ЭЛЕКТРОФОТОГРАФИЧЕСКИЙ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ ЭЛЕМЕНТ, ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ КАРТРИДЖ И ЭЛЕКТРОФОТОГРАФИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО
ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE ELEMENT, PROCESS CARTRIDGE AND ELECTROPHOTOGRAPHIC DEVICE

Область техники
Данное изобретение относится к электрофотографическому фоточувствительному элементу, и технологическому картриджу и электрофотографическому устройству, включающим электрофотографический фоточувствительный элемент.
Предшествующий уровень техники
В отношении электрофотографического фоточувствительного элемента с применением органического фотопроводящего материала (органического электрофотографического фоточувствительного элемента) в последние годы проводились интенсивные исследования и разработки.
Электрофотографический фоточувствительный элемент в основном включает основу и фоточувствительный слой, сформированный на основе. Фактически, тем не менее, различные слои располагают во многих случаях между основой и фоточувствительным слоем с целью, например, покрывания дефектов на поверхности основы, защиты фоточувствительного слоя от электрического разрушения, улучшения поляризуемости и улучшения способности к блокированию инжекции зарядов от основы к фоточувствительному слою.
8
13
Из слоев, располагаемых между основой и фоточувствительным слоем, слой, содержащий частицы оксида металла, известен как слой, предоставляемый с целью покрывания дефектов на поверхности основы. Слой, содержащий частицы оксида металла, обычно обладает высокой электропроводностью (например, первоначальным объемным удельным сопротивлением от 1,0×10 Ом·см до 2,0×10 Ом·см) по сравнению с ее величиной для слоя, не содержащего частицы оксида металла, и даже если толщина слоя увеличена, возрастание остаточного потенциала во время формирования изображения затруднено. Поэтому, слой, содержащий частицы оксида металла, легко покрывает дефекты на поверхности основы. Когда такой слой, обладающий высокой электропроводностью (далее в данном документе называемый как «электропроводный слой») предоставлен между основой и фоточувствительным слоем, чтобы покрывать дефекты на поверхности основы, допустимый интервал дефектов на поверхности основы увеличен. В результате, допустимый интервал используемой основы увеличивается. Соответственно, обеспечивается преимущество в улучшении производительности электрофотографического фоточувствительного элемента.
Патентный документ 1 описывает технологию, включающую применение в электропроводном слое между основой и фоточувствительным слоем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором или вольфрамом. Кроме того, Патентный документ 2 описывает технологию, включающую применение в электропроводном слое между основой и фоточувствительным слоем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, вольфрамом или фтором.
Кроме того, Патентный документ 3 описывает технологию, содержащую включение в нижний слой электрофотографического фоточувствительного элемента, полученного последовательным наслаиванием нижнего слоя, промежуточного слоя и фоточувствительного слоя на электропроводную основу, двух видов частиц оксида металла, имеющих разные средние диаметры частиц. Кроме того, Патентный документ 4 описывает следующую технологию. Два или более вида электропроводных частиц, имеющих разные диаметры первичных частиц, включают в промежуточный слой электрофотографического фоточувствительного элемента, полученного наслаиванием промежуточного слоя и фоточувствительного слоя на электропроводную основу в указанном порядке, отношение «A:B» между средними диаметрами первичных частиц A, имеющих наибольший средний диаметр частиц из электропроводных частиц, и первичных частиц B имеющих наименьший средний диаметр частиц из электропроводных частиц устанавливают от 12:1 до 30:1, и средний диаметр частиц первичных частиц B устанавливают при 0,05 мкм или менее. Кроме того, Патентный документ 4 описывает технологию, включающую применение частиц оксида олова, легированного танталом, в промежуточном слое электрофотографического фоточувствительного элемента.
Кроме того, Патентный документы 5 и 6 описывают каждый технологию, включающую применение частиц оксида олова, легированного ниобием, в электропроводном слое или промежуточном слое между основой и фоточувствительным слоем.
Список ссылок
Патентные документы
Патентный документ 1: Выложенная заявка на патент Японии № 2012-18371
Патентный документ 2: Выложенная заявка на патент Японии № 2012-18370
Патентный документ 3: Выложенная заявка на патент Японии № 2007-187771
Патентный документ 4: Выложенная заявка на патент Японии № 2004-151349
Патентный документ 5: Выложенная заявка на патент Японии № H01-248158
Патентный документ 6: Выложенная заявка на патент Японии № H01-150150
Сущность изобретения
Техническая проблема
В последние годы увеличивается следующая возможность: большое число изображений, идентичных одно другому, выводят из одного и того же электрофотографического фоточувствительного элемента в течение короткого периода времени.
В таком случае, направление перемещения среды для печати (такой как материал для переноса (например, бумага) или промежуточный передающий элемент) в электрофотографическом фоточувствительном элементе и вертикальное направление (продольное направление, когда электрофотографический фоточувствительный элемент является цилиндрическим) не отклоняются одно от другого. Соответственно, например, когда сплошное черное изображение или полутоновое изображение выводят после того, как было выведено непрерывным образом большое число изображений, каждое из которых включает вертикальные линии 306 (линии, параллельные направлению перемещения среды для печати), подобно изображению 301 на Фиг. 4, эффект, называемый памятью рисунка, имеет место на участках, на которых формировались вертикальные линии. Более конкретно, по существу, выводят сплошное черное изображение, подобное изображению 302 на Фиг. 4, и выводят полутоновое изображение, подобное изображению 303 на Фиг. 4. Однако когда сплошное черное изображение выводят после того, как было выведено непрерывным образом большое число изображений, каждое из которых включает вертикальные линии 306, подобно изображению 301 на Фиг. 4, выводимое изображение может быть изображением 304 с вертикальными линиями 307, являющимися следствием повторяющегося гистерезиса вертикальных линий 306 изображения 301 на Фиг. 4. Также в случае полутонового изображения, как и в случае сплошного черного изображения, выводимое изображение может быть изображением 305 с вертикальными линиями 308, являющимися следствием повторяющегося гистерезиса вертикальных линий 306 изображения 301 на Фиг. 4. Часть изображения, где проявляется повторяющийся гистерезис, подобно этим вертикальным линиям 307 и 308, называют памятью рисунка.
В частности, увеличивается следующая возможность по сравнению с прошлым временем в связи с увеличением срока службы электрофотографического фоточувствительного элемента: большое число изображений, идентичных одно другому, выводят из одного и того же электрофотографического фоточувствительного элемента в течение короткого периода времени. Соответственно, также и в случае обычного электрофотографического фоточувствительного элемента, который ранее мог быть использован в достаточной мере, начала проявляться ситуация, когда память рисунка имеет место при выведении большого числа изображений, идентичных одно другому, в течение короткого периода времени. В связи с этим, каждый из электрофотографических фоточувствительных элементов, включающих обычные электропроводные слои, описанных в Патентных документах с 1 по 6, вовлекался иногда в обстоятельства, когда имеет место эффект памяти рисунка.
С другой стороны, в случае электропроводного слоя, содержащего связующий материал и частицы оксида металла, возможно возникновение трещин в электропроводном слое, даже когда объемное удельное сопротивление электропроводного слоя уменьшено лишь посредством увеличения содержания частиц оксида металла в электропроводном слое, с тем, чтобы могло сдерживаться увеличение остаточного потенциала во время формирования изображения. Соответственно, возникает настоятельная потребность в подавлении возникновения эффекта памяти рисунка и подавлении увеличения остаточного потенциала наряду с подавлением возникновения трещин в электропроводном слое.
Принимая во внимание вышеуказанное, данное изобретение направлено на предоставление электрофотографического фоточувствительного элемента, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффект памяти рисунка практически не происходит, и практически не происходит возникновение трещин в электропроводном слое, и технологического картриджа и электрофотографического устройства, включающих такой электрофотографический фоточувствительный элемент.
Решение проблемы
T
1P
2P
T
1P
2P
В соответствии с одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, частицы оксида олова, легированного фосфором, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, в электропроводном слое представлен как V, и общий объем частиц оксида олова, легированного фосфором, в электропроводном слое представлен как V, величины V, V и V удовлетворяют приведенным ниже выражениям (1) и (2).
2P
T
1P
T
2≤{(V/V)/(V/V)}×100≤25 (1)
1P
T
2P
T
15≤{(V/V)+(V/V)}×100≤45 (2)
T
1W
2W
T
1W
2W
В соответствии с другим аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом, частицы оксида олова, легированного вольфрамом, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V, и общий объем частиц оксида олова, легированного вольфрамом, в электропроводном слое представлен как V, величины V, V и V удовлетворяют приведенным ниже выражениям (6) и (7).
2W
T
1W
T
2≤{(V/V)/(V/V)}×100≤25 (6)
1W
T
2W
T
15≤{(V/V)+(V/V)}×100≤45 (7)
T
1F
2F
T
1F
2F
В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором, частицы оксида олова, легированного фтором, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фтором, в электропроводном слое представлен как V, и общий объем частиц оксида олова, легированного фтором, в электропроводном слое представлен как V, величины V, V и V удовлетворяют приведенным ниже выражениям (11) и (12).
2F
T
1F
T
2≤{(V/V)/(V/V)}×100≤25 (11)
1F
T
2F
T
15≤{(V/V)+(V/V)}×100≤45 (12)
T
1Nb
2Nb
T
1Nb
2Nb
В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием, частицы оксида олова, легированного ниобием, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным ниобием, в электропроводном слое представлен как V, и общий объем частиц оксида олова, легированного ниобием, в электропроводном слое представлен как V, величины V, V и V удовлетворяют приведенным ниже выражениям (16) и (17).
2Nb
T
1Nb
2≤{(V/V)/(V/VT)}×100≤25 (16)
1Nb
T
2Nb
15≤{(V/V)+(V/VT)}×100≤45 (17)
T
1Ta
2Ta
T
1Ta
2Ta
В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий: основу; электропроводный слой, сформированный на основе; и фоточувствительный слой, сформированный на электропроводном слое, в котором: электропроводный слой содержит частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом, частицы оксида олова, легированного танталом, и связующий материал; и когда общий объем электропроводного слоя представлен как V, общий объем частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным танталом, в электропроводном слое представлен как V, и общий объем частиц оксида олова, легированного танталом, в электропроводном слое представлен как V, величины V, V и V удовлетворяют приведенным ниже выражениям (21) и (22).
2Ta
T
1Ta
T
2≤{(V/V)/(V/V)}×100≤25 (21)
1Ta
T
2Ta
T
15≤{(V/V)+(V/V)}×100≤45 (22)
В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется технологический картридж, присоединяемый с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства, при этом технологический картридж интегрированным образом поддерживает: вышеописанный электрофотографический фоточувствительный элемент; и по меньшей мере один узел, выбранный из группы, состоящей из узла для зарядки, узла для проявления, узла для переноса и узла для очистки.
В соответствии с еще одним аспектом данного изобретения, предоставляется электрофотографическое устройство, содержащее: вышеописанный электрофотографический фоточувствительный элемент; узел для зарядки; узел для экспонирования; узел для проявления; и узел для переноса.
Преимущества данного изобретения
В соответствии с данным изобретением, предоставлен электрофотографический фоточувствительный элемент, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффект памяти рисунка практически не происходит, и практически не происходит возникновение трещин в электропроводном слое, и технологический картридж и электрофотографическое устройство, включающие такой электрофотографический фоточувствительный элемент.
Другие особенности данного изобретения станут очевидными из представленного ниже описания типичных вариантов осуществления со ссылками на приложенные чертежи.
Краткое описание чертежей
Фиг. 1 представляет собой вид, иллюстрирующий пример схематической конструкции электрофотографического устройства, включающего технологический картридж, имеющий электрофотографический фоточувствительный элемент по данному изобретению.
Фиг. 2 представляет собой вид (вид сверху) для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя.
Фиг. 3 представляет собой вид (вид поперечного сечения) для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя.
Фиг. 4 представляет собой вид (пример изображения) для иллюстрирования эффекта памяти рисунка.
Фиг. 5 представляет собой вид, иллюстрирующий изображение с одноточечным рисунком с шахматным расположением.
Описание вариантов осуществления
Электрофотографический фоточувствительный элемент по данному изобретению представляет собой электрофотографический фоточувствительный элемент, содержащий основу, проводящий слой, сформированный на основе, и фоточувствительный слой, сформированный на проводящем слое.
Фоточувствительный слой может быть однослойным фоточувствительным слоем, полученным включением вещества, генерирующего заряды, и вещества, переносящего заряды, в единственный слой, или может быть многослойным фоточувствительным слоем, полученным наслаиванием слоя для генерации зарядов, содержащего вещество, генерирующее заряды, и слоя для переноса зарядов, содержащего вещество, переносящее заряды. Кроме того, в случае необходимости, промежуточный слой может быть предоставлен между электропроводным слоем и фоточувствительным слоем, сформированными на основе.
Основа, обладающая электропроводностью, (электропроводная основа) является предпочтительной в качестве основы, и, например, может быть использована металлическая основа, сформированная из металла, такого как алюминий, алюминиевый сплав или нержавеющая сталь. В случае применения алюминия или алюминиевого сплава, может быть использована алюминиевая труба, изготовленная способом производства, включающим процесс с экструзией и процесс с волочением, или алюминиевая труба, изготовленная способом производства, включающим процесс экструзии и процесс вытяжки с утонением. Такая алюминиевая труба предоставляет хорошую точность размеров и хорошую чистоту поверхности без резки ее поверхности и является выгодной также с точки зрения затрат. Однако на необработанной поверхности алюминиевой трубы возможны выступающие дефекты в виде задиров. Соответственно, является особенно эффективным предоставление электропроводного слоя.
В электрофотографическом фоточувствительном элементе по данному изобретению любую из представленных ниже комбинаций частиц оксида металла, а также связующий материал используют в электропроводном слое, подлежащем формированию на основе:
(p) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, и частицы оксида олова, легированного фосфором;
(w) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом, и частицы оксида олова, легированного вольфрамом;
(f) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором, и частицы оксида олова, легированного фтором;
(nb) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием, и частицы оксида олова, легированного ниобием, и
(ta) частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом, и частицы оксида олова, легированного танталом.
2
2
Один из признаков заключается в том, что в каждой из комбинаций (p), (w), (f), (nb) и (ta) частиц оксида металла, фосфор (P), вольфрам (W), фтор (F), ниобий (Nb) или тантал (Ta) является общим с элементом, которым легирован оксид олова. Следует заметить, что частицы оксида титана являются частицами оксида титана (TiO), и частицы оксида олова являются частицами оксида олова (SnO).
Далее в данном документе, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фосфором, также называются как «частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного фосфором также называются как «частицы P-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным вольфрамом, также называются как «частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного вольфрамом также называются как «частицы W-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным фтором, также называются как «частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного фтором также называются как «частицы F-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным ниобием, также называются как «частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного ниобием, также называются как «частицы Nb-легированного оксида олова». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, легированным танталом, также называются как «частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова», и частицы оксида олова, легированного танталом также называются как «частицы Ta-легированного оксида олова».
T
1P
2P
T
1P
2P
Кроме того, в электрофотографическом фоточувствительном элементе по данному изобретению, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (p), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V, объем частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V, и объем частиц P-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V, величины V, V, и V удовлетворяют приведенным ниже выражениям (1) и (2).
2P
T
1P
T
2≤{(V/V)/(V/V)}×100≤25 (1)
1P
T
2P
T
15≤{(V/V)+(V/V)}×100≤45 (2)
T
1W
2W
T
1W
2W
Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (w), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V, объем частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V, и объем частиц W-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V, величины V, V, и V удовлетворяют приведенным ниже выражениям (6) и (7).
2W
T
1W
T
2≤{(V/V)/(V/V)}×100≤25 (6)
1W
T
2W
T
15≤{(V/V)+(V/V)}×100≤45 (7)
T
1F
2F
T
1F
2F
Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (f), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V, объем частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V, и объем частиц F-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V, величины V, V, и V удовлетворяют приведенным ниже выражениям (11) и (12).
2F
T
1F
T
2≤{(V/V)/(V/V)}×100≤25 (11)
1F
T
2F
T
15≤{(V/V)+(V/V)}×100≤45 (12)
T
1Nb
2Nb
T
1Nb
2Nb
Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (nb), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V, объем частиц оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V, и объем частиц Nb-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V, величины V, V, и V удовлетворяют приведенным ниже выражениям (16) и (17).
2Nb
T
1Nb
2≤{(V/V)/(V/VT)}×100≤25 (16)
1Nb
T
2Nb
15≤{(V/V)+(V/VT)}×100≤45 (17)
T
1Ta
2Ta
T
1Ta
2Ta
Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (ta), когда общий объем электропроводного слоя представлен как V, объем частиц оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова, в электропроводном слое представлен как V, и объем частиц Ta-легированного оксида олова в электропроводном слое представлен как V, величины V, V, и V удовлетворяют приведенным ниже выражениям (21) и (22).
2Ta
T
1Ta
T
2≤{(V/V)/(V/V)}×100≤25 (21)
1Ta
T
2Ta
T
15≤{(V/V)+(V/V)}×100≤45 (22)
1P
1W
1F
1Nb
1Ta
1
2P
2W
2F
2Nb
2Ta
2
Далее в данном документе, V, V, V, V, и V в собирательном значении также представлены как «V», и V, V, V, V, и V в собирательном значении также представлены как «V». Кроме того, частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, и частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова в собирательном значении также представлены как «первые частицы оксида металла», и частицы P-легированного оксида олова, частицы W-легированного оксида олова, частицы F-легированного оксида олова, частицы Nb-легированного оксида олова и частицы Ta-легированного оксида олова в собирательном значении также представлены как «вторые частицы оксида металла».
2
T
1
T
2
T
1
T
Авторы данного изобретения провели интенсивные исследования в отношении предотвращения возникновения памяти рисунка. В результате, авторы данного изобретения нашли, что эффект памяти рисунка подавляется посредством формирования в электропроводном слое хорошо проводящего пути на протяжении широкого интервала, иными словами, посредством равномерного перемещения зарядов в электропроводном слое. Это, вероятно, обусловлено тем, что локальное задерживание или удерживание зарядов в электропроводном слое практически не происходит. Однако задерживание или удерживание зарядов может не коррелировать в значительной степени с объемным удельным сопротивлением или электрическим сопротивлением электропроводного слоя, поскольку задерживание или удерживание является локальным эффектом. Формирование хорошо проводящего пути в электропроводном слое для подавления эффекта памяти рисунка требует формирования проводящего пути, который проходит как через первые частицы оксида металла, так и через вторые частицы оксида металла. С этой целью, следующая потребность может возникать для подавления эффекта памяти рисунка: вместо формирования электропроводного слоя, содержащего лишь первые частицы оксида металла, или электропроводного слоя, содержащего лишь вторые частицы оксида металла, первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла включают в электропроводный слой при определенном соотношении, и в таком случае образуется проводящий путь, который проходит как через первые частицы оксида металла, так и через вторые частицы оксида металла. А именно, может потребоваться удовлетворение выражению (1), (6), (11), (16) или (21). Когда величина для {(V/V)/(V/V)}×100 составляет менее чем 2, отношение количества вторых частиц оксида металла к количеству первых частиц оксида металла становится недостаточным. Соответственно, полагают, что ситуация становится близкой к той, что имеет место в случае электропроводного слоя, содержащего лишь первые частицы оксида металла, и поэтому проводящий путь, пригодный для подавления возникновения памяти рисунка, не может быть сформирован. С другой стороны, когда величина для {(V/V)/(V/V)}×100 составляет более чем 25, отношение количества вторых частиц оксида металла к количеству первых частиц оксида металла становится чрезмерным. Соответственно, полагают, что ситуация становится близкой к той, что имеет место в случае электропроводного слоя, содержащего лишь вторые частицы оксида металла, и поэтому проводящий путь, пригодный для подавления возникновения памяти рисунка, не может быть сформирован. Когда удовлетворяется приведенное ниже выражение (3), (8), (13), (18) или (23), становится дополнительно существенным подавление эффекта возникновения памяти рисунка, поскольку соотношение между первыми частицами оксида металла и вторыми частицами оксида металла становится соотношением, при котором может быть сформирован проводящий путь, дополнительно пригодный для подавления возникновения памяти рисунка.
2P
T
1P
T
5≤{(V/V)/(V/V)}×100≤20 (3)
2W
T
1W
T
5≤{(V/V)/(V/V)}×100≤20 (8)
2F
T
1F
T
5≤{(V/V)/(V/V)}×100≤20 (13)
2Nb
T
1Nb
T
5≤{(V/V)/(V/V)}×100≤20 (18)
2Ta
T
1Ta
T
5≤{(V/V)/(V/V)}×100≤20 (23)
1
2
T
1
2
T
1
2
T
1
2
T
Кроме того, формирование проводящего пути, который проходит через первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла, в электропроводном слое может требовать, чтобы сумма величин содержания первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла в электропроводном слое находилась в определенном интервале. А именно, может потребоваться удовлетворение выражению (2), (7), (12), (17) или (22). Когда величина для {(V+V)/V}×100 составляет менее чем 15, склонно происходить задерживание или удерживание зарядов в электропроводном слое, и, следовательно, увеличение остаточного потенциала склонно быть большим в случае повторяющегося применения электрофотографического фоточувствительного элемента. Величина для {(V+V)/V}×100 составляет более предпочтительно 20 или более. С другой стороны, когда величина для {(V+V)/V}×100 составляет более чем 45, количество связующего материала становится слишком малым, и, следовательно, возникновение трещин склонно происходить в электропроводном слое. Величина для {(V+V)/V}×100 составляет более предпочтительно 40 или менее. А именно, более предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (4), (9), (14), (19) или (24).
1P
T
2P
T
20≤{(V/V)+(V/V)}×100≤40 (4)
1W
T
2W
T
20≤{(V/V)+(V/V)}×100≤40 (9)
1F
T
2F
T
20≤{(V/V)+(V/V)}×100≤40 (14)
1Nb
T
2Nb
T
20≤{(V/V)+(V/V)}×100≤40 (19)
1Ta
T
2Ta
T
20≤{(V/V)+(V/V)}×100≤40 (24)
Как описано выше, необходимо удовлетворение выражениям (1) и (2) одновременно, удовлетворение выражениям (6) и (7) одновременно, удовлетворение выражениям (11) и (12) одновременно, удовлетворение выражениям (16) и (17) одновременно или удовлетворение выражениям (21) и (22) одновременно для получения электрофотографического фоточувствительного элемента, в котором остаточный потенциал практически не увеличивается во время формирования изображения, эффект памяти рисунка практически не происходит, и образование трещин в электропроводном слое практически не происходит.
