КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКОГО ПОКРЫТИЯ, СОДЕРЖАЩАЯ ПОДАВЛЯЮЩИЙ АГЕНТ, ДЛЯ БЕСПУСТОТНОГО ЗАПОЛНЕНИЯ СУБМИКРОННЫХ ЭЛЕМЕНТОВ ПОВЕРХНОСТИ

1. Способ электролитического осаждения меди на подложку, содержащую элементы поверхности субмикрометрового размера, имеющие размер отверстия 30 нанометров или менее, где способ содержит:
а) контакт электролитической ванны для осаждения меди, содержащей источник ионов меди, один или более ускоряющих агентов и один или более подавляющих агентов, выбранных из соединений формулы I
1
где каждый радикал R независимо выбирается из сополимера этиленоксида и по меньшей мере еще одного С3-С4 алкиленоксида, причем указанный сополимер представляет собой случайный сополимер,
2
1
каждый радикал R независимо выбирается из R или алкила,
m
Х и Y независимо представляют собой спейсерные группы, причем Х имеет независимые значения для каждой повторяющейся единицы, выбранные из С1-С6 алкилена и Z-(O-Z), где каждый радикал Z независимо выбирается из С2-С6 алкилена,
n представляет собой целое число, больше или равное 0,
m представляет собой целое число, больше или равное 1, в частности m равно 1-10,
- содержание этиленоксида в сополимере этиленоксида и С3-С4 алкиленоксида составляет от 30 до 70%,
с подложкой, и
b) создание плотности тока в подложке в течение периода времени, достаточного для заполнения медью элемента поверхности субмикронного размера.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что Х и Y имеют независимые значения, причем Х имеет независимые значения для каждой повторяющейся единицы, выбранные из С1-С4 алкилена.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что подавляющий агент получают из аминных соединений, выбранных из метиламина, этиламина, пропиламина, изопропиламина, н-бутиламина, трет-бутиламина, гексиламина, диметиламина, диэтиламина, циклопентиламина, циклогексиламина, этаноламина, диэтаноламина, триэтаноламина, этилендиамина, 1,3-диаминопропана, 1,4-диаминобутана, 1,5-ди-аминопентана, 1,6-диаминогексана, неопентандиамина, изофорондиамина, 4,9-диоксадекан-1,12-диамина, 4,7,10-триокситриде-кан-1,13-диамина, триэтиленгликоля диамина, диэтилентриамина, (3-(2-аминоэтил)аминопропиламина, 3,3'-иминоди(пропиламина), N,N-бис(3-аминопропил)метиламина, бис(3-диметиламинопро-пил)амина, триэтилентетрамина и N,N'-бис(3-аминопропил)этилен-диамина.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что С3-С4 алкиленоксид выбирается из пропиленоксида.
w
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что молекулярная масса (M) подавляющего агента составляет 6000 г/моль или более.
w
6. Способ по п.5, отличающийся тем, что молекулярная масса (M) подавляющего агента составляет от 7000 до 19000 г/моль.
w
7. Способ по п.5, отличающаяся тем, что молекулярная масса (M) подавляющего агента составляет от 9000 до 18000 г/моль.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что подавляющий агент получают из аминного соединения, содержащего по меньшей мере три активные аминогруппы.
9. Способ по любому из пп.1-8, отличающийся тем, что электролитическая ванна для осаждения меди, кроме того, содержит один или более выравнивающих агентов.
10. Способ по п.1, отличающийся тем, что элементы поверхности имеют коэффициент пропорциональности 4 или более.