ОПТИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО, СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МАСТЕР-КОПИИ, ИСПОЛЬЗУЕМОЙ ПРИ ИЗГОТОВЛЕНИИ ОПТИЧЕСКОГО УСТРОЙСТВА, И ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЬ

1. Оптическое устройство, характеризующееся тем, что
имеет множество структур с возвышенными участками или углубленными участками, расположенными с коротким шагом, равным или короче, чем длина волны видимого света, на поверхности основания, при этом:
структуры размещены так, что образуют множество рядов в виде дугообразных дорожек на поверхности основания и образуют конфигурацию квазишестиугольной решетки, а
структура имеет форму эллиптического конуса или усеченного эллиптического конуса, имеющего главную ось в направлении вдоль дугообразных дорожек.
2. Оптическое устройство по п.1, характеризующаяся тем, что
шаг Р1 размещения структур на одной дорожке длиннее, чем шаг Р2 размещения структур между двумя соседними дорожками.
3. Оптическое устройство по п.1, характеризующееся тем, что
при шаге Р1 размещения структур на одной дорожке, и шаге Р2 размещения структур между двумя соседними дорожками отношение Р1/Р2 удовлетворяет условию 1,00<Р1/Р2≤1,32.
4. Оптическое устройство по п.1, характеризующееся тем, что
структуры имеют форму эллиптического конуса или усеченного эллиптического конуса, имеющего главную ось в направлении вдоль дугообразных дорожек и имеющего более крутой наклон на среднем участке, чем на верхнем и нижнем участках.
5. Оптическое устройство по п.1, характеризующееся тем, что
высота или глубина структур дугообразных дорожек в направлении вдоль окружности меньше, чем высота или глубина структур дугообразных дорожек в радиальном направлении.
6. Оптическое устройство по п.1, характеризующееся тем, что
отношение размеров находится в диапазоне 0,81-1,46.
7. Оптическое устройство по п.5, характеризующееся тем, что:
отношение размеров находится в диапазоне 0,94-1,28.
8. Оптическое устройство по п.1, характеризующееся тем, что отношение размеров находится в диапазоне 0,94-1,46.
9. Оптическое устройство по п.1, характеризующееся тем, что
отношение размеров находится в диапазоне 0,81-1,28.
10. Оптическое устройство по п.1, характеризующееся тем, что
шаг Р1 размещения структур на одной и той же дорожке находится в диапазоне 300 - 350 нм, а шаг Р2 размещения структур между двумя соседними дорожками находится в диапазоне 265 - 300 нм.
11. Оптическое устройство по п.1, характеризующееся тем, что
указанное множество структур выполнено на поверхности падения света и на поверхности выхода света.
12. Способ изготовления мастер-копии, предназначенной для использования при производстве оптического устройства, в котором множество структур с возвышенными участками или углубленными участками расположены с коротким шагом, равным или короче, чем длина волны видимого света, характеризующийся тем, что содержит
первый этап, на котором готовят подложку, со сформированным на поверхности слоем резиста;
второй этап, на котором формируют скрытое изображение с шагом короче, чем длина волны видимого света, путем периодического облучения лазерным лучом слоя резиста при вращении подложки и относительном перемещении лазерного луча в радиальном направлении относительно вращения подложки; и
третий этап, на котором формируют конфигурацию резиста на поверхности подложки посредством проявления слоя резиста, при этом
на втором этапе формируют скрытое изображение так, что оно имеет эллиптическую форму с основной осью в направлении вращения подложки, и имеет конфигурацию квазишестиугольной решетки в трех соседних рядах-дорожках.
13. Способ изготовления мастер-копии для использования при производстве оптического устройства по п.12, характеризующийся тем, что
на втором этапе облучают слой резиста лазерным лучом при изменении периода облучения для каждой дорожки.
14. Способ изготовления мастер-копии для использования при производстве оптического устройства по п.12, характеризующееся тем, что
шаг формирования скрытого изображения на одной и той же дорожке устанавливают более длинным, чем шаг формования скрытого изображения между двумя соседними дорожками.
15. Способ изготовления мастер-копии, предназначенный для использования при производстве оптического устройства по п.12, характеризующийся тем, что
подложку вращают с постоянной угловой скоростью.
16. Способ изготовления мастер-копии, предназначенной для использования при производстве оптического устройства по п.12, способ, характеризующийся тем, что дополнительно содержит:
четвертый этап, на котором выполняют травление, используя конфигурацию резиста в качестве маски, для формирования неровной структуры на поверхности подложки, после третьего этапа.
17. Способ изготовления мастер-копии для использования при производстве оптического устройства по п.16, характеризующийся тем, что
на четвертом этапе поочередно выполняют озоление конфигурации резиста и травление поверхности подложки.
18. Способ изготовления мастер-копии для использования при производстве оптического устройства по п.17, характеризующийся тем, что
озоление резиста и травление поверхности подложки выполняют поочередно при установке времени озоления равном определенному периоду и при постепенном увеличении времени травления, затем при установке времени озоления равном определенному периоду и постепенном уменьшении времени травления.
19. Способ изготовления мастер-копии для использования при производстве оптического устройства по п.17, характеризующийся тем, что
поочередно выполняют озоление резиста и травление поверхности подложки при установке времени озоления и времени травления равными определенному периоду соответственно.
20. Фотоэлектрический преобразователь, содержащий:
слой фотоэлектрического преобразования и
пропускающее свет оптическое устройство, выполненное на светопринимающей части слоя фотоэлектрического преобразования, при этом
оптическое устройство имеет множество структур с возвышенными участками или углубленными участками, расположенными на светопринимающей поверхности с коротким шагом, равным или короче, чем длина волны видимого света,
причем структуры расположены так, что образуют множество дугообразных дорожек на поверхности падения света, и образуют конфигурацию квазишестиугольной решетки,
указанная структура имеет форму эллиптического конуса или форму усеченного эллиптического конуса, имеющего главную ось в направлении вдоль дугообразных дорожек.
21. Фотоэлектрический преобразователь по п.20, характеризующийся тем, что
слой фотоэлектрического преобразования имеет слоистую структуру, сформированную из полупроводникового слоя и слоя электролита, размещенных между первым электродом и вторым электродом.