СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ЛАЗЕРНОГО ИНИЦИИРОВАНИЯ ЛОКАЛЬНОГО ОСАЖДЕНИЯ ПРОДУКТОВ ДИССОЦИАЦИИ ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМЫ

Устройство для нанесения покрытий способом газофазного плазмохимического осаждения соединений различных элементов на стеклокерамические материалы, содержащее плазмохимический реактор с системой электродов, систему возбуждения высокочастотного разряда, систему равновесного нагрева подложки, систему вакуумной откачки, систему газоподачи, систему автоматического управления процессом нанесения покрытия и дополнительный блок подачи постоянной составляющей на электродную систему с регулируемой величиной и полярностью подаваемого напряжения, отличающееся тем, что, с целью реализации локального способа осаждения продуктов диссоциации газоразрядной плазмы, систему равновесного нагрева подложки заменяют системой неравновесного нагрева сфокусированным лазерным излучением только той части стеклокерамической подложки, на которую необходимо произвести локальное осаждение, для чего устройство для реализации данного способа дополнительно снабжают источником лазерного излучения, сканирующей системой управляемой от контроллера или персонального компьютера, фокусирующим объективом, при этом вакуумную камеру реактора изготавливают с окном, позволяющим доставить сфокусированное лазерное излучение к стеклокерамической подложке, а один электрод электродной системы делают полым, чтобы лазерное излучение могло беспрепятственно достичь поверхности подложки.