СПОСОБ И СИСТЕМА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ МОНОСИЛАНА

4
3
4
1. Система для получения моносилана (SiH) посредством каталитического диспропорционирования трихлорсилана (SiHCl), содержащая реакционную колонну (100) с питающей трубой (101) для подачи трихлорсилана и отводящей трубой (102) для образующегося тетрахлорида кремния (SiCl), а также с по меньшей мере одним конденсатором (103), через который полученный моносилан может быть отведен из реакционной колонны, причем реакционная колонна содержит по меньшей мере две реактивные/дистилляционные реакционные зоны (104, 105), которые работают при различных температурах и содержат различные каталитически активные твердые вещества, при этом по меньшей мере одна из реакционных зон содержит каталитически активное твердое вещество на основе винилпиридина, и по меньшей мере одна из реакционных зон содержит каталитически активное твердое вещество на основе стирола.
2. Система по п.1, отличающаяся тем, что реакционная колонна (100) расположена вертикально, так что работающие при различных температурах реакционные зоны (104, 105) расположены друг над другом.
3. Система по п.1, отличающаяся тем, что внутри колонны (100) температура снижается по направлению снизу вверх, так что расположенная выше реакционная зона (105) в основном работает при более низкой температуре, чем зона, расположенная ниже.
4. Система по п.1, отличающаяся тем, что по меньшей мере одна реакционная зона содержит каталитически активное твердое вещество на основе сополимера винилпиридина и дивинилбензола.
5. Система по п.1, отличающаяся тем, что по меньшей мере одна реакционная зона содержит каталитически активное твердое вещество на основе сополимера стирола и дивинилбензола.
6. Система по п.1, отличающаяся тем, что по меньшей мере одна реакционная зона, содержащая каталитически активное твердое вещество на основе винилпиридина, расположена ниже по меньшей мере одной реакционной зоны, содержащей каталитически активное твердое вещество на основе стирола.
7. Система по п.1, отличающаяся тем, что конденсатор (103) встроен в верхнюю часть реакционной колонны (100).
4
3
8. Способ получения моносилана (SiH) посредством каталитического диспропорционирования трихлорсилана (SiHCl), в котором диспропорционирование осуществляют в по меньшей мере двух реактивных/дистилляционных реакционных зонах (104, 105), которые работают при различных температурах и содержат различные каталитически активные твердые вещества, при этом по меньшей мере одна из реакционных зон содержит каталитически активное твердое вещество на основе винилпиридина, и по меньшей мере одна из реакционных зон содержит каталитически активное твердое вещество на основе стирола.
9. Способ по п.8, отличающийся тем, что его осуществляют в системе согласно любому из пп.1-7.
10. Способ по п.9, отличающийся тем, что реакционная зона, содержащая каталитически активное твердое вещество на основе винилпиридина, работает при температурах в диапазоне от 50°С до 200°С.
11. Способ по п.9, отличающийся тем, что реакционная зона, содержащая каталитически активное твердое вещество на основе стирола, работает при температурах в диапазоне от 50°С до 100°С.
12. Способ по п.8, отличающийся тем, что давление в реакционных зонах (104, 105) регулируют до давления в диапазоне от 0,1 бар до 20 бар.
13. Способ по п.9, отличающийся тем, что конденсатор (103) работает при температуре в диапазоне от -20°С до -100°С.