СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СИЛИКОНОВЫХ ГИДРОГЕЛЕВЫХ КОНТАКТЫХ ЛИНЗ

1. Способ изготовления силиконовых гидрогелевых контактных линз, включающий стадии:
предоставление формы для изготовления мягкой контактной линзы, где форма включает первую половину формы, образующую первую формующую поверхность, формирующую переднюю поверхность контактной линзы, и вторую половину формы, образующую вторую формующую поверхность, формирующую заднюю поверхность контактной линзы, где указанные первая и вторая половины формы устроены так, что соединяются друг с другом, так что между указанными первой и второй формующими поверхностями образуется полость;
2
введение в полость смеси мономеров образующих линзу материалов, где смесь мономеров включает по меньшей мере один гидрофильный виниловый мономер амидного типа, по меньшей мере один включающий силоксан (мет)акриламидный мономер, по меньшей мере один полисилоксановый виниловый мономер или макромер и от примерно 0,05 до примерно 1,5 мас.% фотоинициатора, где образующий линзу материал характеризуется способностью отверждаться УФ-излучением, обладающим интенсивностью УФ-излучения, равной примерно 4,1 мВт/см, примерно за 100 с; и
облучение с помощью пространственно ограниченного актиничного излучения образующего линзу материала в форме в течение примерно 120 с или менее, чтобы сшить образующий линзу материал с образованием силиконовой гидрогелевой контактной линзы, где изготовленная контактная линза включает переднюю поверхность, сформированную первой формующей поверхностью, противолежащую заднюю поверхность, сформированную второй формующей поверхностью, и край линзы, сформированный в соответствии с пространственным ограничением актиничного излучения.
2. Способ по п.1, в котором включающий силоксан (мет)акриламидный мономер описывается формулой (1)
3
3
4
1
6
в которой R обозначает Н или СН, R и R независимо друг от друга обозначают Н, C-С-алкил или одновалентный радикал формулы (2)
1
6
1
6
1
2
3
1
6
в которой Y обозначает C-С-алкиленовый двухвалентный радикал или C-С-алкиленовый двухвалентный радикал, включающий одну или большее количество гидроксигрупп, m является целым числом, равным от 0 до 5, р является целым числом, равным от 1 до 6, и A, А и А независимо друг от друга обозначают C-С-алкил, фенил, бензил или радикал формулы (3)
1
2
3
1
6
3
4
1
2
3
в которой B, В и В независимо друг от друга обозначают C-С-алкил, фенил, или бензил, при условии, что по меньшей мере один из R и R обозначает радикал формулы (2), и при условии, что по меньшей мере два из A, А и А обозначают радикалы формулы (3).
3. Способ по п.2, в котором смесь мономеров включает включающий полисилоксан виниловый макромер формулы (4)
в которой
r является целым числом, равным 0 или 1;
1
2
1
10
1
6
1
4
5
2
1
2
1
10
4
5
1
8
G и G независимо друг от друга обозначают линейный или разветвленный С-С-алкиленовый двухвалентный радикал, двухвалентный радикал , в котором q является целым числом, равным от 1 до 5, и alk и alk' независимо друг от друга обозначают C-С-алкиленовый двухвалентный радикал, или двухвалентный радикал -R'-X-E-X-R'-, в котором R' и R'независимо друг от друга обозначают линейный или разветвленный C-С-алкиленовый двухвалентный радикал или двухвалентный радикал , определенный выше, Х и Х независимо друг от друга обозначают мостик, выбранный из группы, включающей -O-, , , , , , , , , , , -S- и  в котором R' обозначает Н или C-C-алкил, Е обозначает алкильный дирадикал, циклоалкильный дирадикал, алкилциклоалкильный дирадикал,алкиларильный дирадикал или арильный дирадикал, включающий до 40 атомов углерода, который может содержать в главной цепи простые эфирные группы, тиогруппы или аминогруппы;
