ЭЛЕКТРОМАГНИТНЫЙ ДАТЧИК И ЕГО КАЛИБРОВКА

1. Электромагнитный датчик (400) для детектирования микроструктуры металлической мишени, содержащий:
магнитное устройство (410, 420) для предоставления возбуждающего магнитного поля;
магнитометр (430) для детектирования результирующего магнитного поля, индуцированного в металлической мишени; и
схему (450, 551, 552, 553, 554) калибровки для создания калибровочного магнитного поля для калибровки электромагнитного датчика, причем опорное калибровочное магнитное поле создается электрическим током, индуцированным в схеме калибровки возбуждающим магнитным полем.
2. Электромагнитный датчик по п.1, содержащий множество схем (450, 551, 552, 553, 554) калибровки.
3. Электромагнитный датчик по п.2, в котором каждая из множества схем (450, 551, 552, 553, 554) калибровки выполнена с возможностью создания калибровочного магнитного поля в соответствующем частотном диапазоне.
4. Электромагнитный датчик по любому одному из пп.1-3, в котором каждая схема (450, 551, 552, 553, 554) калибровки содержит соответствующий импеданс (453).
5. Электромагнитный датчик по любому одному из пп.1-3, в котором схема калибровки или одна или более из множества схем (450, 551, 552, 553, 554) калибровки содержит калибровочную катушку (451).
6. Электромагнитный датчик по любому одному из пп.1-3, содержащий устройство (452) управления для селективного управления созданием калибровочного магнитного поля.
7. Электромагнитный датчик по любому одному из пп.1-3, в котором магнитометр (430) представляет собой индукционную детекторную катушку или датчик Холла.
8. Электромагнитный датчик по любому одному из пп.1-3, содержащий магнитный сердечник (410).
9. Электромагнитный датчик по п.8, в котором магнитный сердечник (410) представляет собой U-образный или H-образный сердечник.
10. Электромагнитный датчик по п.8, в котором магнитометр (430) размещен вблизи полюса сердечника (410).
11. Электромагнитный датчик по любому одному из пп.1-3, в котором магнитное устройство содержит одну или более возбуждающих катушек.
12. Электромагнитный датчик по любому одному из пп.1-3, содержащий:
блок (600, 610) управления, выполненный с возможностью определения периода (820) калибровки и селективной активизации схемы калибровки в течение периода калибровки.
13. Электромагнитный датчик по п.12, в котором блок (600, 610) управления выполнен с возможностью определения периода (820) калибровки на основании сигнала детектирования, выводимого от магнитометра (430).
14. Электромагнитный датчик по п.12, в котором блок (600, 610) управления выполнен с возможностью определения периода калибровки на основании сигнала детектирования, выводимого от магнитометра (430), и заданного опорного уровня.
15. Электромагнитный датчик по п.12, в котором блок (600, 610) управления содержит вход для приема сигнала от производственного устройства, указывающего период между (820) металлическими мишенями, причем блок управления выполнен с возможностью определения периода калибровки на этом основании.
16. Электромагнитный датчик по п.12, в котором блок (600, 610) управления выполнен с возможностью селективного управления множеством схем (420, 430, 440, 450) калибровки.
17. Электромагнитный датчик по п.16, в котором блок (600, 610) управления выполнен с возможностью инициирования вывода соответствующей частоты каждой из множества схем (420, 430, 440, 450) калибровки.
18. Способ калибровки электромагнитного датчика, содержащий:
предоставление возбуждающего магнитного поля;
инициирование вывода калибровочного магнитного поля схемой (450, 551, 552, 553, 554) калибровки, причем калибровочное магнитное поле создается электрическим током, индуцированным в схеме калибровки возбуждающим магнитным полем;
прием результирующего магнитного поля одним или более магнитометрами (430); и
определение калибровки электромагнитного датчика на основании результирующего магнитного поля.
19. Способ по п.18, в котором возбуждающее магнитное поле включает в себя многочастотный сигнал.