Что касается данного изобретения, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включенная в электропроводный слой, является, например, комбинацией частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным сурьмой, и частиц оксида олова, легированного сурьмой, или комбинацией частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, обедненным кислородом, и частиц оксида олова, обедненного кислородом, подавление эффекта возникновения памяти рисунка ухудшается по сравнению с тем случаем, когда комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, представляет собой комбинацию (p), (w), (f), (nb) или (ta).
Кроме того, даже когда компонентом (легирующей примесью), включаемым для легирования оксида олова, является фосфор, вольфрам, фтор, ниобий или тантал, в случае, в котором компонент, включаемый для легирования оксида олова первых частиц оксида металла, и компонент, включаемый для легирования оксида олова вторых частиц оксида металла, отличаются один от другого, например, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией частиц оксида титана, покрытых оксидом олова, легированным фосфором, и частиц оксида олова, легированного вольфрамом, подавление эффекта возникновения памяти рисунка аналогичным образом ухудшается по сравнению со случаем комбинации (p), (w), (f), (nb) или (ta), в которой легирующие компоненты идентичны один другому. Это, вероятно, обусловлено, следующей причиной: когда компоненты, включаемые для легирования оксида олова первых частиц оксида металла, и компоненты, включаемые для легирования оксида олова вторых частиц оксида металла, идентичны один другому, электрические свойства, поверхностные свойства и рабочие функции первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла становятся по физическим свойствам, близкими в полном объеме друг к другу, и, следовательно, облегчается перемещение зарядов равномерным образом в электропроводном слое.
1P
2P
В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (p), когда отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, представлено как R [ат.%], и отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах P-легированного оксида олова представлено как R [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (5).
2P
1P
0,9≤R/R≤1,1 (5)
1W
2W
В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (w), когда отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, представлено как R [ат.%], и отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах W-легированного оксида олова представлено как R [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (10).
2W
1W
0,9≤R/R≤1,1 (10)
1F
2F
В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (f), когда отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, представлено как R [ат.%], и отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах F-легированного оксида олова представлено как R [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (15).
2F
1F
0,9≤R/R≤1,1 (15)
1Nb
2Nb
Кроме того, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла, включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (nb), когда отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, представлено как R [ат.%], и отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах Nb-легированного оксида олова представлено как R [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (20).
2Nb
1Nb
0,9≤R/R≤1,1 (20)
1Ta
2Ta
В дополнение к этому, в случае, в котором комбинация частиц оксида металла включаемых в электропроводный слой, является комбинацией (ta), когда отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова, представлено как R [ат.%], и отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах Ta-легированного оксида олова представлено как R [ат.%], предпочтительно удовлетворяется приведенное ниже выражение (25).
2Ta
1Ta
0,9≤R/R≤1,1 (25)
1P
1W
1F
1Nb
1Ta
1
2P
2W
2F
2Nb
2Ta
2
Далее в данном документе, R, R, R, R и R в собирательном значении также представлены как «R», и R, R, R, R и R в собирательном значении также представлены как «R».
2
1
2
1
Как представлено выражением (5), (10), (15), (20) или (25), величины относительного содержания фосфора, вольфрама, фтора, ниобия или тантала в оксиде олова первых частиц оксида металла и в оксиде олова вторых частиц оксида металла являются предпочтительно как можно более близкими одна к другой. Иными словами, отношение R/R является предпочтительно как можно более близким к 1.0, и конкретно, отношение составляет предпочтительно от 0,9 или более до 1,1 или менее. Когда отношение R/R составляет от 0,9 или более до 1,1 или менее, образуется проводящий путь, дополнительно пригодный для подавления возникновения памяти рисунка, и, следовательно, подавление эффекта возникновения памяти рисунка становится более значительным.
1
2
1
2
Измерение R и R может быть выполнено посредством сканирующей просвечивающей электронной микроскопии с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX) после отбора образца электропроводного слоя электрофотографического фоточувствительного элемента в соответствии с методом с применением фокусированного ионного пучка (FIB). Кроме того, измерение V и V может быть выполнено методом Slice & View с применением сканирующей электронной микроскопии со сфокусированным ионным пучком (FIB-SEM) после отбора образца электропроводного слоя электрофотографического фоточувствительного элемента в соответствии с методом с применением фокусированного ионного пучка (FIB).
1
2
Вначале описывается измерение R и R.
Отбор образцов для анализа сканирующей просвечивающей электронной микроскопией с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX) выполняли, как описано ниже.
Отбор образцов выполняют с помощью поддерживающего основания, изготовленного из меди (Cu) в соответствии с методом отбора образцов FIB-µ. Прибором, использованным авторами данного изобретения, является FB-2000A µ-Sampling System (торговое наименование) производства компании Hitachi High-Technologies Corporation. Отбор образцов выполняли таким образом, что горизонтальные и продольные размеры образца становились такими размерами, что интервал измерения мог быть обеспечен, и толщина образца становилась 150 нм.
Анализ сканирующей просвечивающей электронной микроскопией с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX) выполняли, как описано ниже.
Авторы данного изобретения выполняли анализ с помощью автоэмиссионного электронного микроскопа высокого разрешения (HRTEM) (торговое наименование: JEM2100F) производства компании JEOL Ltd. и JED-2300T (торговое наименование) (имеющего разрешение 133 эВ или менее) (энергорассеивающего рентгеновского спектроскопа) производства компании JEOL Ltd. в качестве части для энергодисперсионного рентгеноспектрального микроанализа (EDX).
Условия анализа устанавливали, как описано ниже.
Система: Станция проведения анализа (Analysis Station)
Получение изображений: Цифровой микрограф (Digital Micrograph)
Условия измерения: Ускоряющее напряжение: 200 кВ, диаметр пучка (диаметр): 1,0 нм, время измерения: 50 секунд (в точечном анализе) и 40 минут (в анализе методом площадей)
Интервал измерения: длина 3,6 мкм × ширина 3,4 мкм × толщина 150 нм.
Отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах P-легированного оксида олова, отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах W-легированного оксида олова, отношение содержания вольфрама к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах F-легированного оксида олова, отношение содержания фтора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах Nb-легированного оксида олова, отношение содержания ниобия к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах Ta-легированного оксида олова, или отношение содержания тантала к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова может быть определено из атомного отношения, поскольку идентификация элемента может быть выполнена посредством сканирующей просвечивающей электронной микроскопии с энергодисперсионным рентгеноспектральным микроанализом (STEM-EDX).
1
2
1
2
Отбор образцов выполняли подобным образом десять раз, чтобы предоставить десять образцов с последующим их измерением. Среднее значение для суммарных десяти R и среднее значение для суммарных десяти R определяли каждое как величину для R или R в электропроводном слое электрофотографического фоточувствительного элемента в качестве объекта измерения.
1
T
2
T
Далее описано измерение отношений (V/V) и (V/V).
Объем частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и объем частиц P-легированного оксида олова, и их соотношения, в электропроводном слое могут быть определены посредством идентификации оксида олова, легированного фосфором, и оксида титана на основании их разницы в контрасте в методе Slice & View с применением сканирующей электронной микроскопии со сфокусированным ионным пучком (FIB-SEM). Когда компонентом, включаемым для легирования в оксид олова, является элемент, иной, чем фосфор, такой как вольфрам, фтор, ниобий или тантал, объемы и соотношения в электропроводном слое могут быть определены аналогичным образом.
Условия для выполнения метода Slice & View в данном изобретении были установлены такие, как описано ниже.
Отбор образцов для анализа: метод с применением фокусированного ионного пучка (FIB)
Прибор для обработки и обследования: NVision 40 производства компании SII-Zeiss
Интервал между срезами: 10 нм
Условия обследования:
Ускоряющее напряжение: 1,0 кВ
Наклон образца: 54°
WD: 5 мм
Детектор: детектор BSE
Апертура: 60 мкм, высокий ток
Автоматическое регулирование яркости (ABC): ВКЛ
Разрешение изображения: 1,25 нм/пиксель
1
2
T
3
-4
Анализ выполняют в области измерения 2 мкм шириной и 2 мкм длиной, информацию для каждого поперечного сечения интегрируют, и определяют объемы V и V для пространства измерения шириной 2 мкм, длиной 2 мкм и толщиной 2 мкм (V=8 мкм). Кроме того, измерение выполняют в окружающей среде с температурой 23°C и давлением 1×10 Па. Следует заметить, что Strata 400S (наклон образца: 52°) производства FEI Company может также быть использован в качестве прибора для обработки и обследования.
1
T
1
T
2
T
2
T
3
3
3
3
Отбор образцов выполняли подобным образом десять раз, чтобы предоставить десять образцов с последующим их измерением. Величину, полученную делением среднего значения для суммарных десяти объемов V для 8 мкм на V (8 мкм), определяли как отношение (V/V) в электропроводном слое электрофотографического фоточувствительного элемента в качестве объекта измерения. Кроме того, величину, полученную делением среднего значения для суммарных десяти объемов V для 8 мкм на V (8 мкм), определяли как величину отношения (V/V) в электропроводном слое электрофотографического фоточувствительного элемента в качестве объекта измерения.
Следует заметить, что площади идентифицированных оксида олова, легированного фосфором, и оксида титана получали из информации на каждом поперечном сечении посредством анализа изображения. Анализ изображения выполняли с помощью указанного ниже программного обеспечения для обработки изображения.
Программное обеспечение для обработки изображения: Image-Pro Plus производства компании Media Cybernetics
Из частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, первые частицы оксида металла имеют покровный слой, образованный оксидом олова, легированным фосфором, вольфрамом, фтором, ниобием или танталом, и сердцевину частицы, образованную оксидом титана. Кроме того, первые частицы оксида металла имеют такую структуру, что сердцевина частицы покрыта покровным слоем.
2
2
2
4
2
4
2
2
2
2
2
Доля (доля покровного слоя) оксида олова (SnO) в первых частицах оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 10 до 60% по массе. Исходный материал для олова, необходимый для получения оксида олова (SnO), требуется смешивать во время изготовления первых частиц оксида металла для регулирования доли покровного слоя оксида олова (SnO). Например, когда хлорид олова (SnCl) используют в качестве исходного материала для олова, смешивание требуется выполнять, принимая во внимание количество оксида олова (SnO), получаемого из хлорида олова (SnCl). Хотя оксид олова (SnO), образующий покровный слой каждой из первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, легируют фосфором (P), вольфрамом (W), фтором (F), ниобием (Nb) или танталом (Ta), доля покровного слоя является величиной, вычисленной из массы оксида олова (SnO) по отношению к общей массе оксида олова (SnO) и оксида титана (TiO) без учета массы фосфора (P), вольфрама (W), фтора (F), ниобия (Nb) или тантала (Ta), которым легируют оксид олова (SnO).
2
2
Кроме того, предпочтительно, чтобы оксид олова (SnO) в первых частицах оксида металла или вторых частицы оксида металла был легирован фосфором (P), вольфрамом (W), фтором (F), ниобием (Nb) или танталом (Ta) в количестве (при степени легирования) от 0,1 до 10 масс.% по отношению к оксиду олова (SnO) (в расчете на массу оксида олова, не содержащего фосфор (P), вольфрам (W), фтор (F), ниобий (Nb) и тантал (Ta)).
Следует заметить, что способ изготовления первых частиц оксида металла (частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, или частиц оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова) также описан в выложенной заявке на патент Японии № H06-207118 и выложенной заявке на патент Японии № 2004-349167.
Кроме того, способ изготовления вторых частиц оксида металла (частиц P-легированного оксида олова, частиц W-легированного оксида олова, частиц F-легированного оксида олова, частиц Nb-легированного оксида олова или частиц Ta-легированного оксида олова) также описан в патенте Японии № 3365821, выложенной заявке на патент Японии № H02-197014, выложенной заявке на патент Японии № H09-278445 и выложенной заявке на патент Японии № H10-53417.
2
Корпускулярная форма, сферическая форма, игольчатая форма, волокнистая форма, столбчатая форма, стержневая форма, веретенообразная форма, пластинчатая форма и другие аналогичные формы могут быть использованы как форма частицы оксида титана (TiO) в качестве сердцевины частицы в каждой из первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении. Из них, сферическая форма является предпочтительной с той точки зрения, что дефекты изображения, такие как черные пятна, практически не возникают.
2
Кроме того, любая из кристаллических форм, таких как рутил, анатаз, брукит, и аморфных форм может быть использована в качестве кристаллической формы частицы оксида титана (TiO) в качестве сердцевины частицы в каждой из первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении. Кроме того, любой способ изготовления, такой как способ с применением серной кислоты и способ с применением хлористоводородной кислоты, может быть применен в качестве способа изготовления.
2
2
2
2
2
2
Первая причина, почему в данном изобретении используют первые частицы оксида металла, имеющие сердцевины (частицы оксида титана (TiO)), описана ниже. Оксид олова (SnO), образующий покровный слой каждой из первых частиц оксида металла, имеет более высокую удельную электропроводность, чем оксид титана (TiO), образующий каждую сердцевину частицы, и заряд, воспринятый вторыми частицами оксида металла, содержащими оксид олова (SnO), распространяется в основном через покровный слой, содержащий оксид олова (SnO), в каждой из первых частиц оксида металла, т.е. перенос заряда в основном выполняется между оксидом олова (SnO), и, следовательно, перенос заряда между первыми частицами оксида металла и вторыми частицами оксида металла становится плавным, и заряд перемещается равномерным образом в электропроводном слое.
2
Вторая причина, почему используют первые частицы оксида металла, имеющие сердцевины (частицы оксида титана (TiO)), заключается в том, что достигается улучшение дисперсности вторых частиц оксида металла в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя. Когда вторые частицы оксида металла используют без применения первых частиц оксида металла, склонно происходить агрегирование вторых частиц оксида металла в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя, что увеличивает средний диаметр этих частиц, и, следовательно, выступающие дефекты в виде сыпи возникают на поверхности формируемого электропроводного слоя, или стабильность раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя уменьшается в некоторых случаях. Кроме того, подавление эффекта памяти рисунка не достигается достаточным образом.
2
2
Третья причина, почему используют первые частицы оксида металла, имеющие сердцевины (частицы оксида титана (TiO)), заключается в том, что частицы оксида титана(TiO), используемые в качестве сердцевин первых частиц оксида металла, имеют каждая низкую прозрачность в качестве частицы, и, следовательно, легко покрывают дефекты на поверхности основы. В противоположность этому, например, когда частицы сульфата бария используют в качестве сердцевин частиц, каждая из частиц имеет высокую прозрачность в качестве частицы, и, следовательно, может требоваться отдельный материал для покрывания дефектов на поверхности основы.
2
Диаметр каждой из частиц оксида титана (TiO) в качестве сердцевины первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 0,05 мкм или более до 0,40 мкм или менее с точки зрения регулирования среднего диаметра первых частиц оксида металла до предпочтительного интервала, описанного далее.
1
6
2
5
Удельное сопротивление порошка первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 1,0×10 Ом·см или более до 1,0×10 Ом·см или менее, более предпочтительно от 1,0×10 Ом·см или более до 1,0×10 Ом·см или менее.
0
5
1
4
Удельное сопротивление порошка вторых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, составляет предпочтительно от 1,0×10 Ом·см или более до 1,0×10 Ом·см или менее, более предпочтительно от 1,0×10 Ом·см или более до 1,0×10 Ом·см или менее.
2
Удельное сопротивление порошка первых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, предпочтительно меньше, чем удельное сопротивление порошка частиц оксида титана (TiO) используемых в качестве сердцевин первых частиц оксида металла.
Метод измерения удельного сопротивления порошка частиц оксида металла, таких как первые частицы оксида металла или вторые частицы оксида металла, используемых в данном изобретении, описан ниже.
7
2
Удельное сопротивление порошка частиц оксида металла, таких как первые частицы оксида металла или вторые частицы оксида металла, используемые в данном изобретении, или сердцевин составных частиц, таких как первые частицы оксида металла, используемые в данном изобретении, измеряют в окружающей среде с нормальной температурой и нормальной влажностью (23°C, 50% относительной влажности (RH)). В данном изобретении, прибор для измерения сопротивления производства компании Mitsubishi Chemical Corporation (торговое наименование: Loresta GP (Hiresta UP, когда удельное сопротивление порошка превышало 1,0×10 Ом·см)) использовали в качестве измерительного прибора. Частицы оксида металла в качестве объектов измерения спрессовывали в образец в виде таблетки для измерения при давлении 500 кг/см. Прикладывали напряжение 100 В. Частицы, используемые в качестве сердцевин, подвергали измерению перед формированием покровного слоя.
Электропроводный слой может быть сформирован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя, содержащего растворитель, связующий материал, и первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла на основу, и сушки и/или отверждения результирующей покровной пленки.
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя может быть приготовлен посредством диспергирования первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла вместе со связующим материалом в растворителе. В качестве метода диспергирования, используют, например, методы с применением вибромиксера для краски, песчаной мельницы, шаровой мельницы и высокоскоростного диспергатора со столкновением с жидкостью.
Примеры связующего материала, используемого в электропроводном слое, включают смолы, такие как фенольная смола, полиуретан, полиамид, полиимид, полиамид-имид, поливиниацеталь, эпоксидная смола, акриловая смола, меламиновая смола и полиэфирная смола. Эти смолы могут быть использованы в отдельности или в комбинации двух или более их видов. Кроме того, из таких смол, с точки зрения, например, подавления миграции (растворения) в другой слой, способности прилипания к основе, диспергируемости и стабильности дисперсии частиц по данному изобретению и устойчивости к растворителям после формирования слоя, предпочтительной является отверждаемая смола, и более предпочтительной является термоотверждающаяся смола. Кроме того, из термоотверждающихся смол термоотверждающаяся фенольная смола и термоотверждающийся полиуретан являются предпочтительными. В случае применения отверждаемой смолы в качестве связующего материала в электропроводном слое, связующий материал, содержащийся в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя, является мономером и/или олигомером отверждаемой смолы.
Примеры растворителя, используемого в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя, включают, спирты, такие как метанол, этанол и изопропанол, кетоны, такие как ацетон, метилэтилкетон и циклогексанон, эфиры, такие как тетрагидрофуран, диоксан, монометиловый эфир этиленгликоля и монометиловый эфир пропиленгликоля, сложные эфиры, такие как метилацетат и этилацетат, и ароматические углеводороды, такие как толуол и ксилол.
3
3
13
3
3
3
Кроме того, огрубляющий материал для придания шероховатости поверхности электропроводного слоя может быть включен в раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя для того, чтобы предотвратить образование интерференционных полос на выводимом изображении вследствие интерференции света, отраженного на поверхности электропроводного слоя. Частицы смолы, имеющие средний диаметр от 1 мкм или более до 5 мкм или менее являются предпочтительными в качестве материала для придания шероховатости поверхности. Примеры частиц смолы включают частицы отверждаемых смол, таких как отверждаемый каучук, полиуретан, эпоксидная смола, алкидная смола, фенольная смола, сложный полиэфир, кремнийорганическая смола и акрилмеламиновая смола. Из них, частицы кремнийорганической смолы, которые практически не агрегируют, являются предпочтительными. Плотность (от 0,5 до 2 г/см) частиц смолы является малой по сравнению с плотностями (от 4 до 8 г/см) первых частиц оксида металла и вторых частиц оксида металла, используемых в данном изобретении, и, следовательно, поверхности электропроводного слоя может быть эффективным образом придана шероховатость во время формирования электропроводного слоя. При этом, однако, когда содержание материала для придания шероховатости поверхности в электропроводном слое увеличивается, объемное удельное сопротивление электропроводного слоя имеет тенденцию к увеличению в некоторых случаях. Соответственно, содержание материала для придания шероховатости поверхности в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя составляет предпочтительно от 1 до 80% по массе по отношению к связующему материалу в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя для регулирования объемного удельного сопротивления электропроводного слоя до 2,0×10 Ом·см или менее. В данном изобретении, плотности [г/см] первых частиц оксида металла, вторых частиц оксида металла, связующего материала (при условии, что, когда связующий материал являлся жидкостью, его отвержденный продукт был подвергнут измерению), частиц кремнийорганической смолы, и т.п. определяли с помощью автоматического денсиметра сухого типа, как описано ниже. Продувку газообразным гелием выполняли десять раз в качестве предварительной обработки для частиц в качестве объектов измерения при температуре 23°C и максимальном давлении 19,5 фунтов на кв. дюйм изб. давления (134 кПа) с помощью автоматического денсиметра сухого типа производства компании Shimadzu Corporation (торговое наименование: Accupyc 1330) и сосуда, имеющего объем 10 см. После этого, колебание в давлении в камере для образца 0,0050 фунта на кв. дюйм изб. давления/мин (34,47 Па/мин) использовали в качестве показателя величины, определяющей равновесное состояние давления, который указывает, достигло ли давление внутри сосуда равновесия. Когда колебание было равно указанной величине или менее, давление определяли как находящееся в равновесном состоянии, и затем инициировали измерение, чтобы измерять любую такую плотность [г/см] автоматически.
Кроме того, выравнивающий агент для улучшения поверхностных свойств электропроводного слоя может быть включен в раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя. Кроме того, частицы пигмента могут быть включены в раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя для дополнительного улучшения покрытия электропроводного слоя.
Кроме того, средний диаметр частиц первых частиц оксида металла (частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, частиц оксида титана, покрытых Nb-легированным оксидом олова, или частиц оксида титана, покрытых Ta-легированным оксидом олова) в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя составляет предпочтительно от 0,10 мкм или более до 0,45 мкм или менее, более предпочтительно от 0,15 мкм или более до 0,40 мкм или менее. Когда средний диаметр частиц составляет менее чем 0,10 мкм, склонно происходить повторное агрегирование первых частиц оксида металла после приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя, и, следовательно, стабильность раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя может уменьшаться. Когда средний диаметр частиц составляет более чем 0,45 мкм, поверхность электропроводного слоя огрубляется, что промотирует возникновение локальной инжекции электрических зарядов в фоточувствительный слой, и, следовательно, черные пятна на белом фоне выводимого изображения могут становиться заметными.
Кроме того, средний диаметр частиц вторых частиц оксида металла (частиц P-легированного оксида олова, частиц W-легированного оксида олова, частиц F-легированного оксида олова, частиц Nb-легированного оксида олова или Ta-легированного оксида олова) в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя составляет предпочтительно от 0,01 мкм или более до 0,45 мкм или менее, более предпочтительно от 0,01 мкм или более до 0,10 мкм или менее.