1
2
1
8
X и X независимо друг от друга обозначают мостик, выбранный из группы, включающей непосредственную связь, -O-, , , , , , , , , , , -S- и  в котором R' обозначает И или C-C-алкил;
ПДМС обозначает полисилоксановый двухвалентный радикал формулы (5)
1
2
1
4
5
2
1
2
3
2
2
t
2
2
2
2
a
2
2
b
2
в которой ν  равно 0 или 1, ω является целым числом, равным от 0 до 5, U и U независимо друг от друга обозначают двухвалентный радикал -R'-X-E-X-R'-, определенный выше, или двухвалентный радикал , определенный выше, D, D и D независимо друг от друга обозначают двухвалентный радикал, выбранный из группы, включающей -(СНСНО)-СНСН-, где t является целым числом, равным от 3 до 40, -CF-(OCF)-(OCFCF)-OCF-, где а и b независимо друг от друга являются целыми числами, равными от 0 до 10, при условии, что а+b является числом, находящимся в диапазоне от 10 до 30, и двухвалентную группу формулы (6)
3
4
5
6
7
8
9
10
1
8
1
4
1
4
1
18
1
12
2
2
n
11
1
6
11
1
6
1
2
3
в которой R, R, R', R, R, R, R и R независимо друг от друга обозначают C-C-алкил, С-С-алкил- или С-С-алкоксизамещенный фенил, фтор(С-С-алкил), циано(С-С-алкил), -алкил-(ОСНСН)-OR, где алкил представляет собой C-С-алкиленовый двухвалентный радикал, R обозначает C-С-алкил и n является целым числом, равным от 1 до 10, m и р независимо друг от друга являются целыми числами, равными от 2 до 698, и (m+р) равно от 5 до 700, при условии, что по меньшей мере один из D, D и D описывается формулой (6); и
Q обозначает этиленовоненасыщенную группу формулы (7)
1
2
1
12
1
12
2
2
d
2
2
1
4
1
4
7
12
1
8
1
2
14
1
4
15
16
1
4
3
17
1
12
5
в которой Z и Z независимо друг от друга обозначают линейный или разветвленный С-С-алкиленовый двухвалентный радикал, линейный или разветвленный С-С-алкиленовый двухвалентный радикал, включающий одну или большее количество гидроксигрупп, радикал -(CHCHO)-CHCH, где d является целым числом, равным от 1 до 10, незамещенный фениленовый двухвалентный радикал, С-С-алкил или С-С-алкоксизамещенный фениленовый двухвалентный радикал или С-С-арилалкиленовый двухвалентный радикал; А обозначает -О- или  в котором R' обозначает Н или C-C-алкил; q и q независимо друг от друга являются целыми числами, равными 0 или 1; R обозначает водород, С-С-алкил или галоген; R и R независимо друг от друга обозначают водород, С-С-алкил, фенил, карбоксигруппу, галоген или радикал  где Х обозначает -O-,  определенный выше, или -S- и R обозначает С-С-алкильный, гидроксиалкильный, аминоалкильный, алкиламиноалкильный или диалкиламиноалкильный радикал.
4. Способ по п.2, в котором гидрофильный виниловый мономер амидного типа выбран из группы, включающей 2-акриламидогликолевую кислоту, 2-акриламидо-2-метил-1-пропансульфоновую кислоту, 2-акриламидо-2-метил-1-пропансульфоновую кислоту или ее соль, (3-акриламидопропил)триметиламмонийхлорид, 3-акрилоиламино-1-пропанол, N-(бутоксиметил)акриламид, N-трет-бутилакриламид, акриламид диацетона, N,N-диметилакриламид, N,N-диметилметакриламид, N-[3-(диметиламино)пропил]метакриламид, N-гидроксиэтилакриламид, N-(гидроксиметил)акриламид, N-(изобутоксиметил)акриламид, N-изопропилакриламид, N-изопропилметакриламид, метакриламид, N-фенилакриламид, N-[трис(гидроксиметил)метил]акриламид, N-метил-3-метилен-2-пирролидон и их смесь.
