ЭЛЕКТРОННЫЙ ИСПАРИТЕЛЬ, СОДЕРЖАЩИЙ НАГРЕВАТЕЛЬНУЮ КОНСТРУКЦИЮ С УГЛУБЛЕННЫМ ОБОЛОЧКОВЫМ СЛОЕМ

1. Электронный испаритель, содержащий
участок, предшествующий образованию пара, выполненный с возможностью удержания и подачи состава, предшествующего образованию пара; и
нагревательную конструкцию, расположенную в тепловом контакте с участком, предшествующим образованию пара, при этом нагревательная конструкция содержит базовую проволоку и оболочковый слой, покрывающий базовую проволоку, причем базовая проволока изолирована от оболочкового слоя, при этом оболочковый слой содержит по меньшей мере одну углубленную часть между первой неуглубленной частью и второй неуглубленной частью, причем указанная по меньшей мере одна углубленная часть представляет собой более тонкую секцию оболочкового слоя, которая выполнена с возможностью испарения состава, предшествующего образованию пара, с образованием пара.
2. Электронный испаритель по п. 1, в котором участок, предшествующий образованию пара, содержит резервуар и подающую промежуточную поверхность.
3. Электронный испаритель по п. 2, в котором указанная по меньшей мере одна углубленная часть оболочкового слоя расположена с возможностью прижимания к подающей промежуточной поверхности участка, предшествующего образованию пара.
4. Электронный испаритель по п. 1, 2 или 3, в котором базовая проволока представляет собой анодированную проволоку.
5. Электронный испаритель по любому из предыдущих пунктов, в котором базовая проволока представляет собой проволоку на основе переходного металла, покрытую стекловидной эмалью.
6. Электронный испаритель по любому из предыдущих пунктов, в котором первая неуглубленная часть отделена от второй неуглубленной части указанной по меньшей мере одной углубленной частью оболочкового слоя, при этом указанная по меньшей мере одна углубленная часть выполнена с возможностью достижения температуры, которая по меньшей мере вдвое больше температуры первой и второй неуглубленных частей при течении тока через оболочковый слой.
7. Электронный испаритель по любому из предыдущих пунктов, в котором толщина указанной по меньшей мере одной углубленной части оболочкового слоя находится в диапазоне от 0,01 микрометра до 1 микрометра.
8. Электронный испаритель по любому из предыдущих пунктов, в котором толщина первой и второй неуглубленных частей оболочкового слоя находится в диапазоне от 10 микрометров до 100 микрометров.
9. Электронный испаритель по любому из предыдущих пунктов, в котором первая и вторая неуглубленные части оболочкового слоя соединены с противоположными выводами источника питания.
10. Электронный испаритель по любому из предыдущих пунктов, в котором указанная по меньшей мере одна углубленная часть оболочкового слоя имеет удельное сопротивление в диапазоне от 0,02 мкОм·м до 0,2 мкОм·м.
11. Электронный испаритель по любому из предыдущих пунктов, в котором указанная по меньшей мере одна углубленная часть представлена в виде первой углубленной части и второй углубленной части, при этом первая и вторая углубленные части расположены между противоположными сторонами первой и второй неуглубленных частей, причем первая и вторая углубленные части обмотаны вокруг базовой проволоки.
12. Электронный испаритель по любому из пп. 1-10, в котором по меньшей мере часть указанной по меньшей мере одной углубленной части проходит вдоль нелинейного пути в пределах плоскости.
13. Электронный испаритель по п. 12, в котором по меньшей мере часть каждой из первой и второй неуглубленных частей проходит под углом относительно плоскости.
14. Способ образования пара для электронного испарителя, при этом способ включает
обеспечение теплового контакта участка, предшествующего образованию пара, внутри электронного испарителя с нагревательной конструкцией, при этом нагревательная конструкция содержит базовую проволоку и оболочковый слой, покрывающий базовую проволоку, причем базовая проволока изолирована от оболочкового слоя, при этом оболочковый слой содержит по меньшей мере одну углубленную часть между первой неуглубленной частью и второй неуглубленной частью.
15. Способ по п. 14, в котором обеспечение теплового контакта включает нагревание состава, предшествующего образованию пара, участка, предшествующего образованию пара, с указанной по меньшей мере одной углубленной частью оболочкового слоя с образованием пара.