ПРОДУКТЫ ДЛЯ УХОДА ЗА ПОЛОСТЬЮ РТА, СОДЕРЖАЩИЕ ЧЕТЫРЕХОСНОВНЫЙ ХЛОРИД ЦИНКА И ТРИМЕТИЛГЛИЦИН

1. Композиция для ухода за полостью рта, содержащая смесь четырехосновного галогенида цинка и триметилглицина (TMG), в свободной форме или в форме перорально приемлемой соли.
2. Композиция по п. 1, в которой галогенид выбран из хлорида, бромида и фторида.
3. Композиция по п. 1 или 2, в которой галогенид представляет собой хлорид.
4. Композиция по п. 1, в которой TMG представлен в форме перорально приемлемой кислотно-аддитивной соли.
5. Композиция по п. 1 или 2, в которой TMG представлен в виде хлористоводородной соли.
6. Композиция по п. 1 или 2, в которой количество цинка составляет 0,05-4% масс.
7. Композиция по п. 1 или 2, в которой четырехосновный галогенид цинка солюбилизирует в составе, но обеспечивает осаждение цинка при использовании и разбавлении слюной и/или при промывании.
8. Композиция по п. 1 или 2, в которой смесь четырехосновного галогенида цинка и TMG получают перед введением в композицию для ухода за полостью рта.
9. Композиция по п. 1 или 2 в форме зубной пасты, геля, жидкости для полоскания рта, порошка, крема, полоски или жевательной резинки.
10. Композиция по п. 1 или 2, дополнительно содержащая эффективное количество источника фторид-ионов.
11. Композиция по п. 1 или 2, содержащая перорально приемлемое основание, содержащее ингредиенты, выбранные из абразивных веществ, буферных веществ, увлажнителей, поверхностно-активных веществ, загустителей, полосок или фрагментов из смолы, освежителей для полости рта, вкусовых веществ, ароматизирующих веществ, окрашивающих веществ, антибактериальных средств, отбеливающих веществ, веществ, которые препятствуют или предотвращают прикрепление бактерий, источников кальция, источников фосфата, перорально приемлемых
солей калия и анионных полимеров, и комбинации двух или более из них.
12. Композиция по п. 1 или 2, в которой рН смеси перед добавлением композиции составляет от рН 5 до рН 6.
13. Композиция по п. 1 для использования для уменьшения и ослабления кислотной эрозии эмали зубов, уменьшения биопленки, образуемой бактериями, и зубного налета, уменьшения неприятного запаха изо рта, уменьшения воспаления десен, подавления развития кариеса и образования полостей и/или снижения повышенной чувствительности дентина.
14. Ионный комплекс, содержащий четырехосновной галогенид цинка, TMG и анионные соединения.
15. Применение четырехосновного галогенида цинка вместе с TMG в производстве продукта для ухода за полостью рта.
16. Способ лечения или уменьшения эрозии зубной эмали, чистки зубов, уменьшения биопленки, образуемой бактериями, и зубного налета, уменьшения воспаления десен, ингибирования кариеса и образования полостей и/или уменьшения повышенной чувствительности дентина, включающий нанесение композиции по любому из пп. 1-13 на зубы.
17. Комплекс четырехосновный галогенид цинка-триметилглицин.