ЛАЗЕРНО-ПЛАЗМЕННЫЙ СПОСОБ СИНТЕЗА ВЫСОКОТВЕРДЫХ МИКРО И НАНОСТРУКТУРИРОВАННЫХ ПОКРЫТИЙ И УСТРОЙСТВО

1. Способ синтеза высокотвердых покрытий, включающий обработку поверхности потоком рабочего газа при воздействии лазерного излучения, отличающийся тем, что формируют поток рабочего газа, содержащего несущий газ и химически активные реагенты, который направляют на обрабатываемую поверхность при давлении не ниже 0,5 атм, при этом на названный поток рабочего газа воздействуют лазерным импульсно-периодическим излучением таким образом, чтобы в фокусе лазерного луча образовалась лазерная плазма.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что лазерное импульсно-периодическое излучение направляют поперек потока рабочего газа.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что лазерное импульсно-периодическое излучение направляют вдоль потока рабочего газа.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве несущего газа используют инертные газы: аргон, гелий, неон, или их смесь.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве несущего газа используют химически активные газы: кислород или азот.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что давление в потоке газа преимущественно поддерживают на уровне атмосферного давления.
7. Способ по п.1, отличающийся тем, что химически активные реагенты содержатся в рабочем газе в виде газов, или паров, или микро и/или наноаэрозолей.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что обрабатываемую поверхность во время осаждения на нее химически активных реагентов перемещают.
9. Устройство для получения высокотвердых покрытий, включающее реакционную камеру со средством позиционирования обрабатываемого объекта, и входом для потока газа, отличающееся тем, что оно содержит источник рабочего газа, средство формирования потока рабочего газа в реакционной камере, импульсно-периодический лазер, а также средство доставки лазерного излучения в реакционную камеру и фокусировки луча, при этом реакционная камера содержит вход для потока рабочего газа и вход для лазерного излучения.
10. Устройство по п.9, отличающееся тем, что оно содержит средство управления - управляющий процессор.