СПОСОБ И СИСТЕМА ДЛЯ ОБРАБОТКИ ОПТИЧЕСКИХ ЭЛЕМЕНТОВ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МАГНИТОРЕОЛОГИЧЕСКОЙ ЧИСТОВОЙ ОБРАБОТКИ

1. Способ чистовой обработки оптического элемента, причем способ содержит этапы, на которых:
закрепляют оптический элемент в оптическом держателе, имеющем множество проверочных точек, накладывающихся на оптический элемент;
получают первую метрологическую карту для оптического элемента и множества проверочных точек;
получают вторую метрологическую карту для оптического элемента без множества проверочных точек;
формируют карту разности между первой метрологической картой и второй метрологической картой;
выравнивают первую метрологическую карту и вторую метрологическую карту;
помещают математические проверочные точки на вторую метрологическую карту с использованием карты разности для формирования третьей метрологической карты;
осуществляют привязку третьей метрологической карты оптическому элементу;
закрепляют оптический элемент в зажиме в инструменте MRF;
устанавливают оптический элемент в зажиме;
удаляют множество проверочных точек и
осуществляют чистовую обработку оптического элемента.
2. Способ по п.1, в котором множество проверочных точек содержит проволочную сетку, ориентированную, по существу, параллельно к поверхности оптического элемента.
3. Способ по п.1, в котором первая метрологическая карта включает в себя артефакты, связанные с проверочными точками.
4. Способ по п.1, в котором оптический элемент содержит, по меньшей мере, либо сапфировый кристалл, либо легированный титаном сапфировый кристалл.
5. Способ по п.1, в котором инструмент MRF содержит:
полировальный круг, выполненный с возможностью обеспечения функции удаления менее 200 мкм в пространственной протяженности; и
систему камеры с пространственным разрешением менее 20 мкм.
6. Система MRF для полировки оптического элемента, причем система MRF содержит:
процессор;
инструмент MRF, соединенный с процессором, при этом инструмент MRF содержит:
полировальный круг, выполненный с возможностью обеспечения предварительно определенной функции удаления;
оптический держатель, выполненный с возможностью вмещения оптического элемента и множества проверочных точек; и
машиночитаемый носитель, соединенный с процессором и хранящий множество команд для управления инструментом MRF для полировки оптического элемента, причем множество команд содержит:
команды, которые побуждают процессор данных получать первую метрологическую карту для оптического элемента и множества проверочных точек;
команды, которые побуждают процессор данных получать вторую метрологическую карту для оптического элемента без множества проверочных точек;
команды, которые побуждают процессор данных формировать карту разности между первой метрологической картой и второй метрологической картой;
команды, которые побуждают процессор данных выравнивать первую метрологическую карту и вторую метрологическую карту;
команды, которые побуждают процессор данных помещать математические проверочные точки на вторую метрологическую карту с использованием карты разности для формирования третьей метрологической карты;
команды, которые побуждают процессор данных осуществлять привязку третьей метрологической карты к оптическому элементу; и
команды, которые побуждают процессор данных управлять инструментом MRF для чистовой обработки оптического элемента.
7. Система MRF по п.6, в которой множество проверочных точек содержит проволочную сетку, ориентированную, по существу, параллельно поверхности оптического элемента.
8. Система MRF по п.6, в которой первая метрологическая карта включает в себя артефакты, связанные с проверочными точками.
9. Система MRF по п.6, в которой оптический элемент включает в себя, по меньшей мере, либо сапфировый кристалл, либо легированный титаном сапфировый кристалл.
10. Система MRF по п.6, в которой инструмент MRF содержит:
полировальный круг, выполненный с возможностью обеспечения функции удаления менее 200 мкм в пространственной протяженности; и
систему камеры с максимальным пространственным разрешением менее 20 мкм.
11. Способ полировки оптического элемента, причем способ содержит этапы, на которых:
закрепляют оптический элемент в оптическом держателе, имеющем область, выполненную с возможностью вмещения оптического элемента, и множество проверочных точек, установленных рядом с указанной областью;
получают первую метрологическую карту, включающую в себя оптический элемент и множество проверочных точек;
получают вторую метрологическую карту, включающую в себя оптический элемент, причем вторая метрологическая карта не содержит множество проверочных точек;
формируют метрологическую карту разности на основе первой метрологической карты и второй метрологической карты;
выравнивают первую метрологическую карту со второй метрологической картой;
добавляют математические проверочные точки на вторую метрологическую карту для формирования третьей метрологической карты;
устанавливают оптический держатель в инструмент MRF;
совмещают оптический держатель с инструментом MRF с использованием третьей метрологической карты и
осуществляют полировку оптического элемента.
12. Способ по п.11, в котором множество проверочных точек содержит множество структур, расположенных в одной плоскости, по существу, параллельно поверхности оптического элемента.
13. Способ по п.11, в котором оптический элемент содержит, по меньшей мере, либо сапфировый кристалл, либо легированный титаном сапфировый кристалл.
14. Способ по п.11, в котором инструмент MRF содержит:
полировальный круг, выполненный с возможностью обеспечения функции удаления менее 200 мкм в пространственной протяженности; и
систему камеры с пространственным разрешением менее 20 мкм.
15. Система MRF для полировки оптического элемента, причем система MRF содержит:
процессор;
оптическую систему формирования изображений;
инструмент MRF, соединенный с процессором, при этом инструмент MRF содержит:
полировальный круг, выполненный с возможностью обеспечения предварительно определенной функции удаления;
оптический держатель, выполненный с возможностью вмещения оптического элемента и включающий в себя множество внешних проверочных точек; и
машиночитаемый носитель, соединенный с процессором и хранящий множество команд для управления инструментом MRF для полировки оптического элемента, при этом множество команд содержит:
команды, которые побуждают процессор данных закреплять оптический элемент в оптическом держателе, имеющем область, выполненную с возможностью вмещения оптического элемента, и множество проверочных точек, установленных рядом с указанной областью;
команды, которые побуждают процессор данных получать первую метрологическую карту, процессор данных получать вторую метрологическую карту, включающую в себя оптический элемент и множество проверочных точек;
команды, которые побуждают в себя оптический элемент, причем вторая метрологическая карта не содержит множество проверочных точек;
команды, которые побуждают процессор данных формировать метрологическую карту разности на основе первой метрологической карты и второй метрологической карты;
команды, которые побуждают процессор данных выравнивать первую метрологическую карту со второй метрологической картой;
команды, которые побуждают процессор данных добавлять математические проверочные точки на вторую метрологическую карту для формирования третьей метрологической карты; и
команды, которые побуждают процессор данных управлять инструментом MRF для полировки оптического элемента.
16. Система по п.15, в которой множество проверочных точек содержит множество структур, расположенных в одной плоскости, по существу, параллельно поверхности оптического элемента.
17. Система по п.15, в которой оптический элемент содержит, по меньшей мере, либо сапфировый кристалл, либо легированный титаном сапфировый кристалл.
18. Система по п.15, в которой инструмент MRF, в котором предварительно определенная функция удаления составляет менее 200 мкм в пространственной протяженности, и оптическая система формирования изображений характеризуется пространственным разрешением менее 20 мкм.