ПОДЛОЖКА, СНАБЖЕННАЯ НАБОРОМ, ОБЛАДАЮЩИМ ТЕПЛОВЫМИ СВОЙСТВАМИ, СОДЕРЖАЩИМ ПО МЕНЬШЕЙ МЕРЕ ОДИН СЛОЙ, СОДЕРЖАЩИЙ НИТРИД КРЕМНИЯ-ЦИРКОНИЯ, ОБОГАЩЕННЫЙ ЦИРКОНИЕМ, ЕЕ ПРИМЕНЕНИЕ И ЕЕ ИЗГОТОВЛЕНИЕ

x
y
z
1. Прозрачная подложка (30), снабженная на основной поверхности набором тонких слоев, содержащим один металлический функциональный слой (140), обладающий свойствами отражения в инфракрасной области и/или в области солнечного излучения, в частности на основе серебра или серебросодержащего металлического сплава, и два просветляющих покрытия (120, 160), при этом каждое из просветляющих покрытий содержит по меньшей мере один диэлектрический слой (122, 128; 162, 168), указанный функциональный слой (140) расположен между двумя просветляющими покрытиями (120, 160), отличающая тем, что по меньшей мере просветляющее покрытие (120), расположенное между подложкой (30) и функциональным слоем (140), в действительности даже оба просветляющих покрытия (120, 160), содержит (содержат) слой (126, 166), содержащий нитрид кремния-циркония, SiZrN, с атомным отношением Zr к сумме Si+Zr, y/(x+y), которое составляет от 25,0% до 40,0% включая эти значения, в действительности даже от 26,32% до 37,5% включительно, в действительности от 27,0% до 37,0% включительно.
x
y
z
2. Подложка (30) по п. 1, отличающая тем, что слой (126, 166), содержащий нитрид кремния-циркония, SiZrN, имеет азотирование z от 4/3(x+y) до 5/3(x+y) включительно.
x
y
z
3. Подложка (30) по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что слой (16, 166), содержащий нитрид кремния-циркония, SiZrN, не содержит кислорода.
x
y
z
4. Подложка (30) по любому одному из пп. 1-3, отличающаяся тем, что просветляющее покрытие (120), расположенное между подложкой (30) и функциональным слоем (140), дополнительно содержит слой (122), содержащий нитрид кремния без циркония, при этом слой (122), содержащий нитрид кремния без циркония, предпочтительно расположен между подложкой (30) и слоем (126), содержащим нитрид кремния-циркония, SiZrN.
5. Подложка (30) по п. 4, отличающаяся тем, что слой (122), содержащий нитрид кремния без циркония имеет толщину от 5,0 до 25,0 нм включительно, в действительности даже от 15,0 до 20,0 нм включительно.
x
y
z
6. Подложка (30) по любому одному из пп. 1-5, отличающаяся тем, что просветляющее покрытие (160), расположенное над функциональным слоем (140) на противоположной стороне от подложки (30), дополнительно содержит слой (168), содержащий нитрид кремния без циркония, при этом слой (168), содержащий нитрид кремния без циркония, предпочтительно расположен над слоем (166), содержащим нитрид кремния-циркония, SiZrN.
7. Подложка (30) по п. 6, отличающаяся тем, что слой (168), содержащий нитрид кремния без циркония, имеет толщину от 25,0 до 35,0 нм включительно.
8. Подложка (30) по любому одному из пп. 1-7, отличающаяся тем, что просветляющее покрытие (160), расположенное над функциональным слоем (140) и на противоположной стороне от подложки (30), дополнительно содержит слой (168), выполненный из диэлектрического материала, имеющего низкий показатель преломления, в частности на основе оксида кремния.
9. Подложка (30) по любому одному из пп. 1-8, отличающаяся тем, что слой на основе оксида цинка расположен над функциональным слоем (140) и в контакте с ним.
x
y
z
10. Подложка (30) по любому одному из пп. 1-9, отличающаяся тем, что слой (126), содержащий нитрид кремния-циркония, SiZrN, который расположен между подложкой (30) и функциональным слоем (140), имеет толщину от 10,0 до 30,0 нм включительно.
x
y
z
11. Подложка (30) по любому одному из пп. 1-10, отличающаяся тем, что слой (166), содержащий нитрид кремния-циркония, SiZrN, который расположен над функциональным слоем (140) на противоположной стороне от подложки (30), имеет толщину от 6,0 до 12,0 нм включительно.
12. Остекление (100), включающее по меньшей мере одну подложку (30) по любому одному из пп. 1-11, опционально в сочетании с по меньшей мере одной другой подложкой.
13. Остекление (100) по п. 12, смонтированное как монолитный блок или как стеклопакет типа двойного остекления, или тройного остекления, или многослойного остекления, отличающееся тем, что по меньшей мере подложка, несущая набор, является изогнутой и/или закаленной.
14. Применение подложки по любому одному из пп. 1-13 для изготовления прозрачного электрода нагреваемого остекления, или электрохромного остекления, или осветительного устройства, или устройства отображения, или фотоэлектрической панели.
x
y
z
15. Способ изготовления подложки по любому одному из пп. 1-13, в которой слой (126, 166), содержащий нитрид кремния-циркония, SiZrN, образуют распылением в азотосодержащей атмосфере мишени, содержащей элементы с атомным отношением Zr к сумме Si+Zr, y/(x+y), которое составляет от 25,0% до 40,0% включая эти значения, в действительности даже от 26,32% до 37,5% включительно, в действительности даже от 27,0% до 37,0% включительно.
16. Способ по п. 15, отличающийся тем, что атмосфера не содержит кислорода.
17. Мишень для осуществления способа по п. 15 или 16, содержащая элементы с атомным отношением Zr к сумме Si+Zr, y/(x+y), которое составляет от 25,0% до 40,0% включительно, в действительности даже от 26,32% до 37,5% включительно, в действительности даже от 27,0% до 37,0% включительно.