СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ МИКРО- И НАНОСТРУКТУР

Способ формирования тонкопленочных микро- и наноструктур, включающий нанесение металлической пленки на поверхность диэлектрической подложки, локальную абляцию металлической пленки под воздействием сфокусированного лазерного излучения, отличающийся тем, что вместо пленки молибдена используется пленка хрома.