ИНТЕРФЕРОМЕТРИЧЕСКИЙ МОДУЛЯТОР В РЕЖИМЕ ПРОПУСКАНИЯ

1. Микромеханическое устройство пропускающего типа, содержащее
подложку,
подвижную перегородку, расположенную на первой стороне подложки, которая содержит частично отражающее зеркало, и
заднюю подсветку, расположенную на второй стороне подложки и выполненную с возможностью излучения света, падающего на вторую сторону подложки,
причем подвижная перегородка выполнена с возможностью перемещения из первого положения во второе положение,
при этом в первом положении подвижной перегородки свет заданного цвета проходит через подвижную перегородку от подложки, а
во втором положении подвижной перегородки по существу весь свет, проходящий через подложку, задерживается.
2. Микромеханическое устройство по п.1, в котором во втором положении подвижной перегородки задерживается по меньшей мере 90% света, падающего на вторую сторону подложки.
3. Микромеханическое устройство по п.2, в котором во втором положении подвижной перегородки задерживается по меньшей мере 95% света, падающего на вторую сторону подложки.
4. Микромеханическое устройство по п.3, в котором во втором положении подвижной перегородки задерживается по меньшей мере 98% света, падающего на вторую сторону подложки.
5. Микромеханическое устройство по п.4, в котором во втором положении подвижной перегородки задерживается по меньшей мере 99% света, падающего на вторую сторону подложки.
6. Микромеханическое устройство по п.5, в котором подвижная перегородка во втором положении определяет по меньшей мере частично оптический интерференционный резонатор, выполненный с возможностью пропускания света с заданными длинами волн, причем подвижная перегородка содержит поглощающий слой, выполненный с возможностью поглощения света с другими длинами волн.
7. Микромеханическое устройство по п.6, отличающееся тем, что поглощающий слой содержит полупроводник.
8. Микромеханическое устройство по п.1, которое дополнительно содержит механический слой, включающий диэлектрический материал.
2
9. Микромеханическое устройство по п.8, отличающееся тем, что диэлектрический материал представляет собой SiN или SiO.
10. Микромеханическое устройство по п.8, дополнительно содержащее тонкий слой металла, нанесенный на верхнюю часть диэлектрического материала.
11. Микромеханическое устройство по п.10, отличающееся тем, что тонкий слой металла представляет собой Au или Ag.
12. Микромеханическое устройство по п.11, отличающееся тем, что подложка выполнена прозрачной.
13. Микромеханическое устройство по п.12, отличающееся тем, что зеркало содержит гибкую посеребренную перегородку.
14. Микромеханическое устройство по п.13, дополнительно содержащее линзу, выполненную с возможностью фокусирования света, выходящего из микромеханического устройства.
15. Микромеханическое устройство пропускающего типа, содержащее первую оптическую стопу и
вторую оптическую стопу, отделенной от первой оптической стопы промежутком,
причем первая оптическая стопа содержит первую по существу прозрачную подложку и расположена между источником света и второй оптической стопой, а
вторая оптическая стопа содержит вторую по существу прозрачную подложку и расположена между первой оптической стопой и линзой.
2
2
16. Микромеханическое устройство по п.15, в котором первая оптическая стопа содержит слой MgF, и вторая оптическая стопа содержит слой MgF.
17. Микромеханическое устройство по п.16, в котором первая оптическая стопа содержит слой SiC, и вторая оптическая стопа содержит слой SiC.
2
2
2
2
2
18. Микромеханическое устройство по п.17, в котором первая оптическая стопа содержит два слоя MgF и два слоя SiC, причем первый слой MgF расположен на подложке, первый слой SiC расположен на первом слое MgF, второй слой MgF расположен на первом слое SiC, а второй слой SiC расположен на втором слое MgF.
2
2
2
2
2
19. Микромеханическое устройство по п.18, в котором вторая оптическая стопа содержит два слоя MgF и два слоя SiC, причем первый слой MgF расположен на подложке, первый слой SiC расположен на первом слое MgF, второй слой MgF расположен на первом слое SiC, а второй слой SiC расположен на втором слое MgF.
20. Микромеханическое устройство пропускающего типа, содержащее
первую оптическую стопу и вторую оптическую стопу, разделенные промежутком,
источник света, расположенный на первой стороне первой оптической стопы и выполненный с возможностью излучения света через первую оптическую стопу ко второй оптической стопе, и
линза, выполненная с возможностью фокусирования света, выходящего из второй оптической стопы,
причем первая оптическая стопа содержит стеклянную подложку, по меньшей мере один материал с показателем преломления больше 2 и по меньшей мере один материал с показателем преломления менее 1,3, а вторая оптическая стопа содержит по меньшей мере один материал с показателем преломления больше 2 и по меньшей мере один материал с показателем преломления менее 1,3.
21. Микромеханическое устройство по п.20, в котором первый материал с более высоким относительным показателем преломления образует трехслойную структуру со вторым материалом с более низким относительным показателем преломления.
22. Микромеханическое устройство по п.21, в котором разность между показателем преломления крайних слоев и среднего слоя максимальна.
23. Микромеханическое устройство по п.20, в котором по меньшей мере один слой содержит диэлектрик.
24. Микромеханическое устройство по п.20, в котором по меньшей мере один слой содержит полупроводник.
25. Микромеханическое устройство по п.20, в котором толщина каждого слоя более чем на 25% превышает длину волны света, падающего на подложку.
26. Интерферометрический модулятор (IMOD) пропускающего типа, содержащий
прозрачную подложку,
первый отражающий слой, расположенный на первой поверхности прозрачной подложки,
подвижную перегородку, содержащую второй отражающий слой, причем второй и первый отражающие слои образуют регулируемый оптический резонатор, и
источник света, причем прозрачная подложка расположена между источником света и подвижной перегородкой, а источник света выполнен с возможностью излучения света, падающего на прозрачную подложку,
при этом регулируемый оптический резонатор задается при движении подвижной перегородки из первого положения во второе, а
в первом положении подвижной перегородки она позволяет проходить длинам волн в диапазоне ультрафиолетового или инфракрасного света и поглощает по существу весь диапазон длин волн падающего видимого света.
27. Интерферометрический модулятор по п.26, в котором первый отражающий слой содержит материал с показателем преломления более 2,0.
28. Интерферометрический модулятор по п.26, в котором первый отражающий слой содержит Au, Ag или SiC.
29. Интерферометрический модулятор по п.п.26, в котором полная длина волны падающего света является конкретной длиной волны.
30. Интерферометрический модулятор по п.26, в котором в первом положении подвижной перегородки при примерно 300 нм максимальное пропускание происходит примерно при 650 нм.
31. Интерферометрический модулятор по п.26, в котором во втором положении подвижной перегородки максимальное пропускание происходит примерно при 450 нм.
32. Интерферометрический модулятор по п.26, дополнительно содержащий линейный поляризатор.
33. Интерферометрический модулятор по п.п.26, дополнительно содержащий оптрон.
34. Интерферометрический модулятор по п.п.26, дополнительно содержащий линзу, выполненную с возможностью фокусирования света, выходящего из подвижной мембраны.