Средний диаметр частиц оксида металла, таких как первые частицы оксида металла и вторые частицы оксида металла, в растворе материала покрытия для формирования электропроводного слоя может быть определен посредством представленного ниже метода жидкофазного осаждения или обследованием изображений поперечного сечения, полученных сканирующей электронной микроскопией (SEM).
Вначале раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя разбавляют растворителем, используемым для его приготовления, таким образом, что его прозрачность может находиться в интервале от 0,8 до 1,0. Затем создают гистограмму среднего диаметра частиц (объемного среднего диаметра частиц) и распределения по размеру частиц оксида металла с помощью ультрацентробежного автоматического анализатора распределения частиц по размеру. В данном изобретении, измерение выполняли с помощью ультрацентробежного автоматического анализатора распределения частиц по размеру (торговое наименование: CAPA 700) производства компании HORIBA, Ltd. в качестве ультрацентробежного автоматического анализатора распределения частиц по размеру при скорости вращения 3000 об/мин.
С точки зрения покрывания дефектов поверхности основы, толщина электропроводного слоя составляет предпочтительно от 10 мкм или более до 40 мкм или менее, более предпочтительно от 15 мкм или более до 35 мкм или менее.
Следует заметить, что, в данном изобретении, в качестве прибора для измерения толщины каждого слоя электрофотографического фоточувствительного элемента, включающего электропроводный слой, был использован FISHERSCOPE mms производства компании Fisher Instruments K.K.
8
13
13
8
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя составляет предпочтительно от 1,0×10 Ом·см или более до 2,0×10 Ом·см или менее. Когда слой, имеющий объемное удельное сопротивление 2,0×10 Ом·см или менее, предоставлен на основе в качестве слоя для покрывания дефектов на поверхности основы, поток зарядов практически не прерывается во время формирования изображения, и, следовательно, остаточный потенциал практически не увеличивается. В то же время, когда объемное удельное сопротивление электропроводного слоя составляет 1,0×10 Ом·см или более, количество зарядов, протекающих в электропроводном слое во время зарядки электрофотографического фоточувствительного элемента, не становится чрезмерно большим, и, следовательно, вуалирование вследствие увеличения истощения темной области электрофотографического фоточувствительного элемента практически не происходит.
Метод измерения объемного удельного сопротивления проводящего слоя электрофотографического фоточувствительного элемента описан при ссылках на Фиг. 2 и 3. Фиг. 2 представляет собой вид сверху для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя, и Фиг. 3 представляет собой вид в поперечном разрезе для иллюстрирования метода измерения объемного удельного сопротивления электропроводного слоя.
Объемное удельное сопротивление проводящего слоя измеряют в окружающей среде с нормальной температурой и нормальной влажностью (23°C, 50% относительной влажности (RH)). Медную ленту 203 (производства компании Sumitomo 3M Limited, тип №1181) прикрепляют к поверхности электропроводного слоя 202 и используют в качестве электрода на стороне передней поверхности электропроводного слоя 202. Кроме того, основу 201 используют в качестве электрода на тыльной стороне электропроводного слоя 202. Источник питания 206 для приложения электрического напряжения между медной лентой 203 и основой 201 и токоизмерительный прибор 207 для измерения тока, протекающего между медной лентой 203 и основой 201, размещают соответствующим образом. Кроме того, медную проволоку 204 размещают на медной ленте 203 для приложения напряжения к медной ленте 203 и затем медную проволоку 204 закрепляют на медной ленте 203 посредством присоединения медной ленты 205 аналогичным образом к медной ленте 203 поверх медной проволоки 204 таким образом, что медная проволока 204 не выступает от медной ленты 203. Напряжение прикладывают к медной ленте 203 посредством медной проволоки 204.
0
2
Когда величину фонового тока в случае, в котором напряжение не приложено между медной лентой 203 и основой 201, обозначают как I [A], величину тока в случае, в котором прикладывают напряжение -1 В, образованное лишь напряжением постоянного тока (компонентом постоянного тока), обозначают как I [А], толщину электропроводного слоя 202 обозначают как d [см], и площадь электрода (медной ленты 203) на стороне передней поверхности электропроводного слоя 202 обозначают как S [см], величину, представленную приведенным ниже выражением (26), определяют как объемное удельное сопротивление ρ [Ом·см] электропроводного слоя 202.
0
ρ=1/(I-I)×S/d [Ом·см] (26)
-6
Это измерение предпочтительно выполняют с помощью прибора, способного к измерению очень малой величины тока в качестве прибора 207 для измерения тока, поскольку очень малый ток, абсолютная величина которого составляет 1×10 A или менее, измеряют в данном измерении. Примеры такого прибора включают измеритель пА (торговое наименование: 4140B) производства компании Yokogawa Hewlett-Packard и измеритель высокого сопротивления (торговое наименование: 4339B) производства компании Agilent Technologies.
Следует заметить, что объемное удельное сопротивление электропроводного слоя, измеренное в состоянии, в котором лишь электропроводный слой сформирован на основе, и измерении в состоянии, в котором лишь электропроводный слой оставлен на основе посредством удаления каждого слоя (такого как фоточувствительный слой) на электропроводном слое с электрофотографического фоточувствительного элемента, показывает такую же величину.
Для того, чтобы предотвратить инжекцию зарядов из электропроводного слоя в фоточувствительный слой, промежуточный слой (барьерный слой), обладающий свойствами электрического барьера, может быть предоставлен между электропроводным слоем и фоточувствительным слоем.
Промежуточный слой может быть сформирован посредством нанесения на электропроводный слой покрытия из раствора материала покрытия для формирования промежуточного слоя, содержащего смолу (связующий материал), и сушки результирующей покровной пленки.
Примеры смолы (связующего материала), используемой в промежуточном слое, включают поливиниловый спирт, поливинилметилэфир, полиакриловые кислоты, метилцеллюлозу, этилцеллюлозу, полиглутаминовую кислоту, казеин, крахмал, и другие водорастворимые смолы, полиамид, полиимид, полиамидимид, полиамидокислоту, меламиновую смолу, эпоксидную смолу, полиуретан и полиглутамат. Из них термопластичные смолы являются предпочтительными, чтобы эффективным образом проявлять свойства электрического барьера промежуточного слоя. Из термопластичных смол предпочтительной является термопластичная полиамидная смола. Полиамид предпочтительно является сополимеризованным нейлоном.
Толщина промежуточного слоя составляет предпочтительно от 0,1 мкм или более до 2,0 мкм или менее.
Кроме того, вещество для переноса электронов (электроноакцепторное вещество, такое как акцептор) может быть включено в промежуточный слой, чтобы предотвращать прерывание потока зарядов в промежуточном слое.
Примеры вещества для переноса электронов включают электроноакцепторные вещества, такие как 2,4,7-тринитрофлуоренон, 2,4,5,7-тетранитрофлуоренон, хлоранил и тетрацианохинодиметан, и полимеры таких электроноакцепторных веществ.
Фоточувствительный слой формируют на электропроводном слое (промежуточном слое).
Примеры вещества, генерирующего заряды, используемого в фоточувствительном слое, включают: азопигменты, такие как моноазопигменты, диазопигменты и триазопигменты; фталоцианиновые пигменты, такие как фталоцианин металла и неметаллический фталоцианинный комплекс; индиговые пигменты, такие как индиго и тиоиндиго; периленовые пигменты, такие как ангидрид периленовой кислоты и имид периленовой кислоты; полициклические хиноновые пигменты, такие антрахинон и пиренхинон; скварилиевые красители; пирилиевые соли и тиапирилиевые соли; трифенилметановые красители; хинакридоновые пигменты; пигменты на основе солей азуления; цианиновые красители; ксантеновые красители; хинониминовые красители; и стириловые красители. Из них предпочтительными являются фталоцианины металлов, такие как фталоцианин оксититана, фталоцианин гидроксигаллия и фталоцианин хлоргаллия.
Когда фоточувствительный слой является ламинированным фоточувствительным слоем, слой для генерации зарядов может быть сформирован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов, который приготавливают диспергированием вещества, генерирующего заряды, в растворителе вместе со связующим материалом и последующей сушкой полученной покровной пленки. В качестве метода диспергирования, используют, например, методы с применением гомогенизатора, ультразвуковой волны, шаровой мельницы, песочной мельницы, аттритора и валковой мельницы.
Примеры связующего материала, используемого в слое для генерации зарядов, включают поликарбонат, сложный полиэфир, полиарилат, бутиральную смолу, полистирол, поливинилацеталь, диаллилфталатную смолу, акриловую смолу, метакриловую смолу, винилацетатную смолу, фенольную смолу, кремнийорганическую смолу, полисульфон, стирол-бутадиеновый сополимер, алкидную смолу, эпоксидную смолу, полимочевину и сополимер винилхлорида-винилацетата. Эти связующие материалы могут быть использованы в отдельности или в виде смеси или сополимера двух или более их видов.
Отношение вещества, генерирующего заряды, к связующему материалу (вещество, генерирующее заряды : связующий материал) находится в пределах интервала предпочтительно от 10:1 до 1:10 (массовое отношение), более предпочтительно от 5:1 до 1:1 (массовое отношение).
Примеры растворителя, используемого в растворе материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов, включают спирт, сульфоксид, кетон, простой эфир, сложный эфир, алифатический галогенированный углеводород и ароматическое соединение.
Толщина слоя для генерации зарядов составляет предпочтительно 5 мкм или менее, более предпочтительно от 0,1 мкм или более до 2 мкм или менее.
Кроме того, любой из различных сенсибилизаторов, антиоксидантов, УФ абсорберов, пластификаторов и т.п. может быть добавлен к слою для генерации зарядов, в случае необходимости. Кроме того, вещество для переноса электронов (электроноакцепторное вещество, такое как акцептор) может быть включено в слой для генерации зарядов, чтобы предотвращать прерывание потока зарядов в слое для генерации зарядов.
Примеры вещества для переноса электронов включают электроноакцепторные вещества, такие как 2,4,7-тринитрофлуоренон, 2,4,5,7-тетранитрофлуоренон, хлоранил и тетрацианохинодиметан, и полимеры таких электроноакцепторных веществ.
Примеры вещества, переносящего заряды, используемого в фоточувствительном слое включают триариламиновое соединение, гидразоновое соединение, стириловое соединение, стильбеновое соединение, пиразолиновое соединение, оксазоловое соединение, тиазоловое соединение и триарилметановое соединение.
Когда фоточувствительный слой является ламинированным фоточувствительным слоем, слой для переноса зарядов может быть сформирован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов, который приготавливают растворением вещества, переносящего заряды, и связующего материала в растворителе и последующей сушкой полученной покровной пленки.
Примеры связующего материала, используемого в слое для переноса зарядов, включают акриловую смолу, стирольную смолу, сложный полиэфир, поликарбонат, полиарилат, полисульфон, полифениленоксид, эпоксидную смолу, полиуретан, алкидную смолу и ненасыщенную смолу. Эти связующие материалы могут быть использованы в отдельности или в виде смеси или сополимера двух или более их видов.
Отношение вещества, переносящего заряды, к связующему материалу (вещество, переносящее заряды : связующий материал) предпочтительно находится в пределах интервала от 2:1 до 1:2 (массовое отношение).
Примеры растворителя, используемого в растворе материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов, включают: кетоны, такие как ацетон и метилэтилкетон, сложные эфиры, такие как метилацетат и этилацетат, эфиры, такие как диметоксиметан и диметоксиэтан, ароматические углеводороды, такие как толуол и ксилол, и углеводороды, замещенные атомом галогена, такие как хлорбензол, хлороформ и четыреххлористый углерод.
Толщина слоя для переноса зарядов составляет предпочтительно от 3 мкм или более до 40 мкм или менее, более предпочтительно от 4 мкм или более до 30 мкм или менее с точки зрения равномерности зарядки и воспроизводимости изображения.
Кроме того, антиоксидант, УФ абсорбер или пластификатор могут быть добавлены к слою для переноса зарядов, в случае необходимости.
Когда фоточувствительный слой является однослойным фоточувствительным слоем, однослойный фоточувствительный слой может быть сформирован нанесением раствора материала покрытия для формирования однослойного фоточувствительного слоя, содержащего вещество, генерирующее заряды, вещество, переносящее заряды, связующий материал и растворитель, и последующей сушкой результирующей покровной пленки. В качестве вещества, генерирующего заряды, вещества, переносящего заряды, связующего материала и растворителя могут быть использованы, например, те материалы, различные виды которых были описаны выше.
Кроме того, защитный слой может быть сформирован на фоточувствительном слое, чтобы защитить фоточувствительный слой. Защитный слой может быть образован посредством нанесения раствора материала покрытия для формирования защитного слоя, содержащего смолу (связующий материал), и последующей сушки и/или отверждения результирующей покровной пленки.
Толщина защитного слоя составляет предпочтительно от 0,5 мкм или более до 10 мкм или менее, более предпочтительно от 1 мкм или более до 8 мкм или менее.
При нанесении каждого из растворов материала покрытия для формирования соответствующих слоев, могут быть использованы такие методы нанесения покрытия, как нанесение покрытия погружением, нанесение покрытия распылением, нанесение покрытия центрифугированием, валковое нанесение покрытия, нанесение покрытия стержнем Мейера и ракельное нанесения покрытия.
Фиг. 1 иллюстрирует в схематическом виде пример конструкции электрофотографического устройства, включающего технологический картридж, имеющий электрофотографический фоточувствительный элемент.
На Фиг. 1 электрофотографический фоточувствительный элемент 1, имеющий форму барабана (цилиндрическую форму), приводится во вращение вокруг оси 2 в направлении, указанном стрелкой, при заданной окружной скорости.
Периферическая поверхность электрофотографического фоточувствительного элемента 1, приводимого во вращение, равномерно заряжается положительным или отрицательным заданным потенциалом посредством узла 3 для зарядки (такого как первичный узел для зарядки или зарядный ролик) и затем принимает экспонирующий свет (свет, передающий изображение) 4, эмитируемым из узла для экспонирования (не показан), такого как узел для щелевого экспонирования или экспонирования сканированием лазерным лучом. Таким образом, электростатические скрытые изображения, соответствующие целевым изображениям, формируются на периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1. Напряжение, прикладываемое к узлу 3 для зарядки, может быть лишь напряжением постоянного тока или может быть напряжением постоянного тока с наложением электрического напряжения переменного тока.
Электростатические скрытые изображения, сформированные на периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1, преобразуются в изображения из тонера посредством проявления тонером узла 5 для проявления. После этого изображения из тонера, сформированные на периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1, переносятся на передающий материал (например, бумагу) P посредством смещения для переноса от узла 6 для переноса (такого как передаточный валик). Передающий материал P подается из узла для подачи материала для переноса (не показан) к участку (участку прилегания) между электрофотографическим фоточувствительным элементом 1 и узлом 6 для переноса синхронно с вращением электрофотографического светочувствительного элемента 1.
Передающий материал P, который принял передачу тонерных изображений, отделяется от периферической поверхности электрофотографического фоточувствительного элемента 1, вводится в фиксирующий узел 8, подвергается фиксированию изображения и затем выводится в качестве продукта со сформированным изображением (отпечатка или копии) из устройства.
Периферическая поверхность электрофотографического фоточувствительного элемента 1 после переноса тонерных изображений подвергается удалению тонера, оставшегося после переноса, узлом 7 для очистки (таким как очистной ракельный нож). Кроме того, периферическая поверхность электрофотографического фоточувствительного элемента 1 подвергается процессу нейтрализации с помощью предэкспозиционного света 11 от узла для предварительного экспонирования (не показан), и после этого повторно используется для формирования изображения. Следует заметить, что, когда узел для зарядки является узлом для контактной зарядки, таким как зарядный ролик, предварительное экспонирование не всегда требуется. Также следует заметить, что, когда электрофотографическое устройство является системой без очистителя, узел для очистки не всегда требуется.
Электрофотографический фоточувствительный элемент 1 и по меньшей мере один конструктивный элемент, выбранный из узла 3 для зарядки, узла 5 для проявления, узла 6 для переноса, узла 7 для очистки и т.п., могут быть размещены в кассете и затем поддерживаться объединенным образом в качестве технологического картриджа. Кроме того, технологический картридж может быть присоединен с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства. На Фиг. 1, электрофотографический фоточувствительный элемент 1 и узел 3 для зарядки, узел 5 для проявления и узел 7 для очистки поддерживаются объединенным образом в качестве картриджа, образуя тем самым технологический картридж 9, который присоединен с возможностью снятия к основному корпусу электрофотографического устройства посредством применения направляющего узла 10, такого как полозки основного корпуса электрофотографического устройства. Кроме того, электрофотографическое устройство может иметь конструкцию, включающую электрофотографический фоточувствительный элемент 1, и узел 3 для зарядки, узел для экспонирования, узел 5 для проявления и узел 6 для переноса.
Пример
3
Далее в данном документе, данное изобретение описано более подробно посредством конкретных примеров, однако данное изобретение не ограничивается ими. Следует заметить, что термин «часть(и)» в каждом из Примеров и Сравнительных примеров означает «часть(и) по массе», термин «средний диаметр частиц» означает «средний диаметр первичных частиц», единица измерения «%» доли покровного слоя в каждой таблице означает «% по массе», и единица измерения «%» степени легирования (доли легирующего элемента) означает «% по массе». В дополнение к этому, каждая из плотностей в Примерах и таблицах является величиной, определенной представленным выше методом, и каждая из них представлена при единице измерения «г/см».
<Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя>
(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1)
3
3
112,00 частей частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 230 нм, удельное сопротивление порошка: 5000 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 4,50% по массе, доля покровного слоя: 45% по массе, плотность: 5,1 г/см) в качестве первых частиц оксида металла, 3,00 части частиц P-легированного оксида олова (средний диаметр первичных частиц: 20 нм, удельное сопротивление порошка: 300 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 3,60% по массе, плотность: 6,8 г/см) в качестве вторых частиц оксида металла, 266,67 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 120 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 465 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4,5 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.
Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 5,00 частей частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,30 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали в течение 30 минут, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1.
(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-2 по CP-93, с CP-141 по CP-233, с CP-281 по CP-373, с CP-421 по CP-513 и с CP-561 по CP-653)
Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-2 по CP-93, с CP-141 по CP-233, с CP-281 по CP-373, с CP-421 по CP-513 и с CP-561 по CP-653 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид (включая долю покровного слоя, степень легирования и плотность, то же самое относится к последующему) и количество первых частиц оксида металла, вид (включая степень легирования и плотность, то же самое относится к последующему) и количество вторых частиц оксида металла, и количество связующего материала изменяли таким образом, как показано в Таблицах с 1 по 3, с 8 по 10, с 15 по 17, с 44 по 46 и с 49 по 51.
Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-2 по CP-93, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.
Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-7, CP-13, CP-19, CP-24, CP-29, CP-35, CP-40, CP-45, CP-50, CP-55, CP-61, CP-66, CP-71, CP-77, CP-83 и CP-89, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.
Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-2, CP-8, CP-14, CP-20, CP-25, CP-30, CP-36, CP-41, CP-46, CP-51, CP-56, CP-62, CP-67, CP-72, CP-78, CP-84 и CP-90, имели удельное сопротивление порошка 250 Ом·см. Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-3, CP-6, CP-9, CP-12, CP-15, CP-18, CP-21, CP-26, CP-31, CP-34, CP-37, CP-42, CP-47, CP-52, CP-57, CP-60, CP-63, CP-68, CP-73, CP-76, CP-79, CP-82, CP-85, CP-88 и CP-91, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.
Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-4, CP-10, CP-16, CP-22, CP-27, CP-32, CP-38, CP-43, CP-48, CP-53, CP-58, CP-64, CP-69, CP-74, CP-80, CP-86 и CP-92, имели удельное сопротивление порошка 150 Ом·см.
Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-5, CP-11, CP-17, CP-23, CP-28, CP-33, CP-39, CP-44, CP-49, CP-54, CP-59, CP-65, CP-70, CP-75, CP-81, CP-87 и CP-93, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-141 по CP-233, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.
Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-141, CP-147, CP-153, CP-159, CP-164, CP-169, CP-175, CP-180, CP-185, CP-190, CP-195, CP-201, CP-206, CP-211, CP-217, CP-223 и CP-229, имели удельное сопротивление порошка 180 Ом·см.
Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-142, CP-148, CP-154, CP-160, CP-165, CP-170, CP-176, CP-181, CP-186, CP-191, CP-196, CP-202, CP-207, CP-212, CP-218, CP-224 и CP-230, имели удельное сопротивление порошка 140 Ом·см.
Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-143, CP-146, CP-149, CP-152, CP-155, CP-158, CP-161, CP-166, CP-171, CP-174, CP-177, CP-182, CP-187, CP-192, CP-197, CP-200, CP-203, CP-208, CP-213, CP-216, CP-219, CP-222, CP-225, CP-228 и CP-231, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.
Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-144, CP-150, CP-156, CP-162, CP-167, CP-172, CP-178, CP-183, CP-188, CP-193, CP-198, CP-204, CP-209, CP-214, CP-220, CP-226 и CP-232, имели удельное сопротивление порошка 70 Ом·см.
Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-145, CP-151, CP-157, CP-163, CP-168, CP-173, CP-179, CP-184, CP-189, CP-194, CP-199, CP-205, CP-210, CP-215, CP-221, CP-227 и CP-233, имели удельное сопротивление порошка 30 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-281 по CP-373, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.
Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-281, CP-287, CP-293, CP-299, CP-304, CP-309, CP-315, CP-320, CP-325, CP-330, CP-335, CP-341, CP-346, CP-351, CP-357, CP-363 и CP-369, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.
Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-282, CP-288, CP-294, CP-300, CP-305, CP-310, CP-316, CP-321, CP-326, CP-331, CP-336, CP-342, CP-347, CP-352, CP-358, CP-364 и CP-370, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.
Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-283, CP-286, CP-289, CP-292, CP-295, CP-298, CP-301, CP-306, CP-311, CP-314, CP-317, CP-322, CP-327, CP-332, CP-337, CP-340, CP-343, CP-348, CP-353, CP-356, CP-359, CP-362, CP-365, CP-368 и CP-371, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.
Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-284, CP-290, CP-296, CP-302, CP-307, CP-312, CP-318, CP-323, CP-328, CP-333, CP-338, CP-344, CP-349, CP-354, CP-360, CP-366 и CP-372, имели удельное сопротивление порошка 170 Ом·см.
Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-285, CP-291, CP-297, CP-303, CP-308, CP-313, CP-319, CP-324, CP-329, CP-334, CP-339, CP-345, CP-350, CP-355, CP-361, CP-367 и CP-373, имели удельное сопротивление порошка 130 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-421 по CP-513, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.
Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-421, CP-427, CP-433, CP-439, CP-444, CP-449, CP-455, CP-460, CP-465, CP-470, CP-475, CP-481, CP-486, CP-491, CP-497, CP-503 и CP-509, имели удельное сопротивление порошка 400 Ом·см.
Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-422, CP-428, CP-434, CP-440, CP-445, CP-450, CP-456, CP-461, CP-466, CP-471, CP-476, CP-482, CP-487, CP-492, CP-498, CP-504 и CP-510, имели удельное сопротивление порошка 360 Ом·см.
Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-423, CP-426, CP-429, CP-432, CP-435, CP-438, CP-441, CP-446, CP-451, CP-454, CP-457, CP-462, CP-467, CP-472, CP-477, CP-480, CP-483, CP-488, CP-493, CP-496, CP-499, CP-502, CP-505, CP-508 и CP-511, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.
Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-424, CP-430, CP-436, CP-442, CP-447, CP-452, CP-458, CP-463, CP-468, CP-473, CP-478, CP-484, CP-489, CP-494, CP-500, CP-506 и CP-512, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.
Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-425, CP-431, CP-437, CP-443, CP-448, CP-453, CP-459, CP-464, CP-469, CP-474, CP-479, CP-485, CP-490, CP-495, CP-501, CP-507 и CP-513, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-561 по CP-653, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.
Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-561, CP-567, CP-573, CP-579, CP-584, CP-589, CP-595, CP-600, CP-605, CP-610, CP-615, CP-621, CP-626, CP-631, CP-637, CP-643 и CP-649, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.
Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-562, CP-568, CP-574, CP-580, CP-585, CP-590, CP-596, CP-601, CP-606, CP-611, CP-616, CP-622, CP-627, CP-632, CP-638, CP-644 и CP-650, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.
Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-563, CP-566, CP-569, CP-572, CP-575, CP-578, CP-581, CP-586, CP-591, CP-594, CP-597, CP-602, CP-607, CP-612, CP-617, CP-620, CP-623, CP-628, CP-633, CP-636, CP-639, CP-642, CP-645, CP-648 и CP-651, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.
Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-564, CP-570, CP-576, CP-582, CP-587, CP-592, CP-598, CP-603, CP-608, CP-613, CP-618, CP-624, CP-629, CP-634, CP-640, CP-646 и CP-652, имели удельное сопротивление порошка 110 Ом·см.
Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-565, CP-571, CP-577, CP-583, CP-588, CP-593, CP-599, CP-604, CP-609, CP-614, CP-619, CP-625, CP-630, CP-635, CP-641, CP-647 и CP-653, имели удельное сопротивление порошка 65 Ом·см.
(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-94 по CP-140, с CP-234 по CP-280, с CP-374 по CP-420, с CP-514 по CP-560 и с CP-654 по CP-700)
7
3
Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-94 по CP-140, с CP-234 по CP-280, с CP-374 по CP-420, с CP-514 по CP-560 и с CP-654 по CP-700 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид и количество первых частиц оксида металла, вид и количество вторых частиц оксида металла, количество связующего материала и количество частиц кремнийорганической смолы изменяли таким образом, как показано в Таблицах 3, 4, 11, 12, 18, 19, 46, 47, 52 и 53; и процедуру для диспергирующей обработки выполняли посредством добавления 30,00 частей непокрытых частиц оксида титана (удельное сопротивление порошка: 5,0×10 Ом·см, средний диаметр частиц: 210 нм, плотность: 4,2 г/см) во время процедуры для диспергирующей обработки. Следует заметить, что когда приготавливали растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-139, CP-279, CP-419, CP-559 и CP-699, скорость вращения диска и продолжительность диспергирующей обработки в условиях диспергирующей обработки изменяли до 2500 об/мин и 10 часов, соответственно. Кроме того, когда приготавливали растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-140, CP-280, CP-420, CP-560 и CP-700, скорость вращения диска и продолжительность диспергирующей обработки в условиях диспергирующей обработки изменяли до 2500 об/мин и 30 часов, соответственно.
Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-94 по CP-140, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.
Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-94, CP-99, CP-104, CP-109, CP-114, CP-119, CP-124, CP-129 и CP-134, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.
Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-95, CP-100, CP-105, CP-110, CP-115, CP-120, CP-125, CP-130 и CP-135, имели удельное сопротивление порошка 250 Ом·см.
Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-96, CP-101, CP-106, CP-111, CP-116, CP-121, CP-126, CP-131, CP-136, CP-139 и CP-140, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.
Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-97, CP-102, CP-107, CP-112, CP-117, CP-122, CP-127, CP-132 и CP-137, имели удельное сопротивление порошка 150 Ом·см.
Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-98, CP-103, CP-108, CP-113, CP-118, CP-123, CP-128, CP-133 и CP-138, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-234 по CP-280, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.
Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-234, CP-239, CP-244, CP-249, CP-254, CP-259, CP-264, CP-269 и CP-274, имели удельное сопротивление порошка 180 Ом·см.
Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-235, CP-240, CP-245, CP-250, CP-255, CP-260, CP-265, CP-270 и CP-275, имели удельное сопротивление порошка 140 Ом·см.
Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-236, CP-241, CP-246, CP-251, CP-256, CP-261, CP-266, CP-271, CP-276, CP-279 и CP-280, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.
Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-237, CP-242, CP-247, CP-252, CP-257, CP-262, CP-267, CP-272 и CP-277, имели удельное сопротивление порошка 70 Ом·см.
Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-238, CP-243, CP-248, CP-253, CP-258, CP-263, CP-268, CP-273 и CP-278, имели удельное сопротивление порошка 30 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-374 по CP-420, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.
Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-374, CP-379, CP-384, CP-389, CP-394, CP-399, CP-404, CP-409 и CP-414, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.
Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-375, CP-380, CP-385, CP-390, CP-395, CP-400, CP-405, CP-410 и CP-415, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.
Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-376, CP-381, CP-386, CP-391, CP-396, CP-401, CP-406, CP-411, CP-416, CP-419 и CP-420, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.
Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-377, CP-382, CP-387, CP-392, CP-397, CP-402, CP-407, CP-412 и CP-417, имели удельное сопротивление порошка 170 Ом·см.
Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-378, CP-383, CP-388, CP-393, CP-398, CP-403, CP-408, CP-413 и CP-418, имели удельное сопротивление порошка 130 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-514 по CP-560, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.
Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-514, CP-519, CP-524, CP-529, CP-534, CP-539, CP-544, CP-549 и CP-554, имели удельное сопротивление порошка 400 Ом·см.
Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-515, CP-520, CP-525, CP-530, CP-535, CP-540, CP-545, CP-550 и CP-555, имели удельное сопротивление порошка 360 Ом·см.
Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-516, CP-521, CP-526, CP-531, CP-536, CP-541, CP-546, CP-551, CP-556, CP-559 и CP-560, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.
Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-517, CP-522, CP-527, CP-532, CP-537, CP-542, CP-547, CP-552 и CP-557, имели удельное сопротивление порошка 300 Ом·см.
Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-518, CP-523, CP-528, CP-533, CP-538, CP-543, CP-548, CP-553 и CP-558, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-654 по CP-700, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.
Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-654, CP-659, CP-664, CP-669, CP-674, CP-679, CP-684, CP-689 и CP-694, имели удельное сопротивление порошка 270 Ом·см.
Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-655, CP-660, CP-665, CP-670, CP-675, CP-680, CP-685, CP-690 и CP-695, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.
Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-656, CP-661, CP-666, CP-671, CP-676, CP-681, CP-686, CP-691, CP-696, CP-699 и CP-700, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.
Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-657, CP-662, CP-667, CP-672, CP-677, CP-682, CP-687, CP-692 и CP-697, имели удельное сопротивление порошка 110 Ом·см.
Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-658, CP-663, CP-668, CP-673, CP-678, CP-683, CP-688, CP-693 и CP-698, имели удельное сопротивление порошка 65 Ом·см.
(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C1 по CP-C22, с CP-C42 по CP-C63, с CP-C76 по CP-C97, с CP-C107 по CP-C128 и с CP-C129 по CP-C150)
Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C1 по CP-C22, с CP-C42 по CP-C63, с CP-C76 по CP-C97, с CP-C107 по CP-C128 и с CP-C129 по CP-C150 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид и количество первых частиц оксида металла, вид и количество вторых частиц оксида металла и количество связующего материала изменяли (включая изменение в отношении того, были ли использованы первые частицы оксида металла или вторые частицы оксида металла или нет, то же самое относится к последующему), как представлено в Таблицах 5, 13, 20, 48 и 54.
Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C1 по CP-C9 и с CP-C13 по CP-C22, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.
Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C4 по CP-C22, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C42 по CP-C50 и с CP-C54 по CP-C63, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.
Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C45 по CP-C63, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C76 по CP-C84 и с CP-C88 по CP-C97, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.
Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C79 по CP-C97, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C107 по CP-C115 и с CP-C119 по CP-C128, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.
Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C110 по CP-C128, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные в качестве первых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C129 по CP-C137 и с CP-C141 по CP-C150, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.
Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные в качестве вторых частиц оксида металла при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C132 по CP-C150, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.
(Примеры приготовления растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C23 по CP-C35, с CP-C64 по CP-C71, с CP-C98 по CP-C105, с CP-C151 по CP-C178 и CP-C179)
Растворы материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C23 по CP-C35, с CP-C64 по CP-C71, с CP-C98 по CP-C105 и с CP-C151 по CP-C179 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1, за исключением того, что вид и количество первых частиц оксида металла, вид и количество вторых частиц оксида металла и количество связующего материала изменяли таким образом, как показано в Таблицах 6, 7, 14, 21 и с 55 по 58. Следует заметить, что в таблицах, например, частицы оксида титана, которые покрыты оксидом олова, обедненным кислородом, (частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом) не соответствуют первым частицам оксида металла в соответствии с данным изобретением, и частицы оксида олова, обедненного кислородом, не соответствуют вторым частицам оксида металла в соответствии с данным изобретением, однако данные частицы были показаны в соответствующих колонках для удобства использования в качестве примеров, сравниваемых с данным изобретением. То же самое относится к последующему.
Следует заметить, что частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C26 по CP-C28, с CP-C31 по CP-C32, CP-C153 и CP-C154, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.
Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые P-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C35, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.
Кроме того, частицы P-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C23 по CP-C25, CP-C29, CP-C30, CP-C35, CP-151 и CP-152, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя с CP-C67 по CP-C69, CP-C104, CP-C157 и CP-C158, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.
Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые W-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C71, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.
Кроме того, частицы W-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C31, с CP-C64 по CP-C66, CP-C70, CP-C71, CP-C155 и CP-C156, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C30, CP-C70, с CP-C101 по CP-C103, CP-C161 и CP-C162, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.
Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые F-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C105, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.
Кроме того, частицы F-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C32, CP-C159 и CP-C160, имели удельное сопротивление порошка 220 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C151, CP-C155, CP-C159, с CP-C166 по CP-C168 и CP-C170, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.
Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые Nb-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C171, имели удельное сопротивление порошка 6500 Ом·см.
Кроме того, частицы Nb-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C153, CP-C157, CP-C161, с CP-C163 по CP-C165, CP-C169 и CP-C171, имели удельное сопротивление порошка 330 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C152, CP-C156, CP-C160, CP-C169 и с CP-C175 по CP-C177, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.
Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые Ta-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C178, имели удельное сопротивление порошка 4500 Ом·см.
Кроме того, частицы Ta-легированного оксида олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C154, CP-C158, CP-C162, CP-C170, с CP-C172 по CP-C174 и CP-C178, имели удельное сопротивление порошка 160 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C23, CP-C64, CP-C98, CP-C163 и CP-C172, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.
Кроме того, частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C24, CP-C33, CP-C65, CP-C99, CP-C164, CP-C173 и CP-C179, имели удельное сопротивление порошка 5000 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C25, CP-C34, CP-C66, CP-C100, CP-C165 и CP-C174, имели удельное сопротивление порошка 3000 Ом·см.
Кроме того, частиц оксида олова, обедненного кислородом, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C26, CP-C33, CP-C67, CP-C101, CP-C166, CP-C175 и CP-C179, имели удельное сопротивление порошка 200 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида индия-олова, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C27, CP-C68, CP-C102, CP-C167 и CP-C176, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.
Кроме того, частицы оксида олова, легированного Sb, использованные при приготовлении растворов материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C28, CP-C34, CP-C69, CP-C103, CP-C168 и CP-C177, имели удельное сопротивление порошка 100 Ом·см.
(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36)
Жидкий материал покрытия для формирования промежуточного слоя Примера 1, описанного в Патентном документе 4, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36.
3
3
А именно, 20 частей частиц сульфата бария, покрытых оксидом олова, обедненным кислородом, (доля покровного слоя: 50% по массе, средний диаметр первичных частиц: 600 нм, удельный вес: 5,1 (плотность=5,1 г/см)), 100 частей частиц оксида олова, легированного сурьмой, (торговое наименование: T-1, производства компании Mitsubishi Materials Corporation, средний диаметр первичных частиц: 20 нм, удельное сопротивление порошка: 5 Ом·см, удельный вес: 6,6 (плотность=6,6 г/см)), 70 частей фенольной смолы резольного типа (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60%) в качестве связующего материала, и 100 частей 2-метокси-1-пропанола загружали в шаровую мельницу и затем подвергали диспергирующей обработке в течение 20 часов, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36.
(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C37)
3
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C37 приготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае примера приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C36, за исключением того, что частицы оксида олова, легированного сурьмой, заменяли на частицы оксида олова, легированного танталом (средний диаметр первичных частиц: 20 нм, удельный вес: 6,1 (плотность=6,1 г/см)).
(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C38)
Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-7, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C38.
А именно, 46 частей частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 220 нм, удельное сопротивление порошка: 100 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 7% по массе, доля покровного слоя: 15%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.
3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C38.
(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C39)
Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-21, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C39.
А именно, 44 части частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 40 нм, удельное сопротивление порошка: 500 Ом·см, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 8% по массе, доля покровного слоя: 20%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.
3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C39.
(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C40)
Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 1, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C40.
А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 40 Ом·см, доля покровного слоя: 35% по массе, количество (степень легирования) фосфора, легирующего оксид олова: 3% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.
Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 13,8 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности, 0,014 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента, 6 частей метанола и 6 частей 1-метокси-2-пропанола добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C40.
(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C41)
Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 4, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C41.
2
А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 500 Ом·см, доля покровного слоя: 35% по массе, количество (степень легирования) фосфора (P), легирующего оксид олова (SnO): 0,05% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.
Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 13,8 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности, 0,014 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента, 6 частей метанола и 6 частей 1-метокси-2-пропанола добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C41.
(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C72)
Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-10, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C72.
А именно, 53 части частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 220 нм, удельное сопротивление порошка: 150 Ом·см, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 7% по массе, доля покровного слоя: 15%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.
Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали в течение 30 минут, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C72.
(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C73)
Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-22, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C73.
А именно, 46 частей частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 40 нм, удельное сопротивление порошка: 550 Ом·см, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 8% по массе, доля покровного слоя: 20%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.
3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-22, описанный в Патентном документе 2.
Данный раствор материала покрытия определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C73.
(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C74)
Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 10, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C74.
А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 25 Ом·см, доля покровного слоя: 33% по массе, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 3% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.
Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 13,8 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности, 0,014 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента, 6 частей метанола и 6 частей 1-метокси-2-пропанола добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C74.
(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C75)
Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя 13, описанный в Патентном документе 1, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C75.
А именно, 204 части частиц оксида титана, покрытых W-легированным оксидом олова, (удельное сопротивление порошка: 69 Ом·см, доля покровного слоя: 33% по массе, количество (степень легирования) вольфрама, легирующего оксид олова: 0,1% по массе), 148 частей фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 98 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением 450 частей стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,8 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: число оборотов вращения 2000 об/мин, продолжительность диспергирующей обработки 4 часа и установленная температура охлаждающей воды 18°C.
Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 13,8 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности, 0,014 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента, 6 частей метанола и 6 частей 1-метокси-2-пропанола добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C75.
(Пример приготовления раствора материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C106)
Жидкий материал покрытия для формирования электропроводного слоя L-30, описанный в Патентном документе 2, приготавливали посредством приведенных ниже процедур и определяли как раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C106.
А именно, 60 частей частиц оксида титана, покрытых F-легированным оксидом олова, (средний диаметр первичных частиц: 75 нм, удельное сопротивление порошка: 300 Ом·см, количество (степень легирования) фтора, легирующего оксид олова: 7% по массе, доля покровного слоя: 15%), 36,5 части фенольной смолы (торговое наименование: PLYOPHEN J-325, производства компании DIC Corporation, содержание твердого вещества в смоле: 60% по массе) в качестве связующего материала и 50 частей 1-метокси-2-пропанола в качестве растворителя загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 0,5 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при следующих условиях диспергирующей обработки, чтобы получить жидкую дисперсию: скорость вращения диска 2500 об/мин и продолжительность диспергирующей обработки 3,5 часа.
Стеклянные шарики удаляли из жидкой дисперсии с помощью сетки. После этого, 3,9 части частиц кремнийорганической смолы (торговое наименование: TOSPEARL 120, производства компании Momentive Performance Materials Inc., средний диаметр частиц: 2 мкм) в качестве материала для придания шероховатости поверхности и 0,001 части силиконового масла (торговое наименование: SH28PA, производства компании Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.) в качестве выравнивающего агента добавляли к жидкой дисперсии, и затем смесь перемешивали в течение 30 минут, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-C106.
