КОМПОЗИЦИИ ПОКРЫТИЯ

1. Композиция, содержащая
эпокси-содержащий компонент;
эластомерные частицы в количестве от более чем 11 мас.% до 25 мас.% в расчете на общую массу композиции; и
отвверждающий компонент, активируемый внешним источником энергии, при этом отверждающий компонент содержит по меньшей мере один гуанидин, имеющий размер частиц D90, равный 25 микрон, измеренный динамическим рассеянием света.
2. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что эластомерные частицы находятся в фазе, отделенной от эпокси-содержащего компонента.
3. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что эпокси-содержащий компонент включает бисфенол А, бисфенол F, новолачную смолу или комбинации из них.
4. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что эпокси-содержащий компонент присутствует в количестве от 45 мас.% до 90 мас.% в расчете на общую массу композиции.
5. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что эпокси-содержащий компонент имеет среднюю эпоксидную функциональность больше, чем 1,0 и меньше, чем 3,2.
6. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что по меньшей мере 50 мас.% эластомерных частиц в расчете на общую массу эластомерных частиц содержат стирол-бутадиеновое ядро.
7. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что по меньшей мере 50 % эластомерных частиц имеют средний размер частицы меньше, чем 150 нм, измеренный трансмиссионной электронной микроскопией.
8. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что не более 50 мас.% эластомерных частиц в расчете на общую массу эластомерных частиц содержат полибутадиеновое ядро и/или полисилоксановое ядро.
9. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что по меньшей мере один гуанидин содержит дициандиамид.
10. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что по меньшей мере один гуанидин присутствует в количестве от 2% до 20% в расчете на общую массу композиции.
11. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что дополнительно содержит наполнители в количестве не больше, чем 20 мас.% в расчете на общую массу композиции.
12. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что дополнительно содержит добавки в количестве не больше, чем 20 мас.% в расчете на общую массу композиции.
13. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что композиция по существу не содержит добавки.
14. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что композиция по существу не содержит пластинчатые наполнители и/или инициаторы свободно-радикальной реакции.
15. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что дополнительно содержит второй отверждающий агент.
16. Композиция по п. 15, отличающаяся тем, что второй катализатор отверждения является латентным катализатором отверждения, активным катализатором отверждения или их комбинациями.
17. Композиция по п. 1, отличающаяся тем, что композиция представляет собой композицию покрытия, клеевую композицию или композицию герметика.
18. Покрытая подложка, в которой по меньшей мере одна поверхность подложки по меньшей мере частично покрыта композицией по п. 1.
19. Покрытая подложка по п. 18, отличающаяся тем, что по меньшей мере одна из поверхностей покрытой подложки на 100% без разрывов воды.
20. Покрытая подложка по п. 18, отличающаяся тем, что по меньшей мере одна из поверхностей покрытой подложки с разрывами воды.
2
21. Покрытая подложка по п. 18, отличающаяся тем, что композиция, в по меньшей мере частично отвержденном состоянии, имеет твердость больше, чем 100 Н/мм и относительное удлинение по меньшей мере 40%.
22. Покрытая подложка по п. 19, отличающаяся тем, что подложка включает защитную одежду.
23. Деталь, по меньшей мере частично покрытая композицией по п. 1.
24. Изделие, содержащее:
первую подложку;
вторую подложку; и
композицию по п. 1, расположенную между первой и второй подложками.
25. Изделие по п. 24, отличающееся тем, что композиция, в по меньшей мере частично отвержденном состоянии, имеет объемное напряжение сдвига, равное по меньшей мере 33,0 МПа, и объемную деформацию сдвига по меньшей мере 34,5%, измеренные в соответствии с ISO 11003-2.
26. Изделие по п. 24, отличающееся тем, что композиция, в по меньшей мере частично отвержденном состоянии, имеет прочность при сдвиге клеевого соединения внахлест больше, чем 30,0 МПа, измеренную согласно ASTM D1002-10 с использованием алюминиевой подложки 2024-T3 толщиной 1,6 мм при измерении на разрывной машине INSTRON 5567 в режиме растяжения со скоростью 1,3 мм/мин, и смещение при сдвиге клея до разрушения клеевого соединения внахлест по меньшей мере 15% от длины нахлеста.
27. Способ формирования покрытия на поверхности подложки, включающий
нанесение композиции по п. 1 на поверхность первой подложки; и
воздействие внешнего источника энергии для по меньшей мере частичного отверждения композиции.
28. Способ по п. 27, отличающийся тем, что дополнительно включает контактирование поверхности второй подложки с композицией так, что композиция располагается между первой подложкой и второй подложкой.