УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ ПРОЦЕССА ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ

1. Устройство для осуществления процесса плазмохимического осаждения из паровой фазы, содержащее по существу цилиндрический резонатор, в котором выполнена внешняя цилиндрическая стенка, окружающая полость резонатора, которая имеет по существу осесимметричную форму относительно оси цилиндра,
при этом в резонаторе также выполнены участки боковых стенок, ограничивающие полость резонатора в противоположных направлениях по оси цилиндра,
причем устройство также содержит волновод СВЧ-излучения, имеющий конец, проходящий через внешнюю цилиндрическую стенку в полость резонатора, а длина полости резонатора в направлении цилиндра изменяется как функция радиального расстояния к оси цилиндра.
2. Устройство по п.1, в котором резонатор содержит кольцевой элемент, образующий по меньшей мере частично боковую поверхность указанной полости в цилиндрическом направлении.
3. Устройство по п.1 или 2, в котором полость резонатора в цилиндрическом направлении по меньшей мере частично ограничена поверхностью конуса, продольная ось которого по существу совпадает с осью цилиндра резонатора и который сужается по направлению к противоположной стороне указанной полости.
4. Устройство по п.1 или 2, в котором в определенном диапазоне цилиндрическая длина указанной полости увеличивается как функция увеличивающегося радиального расстояния относительно оси цилиндра.
5. Устройство по п.1 или 2, в котором в устройстве для нагрева токами сверхвысокой частоты также выполнена внутренняя цилиндрическая стенка, ограничивающая полость резонатора в радиальном направлении к оси цилиндра и имеющая щелевое отверстие, проходящее в окружном направлении вокруг оси цилиндра.
6. Устройство по п.2, в котором кольцевой элемент выполнен заодно с участком боковой стенки и/или внутренней цилиндрической стенки резонатора.
7. Устройство по п.1 или 2, в котором на продольном конце указанной полости ее боковая поверхность проходит по существу перпендикулярно по отношению к оси цилиндра, предпочтительно на расстояние по меньшей мере около 1 мм.
8. Устройство по п.2, в котором кольцевой элемент заполняет часть пространства, ограниченного в радиальном направлении между внутренней цилиндрической стенкой и внешней цилиндрической стенкой, а также в цилиндрическом направлении между участком боковой стенки и кромкой щелевого отверстия, причем объемная часть заполнена кольцевым элементом в диапазоне примерно от 10% до 95%.
9. Устройство по любому из пп.1, 2, 6, 8, дополнительно содержащее СВЧ-генератор, подсоединенный ко второму концу волновода СВЧ-излучения.