Таблица 1
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части](содержание сухого остаткасмолы составляет 60% помассе от количества,указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-1
Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,1
112,00
Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
3,60
6,8
3,00
1,3
266,67
1,3
5,00
Нет
CP-2
45
4,50
5,1
112,00
4,05
6,7
2,95
1,3
266,75
1,3
5,00
CP-3
45
4,50
5,1
112,00
4,50
6,7
2,95
1,3
266,75
1,3
5,00
CP-4
45
4,50
5,1
112,00
4,95
6,7
2,95
1,3
266,75
1,3
5,00
CP-5
45
4,50
5,1
112,00
5,40
6,7
2,95
1,3
266,75
1,3
5,00
CP-6
45
4,50
5,1
108,50
4,50
6,7
7,15
1,3
265,58
1,3
5,00
CP-7
45
4,50
5,1
99,80
3,60
6,8
17,30
1,3
263,17
1,3
5,00
CP-8
45
4,50
5,1
99,90
4,05
6,7
17,06
1,3
263,40
1,3
5,00
CP-9
45
4,50
5,1
99,90
4,50
6,7
17,06
1,3
263,40
1,3
5,00
CP-10
45
4,50
5,1
99,90
4,95
6,7
17,06
1,3
263,40
1,3
5,00
CP-11
45
4,50
5,1
99,90
5,40
6,7
17,06
1,3
263,40
1,3
5,00
CP-12
45
4,50
5,1
93,50
4,50
6,7
24,60
1,3
261,50
1,3
5,00
CP-13
45
4,50
5,1
89,30
3,60
6,8
29,80
1,3
259,83
1,3
5,00
CP-14
45
4,50
5,1
89,40
4,05
6,7
29,40
1,3
260,33
1,3
5,00
CP-15
45
4,50
5,1
89,40
4,50
6,7
29,40
1,3
260,33
1,3
5,00
CP-16
45
4,50
5,1
89,40
4,95
6,7
29,40
1,3
260,33
1,3
5,00
CP-17
45
4,50
5,1
89,40
5,40
6,7
29,40
1,3
260,33
1,3
5,00
CP-18
45
4,50
5,1
135,50
4,50
6,7
3,60
1,3
226,50
1,3
5,00
CP-19
45
4,50
5,1
131,00
3,60
6,8
8,75
1,3
225,42
1,3
5,00
CP-20
45
4,50
5,1
131,10
4,05
6,7
8,65
1,3
225,42
1,3
5,00
CP-21
45
4,50
5,1
131,10
4,50
6,7
8,65
1,3
225,42
1,3
5,00
CP-22
45
4,50
5,1
131,10
4,95
6,7
8,65
1,3
225,42
1,3
5,00
CP-23
45
4,50
5,1
131,10
5,40
6,7
8,65
1,3
225,42
1,3
5,00
CP-24
45
4,50
5,1
120,50
3,60
6,8
20,90
1,3
222,67
1,3
5,00
CP-25
45
4,50
5,1
120,60
4,05
6,7
20,60
1,3
223,00
1,3
5,00
CP-26
45
4,50
5,1
120,60
4,50
6,7
20,60
1,3
223,00
1,3
5,00
CP-27
45
4,50
5,1
120,60
4,95
6,7
20,60
1,3
223,00
1,3
5,00
CP-28
45
4,50
5,1
120,60
5,40
6,7
20,60
1,3
223,00
1,3
5,00
CP-29
45
4,50
5,1
112,50
3,60
6,8
30,00
1,3
220,83
1,3
5,00
CP-30
45
4,50
5,1
112,60
4,05
6,7
29,60
1,3
221,33
1,3
5,00
CP-31
45
4,50
5,1
112,60
4,50
6,7
29,60
1,3
221,33
1,3
5,00
CP-32
45
4,50
5,1
112,60
4,95
6,7
29,60
1,3
221,33
1,3
5,00
CP-33
45
4,50
5,1
112,60
5,40
6,7
29,60
1,3
221,33
1,3
5,00
CP-34
45
4,50
5,1
107,60
4,50
6,7
35,35
1,3
220,08
1,3
5,00
CP-35
45
4,50
5,1
171,50
3,60
6,8
4,60
1,3
164,83
1,3
5,00
CP-36
45
4,50
5,1
171,50
4,05
6,7
4,50
1,3
165,00
1,3
5,00
CP-37
45
4,50
5,1
171,50
4,50
6,7
4,50
1,3
165,00
1,3
5,00
CP-38
45
4,50
5,1
171,50
4,95
6,7
4,50
1,3
165,00
1,3
5,00
CP-39
45
4,50
5,1
171,50
5,40
6,7
4,50
1,3
165,00
1,3
5,00
CP-40
45
4,50
5,1
165,60
3,60
6,8
11,05
1,3
163,92
1,3
5,00
Таблица 2
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-41
Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,1
165,70
Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,05
6,7
10,90
1,3
164,00
1,3
5,00
Нет
CP-42
45
4,50
5,1
165,70
4,50
6,7
10,90
1,3
164,00
1,3
5,00
CP-43
45
4,50
5,1
165,70
4,95
6,7
10,90
1,3
164,00
1,3
5,00
CP-44
45
4,50
5,1
165,70
5,40
6,7
10,90
1,3
164,00
1,3
5,00
CP-45
45
4,50
5,1
151,80
3,60
6,8
26,35
1,3
161,42
1,3
5,00
CP-46
45
4,50
5,1
151,95
4,05
6,7
25,95
1,3
161,83
1,3
5,00
CP-47
45
4,50
5,1
151,95
4,50
6,7
25,95
1,3
161,83
1,3
5,00
CP-48
45
4,50
5,1
151,95
4,95
6,7
25,95
1,3
161,83
1,3
5,00
CP-49
45
4,50
5,1
151,95
5,40
6,7
25,95
1,3
161,83
1,3
5,00
CP-50
45
4,50
5,1
141,40
3,60
6,8
37,70
1,3
159,83
1,3
5,00
CP-51
45
4,50
5,1
141,70
4,05
6,7
37,25
1,3
160,08
1,3
5,00
CP-52
45
4,50
5,1
141,70
4,50
6,7
37,25
1,3
160,08
1,3
5,00
CP-53
45
4,50
5,1
141,70
4,95
6,7
37,25
1,3
160,08
1,3
5,00
CP-54
45
4,50
5,1
141,70
5,40
6,7
37,25
1,3
160,08
1,3
5,00
CP-55
45
4,50
5,1
134,80
3,60
6,8
45,00
1,3
158,67
1,3
5,00
CP-56
45
4,50
5,1
135,15
4,05
6,7
44,40
1,3
159,08
1,3
5,00
CP-57
45
4,50
5,1
135,15
4,50
6,7
44,40
1,3
159,08
1,3
5,00
CP-58
45
4,50
5,1
135,15
4,95
6,7
44,40
1,3
159,08
1,3
5,00
CP-59
45
4,50
5,1
135,15
5,40
6,7
44,40
1,3
159,08
1,3
5,00
CP-60
45
4,50
5,1
197,70
4,50
6,7
5,20
1,3
120,17
1,3
5,00
CP-61
45
4,50
5,1
190,70
3,60
6,8
12,75
1,3
119,25
1,3
5,00
CP-62
45
4,50
5,1
190,85
4,05
6,7
12,55
1,3
119,33
1,3
5,00
CP-63
45
4,50
5,1
190,85
4,50
6,7
12,55
1,3
119,33
1,3
5,00
CP-64
45
4,50
5,1
190,85
4,95
6,7
12,55
1,3
119,33
1,3
5,00
CP-65
45
4,50
5,1
190,85
5,40
6,7
12,55
1,3
119,33
1,3
5,00
CP-66
45
4,50
5,1
174,40
3,60
6,8
30,30
1,3
117,17
1,3
5,00
СР-67
45
4,50
5,1
174,70
4,05
6,7
29,90
1,3
117,33
1,3
5,00
СР-68
45
4,50
5,1
174,70
4,50
6,7
29,90
1,3
117,33
1,3
5,00
СР-69
45
4,50
5,1
174,70
4,95
6,7
29,90
1,3
117,33
1,3
5,00
СР-70
45
4,50
5,1
174,70
5,40
6,7
29,90
1,3
117,33
1,3
5,00
СР-71
45
4,50
5,1
162,30
3,60
6,8
43,30
1,3
115,67
1,3
5,00
СР-72
45
4,50
5,1
162,70
4,05
6,7
42,75
1,3
115,92
1,3
5,00
СР-73
45
4,50
5,1
162,70
4,50
6,7
42,75
1,3
115,92
1,3
5,00
СР-74
45
4,50
5,1
162,70
4,95
6,7
42,75
1,3
115,92
1,3
5,00
СР-75
45
4,50
5,1
162,70
5,40
6,7
42,75
1,3
115,92
1,3
5,00
СР-76
45
4,50
5,1
155,05
4,50
6,7
50,95
1,3
115,00
1,3
5,00
СР-77
45
4,50
5,1
208,30
3,60
6,8
5,60
1,3
101,83
1,3
5,00
СР-78
45
4,50
5,1
208,25
4,05
6,7
5,56
1,3
101,98
1,3
5,00
СР-79
45
4,50
5,1
208,25
4,50
6,7
5,56
1,3
101,98
1,3
5,00
СР-80
45
4,50
5,1
208,25
4,95
6,7
5,56
1,3
101,98
1,3
5,00
Таблица 3
Раствор материалапокрытия дляформированияэлектропроводногослоя
(1) Первые частицыоксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической молы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровногослоя [%]
Степень легирования[%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования[%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-81
Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,1
208,25
Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
5,40
6,7
5,56
1,3
101,98
1,3
5,00
Нет
CP-82
45
4,50
5,1
201,10
4,50
6,7
13,20
1,3
101,17
1,3
5,00
CP-83
45
4,50
5,1
183,55
3,60
6,8
31,90
1,3
99,25
1,3
5,00
CP-84
45
4,50
5,1
183,90
4,05
6,7
31,40
1,3
99,50
1,3
5,00
CP-85
45
4,50
5,1
183,90
4,50
6,7
31,40
1,3
99,50
1,3
5,00
CP-86
45
4,50
5,1
183,90
4,95
6,7
31,40
1,3
99,50
1,3
5,00
CP-87
45
4,50
5,1
183,90
5,40
6,7
31,40
1,3
99,50
1,3
5,00
CP-88
45
4,50
5,1
171,10
4,50
6,7
45,00
1,3
98,17
1,3
5,00
CP-89
45
4,50
5,1
162,50
3,60
6,8
54,20
1,3
97,17
1,3
5,00
CP-90
45
4,50
5,1
163,00
4,05
6,7
53,55
1,3
97,42
1,3
5,00
CP-91
45
4,50
5,1
163,00
4,50
6,7
53,55
1,3
97,42
1,3
5,00
CP-92
45
4,50
5,1
163,00
4,95
6,7
53,55
1,3
97,42
1,3
5,00
CP-93
45
4,50
5,1
163,00
5,40
6,7
53,55
1,3
97,42
1,3
5,00
CP-94
45
4,50
5,1
135,40
3,60
6,8
9,05
1,3
159,25
1,3
40,00
Непокрытые частицы оксида титана(средний диаметр частиц: 210 нм)
4,2
30,00
CP-95
45
4,50
5,1
135,40
4,05
6,7
8,90
1,3
159,50
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-96
45
4,50
5,1
135,40
4,50
6,7
8,90
1,3
159,50
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-97
45
4,50
5,1
135,40
4,95
6,7
8,90
1,3
159,50
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-98
45
4,50
5,1
135,40
5,40
6,7
8,90
1,3
159,50
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-99
45
4,50
5,1
124,50
3,60
6,8
21,60
1,3
156,50
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-100
45
4,50
5,1
124,50
4,05
6,7
21,30
1,3
157,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-101
45
4,50
5,1
124,50
4,50
6,7
21,30
1,3
157,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-102
45
4,50
5,1
124,50
4,95
6,7
21,30
1,3
157,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-103
45
4,50
5,1
124,50
5,40
6,7
21,30
1,3
157,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-104
45
4,50
5,1
116,20
3,60
6,8
31,00
1,3
154,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-105
45
4,50
5,1
116,40
4,05
6,7
30,60
1,3
155,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-106
45
4,50
5,1
116,40
4,50
6,7
30,60
1,3
155,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-107
45
4,50
5,1
116,40
4,95
6,7
30,60
1,3
155,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-108
45
4,50
5,1
116,40
5,40
6,7
30,60
1,3
155,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-109
45
4,50
5,1
171,10
3,60
6,8
11,40
1,3
95,83
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-110
45
4,50
5,1
171,20
4,05
6,7
11,25
1,3
95,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-111
45
4,50
5,1
171,20
4,50
6,7
11,25
1,3
95,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-112
45
4,50
5,1
171,20
4,95
6,7
11,25
1,3
95,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-113
45
4,50
5,1
171,20
5,40
6,7
11,25
1,3
95,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-114
45
4,50
5,1
156,80
3,60
6,8
27,20
1,3
93,33
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-115
45
4,50
5,1
157,00
4,05
6,7
26,85
1,3
93,58
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-116
45
4,50
5,1
157,00
4,50
6,7
26,85
1,3
93,58
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-117
45
4,50
5,1
157,00
4,95
6,7
26,85
1,3
93,58
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-118
45
4,50
5,1
157,00
5,40
6,7
26,85
1,3
93,58
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-119
45
4,50
5,1
146,10
3,60
6,8
39,00
1,3
91,50
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-120
45
4,50
5,1
146,40
4,05
6,7
38,50
1,3
91,83
1,3
40,00
4,2
30,00
Таблица 4
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующийматериал (фенольнаясмола)
(4) Частицыкремнийорганической смолы
(5) Частицыпомимо частиц с(1) по (4)
Вид
Доля покровногослоя [%]
Степень легирования[%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования[%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-121
Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,1
146,40
Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
6,7
38,50
1,3
91,83
1,3
40,00
Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)
4,2
30,00
CP-122
45
4,50
5,1
146,40
4,95
6,7
38,50
1,3
91,83
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-123
45
4,50
5,1
146,40
5,40
6,7
38,50
1,3
91,83
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-124
45
4,50
5,1
197,05
3,60
6,8
13,15
1,3
49,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-125
45
4,50
5,1
197,20
4,05
6,7
13,00
1,3
49,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-126
45
4,50
5,1
197,20
4,50
6,7
13,00
1,3
49,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-127
45
4,50
5,1
197,20
4,95
6,7
13,00
1,3
49,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-128
45
4,50
5,1
197,20
5,40
6,7
13,00
1,3
49,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-129
45
4,50
5,1
180,20
3,60
6,8
31,30
1,3
47,50
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-130
45
4,50
5,1
180,50
4,05
6,7
30,85
1,3
47,75
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-131
45
4,50
5,1
180,50
4,50
6,7
30,85
1,3
47,75
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-132
45
4,50
5,1
180,50
4,95
6,7
30,85
1,3
47,75
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-133
45
4,50
5,1
180,50
5,40
6,7
30,85
1,3
47,75
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-134
45
4,50
5,1
167,65
3,60
6,8
44,75
1,3
46,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-135
45
4,50
5,1
168,05
4,05
6,7
44,16
1,3
46,32
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-136
45
4,50
5,1
168,05
4,50
6,7
44,16
1,3
46,32
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-137
45
4,50
5,1
168,05
4,95
6,7
44,16
1,3
46,32
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-138
45
4,50
5,1
168,05
5,40
6,7
44,16
1,3
46,32
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-139
45
4,50
5,1
157,00
4,50
6,7
26,85
1,3
93,58
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-140
45
4,50
5,1
161,00
4,50
6,7
22,85
1,3
93,58
1,3
40,00
4,2
30,00
Таблица 5
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-C1
Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
114,60
Нет
1,3
267,33
1,3
5,00
Нет
CP-C2
45
4,50
5,1
175,60
1,3
165,67
1,3
5,00
CP-C3
45
4,50
5,1
213,50
1,3
102,50
1,3
5,00
CP-C4
45
4,50
5,1
113,25
Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
6,7
1,49
1,3
267,10
1,3
5,00
CP-C5
45
4,50
5,1
173,50
4,50
6,7
2,27
1,3
165,38
1,3
5,00
CP-C6
45
4,50
5,1
210,90
4,50
6,7
2,80
1,3
102,17
1,3
5,00
CP-C7
45
4,50
5,1
85,60
4,50
6,7
33,75
1,3
259,42
1,3
5,00
CP-C8
45
4,50
5,1
129,20
4,50
6,7
50,95
1,3
158,08
1,3
5,00
CP-C9
45
4,50
5,1
155,65
4,50
6,7
61,35
1,3
96,67
1,3
5,00
CP-C10
Нет
4,50
6,7
133,40
1,3
236,00
1,3
5,00
CP-C11
4,50
6,7
192,80
1,3
137,00
1,3
5,00
CP-C12
4,50
6,7
226,40
1,3
81,00
1,3
5,00
CP-C13
Частицы оксида титана, покрытыеP-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
83,20
4,50
6,7
2,20
1,3
316,00
1,3
5,00
CP-C14
45
4,50
5,1
80,60
4,50
6,7
5,30
1,3
315,17
1,3
5,00
CP-C15
45
4,50
5,1
74,50
4,50
6,7
12,75
1,3
312,92
1,3
5,00
CP-C16
45
4,50
5,1
69,75
4,50
6,7
18,35
1,3
311,50
1,3
5,00
CP-C17
45
4,50
5,1
66,70
4,50
6,7
21,92
1,3
310,63
1,3
5,00
CP-C18
45
4,50
5,1
217,70
4,50
6,7
5,75
1,3
85,92
1,3
5,00
CP-C19
45
4,50
5,1
210,05
4,50
6,7
13,80
1,3
85,25
1,3
5,00
CP-C20
45
4,50
5,1
191,95
4,50
6,7
32,80
1,3
83,75
1,3
5,00
CP-C21
45
4,50
5,1
178,50
4,50
6,7
46,95
1,3
82,58
1,3
5,00
CP-C22
45
4,50
5,1
169,98
4,50
6,7
55,85
1,3
81,95
1,3
5,00
Таблица 6
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-C23
Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:230 нм)
45
-
5,1
152,00
Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
6,7
26,00
1,3
161,67
1,3
5,00
Нет
CP-C24
Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:230 нм)
45
-
5,1
152,00
4,50
6,7
26,00
1,3
161,67
1,3
5,00
CP-C25
Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
152,00
4,50
6,7
26,00
1,3
161,67
1,3
5,00
СР-С26
Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,1
152,20
Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)
-
6,6
25,60
1,3
162,00
1,3
5,00
СР-С27
Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
151,10
Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
7,1
27,35
1,3
160,92
1,3
5,00
СР-С28
45
4,50
5,1
152,20
Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
6,6
25,60
1,3
162,00
1,3
5,00
СР-С29
Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,2
153,30
Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
6,7
25,70
1,3
160,00
1,3
5,00
Таблица 7
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-C30
Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,0
150,60
Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
6,7
26,25
1,3
163,58
1,3
5,00
Нет
CP-C31
Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,1
150,20
Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
7,5
28,80
1,3
160,00
1,3
5,00
CP-C32
45
4,50
5,1
152,20
Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
6,6
25,60
1,3
162,00
1,3
5,00
CP-C33
Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:230 нм)
45
-
5,1
152,20
Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)
-
6,6
25,60
1,3
162,00
1,3
5,00
СР-С34
Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
152,20
Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
6,6
25,60
1,3
162,00
1,3
5,00
СР-С35
Частицы сульфата бария, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
151,90
Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
6,7
26,00
1,3
161,83
1,3
5,00
Таблица 8
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-141
Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
113,20
Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
3,60
7,4
3,22
1,3
264,30
1,3
5,00
Нет
CP-142
45
4,50
5,2
113,20
4,05
7,5
3,26
1,3
264,23
1,3
5,00
CP-143
45
4,50
5,2
113,20
4,50
7,5
3,26
1,3
264,23
1,3
5,00
CP-144
45
4,50
5,2
113,20
4,95
7,6
3,31
1,3
264,15
1,3
5,00
CP-145
45
4,50
5,2
113,20
5,40
7,6
3,31
1,3
264,15
1,3
5,00
CP-146
45
4,50
5,2
109,40
4,50
7,5
7,90
1,3
262,83
1,3
5,00
CP-147
45
4,50
5,2
100,50
3,60
7,4
18,60
1,3
259,83
1,3
5,00
CP-148
45
4,50
5,2
100,50
4,05
7,5
18,85
1,3
259,42
1,3
5,00
CP-149
45
4,50
5,2
100,50
4,50
7,5
18,85
1,3
259,42
1,3
5,00
CP-150
45
4,50
5,2
100,40
4,95
7,6
19,10
1,3
259,17
1,3
5,00
CP-151
45
4,50
5,2
100,40
5,40
7,6
19,10
1,3
259,17
1,3
5,00
CP-152
45
4,50
5,2
93,70
4,50
7,5
27,05
1,3
257,08
1,3
5,00
CP-153
45
4,50
5,2
89,55
3,60
7,4
31,86
1,3
255,98
1,3
5,00
CP-154
45
4,50
5,2
89,48
4,05
7,5
32,26
1,3
255,43
1,3
5,00
CP-155
45
4,50
5,2
89,48
4,50
7,5
32,26
1,3
255,43
1,3
5,00
CP-156
45
4,50
5,2
89,30
4,95
7,6
32,65
1,3
255,08
1,3
5,00
CP-157
45
4,50
5,2
89,30
5,40
7,6
32,65
1,3
255,08
1,3
5,00
CP-158
45
4,50
5,2
136,65
4,50
7,5
3,97
1,3
223,97
1,3
5,00
CP-159
45
4,50
5,2
132,00
3,60
7,4
9,40
1,3
222,67
1,3
5,00
CP-160
45
4,50
5,2
132,00
4,05
7,5
9,55
1,3
222,42
1,3
5,00
CP-161
45
4,50
5,2
132,00
4,50
7,5
9,55
1,3
222,42
1,3
5,00
CP-162
45
4,50
5,2
131,90
4,95
7,6
9,65
1,3
222,42
1,3
5,00
CP-163
45
4,50
5,2
131,90
5,40
7,6
9,65
1,3
222,42
1,3
5,00
CP-164
45
4,50
5,2
121,00
3,60
7,4
22,40
1,3
219,33
1,3
5,00
СР-165
45
4,50
5,2
120,85
4,05
7,5
22,67
1,3
219,13
1,3
5,00
СР-166
45
4,50
5,2
120,85
4,50
7,5
22,67
1,3
219,13
1,3
5,00
СР-167
45
4,50
5,2
120,70
4,95
7,6
22,95
1,3
218,92
1,3
5,00
СР-168
45
4,50
5,2
120,70
5,40
7,6
22,95
1,3
218,92
1,3
5,00
СР-169
45
4,50
5,2
112,75
3,60
7,4
32,10
1,3
216,92
1,3
5,00
СР-170
45
4,50
5,2
112,55
4,05
7,5
32,50
1,3
216,58
1,3
5,00
СР-171
45
4,50
5,2
112,55
4,50
7,5
32,50
1,3
216,58
1,3
5,00
СР-172
45
4,50
5,2
112,40
4,95
7,6
32,85
1,3
216,25
1,3
5,00
СР-173
45
4,50
5,2
112,40
5,40
7,6
32,85
1,3
216,25
1,3
5,00
СР-174
45
4,50
5,2
107,30
4,50
7,5
38,70
1,3
215,00
1,3
5,00
СР-175
45
4,50
5,2
172,50
3,60
7,4
4,90
1,3
162,67
1,3
5,00
СР-176
45
4,50
5,2
172,40
4,05
7,5
5,00
1,3
162,67
1,3
5,00
СР-177
45
4,50
5,2
172,40
4,50
7,5
5,00
1,3
162,67
1,3
5,00
СР-178
45
4,50
5,2
172,40
4,95
7,6
5,05
1,3
162,58
1,3
5,00
СР-179
45
4,50
5,2
172,40
5,40
7,6
5,05
1,3
162,58
1,3
5,00
СР-180
45
4,50
5,2
166,30
3,60
7,4
11,85
1,3
161,42
1,3
5,00
Таблица 9
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-181
Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
166,20
Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,05
7,5
12,00
1,3
161,33
1,3
5,00
Нет
CP-182
45
4,50
5,2
166,20
4,50
7,5
12,00
1,3
161,33
1,3
5,00
CP-183
45
4,50
5,2
166,10
4,95
7,6
12,15
1,3
161,25
1,3
5,00
CP-184
45
4,50
5,2
166,10
5,40
7,6
12,15
1,3
161,25
1,3
5,00
CP-185
45
4,50
5,2
151,80
3,60
7,4
28,15
1,3
158,42
1,3
5,00
CP-186
45
4,50
5,2
151,60
4,05
7,5
28,45
1,3
158,25
1,3
5,00
CP-187
45
4,50
5,2
151,60
4,50
7,5
28,45
1,3
158,25
1,3
5,00
CP-188
45
4,50
5,2
151,45
4,95
7,6
28,80
1,3
157,92
1,3
5,00
CP-189
45
4,50
5,2
151,45
5,40
7,6
28,80
1,3
157,92
1,3
5,00
CP-190
45
4,50
5,2
141,10
3,60
7,4
40,20
1,3
156,17
1,3
5,00
CP-191
45
4,50
5,2
140,85
4,05
7,5
40,65
1,3
155,83
1,3
5,00
CP-192
45
4,50
5,2
140,85
4,50
7,5
40,65
1,3
155,83
1,3
5,00
CP-193
45
4,50
5,2
140,55
4,95
7,6
41,10
1,3
155,58
1,3
5,00
CP-194
45
4,50
5,2
140,55
5,40
7,6
41,10
1,3
155,58
1,3
5,00
CP-195
45
4,50
5,2
134,30
3,60
7,4
47,80
1,3
154,83
1,3
5,00
CP-196
45
4,50
5,2
134,05
4,05
7,5
48,35
1,3
154,33
1,3
5,00
CP-197
45
4,50
5,2
134,05
4,50
7,5
48,35
1,3
154,33
1,3
5,00
CP-198
45
4,50
5,2
133,70
4,95
7,6
48,90
1,3
154,00
1,3
5,00
CP-199
45
4,50
5,2
133,70
5,40
7,6
48,90
1,3
154,00
1,3
5,00
CP-200
45
4,50
5,2
198,40
4,50
7,5
5,75
1,3
118,08
1,3
5,00
CP-201
45
4,50
5,2
191,15
3,60
7,4
13,60
1,3
117,08
1,3
5,00
CP-202
45
4,50
5,2
191,00
4,05
7,5
13,80
1,3
117,00
1,3
5,00
CP-203
45
4,50
5,2
191,00
4,50
7,5
13,80
1,3
117,00
1,3
5,00
CP-204
45
4,50
5,2
190,90
4,95
7,6
13,95
1,3
116,92
1,3
5,00
СР-205
45
4,50
5,2
190,90
5,40
7,6
13,95
1,3
116,92
1,3
5,00
СР-206
45
4,50
5,2
174,10
3,60
7,4
32,20
1,3
114,50
1,3
5,00
СР-207
45
4,50
5,2
173,76
4,05
7,5
32,60
1,3
114,40
1,3
5,00
СР-208
45
4,50
5,2
173,76
4,50
7,5
32,60
1,3
114,40
1,3
5,00
СР-209
45
4,50
5,2
173,50
4,95
7,6
33,00
1,3
114,17
1,3
5,00
СР-210
45
4,50
5,2
173,50
5,40
7,6
33,00
1,3
114,17
1,3
5,00
СР-211
45
4,50
5,2
161,45
3,60
7,4
45,95
1,3
112,67
1,3
5,00
СР-212
45
4,50
5,2
161,05
4,05
7,5
46,50
1,3
112,42
1,3
5,00
СР-213
45
4,50
5,2
161,05
4,50
7,5
46,50
1,3
112,42
1,3
5,00
СР-214
45
4,50
5,2
160,70
4,95
7,6
47,00
1,3
112,17
1,3
5,00
СР-215
45
4,50
5,2
160,70
5,40
7,6
47,00
1,3
112,17
1,3
5,00
СР-216
45
4,50
5,2
153,10
4,50
7,5
55,20
1,3
111,17
1,3
5,00
СР-217
45
4,50
5,2
208,90
3,60
7,4
6,00
1,3
100,17
1,3
5,00
СР-218
45
4,50
5,2
208,85
4,05
7,5
6,07
1,3
100,13
1,3
5,00
СР-219
45
4,50
5,2
208,85
4,50
7,5
6,07
1,3
100,13
1,3
5,00
СР-220
45
4,50
5,2
208,85
4,95
7,6
6,10
1,3
100,08
1,3
5,00
Таблица 10
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицыоксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-221
Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
208,85
Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
5,40
7,6
6,10
1,3
100,08
1,3
5,00
Нет
CP-222
45
4,50
5,2
201,00
4,50
7,5
14,50
1,3
99,17
1,3
5,00
CP-223
45
4,50
5,2
183,00
3,60
7,4
33,85
1,3
96,92
1,3
5,00
CP-224
45
4,50
5,2
182,65
4,05
7,5
34,30
1,3
96,75
1,3
5,00
CP-225
45
4,50
5,2
182,65
4,50
7,5
34,30
1,3
96,75
1,3
5,00
CP-226
45
4,50
5,2
182,35
4,95
7,6
34,70
1,3
96,58
1,3
5,00
CP-227
45
4,50
5,2
182,35
5,40
7,6
34,70
1,3
96,58
1,3
5,00
CP-228
45
4,50
5,2
169,20
4,50
7,5
48,80
1,3
95,00
1,3
5,00
CP-229
45
4,50
5,2
161,10
3,60
7,4
57,35
1,3
94,25
1,3
5,00
CP-230
45
4,50
5,2
160,67
4,05
7,5
57,95
1,3
93,97
1,3
5,00
CP-231
45
4,50
5,2
160,67
4,50
7,5
57,95
1,3
93,97
1,3
5,00
CP-232
45
4,50
5,2
160,25
4,95
7,6
58,55
1,3
93,67
1,3
5,00
CP-233
45
4,50
5,2
160,25
5,40
7,6
58,55
1,3
93,67
1,3
5,00
Таблица 11
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицыоксида металла
(2) Вторые частицыоксида металла
(3) Связующий материал(фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) ЧастицыПомимочастиц с (1)по (4)
Вид
Доля покровногослоя [%]
Степень легирования[%]
Плотность
Количество[части]
Вид
Степень легирования[%]
Плотность
Количество[части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-234
Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
136,40
Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
3,60
7,4
9,72
1,3
156,47
1,3
40,00
Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)
4,2
30,00
CP-235
45
4,50
5,2
136,40
4,05
7,5
9,85
1,3
156,25
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-236
45
4,50
5,2
136,40
4,50
7,5
9,85
1,3
156,25
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-237
45
4,50
5,2
136,30
4,95
7,6
9,98
1,3
156,20
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-238
45
4,50
5,2
136,30
5,40
7,6
9,98
1,3
156,20
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-239
45
4,50
5,2
125,00
3,60
7,4
23,15
1,3
153,08
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-240
45
4,50
5,2
124,90
4,05
7,5
23,44
1,3
152,77
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-241
45
4,50
5,2
124,90
4,50
7,5
23,44
1,3
152,77
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-242
45
4,50
5,2
124,70
4,95
7,6
23,70
1,3
152,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-243
45
4,50
5,2
124,70
5,40
7,6
23,70
1,3
152,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-244
45
4,50
5,2
116,50
3,60
7,4
33,15
1,3
150,58
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-245
45
4,50
5,2
116,30
4,05
7,5
33,55
1,3
150,25
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-246
45
4,50
5,2
116,30
4,50
7,5
33,55
1,3
150,25
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-247
45
4,50
5,2
116,10
4,95
7,6
33,95
1,3
149,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-248
45
4,50
5,2
116,10
5,40
7,6
33,95
1,3
149,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-249
45
4,50
5,2
171,80
3,60
7,4
12,25
1,3
93,25
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-250
45
4,50
5,2
171,70
4,05
7,5
12,40
1,3
93,17
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-251
45
4,50
5,2
171,70
4,50
7,5
12,40
1,3
93,17
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-252
45
4,50
5,2
171,65
4,95
7,6
12,55
1,3
93,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-253
45
4,50
5,2
171,65
5,40
7,6
12,55
1,3
93,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-254
45
4,50
5,2
156,85
3,60
7,4
29,05
1,3
90,17
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-255
45
4,50
5,2
156,65
4,05
7,5
29,40
1,3
89,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-256
45
4,50
5,2
156,65
4,50
7,5
29,40
1,3
89,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-257
45
4,50
5,2
156,45
4,95
7,6
29,75
1,3
89,67
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-258
45
4,50
5,2
156,45
5,40
7,6
29,75
1,3
89,67
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-259
45
4,50
5,2
145,80
3,60
7,4
41,50
1,3
87,83
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-260
45
4,50
5,2
145,50
4,05
7,5
42,00
1,3
87,50
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-261
45
4,50
5,2
145,50
4,50
7,5
42,00
1,3
87,50
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-262
45
4,50
5,2
145,20
4,95
7,6
42,45
1,3
87,25
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-263
45
4,50
5,2
145,20
5,40
7,6
42,45
1,3
87,25
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-264
45
4,50
5,2
197,50
3,60
7,4
14,10
1,3
47,33
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-265
45
4,50
5,2
197,35
4,05
7,5
14,25
1,3
47,33
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-266
45
4,50
5,2
197,35
4,50
7,5
14,25
1,3
47,33
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-267
45
4,50
5,2
197,20
4,95
7,6
14,45
1,3
47,25
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-268
45
4,50
5,2
197,20
5,40
7,6
14,45
1,3
47,25
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-269
45
4,50
5,2
179,80
3,60
7,4
33,30
1,3
44,83
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-270
45
4,50
5,2
179,55
4,05
7,5
33,70
1,3
44,58
1,3
40,00
4,2
30,00
Таблица 12
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-271
Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова,
45
4,50
5,2
179,55
Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр
4,50
7,5
33,70
1,3
44,58
1,3
40,00
Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)
4,2
30,00
(средний диаметр частиц: 230 нм)
частиц: 20 нм)
CP-272
45
4,50
5,2
179,30
4,95
7,6
34,10
1,3
44,33
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-273
45
4,50
5,2
179,30
5,40
7,6
34,10
1,3
44,33
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-274
45
4,50
5,2
166,75
3,60
7,4
47,50
1,3
42,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-275
45
4,50
5,2
166,40
4,05
7,5
48,00
1,3
42,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-276
45
4,50
5,2
166,40
4,50
7,5
48,00
1,3
42,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-277
45
4,50
5,2
166,05
4,95
7,6
48,55
1,3
42,33
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-278
45
4,50
5,2
166,05
5,40
7,6
48,55
1,3
42,33
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-279
45
4,50
5,2
156,65
4,50
7,5
29,40
1,3
89,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-280
45
4,50
5,2
160,55
4,50
7,5
25,50
1,3
89,92
1,3
40,00
4,2
30,00
Таблица 13
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-C42
Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
45
4,50
5,2
115,85
Нет
1,3
265,25
1,3
5,00
Нет
230 нм)
CP-C43
45
4,50
5,2
176,85
1,3
163,58
1,3
5,00
CP-C44
45
4,50
5,2
214,46
1,3
100,90
1,3
5,00
CP-C45
45
4,50
5,2
114,50
Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
7,5
1,65
1,3
264,75
1,3
5,00
CP-C46
45
4,50
5,2
174,62
4,50
7,5
2,51
1,3
163,12
1,3
5,00
CP-C47
45
4,50
5,2
211,63
4,50
7,5
3,05
1,3
100,53
1,3
5,00
CP-C48
45
4,50
5,2
85,50
4,50
7,5
37,00
1,3
254,17
1,3
5,00
CP-C49
45
4,50
5,2
127,80
4,50
7,5
55,30
1,3
153,17
1,3
5,00
CP-C50
45
4,50
5,2
153,01
4,50
7,5
66,21
1,3
92,97
1,3
5,00
CP-C51
Нет
4,50
7,5
141,25
1,3
222,92
1,3
5,00
CP-C52
4,50
7,5
199,36
1,3
126,07
1,3
5,00
CP-C53
4,50
7,5
231,05
1,3
73,25
1,3
5,00
CP-C54
Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
84,25
4,50
7,5
2,43
1,3
313,87
1,3
5,00
CP-C55
45
4,50
5,2
81,50
4,50
7,5
5,88
1,3
312,70
1,3
5,00
CP-C56
45
4,50
5,2
75,05
4,50
7,5
14,07
1,3
309,80
1,3
5,00
CP-C57
45
4,50
5,2
70,20
4,50
7,5
20,25
1,3
307,58
1,3
5,00
CP-C58
45
4,50
5,2
67,10
4,50
7,5
24,19
1,3
306,18
1,3
5,00
CP-C59
45
4,50
5,2
218,08
4,50
7,5
6,30
1,3
84,37
1,3
5,00
CP-C60
45
4,50
5,2
209,80
4,50
7,5
15,12
1,3
83,47
1,3
5,00
CP-C61
45
4,50
5,2
190,47
4,50
7,5
35,72
1,3
81,35
1,3
5,00
CP-C62
45
4,50
5,2
176,27
4,50
7,5
50,85
1,3
79,80
1,3
5,00
CP-C63
45
4,50
5,2
167,35
4,50
7,5
60,35
1,3
78,83
1,3
5,00
Таблица 14
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-C64
Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
-
5,1
150,26
Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
7,5
28,73
1,3
160,02
1,3
5,00
Нет
CP-C65
Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
-
5,1
150,26
4,50
7,5
28,73
1,3
160,02
1,3
5,00
CP-C66
Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
151,61
4,50
7,5
28,43
1,3
158,27
1,3
5,00
СР-С67
Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
153,50
Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)
-
6,6
25,32
1,3
160,30
1,3
5,00
СР-С68
Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
152,45
Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
7,1
27,05
1,3
159,17
1,3
5,00
СР-С69
Частицы оксида титана, покрытые W-легированным
45
4,50
5,2
153,50
Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр
4,50
6,6
25,32
1,3
160,30
1,3
5,00
оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
частиц: 20 нм)
СР-С70
Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,0
148,90
Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
7,5
29,03
1,3
161,78
1,3
5,00
СР-С71
Частицы сульфата бария, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
151,61
4,50
7,5
28,43
1,3
158,27
1,3
5,00
Таблица 15
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорга-нической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плот-ность
Количество [части]
Плотность
Коли-чество [части] (содер-жание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-281
Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,0
110,70
Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
3,60
6,7
2,97
1,3
268,88
1,3
5,00
Нет
CP-282
45
4,50
5,0
110,70
4,05
6,7
2,97
1,3
268,88
1,3
5,00
CP-283
45
4,50
5,0
110,70
4,50
6,6
2,93
1,3
268,95
1,3
5,00
CP-284
45
4,50
5,0
110,70
4,95
6,6
2,93
1,3
268,95
1,3
5,00
CP-285
45
4,50
5,0
110,70
5,40
6,6
2,93
1,3
268,95
1,3
5,00
CP-286
45
4,50
5,0
107,15
4,50
6,6
7,08
1,3
267,95
1,3
5,00
CP-287
45
4,50
5,0
98,70
3,60
6,7
17,20
1,3
265,17
1,3
5,00
CP-288
45
4,50
5,0
98,70
4,05
6,7
17,20
1,3
265,17
1,3
5,00
CP-289
45
4,50
5,0
98,70
4,50
6,6
16,95
1,3
265,58
1,3
5,00
CP-290
45
4,50
5,0
98,70
4,95
6,6
16,95
1,3
265,58
1,3
5,00
CP-291
45
4,50
5,0
98,70
5,40
6,6
16,95
1,3
265,58
1,3
5,00
CP-292
45
4,50
5,0
92,40
4,50
6,6
24,40
1,3
263,67
1,3
5,00
CP-293
45
4,50
5,0
88,20
3,60
6,7
29,55
1,3
262,08
1,3
5,00
CP-294
45
4,50
5,0
88,20
4,05
6,7
29,55
1,3
262,08
1,3
5,00
CP-295
45
4,50
5,0
88,30
4,50
6,6
29,15
1,3
262,58
1,3
5,00
CP-296
45
4,50
5,0
88,30
4,95
6,6
29,15
1,3
262,58
1,3
5,00
CP-297
45
4,50
5,0
88,30
5,40
6,6
29,15
1,3
262,58
1,3
5,00
CP-298
45
4,50
5,0
134,20
4,50
6,6
3,55
1,3
228,75
1,3
5,00
CP-299
45
4,50
5,0
129,70
3,60
6,7
8,70
1,3
227,67
1,3
5,00
CP-300
45
4,50
5,0
129,70
4,05
6,7
8,70
1,3
227,67
1,3
5,00
CP-301
45
4,50
5,0
129,73
4,50
6,6
8,57
1,3
227,83
1,3
5,00
CP-302
45
4,50
5,0
129,73
4,95
6,6
8,57
1,3
227,83
1,3
5,00
CP-303
45
4,50
5,0
129,73
5,40
6,6
8,57
1,3
227,83
1,3
5,00
CP-304
45
4,50
5,0
119,20
3,60
6,7
20,80
1,3
225,00
1,3
5,00
CP-305
45
4,50
5,0
119,20
4,05
6,7
20,80
1,3
225,00
1,3
5,00
СР-306
45
4,50
5,0
119,30
4,50
6,6
20,50
1,3
225,33
1,3
5,00
СР-307
45
4,50
5,0
119,30
4,95
6,6
20,50
1,3
225,33
1,3
5,00
СР-308
45
4,50
5,0
119,30
5,40
6,6
20,50
1,3
225,33
1,3
5,00
СР-309
45
4,50
5,0
111,40
3,60
6,7
29,85
1,3
222,92
1,3
5,00
СР-310
45
4,50
5,0
111,40
4,05
6,7
29,85
1,3
222,92
1,3
5,00
СР-311
45
4,50
5,0
111,45
4,50
6,6
29,45
1,3
223,50
1,3
5,00
СР-312
45
4,50
5,0
111,45
4,95
6,6
29,45
1,3
223,50
1,3
5,00
СР-313
45
4,50
5,0
111,45
5,40
6,6
29,45
1,3
223,50
1,3
5,00
СР-314
45
4,50
5,0
106,50
4,50
6,6
35,15
1,3
222,25
1,3
5,00
СР-315
45
4,50
5,0
170,20
3,60
6,7
4,57
1,3
167,05
1,3
5,00
СР-316
45
4,50
5,0
170,20
4,05
6,7
4,57
1,3
167,05
1,3
5,00
СР-317
45
4,50
5,0
170,20
4,50
6,6
4,50
1,3
167,17
1,3
5,00
СР-318
45
4,50
5,0
170,20
4,95
6,6
4,50
1,3
167,17
1,3
5,00
СР-319
45
4,50
5,0
170,20
5,40
6,6
4,50
1,3
167,17
1,3
5,00
СР-320
45
4,50
5,0
164,30
3,60
6,7
11,05
1,3
166,08
1,3
5,00
Таблица 16
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-321
Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,0
164,30
Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,05
6,7
11,05
1,3
166,08
1,3
5,00
Нет
CP-322
45
4,50
5,0
164,45
4,50
6,6
10,86
1,3
166,15
1,3
5,00
CP-323
45
4,50
5,0
164,45
4,95
6,6
10,86
1,3
166,15
1,3
5,00
CP-324
45
4,50
5,0
164,45
5,40
6,6
10,86
1,3
166,15
1,3
5,00
CP-325
45
4,50
5,0
150,60
3,60
6,7
26,25
1,3
163,58
1,3
5,00
CP-326
45
4,50
5,0
150,60
4,05
6,7
26,25
1,3
163,58
1,3
5,00
CP-327
45
4,50
5,0
150,80
4,50
6,6
25,90
1,3
163,83
1,3
5,00
CP-328
45
4,50
5,0
150,80
4,95
6,6
25,90
1,3
163,83
1,3
5,00
CP-329
45
4,50
5,0
150,80
5,40
6,6
25,90
1,3
163,83
1,3
5,00
CP-330
45
4,50
5,0
140,30
3,60
6,7
37,60
1,3
161,83
1,3
5,00
CP-331
45
4,50
5,0
140,30
4,05
6,7
37,60
1,3
161,83
1,3
5,00
CP-332
45
4,50
5,0
140,55
4,50
6,6
37,15
1,3
162,17
1,3
5,00
CP-333
45
4,50
5,0
140,55
4,95
6,6
37,15
1,3
162,17
1,3
5,00
CP-334
45
4,50
5,0
140,55
5,40
6,6
37,15
1,3
162,17
1,3
5,00
CP-335
45
4,50
5,0
133,80
3,60
6,7
44,82
1,3
160,63
1,3
5,00
CP-336
45
4,50
5,0
133,80
4,05
6,7
44,82
1,3
160,63
1,3
5,00
CP-337
45
4,50
5,0
134,10
4,50
6,6
44,25
1,3
161,08
1,3
5,00
CP-338
45
4,50
5,0
134,10
4,95
6,6
44,25
1,3
161,08
1,3
5,00
CP-339
45
4,50
5,0
134,10
5,40
6,6
44,25
1,3
161,08
1,3
5,00
CP-340
45
4,50
5,0
196,60
4,50
6,6
5,19
1,3
122,02
1,3
5,00
CP-341
45
4,50
5,0
189,70
3,60
6,7
12,74
1,3
120,93
1,3
5,00
CP-342
45
4,50
5,0
189,70
4,05
6,7
12,74
1,3
120,93
1,3
5,00
CP-343
45
4,50
5,0
189,75
4,50
6,6
12,55
1,3
121,17
1,3
5,00
CP-344
45
4,50
5,0
189,75
4,95
6,6
12,55
1,3
121,17
1,3
5,00
CP-345
45
4,50
5,0
189,75
5,40
6,6
12,55
1,3
121,17
1,3
5,00
CP-346
45
4,50
5,0
173,40
3,60
6,7
30,20
1,3
119,00
1,3
5,00
CP-347
45
4,50
5,0
173,40
4,05
6,7
30,20
1,3
119,00
1,3
5,00
CP-348
45
4,50
5,0
173,70
4,50
6,6
29,80
1,3
119,17
1,3
5,00
CP-349
45
4,50
5,0
173,70
4,95
6,6
29,80
1,3
119,17
1,3
5,00
СР-350
45
4,50
5,0
173,70
5,40
6,6
29,80
1,3
119,17
1,3
5,00
СР-351
45
4,50
5,0
161,30
3,60
6,7
43,25
1,3
117,42
1,3
5,00
СР-352
45
4,50
5,0
161,30
4,05
6,7
43,25
1,3
117,42
1,3
5,00
СР-353
45
4,50
5,0
161,70
4,50
6,6
42,70
1,3
117,67
1,3
5,00
СР-354
45
4,50
5,0
161,70
4,95
6,6
42,70
1,3
117,67
1,3
5,00
СР-355
45
4,50
5,0
161,70
5,40
6,6
42,70
1,3
117,67
1,3
5,00
СР-356
45
4,50
5,0
154,10
4,50
6,6
50,85
1,3
116,75
1,3
5,00
СР-357
45
4,50
5,0
207,30
3,60
6,7
5,56
1,3
103,57
1,3
5,00
СР-358
45
4,50
5,0
207,30
4,05
6,7
5,56
1,3
103,57
1,3
5,00
СР-359
45
4,50
5,0
207,35
4,50
6,6
5,48
1,3
103,62
1,3
5,00
СР-360
45
4,50
5,0
207,35
4,95
6,6
5,48
1,3
103,62
1,3
5,00
Таблица 17
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-361
Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,0
207,35
Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
5,40
6,6
5,48
1,3
103,62
1,3
5,00
Нет
CP-362
45
4,50
5,0
200,07
4,50
6,6
13,21
1,3
102,87
1,3
5,00
CP-363
45
4,50
5,0
182,62
3,60
6,7
31,82
1,3
100,93
1,3
5,00
CP-364
45
4,50
5,0
182,62
4,05
6,7
31,82
1,3
100,93
1,3
5,00
CP-365
45
4,50
5,0
182,95
4,50
6,6
31,40
1,3
101,08
1,3
5,00
CP-366
45
4,50
5,0
182,95
4,95
6,6
31,40
1,3
101,08
1,3
5,00
CP-367
45
4,50
5,0
182,95
5,40
6,6
31,40
1,3
101,08
1,3
5,00
CP-368
45
4,50
5,0
170,15
4,50
6,6
44,95
1,3
99,83
1,3
5,00
CP-369
45
4,50
5,0
161,65
3,60
6,7
54,18
1,3
98,62
1,3
5,00
CP-370
45
4,50
5,0
161,65
4,05
6,7
54,18
1,3
98,62
1,3
5,00
CP-371
