Статья

Статья

Исследование плазмы

1983. Т. 21. № 2. С. 209–218

Акишев Ю.С., Пашкин С.В., Пономаренко В.В., Соколов Н.А., Трушкин Н.И.

К вопросу о развитии прилипательной неустойчивости в ограниченной плазме

Экспериментально исследована динамика прилипательной неустойчивости в квазистационарном тлеющем разряде в воздухе при давлениях до $13$ кПа и анализируются условия ее развития в ограниченной среде. Экспериментально доказана определяющая роль прикатодной области разряда в развитии этой неустойчивости и предложено граничное условие для флуктуаций электрического поля у катодного слоя, позволившее аналитически определить область параметров самостоятельного и несамостоятельного тлеющих разрядов, при которых возможно развитие прилипательной неустойчивости. Обнаружена возможность распространения слоев повышенного поля в плазме таких разрядов от анода к катоду.

Ссылка на статью:

Акишев Ю.С., Пашкин С.В., Пономаренко В.В., Соколов Н.А., Трушкин Н.И.

К вопросу о развитии прилипательной неустойчивости в ограниченной плазме, ТВТ, 1983. Т. 21. № 2. С. 209

High Temp. 1983, v.21, №2, pp. 151-159