КУМУЛЯТИВНЫЙ ЗАРЯД

Предложенное техническое решение относится к военной технике, в частности, к устройству кумулятивных зарядов.
6
Известен кумулятивный заряд, состоящий из заряда взрывчатого вещества, помещенного в оболочку с конусообразной кумулятивной выемкой. Конусообразная кумулятивная выемка выполнена в виде центральных сопряженных V-образных элементов и дополнительных плоскостей. Дополнительные плоскости пересекаются между собой с образованием периферийных V-образных выемок. Дополнительные плоскости пересекаются с основанием заряда с образованием невыпуклого многоугольника. Его внутренние вершины соединяются с вершиной выемки ребрами центральных V-образных элементов, а внешние вершины шестнадцатью ломаными линиями, звеньями которых являются ребра дополнительных выемок и линии сопряжения, центральных V-образных элементов (РФ патент №2077695, МПК F 42 В 1/02).
Недостатком данного заряда является увеличенные габариты за счет конусообразности кумулятивной выемки. Соответственно увеличивается масса взрывчатого вещества и материальные затраты на дробление. Кроме того, конструктивные особенности заряда ограничивают область его использования.
Известен кумулятивный заряд, содержащий корпус с головной частью, размещенный в нем заряд взрывчатого вещества с конической выемкой и взрывательное устройство в донной части. Выемка имеет несколько треугольных борозд вдоль образующей конуса. На наружной
6
поверхности заряда размещены ленточные заряды из взрывчатого вещества со скоростью детонации, в 3-6 раз большей скорости детонации взрывчатого вещества заряда (РФ патент №2062432, МПК F 42 В 1/02).
Недостатком известного устройства является его недостаточно высокая пробивная способность из-за несоосного расположения кумулятивной облицовки и корпуса кумулятивного заряда с разрывным зарядом взрывчатого вещества, как результат, непрямое падения фронта детонационной волны на облицовку.
Задачей технического решения, является повышение пробивной способности кумулятивного заряда путем соосного расположения облицовки кумулятивной выемки с корпусом и зарядом взрывчатого вещества.
Сущность предложенного технического решения заключается в том, что кумулятивный заряд, содержащий корпус, размещенный в нем заряд взрывчатого вещества с конической кумулятивной облицовкой, выполненной в виде центральных сопряженных V-образных элементов, основание конической кумулятивной облицовки выполнено в виде полой призмы, а на ребрах призмы по всей длине располагаются прямоугольные выступы, причем на корпусе со стороны головного обтекателя для крепления кумулятивной облицовки имеются прямоугольные пазы, ответные выступам на вершинах основания кумулятивной облицовки, при этом основание призмы имеет вид звезды, число вершин которой определяется выражением N=2n, n - целое от 2...6.
Сущность технического решения поясняется чертежами, где на фиг.1 показан общий вид заряда; на фиг.2 вид сверху; на фиг.3 общий вид кумулятивной облицовки.
Кумулятивный заряд состоит из корпуса 1, в котором размещен заряд взрывчатого вещества 2 с выемкой, имеющий в передней части обтекатель 3, взрыватель 4 в хвостовой части. В выемке размещена коническая кумулятивная облицовка 5, имеющая по образующей несколько центральных сопряженных V-образных элементов 6. Основание кумулятивной облицовки 5 выполнено в виде полой призмы 7. На ребрах призмы 7 по всей длине выполнены прямоугольные выступы 8. На корпусе 1 со стороны головного обтекателя 3 для крепления кумулятивной облицовки 5 выполнены прямоугольные пазы 9, ответные выступам 8 на вершинах основания кумулятивной облицовки 5.
Кумулятивный заряд работает следующим образом.
При срабатывании взрывателя 4 по взрывчатому веществу 2 распространяется детонационная волна, которая достигает вершины кумулятивной облицовки 5 и выходит на плоскости центральных V-образных элементов 6. При этом обеспечивается прямое падение фронта детонационной волны на плоскости центральных V-образных элементов 6 кумулятивной облицовки 5, за счет того, что на корпусе 1 со стороны головного обтекателя 3 выполнены прямоугольные пазы 9, в которых крепится кумулятивная облицовка 5, благодаря выступам 8 на ребрах призмы 7, тем самым достигается соосное расположение кумулятивной облицовки 5 с корпусом 1 и зарядом взрывчатого вещества 2. Формирование центральной кумулятивной струи происходит за счет направленного движения продуктов детонации от центральных V-образных элементов 6. По мере продвижения детонационной волны, процесс формирования центральной кумулятивной струи характеризуется последовательным увеличением концентрации энергии по оси заряда, за счет увеличения параметров кумулятивных «ножей» центральных V-образных элементов 6.