СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МНОГОСЛОЙНОГО МНОГОФУНКЦИОНАЛЬНОГО ПОКРЫТИЯ

2
Способ получения многослойного многофункционального покрытия, включающем ионную очистку подложки в среде аргона методом тлеющего разряда и нанесение слоев Ti и TiAlN методом магнетронного распыления, отличающийся тем, что ионную очистку и нанесение слоев покрытия осуществляют с использованием дуальной магнетронной системы, при этом ионную очистку проводят при давлении аргона 0,27-0,28 Па, высоком напряжении на подложке 1000-1200 эВ и включенных на малых разрядных токах 1-2 А титановом и алюминиевом магнетронах в течение 5-6 мин, нагревая подложку до температуры 473-523 К, после ионной очистки высокое напряжение снижают до опорного -50 В и наносят подслой титана Ti и переходный слой нитрида титана TiN магнетронным распылением титановой мишени и чередующиеся слои нитрида титана и алюминия Ti-Al-N с нанокристаллической и поликристаллической структурой, при этом подслой титана Ti наносят в среде аргона при давлении 0,27-0,28 Па, увеличивая разрядный ток на титановой мишени до 13,5 А в течение 6-8 мин, переходный слой нитрида титана TiN наносят в газовой смеси азота и аргона при парциальном давлении 0,27-0,28 Па и увеличении разрядного тока на титановой мишени до 14,5-15,0 А в течение 8-10 мин, а чередующиеся слои нитрида титана и алюминия Ti-Al-N с нанокристаллической и поликристаллической структурой наносят в газовой смеси азота и аргона при их соотношении N/Ar:12/88% и тех же значениях давления газовой смеси, при этом при осаждении слоя Ti-Al-N с нанокристаллической структурой магнетронное распыление проводят при работающей титановой мишени и увеличении разрядного тока на алюминиевой мишени до 14,5-15,0 А в течение не менее 185-190 мин, а при осаждении слоя Ti-Al-N с поликристаллической структурой магнетронное распыление проводят, снижая разрядный ток на титановой и алюминиевой мишенях до 13,0-14,0 А и увеличивая величину опорного напряжения до - (55-60) В в течение не менее 110-115 мин, причем осаждение чередующихся слоев повторяют не менее двух раз и верхним наносят слой Ti-Al-N с нанокристаллической структурой, при этом нанесение слоев проводят на расстоянии от мишеней до подложки 140-150 мм, со скоростью вращения подложки 20-25 об/мин и температуре подложки 473-523 К.