УСТАНОВКА ДЛЯ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ БЕСКОНЕЧНОГО МАТЕРИАЛА

1. Установка для плазменной обработки бесконечного материала с, по меньшей мере, одной вакуумируемой разрядной камерой (3а), через которую может непрерывно транспортироваться бесконечный материал (1), причем каждая разрядная камера (3а) имеет внешний электрод (5, 51-57), который расположен электрически изолированно по отношению к бесконечному материалу, с устройством для контроля газовой атмосферы в упомянутой, по меньшей мере, одной разрядной камере и со снабжающим энергией устройством (30) для подачи электрической разрядной энергии к сформированному между внешним электродом соответствующей разрядной камеры и бесконечным материалом в качестве внутреннего электрода разрядному промежутку (G), отличающаяся тем, что снабжающее энергией устройство (30) представляет собой выполненный с возможностью импульсной подачи разрядной энергии собственный источник тока, который включает в себя, по меньшей мере, один элемент (32) индуктивности в качестве аккумулятора энергии, причем элемент индуктивности выполнен с возможностью совместного включения с согласованным с ним разрядным промежутком (G) или последовательно с несколькими согласованными с ним разрядными промежутками.
2. Установка по п.1, отличающаяся тем, что упомянутый, по меньшей мере, один элемент (32) индуктивности во время импульса подачи энергии постоянно совместно включен только с одним разрядным промежутком (G) и предпочтительным образом во время пауз между импульсами подачи энергии осуществляет переключение к другому разрядному участку.
3. Установка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что элемент (32) индуктивности заряжается только по время импульсов подачи энергии.
4. Установка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что элемент (32) индуктивности заряжается только во время пауз между импульсами подачи энергии.
5. Установка по п.1, отличающаяся тем, что снабжающее энергией устройство (30) включает в себя ограничивающую выходное напряжение схему (33).
6. Установка по п.1 или 5, отличающаяся тем, что снабжающее энергией устройство включает в себя электронный включающий механизм для подачи импульсов энергии выбираемой полярности к разрядному промежутку.
7. Установка по п.1, отличающаяся тем, что между упомянутым, по меньшей мере, одним элементом индуктивности снабжающего энергией устройства и упомянутой, по меньшей мере, одной разрядной камерой расположена, по меньшей мере, одна корректирующая схема для подавления или соответственно компенсации паразитных высокочастотных эффектов или соответственно их влияний, например, на индуктивность проводника электрического тока, емкость разрядной камеры или соответственно электродов и тому подобное.
8. Установка по п.1, отличающаяся тем, что в ней друг за другом расположено несколько разрядных камер, через которые проходит бесконечный материал без контакта в разрядных камерах или между ними.
9. Установка по п.1, отличающаяся тем, что предусмотрена система (6, 6') с магнитами высокой мощности, которая в области внешнего электрода (5) создает сильное, ориентированное, по существу, параллельно бесконечному материалу магнитное поле, по меньшей мере, 120 мТл, предпочтительно, по меньшей мере, 400 мТл, самое предпочтительное, по меньшей мере, 700 мТл.
10. Установка по п.9, отличающаяся тем, что система (6') с магнитами высокой мощности выполнена с возможностью создания, по существу, однородного по ходу своей продольной протяженности магнитного поля.
11. Установка по п.10, отличающаяся тем, что система (6') с магнитами высокой мощности представляет собой окружающую внешний электрод катушку (63), которая расположена, по существу, коаксиально бесконечному материалу (1), причем катушка, предпочтительным образом выполнена в виде охлаждаемой, в частности охлаждаемой жидкостью, катушки, при необходимости в виде сверхпроводящего электромагнита.
12. Установка по п.9, отличающаяся тем, что система (6) с магнитами высокой мощности выполнена с возможностью создания неоднородного по ходу своей продольной протяженности магнитного поля, максимумы которого определяют максимумы интенсивности обработки бесконечного материала.
13. Установка по п.12, отличающаяся тем, что система (6) с магнитами высокой мощности выполнена в виде системы с постоянными магнитами, которая включает в себя, в частности, анизотропные постоянные магниты (61), предпочтительным образом, из NdFeB-постоянных магнитов, которые образуют, по существу, боковые стенки призмы с многоугольным поперечным сечением.
14. Установка по п.13, отличающаяся тем, что предусмотрены замыкающие элементы (62), которые концентрируют магнитное поле системы (6) с постоянными магнитами в области газового разряда, причем предпочтительным образом, направление намагничивания магнитов ориентировано, по существу, радиально относительно поперечного сечения призмы.
15. Установка по любому из пп.9-14, отличающаяся тем, что внешний электрод (5) в своей продольной протяженности не выступает из магнитного поля.
16. Установка по любому из пп.9-14, отличающаяся тем, что внешний электрод в своей продольной протяженности в, по меньшей мере, одном месте выступает из магнитного поля.
17. Установка по п.1, отличающаяся тем, что внешний электрод (5, 51-55, 56, 57), по существу, полностью оптически плотно окружает бесконечный материал в проекции на плоскость поперечного сечения бесконечного материала.
18. Установка по п.17, отличающаяся тем, что внешний электрод (5) образует часть разрядной камеры и предпочтительным образом является охлаждаемым, в частности охлаждаемым жидкостью.
19. Установка по п.17 или 18, отличающаяся тем, что соотношение между площадью поперечного сечения внутри внешнего электрода (5, 51-57) и площадью поперечного сечения наименьших выпуклых огибающих бесконечного материала (1) составляет, по меньшей мере, 4:1, лучше, по меньшей мере, 10:1, а предпочтительно, по меньшей мере, 20:1.
20. Установка по п.1, отличающаяся тем, что давление в разрядной камере может устанавливаться как 0,1-100 мбар, предпочтительнее 0,5-50 мбар, наиболее предпочтительно 1-10 мбар.
21. Установка по п.1, отличающаяся тем, что установка для контроля газовой атмосферы включает в себя систему предкамер и/или вспомогательных камер, причем между камерами этой системы предусмотрены шлюзовые отверстия, через которые проходит бесконечный материал, причем, по меньшей мере, одно шлюзовое отверстие выполнено в виде туннеля (41), который имеет соотношение между своей длиной и своей шириной в свету, по меньшей мере, 2:1, предпочтительно, по меньшей мере, 4:1, и при необходимости выполнен в качестве самостоятельного компонента или и в качестве особой формы осуществления другого компонента.
22. Установка по п.21, отличающаяся тем, что в качестве туннелей (41) выполнены те шлюзы, в которых на обеих сторонах имеется пониженное давление и различные составы газов.
23. Установка по п.21 или 22, отличающаяся тем, что устройство для настройки газовой атмосферы включает в себя регенерационную систему, в которой газ может перетекать из вспомогательной камеры в предкамеру и/или во вспомогательную с более высоким уровнем давления.
24. Установка по п.23, отличающаяся тем, что предкамеры разделены на подкамеры и/или система вспомогательных камер составлена из отдельных вспомогательных камер, причем между подкамерами или соответственно вспомогательными камерами предусмотрены шлюзовые отверстия, через которые бесконечный материал может направляться с малыми потерями на трение сквозь подкамеры или соответственно вспомогательные камеры.