5. Способ по п.3, в котором включающий силоксан (мет)акриламидный мономер выбран из группы, включающей N-[трис(триметилсилокси)силилпропил] метакриламид, N-[трис(триметилсилокси)-силилпропил]акриламид, N-[трис(диметилпропилсилокси)силилпропил]акриламид, N-[трис(диметилпропилсилокси)силилпропил] метакриламид, N-[трис(диметилфенилсилокси)силилпропил]акриламид, N-[трис(диметилфенилсилокси)силилпропил] метакриламид, N-[трис(диметилэтилсилокси)силилпропил]акриламид, N-[трис(диметилэтилсилокси)силилпропил] метакриламид, N-(2-гидрокси-3-(3-(бис(триметилсилилокси)метилсилил)пропилокси)пропил)-2-метилакриламид; N-(2-гидрокси-3-(3-(бис(триметилсилилокси)метилсилил)пропилокси)пропил)акриламид; N,N-бис[2-гидрокси-3-(3-бис(триметилсилилокси)метилсилил)пропилокси)пропил]-2-метилакриламид; N,N-бис[2-гидрокси-3-(3-(бис(триметилсилилокси)метилсилил)пропилокси)пропил]акриламид; N-(2-гидрокси-3-(3-(трис(триметилсилилокси)силил)пропилокси)пропил)-2-метилакриламид; N-(2-гидрокси-3-(3-(трис(триметилсилилокси)силил)пропилокси)пропил)акриламид; N,N-бис[2-гидрокси-3-(3-(трис(триметилсилилокси)силил)пропилокси)пропил]-2-метилакриламид; N,N-бис[2-гидрокси-3-(3-(трис(триметилсилилокси)силил)пропилокси)пропил]акриламид; N-[2-гидрокси-3-(3-(трет-бутилдиметилсилил)пропилокси)пропил]-2-метилакриламид; N-[2-гидрокси-3-(3-(трет-бутилдиметилсилил)пропилокси)пропил]акриламид; N,N-бис[2-гидрокси-3-(3-(трет-бутилдиметилсилил)пропилокси)пропил]-2-метилакриламид; N,N-бис[2-гидрокси-3-(3-(трет-бутилдиметилсилил)пропилокси)пропил]акриламид.
1
2
3
6. Способ по п.3, в котором смесь мономеров включает включающий полисилоксан виниловый макромер формулы (4), в которой D, D и D независимо друг от друга обозначают двухвалентный радикал формулы (6).
7. Способ по п.3, в котором смесь мономеров включает полимеризующийся поглощающий УФ-излучение реагент или полимеризующийся латентный поглощающий УФ-излучение реагент в количестве, равном от примерно 0,2 до примерно 5,0 мас.%.
8. Способ по п.7, в котором смесь мономеров включает полимеризующийся поглощающий УФ-излучение реагент, который включает бензотриазольный и/или бензофеноновый фрагмент.
9. Способ по п.8, в котором фотоинициатором является бензоилфосфиноксидный фотоинициатор.
10. Способ по п.7, в котором смесь мономеров включает полимеризующийся латентный поглощающий УФ-излучение реагент.
11. Способ по п.3, в котором по меньшей мере одна из первой и второй формующих поверхностей является проницаемой для УФ-излучения и необязательно вторая формующая поверхность плохо проницаема для УФ-излучения.
12. Способ по п.11, в котором формой является форма многоразового применения, включающая маску, которая закреплена, встроена или установлена внутри, около или сверху на половине формы, обладающей проницаемой для излучения формующей поверхностью, где маска является непроницаемой для УФ-излучения или по меньшей мере обладает плохой проницаемостью для УФ-излучения по сравнению с проницаемостью проницаемой для УФ-излучения формующей поверхности, где маска направлена внутрь вплотную к полости формы и окружает полость формы, так что она экранирует все участки, находящиеся позади маски, кроме полости формы.
