ГАЛЬВАНИЧЕСКАЯ ВАННА ДЛЯ ПОКРЫТИЯ ДЕТАЛЕЙ ЦИЛИНДРИЧЕСКОЙ ФОРМЫ

Полезная модель относится к оборудованию, используемому при получении гальванических покрытий.
Известна ванна для гальванических производств RU 2252278 изготовленная из полимерных материалов имеющая прямоугольную форму. Недостатком данной ванны является сложность получения гальванических покрытий равномерных по толщине. Это обуславливается формой ванны. Для повышения равномерности гальванических осадков необходимо подбирать состав электролита и использовать фигурные электроды. При использовании оптимального взаимного расположения анодов и катодов объем гальванической ванны используется не рационально.
Также известной является подвеска для гальванической обработки деталей SU 1815274 устанавливаемая в гальваническую ванну. Недостатками таких подвесок является их неподвижность в процессе нанесения гальванического покрытия. При такой конструкции прикатодный слой обедняется положительно заряженными ионами, что ухудшает качество покрытия и требует внедрения в гальваническую ванну устройства для перемешивания электролита.
Известна также гальваническая ванна SU 1786192 для осаждения металлов в нестационарных режимах по току и электролиту. Данное изобретение имеет ограниченное использование, так как предназначено в основном для нанесения покрытий на небольшие и специализированные изделия.
Задача полезной модели - повышение равномерности получаемых гальванических покрытий.
Технический результат - создание гальванической ванны, позволяющей наносить равномерные покрытия по толщине на цилиндрические восстанавливаемые детали при отсутствии дополнительных насосов перемещающих электролит в процессе работы ванны.
Технический результат достигается следующим. Неравномерность толщины гальванических покрытий на покрываемой детали объясняется различным сопротивлением между анодом и различными участками катода, а, следовательно, различной действительной плотностью тока на этих участках. Для более равномерного распределения силовых полей между анодом и покрываемыми деталями предлагается использовать в качестве гальванической ванны цилиндрическую емкость. В ней в середине помещается анод, а покрываемые детали размещаются вокруг анода по окружности. С внешней стороны от окружности, на которой находятся детали являющиеся катодами, по окружности располагается дополнительный ряд анодов. Количество анодных электродов находящихся на внешнем анодном круге должно обеспечивать относительно равное сопротивление на всех участках покрываемой детали и корректируется в зависимости от размеров и формы детали. Для улучшения условий формирования покрытия рекомендуется производить перемешивание электролита. Это осуществляется путем вращения катодного круга с покрываемыми деталями. Таким образом, перемешивание электролита происходит за счет движения покрываемых деталей в электролите.
Полезная модель поясняется чертежами. На фиг.1 изображена схема расположения анодов и катодов в плане в проектируемой гальванической ванне. На фиг.2 изображено устройство проектируемой гальванической ванны.
Гальваническая ванна 1 имеет цилиндрическую форму. Внутри ванны располагаются аноды 2, имеющие друг с другом электрическую связь. Один из анодов находится в центре ванны, остальные располагаются по окружности вдоль стенок ванны. Сверху над ванной размещается катодный подвижный круг 3, на котором закрепляются подвесы 4 для размещения восстанавливаемых деталей. Для вращения катодного круга к нему прикрепляется зубчатое колесо 5 из диэлектрического материала. Привод осуществляется посредством конического зубчатого колеса 6 через вал 7 от электродвигателя с редуктором. Подвод отрицательного заряда на катодный круг осуществляется через графитовую колодку 8 прижимаемую пружиной 9. Гальваническая ванна работает следующим образом. Подвесы 4 с восстанавливаемыми деталями размещаются в гальванической ванне между центральным анодом и внешним анодным кругом. При движении восстанавливаемых деталей в электролите обеспечивается перемешивание электролита и покрываемые поверхности проходят через различные участки электрического поля создаваемого неподвижными анодами, что обеспечивает более равномерное нанесение покрытий по толщине.