ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ СВЕТОИЗЛУЧАЮЩИЙ ПРИБОР
SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING INSTRUMENT

Изобретение относится к области полупроводниковых светоизлучающих приборов и может использоваться для производства светодиодов.
Известна конструкция полупроводникового светоизлучающего прибора [US 20040113163], включающая подложку со сформированным на ее поверхности текстурированным слоем, имеющим шероховатую поверхность, а также выращенные методом эпитаксии слои из нитридного материала, образующие полупроводниковую гетероструктуру с p-n-переходом. Благодаря наличию указанного текстурированного слоя, микровыступы и микровпадины которого образуют центры рассеяния светового излучения, снижается влияние на выход света эффекта полного внутреннего отражения света, возникающего на границе «подложка - примыкающий к подложке слой материала», в случае, когда показатель преломления материала указанного слоя превышает показатель преломления материала подложки. В результате увеличивается доля выводимого через подложку светового излучения и, тем самым, повышается внешняя оптическая эффективность прибора.
Недостатком данной конструкции является то, что по отношению к основному технологическому процессу эпитаксиального выращивания полупроводниковых слоев требуются дополнительные технологические операции, включающие, например, операции травления материала слоя, в том числе с предварительным нанесением фотомаски, и, в результате, усложняющие технологию изготовления полупроводникового светоизлучающего прибора. Эта конструкция имеет низкую светоотдачу, обусловленную низкой энергией возбуждения люминофора, для преобразования в белый свет.
Так же известен полупроводниковый светоизлучающий прибор [TW 591808] (ближайший аналог). Рассматриваемый прибор включает сапфировую подложку, а также выполненные из нитридного материала и выращенные методом эпитаксии последовательно расположенные буферный слой и слои, образующие полупроводниковую гетероструктуру с p-n-переходом. Кроме этого, рассматриваемый прибор содержит расположенный между буферным слоем и подложкой промежуточный слой, который по одному из вариантов выполнения прибора имеет поры, сформированные путем травления материала слоя. Поры в рассматриваемом промежуточном слое сформированы с целью снижения механических напряжений в материале полупроводниковой гетероструктуры, обусловленных рассогласованием кристаллической решетки материала подложки и материала полупроводниковых слоев. Однако, помимо указанной функции, поры промежуточного слоя выполняют также функцию центров рассеяния светового излучения, благодаря наличию которых снижается влияние эффекта полного внутреннего отражения света на границе «подложка - примыкающий к подложке слой материала» на выход света, и, соответственно, увеличивается доля выводимого светового излучения.
Недостатком указанного изобретения является сложность конструкции прибора и технологии его изготовления, низкая светоотдача, обусловленная низкой энергией возбуждения люминофора, для преобразования синего света в белый.
Цель предлагаемого изобретения состоит в изготовлении полупроводникового светоизлучающего прибора, излучающего свет в ультрафиолетовом диапазоне спектра излучения, с последующим преобразованием его в видимый свет с помощью люминофора.
2
м
Поставленная цель достигается за счет использования слоя с p-n-переходом из пористой пленки диоксида кремния (SiO ), полученной методом магнетронного распыления составной мишени «кремний-графит» (Si-C). Рекомбинация электронов и дырок в данном слое сопровождается излучением квантов света с энергией >4 эВ.
Сущность изобретения поясняется чертежом (фиг.1). На чертеже изображен общий вид заявленного устройства.
2
2
2
2
3
м
Устройство содержит подложку 1, на которой последовательно расположены: нижний электрод 2; слои, образующие гетероструктуру с p-n-переходом, включающие, в частности, слой 3 n-типа проводимости, выполненный из диоксида кремния (n-SiO); слой активной области 4 с p-n-переходом, выполненный из пористого диоксида кремния (SiO ); слой 5 p-типа проводимости, выполненный из диоксида кремния (p-SiO); верхний, оптически прозрачный электрод 6, выполненный из проводящего оксида InO; слой люминофора 7.
Устройство работает следующим образом. При пропускании тока в прямом направлении через заявляемое устройство в активной области 4 происходит рекомбинация электронов и дырок, инжектируемых соответственно из слоя 3 n-типа проводимости и слоя 5 p-типа проводимости, которая сопровождается излучением квантов света.
Пример конкретной реализации устройства
2
2
2
м
На подложку 1 методом термического испарения в вакууме наносится нижний алюминиевый (Al) электрод 2. Далее, методом магнетронного распыления на электрод наносится тонкая пленка диоксида кремния 3 n-типа проводимости (n-SiO), толщиной 25 нм, на ней формируется слой активной области 4 с p-n-переходом, выполненный из пористого диоксида кремния (SiO ) методом магнетронного распыления составной мишени кремний-графит (Si-C) толщиной 10-20 нм, затем наносится слой диоксида кремния 5 p-типа проводимости (p-SiO), толщиной 25 нм. На слое 5 формируется оптически прозрачный электрод 6, методом магнетронного распыления индия (In) в атмосфере кислорода, на который затем наносится слой люминофора 7.