13. Способ по п.12, в котором смесь мономеров в форме облучают пространственно ограниченным актиничным излучением в течение примерно 50 с или менее.
14. Способ по п.2, в котором смесь мономеров включает (1) от примерно 10 до примерно 50 мас.% гидрофильного винилового мономера амидного типа; (2) от примерно 10 до примерно 40 мас.% содержащего силоксан акрилатного или акриламидного или метакриламидного мономера; (3) от примерно 10 до примерно 40 мас.% содержащего полисилоксан винилового макромера; (4) от примерно от 0,1 до 1,3 мас.% фотоинициатора; и (5) от 0 до 5 мас.% полимеризующегося поглощающего УФ-излучение реагента или полимеризующегося латентного поглощающего УФ-излучение реагента, при условии, что компоненты (1)-(5) и любые дополнительные компоненты добавлены до 100 мас.%.
15. Силиконовая гидрогелевая контактная линза, изготовленная способом по п.1.
-6
2
16. Силиконовая гидрогелевая контактная линза по п.15, причем контактная линза обладает по меньшей мере одной характеристикой, выбранной из группы, включающей проницаемость для кислорода, предпочтительно равную не менее примерно 40 барреров, модуль упругости, равный примерно 2,0 МПа или менее, коэффициент диффузии Ionoflux, D, равный не менее примерно 1,5×10 мм/мин, и содержание воды, предпочтительно равное от примерно 15 до примерно 70%.
17. Способ изготовления силиконовых гидрогелевых контактных линз, включающий стадии:
предоставление формы для изготовления мягкой контактной линзы, где форма включает первую половину формы, образующую первую формующую поверхность, формирующую переднюю поверхность контактной линзы, и вторую половину формы, образующую вторую формующую поверхность, формирующую заднюю поверхность контактной линзы, где указанные первая и вторая половины формы устроены так, что соединяются друг с другом так, что между указанными первой и второй формующими поверхностями образуется полость;
2
введение в полость смеси мономеров образующих линзу материалов, где смесь мономеров включает по меньшей мере один гидрофильный виниловый мономер амидного типа, по меньшей мере один включающий силоксан акрилатный мономер, по меньшей мере один полисилоксановый виниловый мономер или макромер и от примерно 0,05 до примерно 1,5 мас.% фотоинициатора, где образующий линзу материал характеризуется способностью отверждаться УФ-излучением, обладающим интенсивностью УФ-излучения, равной примерно 4,1 мВт/см, примерно за 100 с; и
облучение с помощью пространственно ограниченного актиничного излучения образующего линзу материала в форме в течение примерно 120 с или менее, чтобы сшить образующий линзу материал с образованием силиконовой гидрогелевой контактной линзы, где изготовленная контактная линза включает переднюю поверхность, сформированную первой формующей поверхностью, противолежащую заднюю поверхность, сформированную второй формующей поверхностью, и край линзы, сформированный в соответствии с пространственным ограничением актиничного излучения.
2
18. Образующая линзу композиция, применимая для изготовления силиконовых гидрогелевых контактных линз по методике отверждения, основанной на пространственно ограниченном актиничном излучении, включающая: по меньшей мере один гидрофильный виниловый мономер амидного типа; по меньшей мере один включающий силоксан виниловый мономер, выбранный из группы, включающей включающий силоксан акрилат, включающий силоксан акриламид, включающий силоксан метакриламид; и от примерно 0,05 до примерно 1,5 мас.% фотоинициатора, при условии, что полное количество всего метакрилатного мономера (мономеров) в образующей линзу композиции составляет менее примерно 10 мас.% и достаточно для получения образующей линзу композиции, характеризующейся способностью отверждаться УФ-излучением, обладающим интенсивностью УФ-излучения, равной примерно 4,1 мВт/см, менее, чем примерно за 100 с.