СПОСОБ УВЕЛИЧЕНИЯ ПОВЕРХНОСТНОГО СОПРОТИВЛЕНИЯ ПЛАСТИНЫ И/ИЛИ УРОВНЯ ПЛОТНОСТИ МОЩНОСТИ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ЭЛЕМЕНТА

1. Способ обработки тонкопленочной пластины-подложки из аморфного или моно- или поликристаллического кремния для использования в фотоэлектрическом элементе, причем пластина-подложка имеет, по меньшей мере, один из pn или np-переходов и частичный слой фосфоросиликатого или боросиликатного стекла на верхней поверхности пластины-подложки для увеличения, по меньшей мере, одного параметра из (a) поверхностного сопротивления пластины и (b) плотности мощности фотоэлектрического элемента, где способ включает в себя осуществление контакта пластины-подложки с раствором для кислотной обработки в течение времени и при температуре, достаточных для увеличения, по меньшей мере, одного параметра из (а) поверхностного сопротивления пластины и (b) плотности мощности фотоэлектрического элемента, выполненного из указанной пластины, причем раствор для кислотной обработки включает в себя:
забуферированный раствор для травления оксида (BOE), содержащий:
от около 0,1 до около 20 вес.%, по меньшей мере, одного гидроксида тетраалкиламмония,
от около 0,1 до около 5 вес.% уксусной кислоты,
от около 0,1 до около 5 вес.%, по меньшей мере, одного неионогенного поверхностно-активного вещества,
от около 0,1 до около 5 вес.%, по меньшей мере, одного хелатирующего металл агента,
от около 0,1 до около 20 вес.% источника ионов аммония, не содержащего металлов,
от около 0,01 до около 20 вес.% не содержащего металлов источника фторид-ионов,
воду - до 100%,
смешанный с окислителем и, необязательно, с водой при соотношении объемов (раствор окислителя/вода/раствор BOE), составляющем 0,01-10/0-100/1.
2. Способ по п.1, в котором обработка происходит при температуре от около 20°С до около 70°С.
3. Способ по п.1 или 2, в котором раствор BOE имеет pH от около 3 до около 6.
4. Способ по п.3, в котором раствор BOE имеет pH от около 4,3 до около 5.
5. Способ по п.1, в котором раствор окислителя содержит перекись водорода.
6. Способ по п.1, в котором раствор BOE содержит гидроксид тетраметиламмония в качестве гидроксида тетраалкиламмония, 3,5-диметилгекс-1-ин-3-ол в качестве, по меньшей мере, одного поверхностно-активного вещества, и ЭДТК в качестве, по меньшей мере, одного хелатирующего металл агента, а раствор окислителя содержит перекись водорода и воду.
7. Способ по п.6, в котором раствор BOE содержит около 3,1% гидроксида тетраметиламмония, около 1,2% уксусной кислоты, около 2,1% HF, около 0,8% 3,5-диметилгекс-1-ин-3-ола, около 0,8% гидроксида аммония, около 0,6% ЭДТК, около 91,5% воды.
8. Способ по п.7, в котором раствор BOE смешан с раствором окислителя с соотношением BOE/вода/30% перекись водорода в интервале 1/6/0,2-1,0.
9. Способ по п.7, в котором раствор BOE смешан с раствором окислителя при соотношении BOE/вода/30% раствор перекиси водорода примерно 1/6/0,2.
10. Способ по п.7, в котором раствор BOE смешан с раствором окислителя при соотношении BOE/воды/30% раствор перекиси водорода примерно 1/6/0,8.
11. Способ по п.7, в котором раствор BOE смешан с раствором окислителя при соотношении BOE/воды/30% раствор перекиси водорода примерно 1/6/1.
12. Способ по п.7, в котором обработка происходит при температуре от около 20°С до около 70°С.
13. Способ по п.1, в котором обработка также увеличивает эффективность фотоэлектрического элемента, выполненного из этой пластины.
14. Раствор для кислотной обработки, предназначенный для обработки тонкопленочной пластины-подложки из аморфного или моно- или поликристаллического кремния для использования в фотоэлектрическом элементе, причем пластина-подложка имеет, по меньшей мере, один из pn- или np-переходов и частичный слой фосфоросиликатого или боросиликатного стекла на верхней поверхности пластины-подложки, чтобы увеличить, по меньшей мере, один параметр из (a) поверхностного сопротивления пластины и (b) плотности мощности фотоэлектрического элемента, выполненного из указанной пластины, где раствор для кислотной обработки включает в себя смесь из:
забуферированного раствора для травления оксида (BOE), содержащего:
от около 0,1 до около 20 вес.%, по меньшей мере, одного гидроксида тетраалкиламмония,
от около 0,1 до около 5 вес.% уксусной кислоты,
от около 0,1 до около 5 вес.%, по меньшей мере, одного неионогенного поверхностно-активного вещества,
от около 0,1 до около 5 вес.%, по меньшей мере, одного металл хелатирующего агента,
от около 0,1 до около 20 вес.% не содержащего металлов источника ионов аммония,
от около 0,01 до около 20 вес.% не содержащего металлов источника фторид-ионов,
воду - до 100%,
смешанного с окислителем и, необязательно, с водой при соотношении объемов окислитель/вода/раствор BOE, составляющем 0,01-10/0-100/1.
15. Раствор для кислотной обработки по п. 14, в котором раствор BOE имеет pH от около 3 до около 6.
16. Раствор для кислотной обработки по п. 15, в котором раствор BOE имеет pH от около 4,3 до около 5.
17. Раствор для кислотной обработки по п. 14, в котором раствор окислителя содержит перекись водорода.
18. Раствор для кислотной обработки по п. 14, в котором раствор BOE содержит гидроксид тетраметиламмония в качестве гидроксида тетраалкиламмония, 3,5-диметилгекс-1-ин-3-ол в качестве, по меньшей мере, одного поверхностно-активного вещества, и ЭДТК в качестве, по меньшей мере, одного хелатирующего металл агента, а раствор окислителя содержит перекись водорода и воду.
19. Раствор для кислотной обработки по п. 18, в котором раствор BOE содержит около 3,1% гидроксида тетраметиламмония, примерно 1,2% уксусной кислоты, около 2,1% HF, около 0,8% 3,5-диметилгекс-1-ин-3-ола, около 0,8% гидроксида аммония, примерно 0,6% ЭДТК, около 91,5% воды.
20. Раствор для кислотной обработки по п. 19, в котором раствор BOE смешан с раствором окислителя при соотношении BOE/вода/30% раствор перекиси водорода в интервале 1/6/0,2-1,0.
21. Раствор для кислотной обработки по п. 19, в котором раствор BOE смешан с раствором окислителя при соотношении BOE/вода/30% раствор перекиси водорода примерно 1/6/0,2.
22. Раствор для кислотной обработки по п. 19, в котором раствор BOE смешан с раствором окислителя при соотношении BOE/вода/30% раствор перекиси водорода примерно 1/6/0,8.
23. Раствор для кислотной обработки по п. 19, в котором раствор BOE смешан с раствором окислителя при соотношении BOE/вода/30% раствор перекиси водорода примерно 1/6/1.