СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПАЛЛАДИЕВОГО ПОКРЫТИЯ НА ПОДЛОЖКУ

1
1. Способ нанесения палладиевого покрытия на подложку, включающий помещение подложки в реактор, откачивание последнего до ~1·10 Па, нагревание подложки до необходимой температуры, доставку паров прекурсора в зону реактора, в которой расположена подложка, и последующее проведение процесса до образования на подложке палладиевого покрытия необходимой толщины, отличающийся тем, что подложку нагревают до температуры 150÷300°C, дискретно последовательно подают в зону реакции пары прекурсора бис-гексафторацетилацетонат палладия (II) с температурой 55÷70°C, газ-реагент водород, выдерживают реакционную смесь в течение заданного времени и проводят откачку реактора, далее в реактор напускают азот, выдерживают заданное время и реактор откачивают до первоначального давления, при этом процесс повторяют в импульсном режиме цикл за циклом до получения заданной толщины покрытия.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве подложки используют пористую сталь, покрытую оксидом металла, кремний, медь.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что время одного цикла процесса составляет не менее 30 сек.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что объемы используемых газа-реагента и азота задают в зависимости от количества вводимого в реактор прекурсора с помощью компьютерной программы.