ВЕНТИЛЯЦИЯ ФУТЕРОВКИ СОСУДА ПОД ДАВЛЕНИЕМ ЧЕРЕЗ НАНОСТРУКТУРИРОВАННУЮ ПОВЕРХНОСТЬ

1. Сосуд под давлением, включающий в себя:
футеровку, имеющую внешнюю поверхность;
оболочку, обеспеченную на внешней поверхности; и
вентиляционный канал, образованный на, по меньшей мере, участке внешней поверхности, причем вентиляционный канал имеет наноструктурированную поверхность, которая является достаточно мелкой, чтобы материал оболочки не полностью проникал в наноструктурированную поверхность, а плавал на выступах наноструктурированной поверхности, тем самым оставляя пористый вентиляционный путь для газа во впадинах наноструктурированной поверхности.
2. Сосуд под давлением по п. 1, в котором вентиляционный канал имеет вытянутую форму.
3. Сосуд под давлением по п. 2, в котором вентиляционный канал выровнен по существу параллельно продольной оси сосуда под давлением.
4. Сосуд под давлением по любому из пп. 1-3, в котором сосуд под давлением имеет цилиндрический участок, и в котором вентиляционный канал продолжается, по меньшей мере, от цилиндрического участка до конца сосуда под давлением.
5. Сосуд под давлением по п. 4, в котором вентиляционный канал продолжается, по меньшей мере, до продольной середины сосуда под давлением.
6. Сосуд под давлением по любому из пп. 1-5, в котором конец вентиляционного канала находится на горловине штуцера.
7. Сосуд под давлением по любому из пп. 1-6, в котором конец вентиляционного канала открыт в атмосферу.
8. Сосуд под давлением по любому из пп. 1-7, в котором наноструктурированная поверхность включает в себя множество выступов и впадин, и в котором расстояние между смежными выступами находится в диапазоне от около 5 микрометров до около 20 микрометров.
9. Сосуд под давлением, имеющий первый конец и второй конец, причем сосуд включает в себя:
футеровку, имеющую внешнюю поверхность;
оболочку, обеспеченную на внешней поверхности;
первый продольный вентиляционный канал; и
второй продольный вентиляционный канал;
при этом, по меньшей мере, один из первого или второго продольных вентиляционных каналов образован на, по меньшей мере, участке внешней поверхности, первый или второй продольный вентиляционный канал имеет наноструктурированную поверхность, которая является достаточно мелкой, чтобы материал оболочки не полностью проникал в наноструктурированную поверхность, а плавал на выступах наноструктурированной поверхности, тем самым оставляя пористый вентиляционный путь для газа во впадинах наноструктурированной поверхности; и
причем первый продольный вентиляционный канал смещен по окружности вокруг сосуда под давлением от второго продольного вентиляционного канала.
10. Сосуд под давлением по п. 9, в котором, по меньшей мере, один из первого или второго продольных вентиляционных каналов выровнен по существу параллельно продольной оси сосуда под давлением.
11. Сосуд под давлением по п. 9 или 10, в котором, по меньшей мере, один из первого или второго продольных вентиляционных каналов содержит наноструктурированный участок на штуцере.
12. Сосуд под давлением по любому из пп. 9-11, в котором сосуд под давлением имеет цилиндрический участок, и в котором, по меньшей мере, один из первого или второго продольных вентиляционных каналов продолжается, по меньшей мере, от цилиндрического участка до штуцера.
13. Сосуд под давлением по любому из пп. 9-12, в котором конец, по меньшей мере, одного из первого или второго продольных вентиляционных каналов находится на горловине штуцера.
14. Сосуд под давлением по любому из пп. 9-13, в котором конец, по меньшей мере, одного из первого или второго продольных вентиляционных каналов открыт в атмосферу.
15. Сосуд под давлением по любому из пп. 9-14, в котором, по меньшей мере, один из первого или второго продольных вентиляционных каналов продолжается, по меньшей мере, до продольной середины сосуда под давлением.
16. Сосуд под давлением по любому из пп. 9-15, в котором наноструктурированная поверхность включает в себя множество выступов и впадин, и в котором расстояние между смежными выступами находится в диапазоне от около 5 микрометров до около 20 микрометров.
17. Способ изготовления сосуда под давлением, включающий в себя этапы, на которых:
образуют футеровку, имеющую внешнюю поверхность;
обеспечивают наноструктурированную поверхность на участке внешней поверхности для образования вентиляционного канала, причем наноструктурированная поверхность является достаточно мелкой, чтобы материал оболочки не полностью проникал в наноструктурированную поверхность, а плавал на выступах наноструктурированной поверхности, тем самым оставляя пористый вентиляционный путь для газа во впадинах наноструктурированной поверхности; и
образуют оболочку на внешней поверхности.
18. Способ по п. 17, в котором обеспечение наноструктурированной поверхности включает в себя лазерное травление.
19. Способ по п. 17, в котором обеспечение наноструктурированной поверхности включает в себя химическое травление.