее заданным ходом h и вызывает уменьшение количества гипсового намета (14) в гипсовом слое (16) посредством подъема через заранее заданный промежуток времени.
15. Установка по одному из п.п. 12-14, отличающаяся тем, что ход h ограничительного лезвия или ограничительного валика устанавливают на максимальный, установленный в диапазоне от 0,5 до 5 мм, предпочтительно 1 - 3 мм.
16. Установка по п. 9 или 10, отличающаяся тем, что дозирующее устройство (26) располагают вблизи узла подачи (22) гипса, вверх по потоку в направлении подачи гипсовой суспензии (13) формовочного стола (28), на котором формируют и запрессовывают гипсовый слой (16) путем соединения первой оболочки (12), гипсовой суспензии (13) и второй оболочки (15).
17. Установка по п. 9, отличающаяся тем, что предусмотренное устройство (30) для создания вдавленностей действует на гипсовый слой (16) вниз от дозирующего устройства (26) в направлении движения ленточного транспортирующего устройства (10) и создает вдавленности (18), располагаемые перпендикулярно  направлению движения ленточного транспортирующего устройства вблизи местоположений, в которых дозирующее устройство вызывает уменьшение количества гипсовой суспензии (13).
18. Установка по п. 9, отличающаяся тем, что предусмотренное устройство (31) для создания углублений действует также на гипсовый слой (16) на расстоянии от дозирующего устройства (26) в направлении движения ленточного транспортирующего устройства (10) на гипсовый слой (16) и создает углубления (19) вблизи местоположений, в которых дозирующее устройство вызывает уменьшение количества гипсовой суспензии (13).
19. Установка по п. 18, отличающаяся тем, что устройство (31) для создания углублений содержит валик для создания углублений или подвижный штамп для создания углублений.
20. Установка по одному из п.п. 17-19, отличающаяся тем, что частоту вдавленностей (18) или углублений (19) синхронизируют с контрольным устройством (27) дозирующего устройства (26) при помощи центрального контрольного устройства (32) и/или при помощи сенсоров (33).