45
4,50
5,0
162,10
4,50
6,6
53,50
1,3
99,00
1,3
5,00
CP-372
45
4,50
5,0
162,10
4,95
6,6
53,50
1,3
99,00
1,3
5,00
CP-373
45
4,50
5,0
162,10
5,40
6,6
53,50
1,3
99,00
1,3
5,00
Таблица 18
Раствор материала покрытия для формирования электропро-водного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-374
Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:
45
4,50
5,0
134,00
Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
3,60
6,7
9,00
1,3
161,67
1,3
40,00
Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)
4,2
30,00
230 нм)
CP-375
45
4,50
5,0
134,00
4,05
6,7
9,00
1,3
161,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-376
45
4,50
5,0
134,10
4,50
6,6
8,85
1,3
161,75
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-377
45
4,50
5,0
134,10
4,95
6,6
8,85
1,3
161,75
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-378
45
4,50
5,0
134,10
5,40
6,6
8,85
1,3
161,75
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-379
45
4,50
5,0
123,15
3,60
6,7
21,45
1,3
159,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-380
45
4,50
5,0
123,15
4,05
6,7
21,45
1,3
159,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-381
45
4,50
5,0
123,25
4,50
6,6
21,15
1,3
159,33
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-382
45
4,50
5,0
123,25
4,95
6,6
21,15
1,3
159,33
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-383
45
4,50
5,0
123,25
5,40
6,6
21,15
1,3
159,33
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-384
45
4,50
5,0
115,00
3,60
6,7
30,85
1,3
156,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-385
45
4,50
5,0
115,00
4,05
6,7
30,85
1,3
156,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-386
45
4,50
5,0
115,20
4,50
6,6
30,45
1,3
157,25
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-387
45
4,50
5,0
115,20
4,95
6,6
30,45
1,3
157,25
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-388
45
4,50
5,0
115,20
5,40
6,6
30,45
1,3
157,25
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-389
45
4,50
5,0
169,80
3,60
6,7
11,40
1,3
98,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-390
45
4,50
5,0
169,80
4,05
6,7
11,40
1,3
98,00
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-391
45
4,50
5,0
169,85
4,50
6,6
11,25
1,3
98,17
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-392
45
4,50
5,0
169,85
4,95
6,6
11,25
1,3
98,17
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-393
45
4,50
5,0
169,85
5,40
6,6
11,25
1,3
98,17
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-394
45
4,50
5,0
155,60
3,60
6,7
27,10
1,3
95,50
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-395
45
4,50
5,0
155,60
4,05
6,7
27,10
1,3
95,50
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-396
45
4,50
5,0
155,75
4,50
6,6
26,75
1,3
95,83
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-397
45
4,50
5,0
155,75
4,95
6,6
26,75
1,3
95,83
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-398
45
4,50
5,0
155,75
5,40
6,6
26,75
1,3
95,83
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-399
45
4,50
5,0
144,95
3,60
6,7
38,85
1,3
93,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-400
45
4,50
5,0
144,95
4,05
6,7
38,85
1,3
93,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-401
45
4,50
5,0
145,20
4,50
6,6
38,35
1,3
94,08
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-402
45
4,50
5,0
145,20
4,95
6,6
38,35
1,3
94,08
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-403
45
4,50
5,0
145,20
5,40
6,6
38,35
1,3
94,08
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-404
45
4,50
5,0
195,90
3,60
6,7
13,15
1,3
51,58
1,3
40,00
4,2
30,00
Таблица 19
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-405
Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,0
195,90
Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,05
6,7
13,15
1,3
51,58
1,3
40,00
Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)
4,2
30,00
CP-406
45
4,50
5,0
196,10
4,50
6,6
12,95
1,3
51,58
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-407
45
4,50
5,0
196,10
4,95
6,6
12,95
1,3
51,58
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-408
45
4,50
5,0
196,10
5,40
6,6
12,95
1,3
51,58
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-409
45
4,50
5,0
179,15
3,60
6,7
31,20
1,3
49,42
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-410
45
4,50
5,0
179,15
4,05
6,7
31,20
1,3
49,42
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-411
45
4,50
5,0
179,45
4,50
6,6
30,80
1,3
49,58
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-412
45
4,50
5,0
179,45
4,95
6,6
30,80
1,3
49,58
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-413
45
4,50
5,0
179,45
5,40
6,6
30,80
1,3
49,58
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-414
45
4,50
5,0
166,60
3,60
6,7
44,70
1,3
47,83
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-415
45
4,50
5,0
166,60
4,05
6,7
44,70
1,3
47,83
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-416
45
4,50
5,0
167,05
4,50
6,6
44,10
1,3
48,08
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-417
45
4,50
5,0
167,05
4,95
6,6
44,10
1,3
48,08
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-418
45
4,50
5,0
167,05
5,40
6,6
44,10
1,3
48,08
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-419
45
4,50
5,0
155,75
4,50
6,6
26,75
1,3
95,83
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-420
45
4,50
5,0
159,00
4,50
6,6
23,20
1,3
96,33
1,3
40,00
4,2
30,00
Таблица 20
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-C76
Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,0
113,20
Нет
1,3
269,67
1,3
5,00
Нет
CP-C77
45
4,50
5,0
174,30
1,3
167,83
1,3
5,00
CP-C78
45
4,50
5,0
212,50
1,3
104,17
1,3
5,00
CP-C79
45
4,50
5,0
112,00
Частицы F-легированного оксида олова (средний
4,50
6,6
1,48
1,3
269,20
1,3
5,00
диаметр частиц:20 нм)
CP-C80
45
4,50
5,0
172,20
4,50
6,6
2,29
1,3
167,52
1,3
5,00
CP-C81
45
4,50
5,0
209,90
4,50
6,6
2,78
1,3
103,87
1,3
5,00
CP-C82
45
4,50
5,0
84,60
4,50
6,6
33,50
1,3
261,50
1,3
5,00
CP-C83
45
4,50
5,0
128,20
4,50
6,6
50,76
1,3
160,07
1,3
5,00
CP-C84
45
4,50
5,0
154,80
4,50
6,6
61,30
1,3
98,17
1,3
5,00
CP-C85
Нет
4,50
6,6
132,30
1,3
237,83
1,3
5,00
CP-C86
4,50
6,6
191,85
1,3
138,58
1,3
5,00
CP-C87
4,50
6,6
225,67
1,3
82,22
1,3
5,00
CP-C88
Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,0
82,10
4,50
6,6
2,17
1,3
317,88
1,3
5,00
CP-C89
45
4,50
5,0
79,50
4,50
6,6
5,25
1,3
317,08
1,3
5,00
CP-C90
45
4,50
5,0
73,50
4,50
6,6
12,61
1,3
314,82
1,3
5,00
CP-C91
45
4,50
5,0
68,80
4,50
6,6
18,18
1,3
313,37
1,3
5,00
CP-C92
45
4,50
5,0
65,90
4,50
6,6
21,75
1,3
312,25
1,3
5,00
CP-C93
45
4,50
5,0
216,76
4,50
6,6
5,75
1,3
87,48
1,3
5,00
CP-C94
45
4,50
5,0
209,10
4,50
6,6
13,81
1,3
86,82
1,3
5,00
CP-C95
45
4,50
5,0
191,10
4,50
6,6
32,80
1,3
85,17
1,3
5,00
CP-C96
45
4,50
5,0
177,65
4,50
6,6
46,95
1,3
84,00
1,3
5,00
CP-C97
45
4,50
5,0
169,20
4,50
6,6
55,85
1,3
83,25
1,3
5,00
Таблица 21
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-C98
Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:230 нм)
45
-
5,1
152,20
Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
6,6
25,60
1,3
162,00
1,3
5,00
Нет
CP-C99
Частицы
45
-
5,1
152,20
4,50
6,6
25,60
1,3
162,00
1,3
5,00
сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц:230 нм)
CP-C100
Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
153,50
4,50
6,6
25,35
1,3
160,25
1,3
5,00
СР-С101
Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,0
150,75
Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)
-
6,6
25,90
1,3
163,92
1,3
5,00
CP-C102
45
4,50
5,0
149,72
Частицы оксида индия олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
7,1
27,63
1,3
162,50
1,3
5,00
CP-C103
45
4,50
5,0
150,76
Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
6,6
25,87
1,3
163,95
1,3
5,00
CP-C104
Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
153,50
Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
6,6
25,32
1,3
160,30
1,3
5,00
CP-C105
Частицы сульфата бария, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,0
150,75
4,50
6,6
25,90
1,3
163,92
1,3
5,00
Таблица 44
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-421
Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
111,95
Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
3,60
7,0
3,07
1,3
266,63
1,3
5,00
Нет
CP-422
45
4,50
5,1
111,95
4,05
7,0
3,07
1,3
266,63
1,3
5,00
CP-423
45
4,50
5,1
111,95
4,50
7,0
3,07
1,3
266,63
1,3
5,00
CP-424
45
4,50
5,1
111,95
4,95
7,0
3,07
1,3
266,63
1,3
5,00
CP-425
45
4,50
5,1
111,95
5,40
7,0
3,07
1,3
266,63
1,3
5,00
CP-426
45
4,50
5,1
108,30
4,50
7,0
7,43
1,3
265,45
1,3
5,00
CP-427
45
4,50
5,1
99,60
3,60
7,0
17,77
1,3
262,72
1,3
5,00
CP-428
45
4,50
5,1
99,60
4,05
7,0
17,77
1,3
262,72
1,3
5,00
CP-429
45
4,50
5,1
99,60
4,50
7,0
17,77
1,3
262,72
1,3
5,00
CP-430
45
4,50
5,1
99,60
4,95
7,0
17,77
1,3
262,72
1,3
5,00
CP-431
45
4,50
5,1
99,60
5,40
7,0
17,77
1,3
262,72
1,3
5,00
CP-432
45
4,50
5,1
93,10
4,50
7,0
25,56
1,3
260,57
1,3
5,00
CP-433
45
4,50
5,1
88,92
3,60
7,0
30,51
1,3
259,28
1,3
5,00
CP-434
45
4,50
5,1
88,92
4,05
7,0
30,51
1,3
259,28
1,3
5,00
CP-435
45
4,50
5,1
88,92
4,50
7,0
30,51
1,3
259,28
1,3
5,00
CP-436
45
4,50
5,1
88,92
4,95
7,0
30,51
1,3
259,28
1,3
5,00
CP-437
45
4,50
5,1
88,92
5,40
7,0
30,51
1,3
259,28
1,3
5,00
CP-438
45
4,50
5,1
135,45
4,50
7,0
3,72
1,3
259,28
1,3
5,00
CP-439
45
4,50
5,1
130,90
3,60
7,0
8,98
1,3
225,20
1,3
5,00
CP-440
45
4,50
5,1
130,90
4,05
7,0
8,98
1,3
225,20
1,3
5,00
CP-441
45
4,50
5,1
130,90
4,50
7,0
8,98
1,3
225,20
1,3
5,00
CP-442
45
4,50
5,1
130,90
4,95
7,0
8,98
1,3
225,20
1,3
5,00
CP-443
45
4,50
5,1
130,90
5,40
7,0
8,98
1,3
225,20
1,3
5,00
CP-444
45
4,50
5,1
120,15
3,60
7,0
21,44
1,3
222,35
1,3
5,00
CP-445
45
4,50
5,1
120,15
4,05
7,0
21,44
1,3
222,35
1,3
5,00
CP-446
45
4,50
5,1
120,15
4,50
7,0
21,44
1,3
222,35
1,3
5,00
СР-447
45
4,50
5,1
120,15
4,95
7,0
21,44
1,3
222,35
1,3
5,00
СР-448
45
4,50
5,1
120,15
5,40
7,0
21,44
1,3
222,35
1,3
5,00
СР-449
45
4,50
5,1
112,08
3,60
7,0
30,77
1,3
220,25
1,3
5,00
СР-450
45
4,50
5,1
112,08
4,05
7,0
30,77
1,3
220,25
1,3
5,00
СР-451
45
4,50
5,1
112,08
4,50
7,0
30,77
1,3
220,25
1,3
5,00
СР-452
45
4,50
5,1
112,08
4,95
7,0
30,77
1,3
220,25
1,3
5,00
СР-453
45
4,50
5,1
112,08
5,40
7,0
30,77
1,3
220,25
1,3
5,00
СР-454
45
4,50
5,1
106,95
4,50
7,0
36,70
1,3
218,92
1,3
5,00
СР-455
45
4,50
5,1
171,35
3,60
7,0
4,70
1,3
164,92
1,3
5,00
СР-456
45
4,50
5,1
171,35
4,05
7,0
4,70
1,3
164,92
1,3
5,00
СР-457
45
4,50
5,1
171,35
4,50
7,0
4,70
1,3
164,92
1,3
5,00
СР-458
45
4,50
5,1
171,35
4,95
7,0
4,70
1,3
164,92
1,3
5,00
СР-459
45
4,50
5,1
171,35
5,40
7,0
4,70
1,3
164,92
1,3
5,00
СР-460
45
4,50
5,1
165,37
3,60
7,0
11,35
1,3
163,80
1,3
5,00
Таблица 45
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-461
Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
165,37
Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,05
7,0
11,35
1,3
163,80
1,3
5,00
Нет
CP-462
45
4,50
5,1
165,37
4,50
7,0
11,35
1,3
163,80
1,3
5,00
CP-463
45
4,50
5,1
165,37
4,95
7,0
11,35
1,3
163,80
1,3
5,00
CP-464
45
4,50
5,1
165,37
5,40
7,0
11,35
1,3
163,80
1,3
5,00
CP-465
45
4,50
5,1
151,30
3,60
7,0
27,00
1,3
161,17
1,3
5,00
CP-466
45
4,50
5,1
151,30
4,05
7,0
27,00
1,3
161,17
1,3
5,00
CP-467
45
4,50
5,1
151,30
4,50
7,0
27,00
1,3
161,17
1,3
5,00
CP-468
45
4,50
5,1
151,30
4,95
7,0
27,00
1,3
161,17
1,3
5,00
CP-469
45
4,50
5,1
151,30
5,40
7,0
27,00
1,3
161,17
1,3
5,00
CP-470
45
4,50
5,1
140,84
3,60
7,0
38,66
1,3
159,17
1,3
5,00
CP-471
45
4,50
5,1
140,84
4,05
7,0
38,66
1,3
159,17
1,3
5,00
CP-472
45
4,50
5,1
140,84
4,50
7,0
38,66
1,3
159,17
1,3
5,00
CP-473
45
4,50
5,1
140,84
4,95
7,0
38,66
1,3
159,17
1,3
5,00
CP-474
45
4,50
5,1
140,84
5,40
7,0
38,66
1,3
159,17
1,3
5,00
CP-475
45
4,50
5,1
134,20
3,60
7,0
46,05
1,3
157,92
1,3
5,00
CP-476
45
4,50
5,1
134,20
4,05
7,0
46,05
1,3
157,92
1,3
5,00
CP-477
45
4,50
5,1
134,20
4,50
7,0
46,05
1,3
157,92
1,3
5,00
CP-478
45
4,50
5,1
134,20
4,95
7,0
46,05
1,3
157,92
1,3
5,00
CP-479
45
4,50
5,1
134,20
5,40
7,0
46,05
1,3
157,92
1,3
5,00
CP-480
45
4,50
5,1
197,53
4,50
7,0
5,43
1,3
120,07
1,3
5,00
CP-481
45
4,50
5,1
190,45
3,60
7,0
13,08
1,3
119,12
1,3
5,00
CP-482
45
4,50
5,1
190,45
4,05
7,0
13,08
1,3
119,12
1,3
5,00
CP-483
45
4,50
5,1
190,45
4,50
7,0
13,08
1,3
119,12
1,3
5,00
CP-484
45
4,50
5,1
190,45
4,95
7,0
13,08
1,3
119,12
1,3
5,00
CP-485
45
4,50
5,1
190,45
5,40
7,0
13,08
1,3
119,12
1,3
5,00
CP-486
45
4,50
5,1
173,86
3,60
7,0
31,02
1,3
116,87
1,3
5,00
СР-487
45
4,50
5,1
173,86
4,05
7,0
31,02
1,3
116,87
1,3
5,00
СР-488
45
4,50
5,1
173,86
4,50
7,0
31,02
1,3
116,87
1,3
5,00
СР-489
45
4,50
5,1
173,86
4,95
7,0
31,02
1,3
116,87
1,3
5,00
СР-490
45
4,50
5,1
173,86
5,40
7,0
31,02
1,3
116,87
1,3
5,00
СР-491
45
4,50
5,1
161,54
3,60
7,0
44,35
1,3
115,18
1,3
5,00
СР-492
45
4,50
5,1
161,54
4,05
7,0
44,35
1,3
115,18
1,3
5,00
СР-493
45
4,50
5,1
161,54
4,50
7,0
44,35
1,3
115,18
1,3
5,00
СР-494
45
4,50
5,1
161,54
4,95
7,0
44,35
1,3
115,18
1,3
5,00
СР-495
45
4,50
5,1
161,54
5,40
7,0
44,35
1,3
115,18
1,3
5,00
СР-496
45
4,50
5,1
153,76
4,50
7,0
52,76
1,3
114,13
1,3
5,00
СР-497
45
4,50
5,1
208,14
3,60
7,0
5,72
1,3
101,90
1,3
5,00
СР-498
45
4,50
5,1
208,14
4,05
7,0
5,72
1,3
101,90
1,3
5,00
СР-499
45
4,50
5,1
208,14
4,50
7,0
5,72
1,3
101,90
1,3
5,00
СР-500
45
4,50
5,1
208,14
4,95
7,0
5,72
1,3
101,90
1,3
5,00
Таблица 46
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-501
Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
208,14
Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
5,40
7,0
5,72
1,3
101,90
1,3
5,00
Нет
CP-502
45
4,50
5,1
200,62
4,50
7,0
13,76
1,3
101,03
1,3
5,00
CP-503
45
4,50
5,1
182,95
3,60
7,0
32,64
1,3
99,02
1,3
5,00
CP-504
45
4,50
5,1
182,95
4,05
7,0
32,64
1,3
99,02
1,3
5,00
CP-505
45
4,50
5,1
182,95
4,50
7,0
32,64
1,3
99,02
1,3
5,00
CP-506
45
4,50
5,1
182,95
4,95
7,0
32,64
1,3
99,02
1,3
5,00
CP-507
45
4,50
5,1
182,95
5,40
7,0
32,64
1,3
99,02
1,3
5,00
CP-508
45
4,50
5,1
169,87
4,50
7,0
46,62
1,3
97,52
1,3
5,00
CP-509
45
4,50
5,1
161,62
3,60
7,0
55,45
1,3
96,55
1,3
5,00
CP-510
45
4,50
5,1
161,62
4,05
7,0
55,45
1,3
96,55
1,3
5,00
CP-511
45
4,50
5,1
161,62
4,50
7,0
55,45
1,3
96,55
1,3
5,00
CP-512
45
4,50
5,1
161,62
4,95
7,0
55,45
1,3
96,55
1,3
5,00
CP-513
45
4,50
5,1
161,62
5,40
7,0
55,45
1,3
96,55
1,3
5,00
CP-514
45
4,50
5,1
135,25
3,60
7,0
9,28
1,3
159,12
1,3
40,00
Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц: 210 нм)
4,2
30,00
CP-515
45
4,50
5,1
135,25
4,05
7,0
9,28
1,3
159,12
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-516
45
4,50
5,1
135,25
4,50
7,0
9,28
1,3
159,12
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-517
45
4,50
5,1
135,25
4,95
7,0
9,28
1,3
159,12
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-518
45
4,50
5,1
135,25
5,40
7,0
9,28
1,3
159,12
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-519
45
4,50
5,1
124,13
3,60
7,0
22,15
1,3
156,20
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-520
45
4,50
5,1
124,13
4,05
7,0
22,15
1,3
156,20
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-521
45
4,50
5,1
124,13
4,50
7,0
22,15
1,3
156,20
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-522
45
4,50
5,1
124,13
4,95
7,0
22,15
1,3
156,20
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-523
45
4,50
5,1
124,13
5,40
7,0
22,15
1,3
156,20
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-524
45
4,50
5,1
115,80
3,60
7,0
31,79
1,3
154,02
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-525
45
4,50
5,1
115,80
4,05
7,0
31,79
1,3
154,02
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-526
45
4,50
5,1
115,80
4,50
7,0
31,79
1,3
154,02
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-527
45
4,50
5,1
115,80
4,95
7,0
31,79
1,3
154,02
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-528
45
4,50
5,1
115,80
5,40
7,0
31,79
1,3
154,02
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-529
45
4,50
5,1
170,85
3,60
7,0
11,72
1,3
95,72
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-530
45
4,50
5,1
170,85
4,05
7,0
11,72
1,3
95,72
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-531
45
4,50
5,1
170,85
4,50
7,0
11,72
1,3
95,72
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-532
45
4,50
5,1
170,85
4,95
7,0
11,72
1,3
95,72
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-533
45
4,50
5,1
170,85
5,40
7,0
11,72
1,3
95,72
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-534
45
4,50
5,1
156,32
3,60
7,0
27,90
1,3
92,97
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-535
45
4,50
5,1
156,32
4,05
7,0
27,90
1,3
92,97
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-536
45
4,50
5,1
156,32
4,50
7,0
27,90
1,3
92,97
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-537
45
4,50
5,1
156,32
4,95
7,0
27,90
1,3
92,97
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-538
45
4,50
5,1
156,32
5,40
7,0
27,90
1,3
92,97
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-539
45
4,50
5,1
145,50
3,60
7,0
39,95
1,3
90,92
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-540
45
4,50
5,1
145,50
4,05
7,0
39,95
1,3
90,92
1,3
40,00
4,2
30,00
Таблица 47
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-541
Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,1
145,50
Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
7,0
39,95
1,3
90,92
1,3
40,00
Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц:210 нм)
4,2
30,00
CP-542
45
4,50
5,1
145,50
4,95
7,0
39,95
1,3
90,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-543
45
4,50
5,1
145,50
5,40
7,0
39,95
1,3
90,92
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-544
45
4,50
5,1
196,78
3,60
7,0
13,50
1,3
49,53
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-545
45
4,50
5,1
196,78
4,05
7,0
13,50
1,3
49,53
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-546
45
4,50
5,1
196,78
4,50
7,0
13,50
1,3
49,53
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-547
45
4,50
5,1
196,78
4,95
7,0
13,50
1,3
49,53
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-548
45
4,50
5,1
196,78
5,40
7,0
13,50
1,3
49,53
