УСТАНОВКА И СПОСОБ ОБРАБОТКИ, КОМПЛЕКС ДЛЯ ХРАНЕНИЯ И ВЫРАЩИВАНИЯ РАСТИТЕЛЬНЫХ КУЛЬТУР, СОДЕРЖАЩИЙ УСТАНОВКУ ОБРАБОТКИ

1. Установка (5) для обработки, содержащая:
испарительное устройство (7), содержащее газопровод (9) и материал (11) с большой удельной поверхностью, заполняющий испарительную секцию (13) газопровода (9);
устройство (15) циркуляции газа через газопровод (9);
3
жидкость, пропитывающую материал (11) с большой удельной поверхностью, при этом жидкость содержит по меньшей мере одно вещество или смесь летучих биоцидных и/или фитопротекторных веществ с температурой кипения, составляющей от 130 до 280°С при атмосферном давлении, при этом материал с большой удельной поверхностью имеет способность удержания жидкости, превышающую 50 л/м материала с большой удельной поверхностью при 20°С;
подпитывающее устройство (17), выполненное с возможностью повторной пропитки жидкостью материала (11) с большой удельной поверхностью или с возможностью замены истощенного материала (11) с большой удельной поверхностью пропитанным жидкостью новым материалом (11) с большой удельной поверхностью.
2. Установка по п. 1, в которой по меньшей одно из веществ выбрано из списка следующих фитопротекторных или биоцидных веществ:
эфирное масло; терпен; насыщенный или ненасыщенный спирт с короткой цепочкой С6-С10, например, такой как октанол, 2-этилгексанол; летучий продукт синтеза, например, такой как гексаналь, 1,4-диметилнафтален и 3-децен-2-он; жидкие органические кислоты с высокой точкой кипения, такие как пеларгоновая кислота и парабеновая кислота; сложные эфиры с биоцидной активностью, например, такие как изоамилизовалерат.
3. Установка по п. 1 или 2, в которой испарительное устройство (7) представляет собой колонну с вертикальной осью, при этом испарительная секция (13) является секцией с вертикальной осью и предпочтительно имеет горизонтальное сечение, составляющее менее 75% горизонтального сечения колонны.
4. Установка по п. 1 или 2, в которой испарительное устройство (7) является трубой, образующей газопровод (9).
5. Установка по любому из пп. 1-4, в которой материал (11) с большой удельной поверхностью является пеноматериалом с открытыми ячейками или является неоднородным минеральным материалом, таким как вермикулит или перлит.
6. Установка по любому из пп. 1-5, в которой материал (11) с большой удельной поверхностью расположен по меньшей мере в два слоя (89), находящиеся друг над другом и отделенные друг от друга пространством (9), при этом каждый слой (89) имеет толщину, меньшую заранее определенного предела, например, 100 мм.
7. Установка по любому из пп. 1-6, в которой подпитывающее устройство (17) содержит заполненный жидкостью бак (29) и механизм (31), выполненный с возможностью извлекать материал (11) с большой удельной поверхностью из испарительной секции (13) газопровода (9), погружать его в бак (29) и помещать обратно в испарительную секцию (13) газопровода (9).
8. Установка по п. 3, подпитывающее устройство (17) содержит заполненный жидкостью бак (29) и механизм (31), выполненный с возможностью извлекать материал (11) с большой удельной поверхностью из испарительной секции (13) газопровода (9), погружать его в бак (29) и помещать обратно в испарительную секцию (13) газопровода (9), при этом бак (29) расположен в колонне, а испарительная секция (13) ограничена между баком (29) и стенкой колонны.
9. Установка по любому из пп. 1-8, в которой подпитывающее устройство (17) содержит распылительный аппарат (63), нагнетающий жидкость в виде капель в газ на входе материала (11) с большой удельной поверхностью, предпочтительно при температуре ниже 50°С.
10. Установка по любому из пп. 1-6, в которой подпитывающее устройство (17) содержит емкость (83) с жидкостью, распределитель (85) жидкости и средство (87) циркуляции жидкости, откачивающее жидкость из емкости (83) и нагнетающее жидкость в распределитель (85) жидкости, при этом распределитель (85) жидкости выполнен с возможностью направлять жидкость на или в материал (11) с большой удельной поверхностью.
11. Установка по любому из пп. 1-6, в которой подпитывающее устройство (17) содержит средства (69), выполненные с возможностью реверсивно поднимать испарительную секцию (13) в газопроводе (9).
12. Способ обработки, содержащий следующие этапы:
3
пропускают газ через газопровод (9), при этом испарительная секция (13) газопровода (9) заполнена материалом (11) с большой удельной поверхностью, при этом жидкость пропитывает материал (11) с большой удельной поверхностью, при этом жидкость содержит по меньшей мере одно вещество или смесь летучих биоцидных и/или фитопротекторных веществ с температурой кипения, составляющей от 130 до 280°С при атмосферном давлении, при этом материал с большой удельной поверхностью имеет способность удержания жидкости, превышающую 50 л/м материала с большой удельной поверхностью при 20°С;
когда материал (11) с большой удельной поверхностью оказывается обедненным жидкостью, производят обновление материала (11) с большой удельной поверхностью путем пропитки жидкостью материала (11) с большой удельной поверхностью или заменяют истощенный материал (11) с большой удельной поверхностью новым пропитанным жидкостью материалом (11) с большой удельной поверхностью.
13. Способ по п. 12, в котором материал (11) с большой удельной поверхностью является пеноматериалом с открытыми ячейками или является неоднородным минеральным материалом, таким как вермикулит или перлит.
14. Способ по п. 12 или 13, в котором повторную пропитку материала (11) с большой удельной поверхностью производят, погружая материал (11) с большой удельной поверхностью в бак (29), содержащий жидкость.
15. Способ по п. 14, в котором газопровод (9) выполнен в колонне с вертикальной осью, при этом бак (29) помещен в колонну, при этом испарительная секция газопровода (9) ограничена между баком (29) и стенкой колонны.
16. Способ по любому из пп. 12-15, в котором повторную пропитку материала (11) с большой удельной поверхностью производят, нагнетая жидкость в виде капель в газ на входе материала (11) с большой удельной поверхностью, предпочтительно при температуре ниже 50°С.
17. Способ по п. 12 или 13, в котором повторную пропитку материала (11) с большой удельной поверхностью производят, нагнетая жидкость на или в материал (11) с большой удельной поверхностью из емкости (83) с жидкостью.
18. Способ по п. 12 или 13, в котором обновление производят, демонтируя испарительную секцию (13), содержащую истощенный материал (11) с большой удельной поверхностью, заменяя истощенный материал (11) с большой удельной поверхностью пропитанным жидкостью новым материалом (11) с большой удельной поверхностью и опять устанавливая на место испарительную секцию (13), содержащую пропитанный жидкостью новый материал (11) с большой удельной поверхностью.
19. Способ по п. 12 или 13, в котором обновление производят, демонтируя испарительную секцию (13), содержащую истощенный материал (11) с большой удельной поверхностью, и устанавливая на место новую испарительную секцию (13), содержащую пропитанный жидкостью новый материал (11) с большой удельной поверхностью.
20. Способ по любому из пп. 12-19 в котором газ с испаренной жидкостью, выходящий из газопровода (9), направляют в отсек (3), содержащий растительные культуры (19, 77).
21. Комплекс (11) для хранения или выращивания растительных культур, содержащий:
отсек (3), содержащий растительные культуры (19, 77);
установку (5) обработки по любому из пп. 1-11, при этом газопровод (9) соединен по текучей среде с внутренним объемом отсека (3).