СПОСОБ ОДНОВРЕМЕННОГО ПОЛУЧЕНИЯ БОЛЬШОГО ЧИСЛА ОДИНАКОВЫХ НАНОСТРУКТУР ПРОИЗВОЛЬНО ЗАДАННОЙ ФОРМЫ НА ПОВЕРХНОСТИ

1. Способ получения наноструктур на поверхности путем осаждения материала наноструктур на подложку в вакууме, отличающийся тем, что одновременно создается большое количество одинаковых наноструктур произвольной формы.
2. Способ получения наноструктур на поверхности путем осаждения материала наноструктур на подложку в вакууме, отличающийся тем, что материал создаваемых наноструктур - любой материал, из которого можно сформировать поток частиц в вакууме (атомы, молекулы, кластеры и т.д.).
3. Способ получения наноструктур на поверхности путем осаждения через отверстия материала наноструктур на подложку в вакууме, отличающийся тем, что используются две отдельные маски с отверстиями, при этом одна из них задает форму получаемых наноструктур, а другая - минимальный размер получаемых наноструктур.
4. Способ получения наноструктур на поверхности путем осаждения через отверстия материала наноструктур на подложку в вакууме, отличающийся тем, что размер получаемых наноструктур определяется отношением взаимных расстояний между двумя масками с отверстиями, через которые происходит осаждение материала наноструктур, и подложкой, на которой происходит получение наноструктур.