ПРОЗРАЧНАЯ РАССЕИВАЮЩАЯ ПОДЛОЖКА ДЛЯ ОРГАНИЧЕСКИХ СВЕТОДИОДОВ И СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТАКОЙ ПОДЛОЖКИ

1. Прозрачная рассеивающая подложка для ОСД, включающая следующие последовательные элементы или слои:
(a) прозрачная плоская подложка (1), изготовленная из неорганического стекла, у которого показатель преломления составляет от 1,45 до 1,65,
(b) имеющий низкий коэффициент шероховатости слой, содержащий неорганические частицы, причем вышеупомянутые неорганические частицы прикрепляются к одной стороне подложки посредством полученного по золь-гелевой технологии неорганического связующего материала, неорганические частицы, находящиеся вблизи или на поверхности неорганического связующего материала или выступающие из нее, создают поверхностную шероховатость, которую характеризует среднее арифметическое отклонение Ra, составляющий от 0,15 до 3 мкм, неорганические частицы и неорганический связующий материал имеют показатель преломления, составляющий от 1,45 до 1,65;
(c) имеющий высокий показатель преломления слой, изготовленный из эмали, у которой показатель преломления составляет от 1,8 до 2,1, и покрывающий имеющий низкий коэффициент шероховатости слой.
2. Подложка по п. 1, в которой неорганические частицы имеют средний эквивалентный сферический диаметр, составляющий от 0,3 мкм до 10 мкм, предпочтительно от 0,5 мкм до 8 мкм, предпочтительнее от 0,8 мкм до 7 мкм.
3. Подложка по п. 1 или 2, в которой неорганические частицы представляют собой твердые шарики.
4. Подложка по любому из предшествующих пунктов, в которой в числе неорганических частиц практически отсутствуют частицы, у которых эквивалентный сферический диаметр составляет более чем 15 мкм, предпочтительно более чем 12 мкм.
5. Подложка по любому из предшествующих пунктов, в которой подложка, неорганический связующий материал и неорганические частицы имеют показатель преломления, составляющий от 1,50 до 1,60.
6. Подложка по любому из предшествующих пунктов, в которой толщина имеющего высокий показатель преломления слоя составляет от 3 мкм до 20 мкм, предпочтительно от 4 мкм до 15 мкм и предпочтительнее от 5 мкм до 12 мкм.
7. Подложка по любому из предшествующих пунктов, в которой поверхностная шероховатость имеющего высокий показатель преломления слоя имеет среднее арифметическое отклонение Ra, составляющее менее чем 3 нм, предпочтительнее менее чем 2 нм и наиболее предпочтительно менее чем 1 нм.
8. Подложка по любому из предшествующих пунктов, в которой в имеющем высокий показатель преломления слое практически отсутствуют диспергированные в нем рассеивающие элементы, в частности, отсутствуют диспергированные в нем рассеивающие твердые частицы.
9. Подложка по любому из предшествующих пунктов, в которой в качестве неорганических частиц выбираются частицы диоксида кремния.
10. Подложка по любому из предшествующих пунктов, дополнительно включающая прозрачный электропроводящий слой, покрывающий имеющий высокий показатель преломления слой эмали.
11. Подложка по любому из предшествующих пунктов, в которой объемное соотношение неорганических частиц и неорганического связующего материала составляет от 0,3 до 3, предпочтительно от 0,5 до 2 и предпочтительнее от 0,7 до 1,5.
12. Способ изготовления прозрачной рассеивающей подложки по любому из предшествующих пунктов, включающий следующие последовательные стадии:
(1) получение прозрачной плоской подложки, изготовленной из неорганического стекла, у которого показатель преломления составляет от 1,45 до 1,65;
(2) диспергирование неорганических частиц, у которых показатель преломления составляет от 1,45 до 1,65, в золе, в котором содержится, по меньшей мере, один предшественник неорганического связующего материала, имеющего показатель преломления от 1,45 до 1,65;
(3) нанесение полученной в результате дисперсии на одну сторону подложки;
(4) высушивание и обжиг полученного в результате слоя посредством нагревания в целях получения прозрачного имеющего низкий коэффициент шероховатости слоя, содержащий неорганические частицы и неорганический связующий материал,
(5) нанесение на вышеупомянутый слой, имеющий низкий коэффициент шероховатости, слоя стеклокерамического припоя, имеющего высокий показатель преломления, составляющий от 1,8 до 2,1,
(6) высушивание и плавление вышеупомянутого стеклокерамического припоя в целях получения слоя эмали, имеющего высокий показатель преломления, составляющий от 1,8 до 2,1, и покрывающего имеющий низкий коэффициент шероховатости слой.
13. Способ по п. 12, в котором, по меньшей мере, один предшественник неорганического связующего материала выбирается из группы, которую составляют силикат натрия, калия или лития, тетраалкоксисиланы, алкоксиды титана, алкоксиды алюминия, алкоксиды циркония.
14. Способ по п. 12, в котором высушивание и обжиг на стадии (4) осуществляется посредством нагревания при температуре, составляющей, по меньшей мере, 100°C, предпочтительно от 100°C до 300°C и предпочтительнее от 110°C до 200°C.
15. Способ по любому из пп. 12-14, в котором неорганические частицы имеют средний эквивалентный сферический диаметр, составляющий от 0,3 мкм до 10 мкм, предпочтительно от 0,5 мкм до 8 мкм и предпочтительнее от 0,8 мкм до 7 мкм.