УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ДЛЯ УПРАВЛЕНИЯ ТЕМПЕРАТУРОЙ ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖКИ В ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЙ КАМЕРЕ

1. Способ управления температурой поверхности, по меньшей мере, одной лежащей в технологической камере (12) реактора CVD в опорной выемке (20) опоры (1) держателей подложки на поддерживаемом образованной газовым потоком динамической газовой подушкой (8) держателе (2) подложки (9), причем подвод тепла к подложке (9) осуществляют, по меньшей мере, частично за счет теплопроводности через газовую подушку, причем измеряют температуру поверхности подложки в нескольких местах на поверхности подложки, и для уменьшения отличия этих температур от среднего значения свойства теплопроводности газовой подушки изменяют за счет того, что образующий газовую подушку (8) между поверхностью дна опорной выемки (20) и нижней стороной держателя (2) подложки газовый поток образуют из двух или более газов (17, 18) с различно высокой удельной теплопроводностью, причем состав изменяют в зависимости от измеренных температур поверхности, причем теплопроводность держателя (2) подложки выбирают так и нижнюю сторону подложки (2), а также поверхность дна опорной выемки (20) выполняют так, что температура поверхности подложки при применении лишь одного из обоих газов (17, 18) имеет симметричную относительно оси вращения боковую негомогенность, которую компенсируют или перекомпенсируют посредством изменения состава газового потока.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что за счет изменения состава газа оказывают влияние на ход бокового изменения температуры на поверхности держателя (2) подложки так, что температура на поверхности подложки является постоянной по существу на всей поверхности подложки.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что при применении лишь одного газа (17, 18), в частности сильно теплопроводящего газа, центральная зона держателя (2) подложки теплее, чем краевая зона.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что при применении лишь одного газа (17, 18), в частности слабо теплопроводящего газа, центральная зона держателя (2) подложки холоднее, чем краевая зона.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что за счет изменения управляемых по отдельности образующих газовую подушку (8) газовых потоков отдельных из нескольких относящихся к одной опоре (1) держателей (2) подложки регулируют высоту газовых подушек (8) так, что измеренные средние значения лежат внутри заданного диапазона температур.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что держатели подложки приводят газовым потоком во вращение.
7. Способ по п.6, отличающийся тем, что опору (1) держателей подложки приводят во вращение вокруг центральной оси.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что измерение температуры осуществляют через отверстие (11) крышки (10) технологической камеры.
9. Способ по п.1, отличающийся тем, что температуры поверхности подложки измеряют во время всего процесса обработки и изменяют состав образующего динамическую газовую подушку (8) газового потока во время обработки в зависимости от хода измеренного в радиальном направлении изменения температуры подложки.
10. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют держатель (2) подложки, свойства теплопроводности которого в осевом направлении и/или свойства теплопроводности в различных радиальных положениях являются различными.
11. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют газовую подушку (8), высота которой у края меньше, чем в центре.
12. Устройство для осуществления способа по любому из пп.1-11, содержащее технологическую камеру (12), расположенную в ней опору (1) держателей подложки, по меньшей мере, один держатель (2) подложки, нагреватель для нагревания опоры (1) держателей подложки, оптическое устройство (3) для измерения температуры поверхности, по меньшей мере, одной лежащей на держателе (2) подложки (9) в различных местах на поверхности подложки и подвод (6) газа для подачи газового потока для создания динамической газовой подушки (8) между нижней стороной держателя (2) подложки и поверхностью дна опорной выемки (20) опоры (1) держателей подложки, в которой удерживается держатель (2) подложки, относящееся к подводу (6) газа газовое смесительное устройство (15, 16, 17, 18), предназначенное для регулирования состава газового потока из слабо теплопроводящего и сильно теплопроводящего газа в зависимости от получаемого с помощью измеряющего температуру устройства (3) радиального профиля температуры подложки, причем держатель (2) подложки имеет такую теплопроводность, и нижняя сторона держателя (2) подложки, а также поверхность дна опорной выемки (20) имеют такую форму, что температура поверхности лежащей на держателе (2) подложки (9) при применении лишь одного из обоих газов имеет симметричную относительно оси вращения боковую негомогенность, которая компенсируется или перекомпенсируется посредством изменения состава газового потока.
13. Устройство по п.12, отличающееся тем, что дно (21) опорной выемки (20) имеет по существу симметричную относительно оси вращения неровность и, в частности, изогнуто.
14. Устройство по п.12, отличающееся тем, что противоположная дну (21) опорной выемки (20) нижняя сторона держателя (2) подложки имеет по существу симметричную относительно оси вращения, отклоняющуюся от плоской структуру и, в частности, изогнута.
15. Устройство по п.12, отличающееся тем, что держатель (2) подложки в середине тоньше, чем у края.
16. Устройство по п.12, отличающееся тем, что подложка (9) лежит в образованной краевой перегородкой (23) выемке (22) верхней стороны держателя (2) подложки.