20. Способ по п.18 или 19, содержащий инициирование вывода калибровочного магнитного поля в соответствующем частотном диапазоне каждой из множества схем (551, 552, 553, 554) калибровки и определение калибровки магнитного датчика в каждом соответствующем частотном диапазоне.
21. Способ по п.18 или 19, содержащий определение разности фаз между возбуждающим магнитным полем и результирующим магнитным полем.
22. Способ по п.18 или 19, содержащий определение периода (820) калибровки и инициирование создания калибровочного магнитного поля в течение периода калибровки схемой калибровки.
23. Способ по п.22, в котором период (820) калибровки представляет собой период между металлическими мишенями.
24. Способ по п.22, в котором период (820) калибровки определяется в соответствии с выходным сигналом от одного или более магнитометров.
25. Способ по п.24, в котором период (820) калибровки определяется на основании отсутствия калибровочного магнитного поля на выходе от одного или более магнитометров (430).
26. Способ по п.22, в котором период (820) калибровки определяется в соответствии с входным сигналом, принятым при технологической обработке.
27. Система для контроля микроструктуры металлической мишени, содержащая:
множество электромагнитных датчиков (420, 430, 440, 450, 551, 552, 553, 554) для вывода магнитного поля, причем возбуждающий сигнал, выводимый каждым из электромагнитных датчиков, представляет собой многочастотный сигнал, детектирования результирующего магнитного поля и вывода сигнала детектирования в ответ на это; и
блок (600) управления, выполненный с возможностью приема сигналов детектирования от множества электромагнитных датчиков (420, 430, 440, 450, 551, 552, 553, 554), определения изменения фазы между выходным магнитным полем и результирующим магнитным полем на каждой из множества частот, формирующих многочастотный сигнал для каждого из множества электромагнитных датчиков (420, 430, 440, 450, 551, 552, 553, 554), и определения микроструктуры металлической мишени на множестве электромагнитных датчиков (420, 430, 440, 450, 551, 552, 553, 554) на основании изменений фазы.
28. Система по п.27, в которой множество электромагнитных датчиков (420, 430, 440, 450, 551, 552, 553, 554) размещается в направлении движения металлической мишени.
29. Система по п.27 или 28, в которой множество электромагнитных датчиков (420, 430, 440, 450, 551, 552, 553 554) разнесены между собой в зоне охлаждения при технологической обработки металлической мишени.
30. Система по п.27 или 28, в которой блок (600) управления выполнен с возможностью определения эволюции микроструктуры металлической мишени.
31. Технологическая обработка, содержащая систему по п.27, причем блок управления выполнен с возможностью вывода сигнала, указывающего превращение фазы металлической мишени, и один или более параметров технологической обработки контролируются в ответ на это.
32. Технологическая обработка по п.31, в которой один или более параметров представляют собой параметры обработки для охлаждения металлической мишени.
33. Способ контроля микроструктуры металлической мишени, содержащий:
вывод магнитного поля, сформированного в ответ на многочастотный сигнал во множестве электромагнитных датчиков (420, 430, 440, 450, 551, 552, 553, 554);
детектирование результирующего магнитного поля во множестве электромагнитных датчиков (420, 430, 440, 450, 551, 552, 553, 554);
определение фазового отклика результирующего магнитного поля относительно выходного магнитного поля на каждой из множества частот, формирующих многочастотный сигнал; и
определение микроструктуры металлической мишени в каждом из множества электромагнитных датчиков (420, 430, 440, 450, 551, 552, 553, 554) на основании фазового отклика.
34. Способ по п.33, в котором микроструктура дополнительно определяется на основании величины результирующего магнитного поля относительно выходного магнитного поля.
35. Способ по п.33 или 34, содержащий определение степени изменения микроструктуры металлической мишени.
36. Способ по любому из пп.33-34, содержащий варьирование одного или более параметров технологической обработки в ответ на определенную микроструктуру.
37. Способ по п.36, в котором один или более параметров содержат параметры охлаждения металлической мишени.