СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ УМЕНЬШЕНИЯ СЕРООКИСИ УГЛЕРОДА, СЕРОУГЛЕРОДА, СОЕДИНЕНИЙ КАРБОНИЛОВ МАТАЛЛОВ, СЕРОВОДОРОДА И ЦИАНОВОДОРОДА, АММИАКА И СОЕДИНЕНИЙ МЫШЬЯКА И ХЛОРА В СЫРЬЕВОМ ГАЗЕ

1. Способ уменьшения сероокиси углерода, сероуглерода, соединений карбонилов металлов, сероводорода и циановодорода, аммиака и соединений мышьяка и хлора в сырьевом газе, содержащий стадии контакта газа последовательно с первым очищающим агентом, содержащим активированный уголь, со вторым очищающим агентом, содержащим окись алюминия, с третьим очищающим агентом, содержащим оксид цинка, с четвертым очищающим агентом, содержащим цеолитный материал, и с пятым очищающим агентом, содержащим оксид цинка и оксид меди.
2. Способ по п.1, в котором второй очищающий агент, кроме того, содержит карбонат калия.
3. Способ по п.1, в котором третий очищающий агент, кроме того, содержит оксид меди.
4. Способ по п.1, в котором четвертый очищающий агент состоит из кислотного цеолита.
5. Способ по п.1, в котором пятый очищающий агент, кроме того, содержит окись алюминия.
6. Способ по любому из пп.1-5, кроме того содержащий стадию промывки химическим или физическим растворителем перед контактом газа с первым очищающим агентом.
7. Устройство для уменьшения сероокиси углерода, сероуглерода, соединений карбонилов металлов, сероводорода и циановодорода, аммиака и соединений мышьяка и хлора в сырьевом газе, содержащее, последовательно, первый слой с очищающим агентом, содержащим активированный уголь, второй слой с очищающим агентом, содержащим окись алюминия, третий слой с очищающим агентом, содержащим оксид цинка, четвертый слой с очищающим агентом, содержащим цеолитный материал, и пятый слой с очищающим агентом, содержащим оксид цинка и оксид меди.
8. Устройство по п.7, в котором второй очищающий агент, кроме того, содержит карбонат калия.
9. Устройство по п.7, в котором третий очищающий агент, кроме того, содержит оксид меди.
10. Устройство по п.7, в котором четвертый очищающий агент состоит из кислотного цеолита.
11. Устройство по п.7, в котором пятый очищающий агент, кроме того, содержит окись алюминия.
12. Устройство по п.7, в котором, по меньшей мере, первый, третий и четвертый слои каждый расположен в виде двух параллельных слоев.
13. Устройство по любому из пп.7-12, где устройство дополнительно содержит средства для проведения стадии промывки химическим или физическим растворителем перед контактом газа с первым слоем.