ФОРМА ДЛЯ ГАЛЬВАНОПЛАСТИКИ И СПОСОБЫ ЕЕ ИЗГОТОВЛЕНИЯ

1. Способ (3) изготовления формы (39, 39′), включающий следующие этапы:
a) осаждение (9) токопроводящего слоя на верхней (20) и нижней (22) поверхностях подложки (21), изготовленной из материала на основе кремния;
b) прикрепление (13) указанной пластины к подложке (23) с помощью липкого слоя;
c) удаление (15) одной части (26) указанного проводящего слоя с верхней поверхности пластины (21);
d) травление (17) указанной пластины до удаления проводящего слоя (22) на ее нижней поверхности в форме (26) указанной части, удаленной с проводящего слоя (22) на ее верхней поверхности, с тем, чтобы получить в указанной форме по меньшей мере одну полость (25).
2. Способ (3) по п.1, отличающийся тем, что после этапа d) он включает следующий этап:
e) установку (19) части (27) на верхнем проводящем слое (20) указанной пластины для получения в указанной форме второго уровня.
3. Способ (3) по п.2, отличающийся тем, что этап е) обеспечивается структурированием светочувствительной смолы фотолитографией.
4. Способ (3) по п.2, отличающийся тем, что этап е) обеспечивается прикреплением части (27), изготовленной из подвергнутого предварительному травлению материала на основе кремния.
5. Способ (3) по п.1, отличающийся тем, что после этапа d) он включает следующий этап:
f) получение фотолитографией в указанной по меньшей мере одной полости (25) стержня (29) для создания в указанной детали отверстия для вала (42).
6. Способ (3) по п.1, отличающийся тем, что клейкий слой (24) и нижний проводящий слой (22) поменяны местами.
7. Способ (3) по п.1, отличающийся тем, что клейкий слой (24) включает светочувствительную смолу.
8. Способ (3) по п.1, отличающийся тем, что подложка (23) включает материал на основе кремния.
9. Способ (3) по п.8, отличающийся тем, что он включает следующий этап:
d′) травление (17) подложки (23) до нижнего проводящего слоя (22) для получения в форме (39′) по меньшей мере одной выемки (35).
10. Способ (3) по п.9, отличающийся тем, что после этапа d′) он включает следующий этап:
е′) установку части на проводящем слое, осажденном на нижней поверхности подложки (23), для образования в форме (39′) дополнительного уровня.
11. Способ (3) по п.9, отличающийся тем, что после этапа d′) он включает следующий этап:
f) получение в указанной по меньшей мере одной полости (35) стержня (37) для получения в указанной детали (41′) отверстия (42′) для вала.
12. Способ (3) по п.1, отличающийся тем, что этап d) включает следующие стадии:
g) структурирование защитной маски фотолитографией с использованием светочувствительной смолы на не удалявшемся участке верхнего проводящего слоя;
h) выполнение анизотропного травления пластины на частях, которые не были покрыты указанной защитной маской;
i) удаление защитной маски.
13. Способ (3) по п.1, отличающийся тем, что этап d) включает следующую стадию:
h′) выполнение анизотропного травления пластины, используя верхний проводящий слой в качестве маски для травления пластины в частях, с которых был удален указанный проводящий слой.
14. Способ (3) по п.1, отличающийся тем, что из одной и той же подложки (23) изготавливается несколько форм (39, 39′).
15. Способ (1) изготовления микромеханической детали (41, 41′) с помощью гальванопластики, отличающийся тем, что он включает следующие этапы:
j) изготовление формы (39, 39′) согласно способу (3) по любому из пп.1-14;
k) выполнение (5) электроосаждения присоединением электрода к проводящему слою (22) на нижней поверхности пластины (21), изготовленной из материала на основе кремния, для получения указанной детали в указанной форме;
l) извлечение (7) детали (41, 41′) из указанной формы.
16. Форма (39, 39′) для изготовления микромеханической детали (41, 41′) с помощью гальванопластики, отличающаяся тем, что она включает подложку (23), часть (21), изготовленную из материала на основе кремния, которая устанавливается на указанной подложке, и содержит по меньшей мере одну полость (25), которая раскрывает токопроводящую поверхность (22) указанной подложки, делая возможным проведение электролитического осаждения в указанной по меньшей мере одной полости.
17. Форма (39, 39′) по п.16, отличающаяся тем, что она включает вторую часть (27), которая устанавливается на первой части (21) и включает по меньшей мере одну выемку (28), которая раскрывает в указанной первой части электроизолирующую поверхность (20), и по меньшей мере одну полость (25) для продолжения электроосаждения в указанной по меньшей мере одной выемке после завершения заполнения указанной по меньшей мере одной полости.
18. Форма (39′) по п.16 или 17, отличающаяся тем, что подложка (23) является полученной из материала на основе кремния и имеет по меньшей мере одну полость (35), которая раскрывает токопроводящую поверхность (22) указанной подложки, делая возможным прохождение электролитического осаждения в указанной по меньшей мере одной полости.
19. Форма (39′) по п.18, отличающаяся тем, что она включает дополнительную часть, которая устанавливается на подложке (23), и включает по меньшей мере одну выемку, раскрывающую токопроводящую поверхность, и по меньшей мере одну полость (35) в указанной подложке для продолжения электролитического осаждения в указанной по меньшей мере одной выемке после завершения заполнения указанной по меньшей мере одной полости.