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-549
45
4,50
5,1
179,62
3,60
7,0
32,05
1,3
47,22
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-550
45
4,50
5,1
179,62
4,05
7,0
32,05
1,3
47,22
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-551
45
4,50
5,1
179,62
4,50
7,0
32,05
1,3
47,22
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-552
45
4,50
5,1
179,62
4,95
7,0
32,05
1,3
47,22
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-553
45
4,50
5,1
179,62
5,40
7,0
32,05
1,3
47,22
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-554
45
4,50
5,1
166,90
3,60
7,0
45,82
1,3
45,47
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-555
45
4,50
5,1
166,90
4,05
7,0
45,82
1,3
45,47
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-556
45
4,50
5,1
166,90
4,50
7,0
45,82
1,3
45,47
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-557
45
4,50
5,1
166,90
4,95
7,0
45,82
1,3
45,47
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-558
45
4,50
5,1
166,90
5,40
7,0
45,82
1,3
45,47
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-559
45
4,50
5,1
156,32
4,50
7,0
27,90
1,3
92,97
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-560
45
4,50
5,1
159,70
4,50
7,0
24,15
1,3
93,58
1,3
40,00
4,2
30,00
Таблица 48
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-C107
Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
114,55
Нет
1,3
267,42
1,3
5,00
Нет
CP-C108
45
4,50
5,1
175,58
1,3
165,70
1,3
5,00
CP-C109
45
4,50
5,1
213,48
1,3
102,53
1,3
5,00
CP-C110
45
4,50
5,1
113,25
Частицы Nb-легированного
4,50
7,0
1,55
1,3
267,00
1,3
5,00
оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
CP-C111
45
4,50
5,1
173,45
4,50
7,0
2,37
1,3
165,30
1,3
5,00
CP-C112
45
4,50
5,1
210,77
4,50
7,0
2,90
1,3
102,22
1,3
5,00
CP-C113
45
4,50
5,1
85,10
4,50
7,0
35,04
1,3
258,10
1,3
5,00
CP-C114
45
4,50
5,1
128,15
4,50
7,0
52,76
1,3
156,82
1,3
5,00
CP-C115
45
4,50
5,1
154,12
4,50
7,0
63,46
1,3
95,70
1,3
5,00
CP-C116
Нет
4,50
7,0
136,40
1,3
231,00
1,3
5,00
CP-C117
4,50
7,0
195,35
1,3
132,75
1,3
5,00
CP-C118
4,50
7,0
228,20
1,3
78,00
1,3
5,00
CP-C119
Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
83,15
4,50
7,0
2,28
1,3
315,95
1,3
5,00
CP-C120
45
4,50
5,1
80,50
4,50
7,0
5,53
1,3
314,95
1,3
5,00
CP-C121
45
4,50
5,1
74,24
4,50
7,0
13,25
1,3
312,52
1,3
5,00
CP-C122
45
4,50
5,1
69,55
4,50
7,0
19,09
1,3
310,60
1,3
5,00
CP-C123
45
4,50
5,1
66,50
4,50
7,0
22,82
1,3
309,47
1,3
5,00
CP-C124
45
4,50
5,1
217,47
4,50
7,0
5,98
1,3
85,92
1,3
5,00
CP-C125
45
4,50
5,1
209,55
4,50
7,0
14,37
1,3
85,13
1,3
5,00
CP-C126
45
4,50
5,1
190,95
4,50
7,0
34,06
1,3
83,32
1,3
5,00
CP-C127
45
4,50
5,1
177,18
4,50
7,0
48,63
1,3
81,98
1,3
5,00
CP-C128
45
4,50
5,1
168,49
4,50
7,0
57,82
1,3
81,15
1,3
5,00
Таблица 49
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-561
Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
113,20
Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
3,60
7,3
3,18
1,3
264,37
1,3
5,00
Нет
CP-562
45
4,50
5,2
113,20
4,05
7,3
3,18
1,3
264,37
1,3
5,00
CP-563
45
4,50
5,2
113,20
4,50
7,4
3,22
1,3
264,30
1,3
5,00
CP-564
45
4,50
5,2
113,20
4,95
7,4
3,22
1,3
264,30
1,3
5,00
CP-565
45
4,50
5,2
113,20
5,40
7,5
3,26
1,3
264,23
1,3
5,00
CP-566
45
4,50
5,2
109,45
4,50
7,4
7,79
1,3
262,93
1,3
5,00
CP-567
45
4,50
5,2
100,60
3,60
7,3
18,36
1,3
260,07
1,3
5,00
CP-568
45
4,50
5,2
100,60
4,05
7,3
18,36
1,3
260,07
1,3
5,00
CP-569
45
4,50
5,2
100,50
4,50
7,4
18,59
1,3
259,85
1,3
5,00
CP-570
45
4,50
5,2
100,50
4,95
7,4
18,59
1,3
259,85
1,3
5,00
CP-571
45
4,50
5,2
100,43
5,40
7,5
18,83
1,3
259,57
1,3
5,00
CP-572
45
4,50
5,2
93,80
4,50
7,4
26,70
1,3
257,50
1,3
5,00
CP-573
45
4,50
5,2
89,70
3,60
7,3
31,48
1,3
256,37
1,3
5,00
CP-574
45
4,50
5,2
89,70
4,05
7,3
31,48
1,3
256,37
1,3
5,00
CP-575
45
4,50
5,2
89,57
4,50
7,4
31,87
1,3
255,93
1,3
5,00
CP-576
45
4,50
5,2
89,57
4,95
7,4
31,87
1,3
255,93
1,3
5,00
CP-577
45
4,50
5,2
89,42
5,40
7,5
32,24
1,3
255,57
1,3
5,00
CP-578
45
4,50
5,2
136,70
4,50
7,4
3,90
1,3
224,00
1,3
5,00
CP-579
45
4,50
5,2
132,05
3,60
7,3
9,27
1,3
222,80
1,3
5,00
CP-580
45
4,50
5,2
132,05
4,05
7,3
9,27
1,3
222,80
1,3
5,00
CP-581
45
4,50
5,2
132,00
4,50
7,4
9,40
1,3
222,67
1,3
5,00
CP-582
45
4,50
5,2
132,00
4,95
7,4
9,40
1,3
222,67
1,3
5,00
CP-583
45
4,50
5,2
131,95
5,40
7,5
9,52
1,3
222,55
1,3
5,00
CP-584
45
4,50
5,2
121,10
3,60
7,3
22,10
1,3
219,67
1,3
5,00
CP-585
45
4,50
5,2
121,10
4,05
7,3
22,10
1,3
219,67
1,3
5,00
CP-586
45
4,50
5,2
120,95
4,50
7,4
22,38
1,3
219,45
1,3
5,00
СР-587
45
4,50
5,2
120,95
4,95
7,4
22,38
1,3
219,45
1,3
5,00
СР-588
45
4,50
5,2
120,82
5,40
7,5
22,66
1,3
219,20
1,3
5,00
СР-589
45
4,50
5,2
112,88
3,60
7,3
31,70
1,3
217,37
1,3
5,00
СР-590
45
4,50
5,2
112,88
4,05
7,3
31,70
1,3
217,37
1,3
5,00
СР-591
45
4,50
5,2
112,70
4,50
7,4
32,08
1,3
217,03
1,3
5,00
СР-592
45
4,50
5,2
112,70
4,95
7,4
32,08
1,3
217,03
1,3
5,00
СР-593
45
4,50
5,2
112,52
5,40
7,5
32,45
1,3
216,72
1,3
5,00
СР-594
45
4,50
5,2
107,45
4,50
7,4
38,22
1,3
215,55
1,3
5,00
СР-595
45
4,50
5,2
172,50
3,60
7,3
4,85
1,3
162,75
1,3
5,00
СР-596
45
4,50
5,2
172,50
4,05
7,3
4,85
1,3
162,75
1,3
5,00
СР-597
45
4,50
5,2
172,48
4,50
7,4
4,90
1,3
162,70
1,3
5,00
СР-598
45
4,50
5,2
172,48
4,95
7,4
4,90
1,3
162,70
1,3
5,00
СР-599
45
4,50
5,2
172,42
5,40
7,5
4,98
1,3
162,67
1,3
5,00
СР-600
45
4,50
5,2
166,40
3,60
7,3
11,68
1,3
161,53
1,3
5,00
Таблица 50
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-601
Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
166,40
Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,05
7,3
11,68
1,3
161,53
1,3
5,00
Нет
CP-602
45
4,50
5,2
166,30
4,50
7,4
11,83
1,3
161,45
1,3
5,00
CP-603
45
4,50
5,2
166,30
4,95
7,4
11,83
1,3
161,45
1,3
5,00
CP-604
45
4,50
5,2
166,22
5,40
7,5
11,99
1,3
161,32
1,3
5,00
CP-605
45
4,50
5,2
152,02
3,60
7,3
27,75
1,3
158,72
1,3
5,00
CP-606
45
4,50
5,2
152,02
4,05
7,3
27,75
1,3
158,72
1,3
5,00
CP-607
45
4,50
5,2
151,83
4,50
7,4
28,09
1,3
158,47
1,3
5,00
CP-608
45
4,50
5,2
151,83
4,95
7,4
28,09
1,3
158,47
1,3
5,00
CP-609
45
4,50
5,2
151,61
5,40
7,5
28,43
1,3
158,27
1,3
5,00
CP-610
45
4,50
5,2
141,37
3,60
7,3
39,69
1,3
156,57
1,3
5,00
CP-611
45
4,50
5,2
141,37
4,05
7,3
39,69
1,3
156,57
1,3
5,00
CP-612
45
4,50
5,2
141,10
4,50
7,4
40,15
1,3
156,25
1,3
5,00
CP-613
45
4,50
5,2
141,10
4,95
7,4
40,15
1,3
156,25
1,3
5,00
CP-614
45
4,50
5,2
140,82
5,40
7,5
40,62
1,3
155,93
1,3
5,00
CP-615
45
4,50
5,2
134,60
3,60
7,3
47,24
1,3
155,27
1,3
5,00
CP-616
45
4,50
5,2
134,60
4,05
7,3
47,24
1,3
155,27
1,3
5,00
CP-617
45
4,50
5,2
134,30
4,50
7,4
47,78
1,3
154,87
1,3
5,00
CP-618
45
4,50
5,2
134,30
4,95
7,4
47,78
1,3
154,87
1,3
5,00
CP-619
45
4,50
5,2
133,98
5,40
7,5
48,31
1,3
154,52
1,3
5,00
CP-620
45
4,50
5,2
198,45
4,50
7,4
5,65
1,3
118,17
1,3
5,00
CP-621
45
4,50
5,2
191,27
3,60
7,3
13,43
1,3
117,17
1,3
5,00
CP-622
45
4,50
5,2
191,27
4,05
7,3
13,43
1,3
117,17
1,3
5,00
CP-623
45
4,50
5,2
191,15
4,50
7,4
13,60
1,3
117,08
1,3
5,00
CP-624
45
4,50
5,2
191,15
4,95
7,4
13,60
1,3
117,08
1,3
5,00
CP-625
45
4,50
5,2
191,00
5,40
7,5
13,78
1,3
117,03
1,3
5,00
CP-626
45
4,50
5,2
174,32
3,60
7,3
31,82
1,3
114,77
1,3
5,00
CP-627
45
4,50
5,2
174,32
4,05
7,3
31,82
1,3
114,77
1,3
5,00
CP-628
45
4,50
5,2
174,05
4,50
7,4
32,20
1,3
114,58
1,3
5,00
CP-629
45
4,50
5,2
174,05
4,95
7,4
32,20
1,3
114,58
1,3
5,00
CP-630
45
4,50
5,2
173,78
5,40
7,5
32,58
1,3
114,40
1,3
5,00
СР-631
45
4,50
5,2
161,77
3,60
7,3
45,42
1,3
113,02
1,3
5,00
СР-632
45
4,50
5,2
161,77
4,05
7,3
45,42
1,3
113,02
1,3
5,00
СР-633
45
4,50
5,2
161,42
4,50
7,4
45,95
1,3
112,72
1,3
5,00
СР-634
45
4,50
5,2
161,42
4,95
7,4
45,95
1,3
112,72
1,3
5,00
СР-635
45
4,50
5,2
161,07
5,40
7,5
46,46
1,3
112,45
1,3
5,00
СР-636
45
4,50
5,2
153,46
4,50
7,4
54,60
1,3
111,57
1,3
5,00
СР-637
45
4,50
5,2
209,00
3,60
7,3
5,87
1,3
100,22
1,3
5,00
СР-638
45
4,50
5,2
209,00
4,05
7,3
5,87
1,3
100,22
1,3
5,00
СР-639
45
4,50
5,2
208,92
4,50
7,4
5,96
1,3
100,20
1,3
5,00
СР-640
45
4,50
5,2
208,92
4,95
7,4
5,96
1,3
100,20
1,3
5,00
Таблица 51
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-641
Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
208,87
Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
5,40
7,5
6,03
1,3
100,17
1,3
5,00
Нет
CP-642
45
4,50
5,2
201,16
4,50
7,4
14,30
1,3
99,23
1,3
5,00
CP-643
45
4,50
5,2
183,27
3,60
7,3
33,45
1,3
97,13
1,3
5,00
CP-644
45
4,50
5,2
183,27
4,05
7,3
33,45
1,3
97,13
1,3
5,00
CP-645
45
4,50
5,2
182,97
4,50
7,4
33,85
1,3
96,97
1,3
5,00
CP-646
45
4,50
5,2
182,97
4,95
7,4
33,85
1,3
96,97
1,3
5,00
CP-647
45
4,50
5,2
182,67
5,40
7,5
34,25
1,3
96,80
1,3
5,00
CP-648
45
4,50
5,2
169,56
4,50
7,4
48,27
1,3
95,28
1,3
5,00
CP-649
45
4,50
5,2
161,58
3,60
7,3
56,71
1,3
94,52
1,3
5,00
CP-650
45
4,50
5,2
161,58
4,05
7,3
56,71
1,3
94,52
1,3
5,00
CP-651
45
4,50
5,2
161,13
4,50
7,4
57,32
1,3
94,25
1,3
5,00
CP-652
45
4,50
5,2
161,13
4,95
7,4
57,32
1,3
94,25
1,3
5,00
CP-653
45
4,50
5,2
160,68
5,40
7,5
57,94
1,3
93,97
1,3
5,00
Таблица 52
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-654
Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,2
136,45
Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
3,60
7,3
9,58
1,3
156,62
1,3
40,00
Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц:210 нм)
4,2
30,00
CP-655
45
4,50
5,2
136,45
4,05
7,3
9,58
1,3
156,62
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-656
45
4,50
5,2
136,40
4,50
7,4
9,70
1,3
156,50
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-657
45
4,50
5,2
136,40
4,95
7,4
9,70
1,3
156,50
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-658
45
4,50
5,2
136,34
5,40
7,5
9,83
1,3
156,38
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-659
45
4,50
5,2
125,10
3,60
7,3
22,83
1,3
153,45
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-660
45
4,50
5,2
125,10
4,05
7,3
22,83
1,3
153,45
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-661
45
4,50
5,2
124,95
4,50
7,4
23,12
1,3
153,22
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-662
45
4,50
5,2
124,95
4,95
7,4
23,12
1,3
153,22
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-663
45
4,50
5,2
124,82
5,40
7,5
23,40
1,3
152,97
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-664
45
4,50
5,2
116,60
3,60
7,3
32,73
1,3
151,12
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-665
45
4,50
5,2
116,60
4,05
7,3
32,73
1,3
151,12
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-666
45
4,50
5,2
116,42
4,50
7,4
33,13
1,3
150,75
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-667
45
4,50
5,2
116,42
4,95
7,4
33,13
1,3
150,75
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-668
45
4,50
5,2
116,25
5,40
7,5
33,53
1,3
150,37
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-669
45
4,50
5,2"
171,92
3,60
7,3
12,06
1,3
93,37
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-670
45
4,50
5,2
171,92
4,05
7,3
12,06
1,3
93,37
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-671
45
4,50
5,2
171,82
4,50
7,4
12,23
1,3
93,25
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-672
45
4,50
5,2
171,82
4,95
7,4
12,23
1,3
93,25
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-673
45
4,50
5,2
171,72
5,40
7,5
12,38
1,3
93,17
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-674
45
4,50
5,2
157,08
3,60
7,3
28,67
1,3
90,42
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-675
45
4,50
5,2
157,08
4,05
7,3
28,67
1,3
90,42
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-676
45
4,50
5,2
156,85
4,50
7,4
29,02
1,3
90,22
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-677
45
4,50
5,2
156,85
4,95
7,4
29,02
1,3
90,22
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-678
45
4,50
5,2
156,64
5,40
7,5
29,37
1,3
89,98
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-679
45
4,50
5,2
146,04
3,60
7,3
41,00
1,3
88,27
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-680
45
4,50
5,2
146,04
4,05
7,3
41,00
1,3
88,27
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-681
45
4,50
5,2
145,76
4,50
7,4
41,48
1,3
87,93
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-682
45
4,50
5,2
145,76
4,95
7,4
41,48
1,3
87,93
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-683
45
4,50
5,2
145,48
5,40
7,5
41,96
1,3
87,60
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-684
45
4,50
5,2
197,62
3,60
7,3
13,86
1,3
47,53
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-685
45
4,50
5,2
197,62
4,05
7,3
13,86
1,3
47,53
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-686
45
4,50
5,2
197,48
4,50
7,4
14,05
1,3
47,45
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-687
45
4,50
5,2
197,48
4,95
7,4
14,05
1,3
47,45
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-688
45
4,50
5,2
197,36
5,40
7,5
14,22
1,3
47,37
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-689
45
4,50
5,2
180,09
3,60
7,3
32,87
1,3
45,07
1,3
40,00
4,2
30,00
СР-690
45
4,50
5,2
180,09
4,05
7,3
32,87
1,3
45,07
1,3
40,00
4,2
30,00
Таблица 53
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-691
Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,2
179,82
Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
7,4
33,26
1,3
44,87
1,3
40,00
Непокрытые частицы оксида титана (средний диаметр частиц:210 нм)
4,2
30,00
CP-692
45
4,50
5,2
179,82
4,95
7,4
33,26
1,3
44,87
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-693
45
4,50
5,2
179,55
5,40
7,5
33,66
1,3
44,65
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-694
45
4,50
5,2
167,15
3,60
7,3
46,92
1,3
43,22
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-695
45
4,50
5,2
167,15
4,05
7,3
46,92
1,3
43,22
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-696
45
4,50
5,2
166,77
4,50
7,4
47,46
1,3
42,95
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-697
45
4,50
5,2
166,77
4,95
7,4
47,46
1,3
42,95
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-698
45
4,50
5,2
166,40
5,40
7,5
48,00
1,3
42,67
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-699
45
4,50
5,2
156,85
4,50
7,4
29,02
1,3
90,22
1,3
40,00
4,2
30,00
CP-700
45
4,50
5,2
160,36
4,50
7,4
25,10
1,3
90,90
1,3
40,00
4,2
30,00
Таблица 54
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-C129
Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,2
115,85
Нет
1,3
265,25
1,3
5,00
Нет
CP-C130
45
4,50
5,2
176,85
1,3
163,58
1,3
5,00
CP-C131
45
4,50
5,2
214,46
1,3
100,90
1,3
5,00
CP-C132
45
4,50
5,2
114,50
Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
7,4
1,63
1,3
264,78
1,3
5,00
CP-C133
45
4,50
5,2
174,63
4,50
7,4
2,48
1,3
163,15
1,3
5,00
CP-C134
45
4,50
5,2
211,67
4,50
7,4
3,00
1,3
100,55
1,3
5,00
CP-C135
45
4,50
5,2
85,65
4,50
7,4
36,57
1,3
254,63
1,3
5,00
CP-C136
45
4,50
5,2
128,12
4,50
7,4
54,70
1,3
153,63
1,3
5,00
CP-C137
45
4,50
5,2
153,49
4,50
7,4
65,53
1,3
93,30
1,3
5,00
CP-C138
Нет
4,50
7,4
140,30
1,3
224,50
1,3
5,00
CP-C139
4,50
7,4
198,60
1,3
127,33
1,3
5,00
CP-C140
4,50
7,4
230,50
1,3
74,17
1,3
5,00
CP-C141
Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,2
84,25
4,50
7,4
2,40
1,3
313,92
1,3
5,00
CP-C142
45
4,50
5,2
81,56
4,50
7,4
5,80
1,3
312,73
1,3
5,00
CP-C143
45
4,50
5,2
75,10
4,50
7,4
13,89
1,3
310,02
1,3
5,00
CP-C144
45
4,50
5,2
70,28
4,50
7,4
20,00
1,3
307,87
1,3
5,00
CP-C145
45
4,50
5,2
67,19
4,50
7,4
23,90
1,3
306,57
1,3
5,00
CP-C146
45
4,50
5,2
218,17
4,50
7,4
6,20
1,3
84,38
1,3
5,00
CP-C147
45
4,50
5,2
209,94
4,50
7,4
14,95
1,3
83,52
1,3
5,00
CP-C148
45
4,50
5,2
190,80
4,50
7,4
35,30
1,3
81,50
1,3
5,00
CP-C149
45
4,50
5,2
176,69
4,50
7,4
50,30
1,3
80,02
1,3
5,00
CP-C150
45
4,50
5,2
167,83
4,50
7,4
59,72
1,3
79,08
1,3
5,00
Таблица 55
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-C151
Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,1
151,95
Частицы P-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
6,7
25,95
1,3
161,83
1,3
5,00
Нет
CP-C152
Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным
45
4,50
5,2
153,28
4,50
6,7
25,68
1,3
160,07
1,3
5,00
оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
CP-C153
Частицы оксида титана, покрытые P-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,1
151,30
Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
7,0
27,00
1,3
161,17
1,3
5,00
CP-C154
45
4,50
5,1
150,48
Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
7,4
28,38
1,3
160,23
1,3
5,00
СР-С155
Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,1
150,28
Частицы W-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
7,5
28,73
1,3
159,98
1,3
5,00
СР-С156
Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова,
45
4,50
5,2
151,63
4,50
7,5
28,43
1,3
158,23
1,3
5,00
(средний диаметр частиц: 230 нм)
СР-С157
Частицы оксида титана, покрытые W-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
152,65
Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
7,0
26,72
1,3
159,38
1,3
5,00
СР-С158
45
4,50
5,2
151,83
Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
7,4
28,08
1,3
158,48
1,3
5,00
Таблица 56
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-C159
Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,1
152,15
Частицы F-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
6,6
25,60
1,3
162,08
1,3
5,00
Нет
CP-C160
Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным
45
4,50
5,2
153,50
4,50
6,6
25,32
1,3
160,30
1,3
5,00
оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
CP-C161
Частицы оксида титана, покрытые F-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,0
149,93
Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
7,0
27,29
1,3
162,97
1,3
5,00
CP-C162
45
4,50
5,0
149,10
Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
7,4
28,68
1,3
162,03
1,3
5,00
СР-С163
Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова,
45
-
5,1
152,00
Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
7,0
26,00
1,3
161,67
1,3
5,00
обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)
СР-С164
Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
-
5,1
152,00
4,50
7,0
26,00
1,3
161,67
1,3
5,00
СР-С165
Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,1
152,00
4,50
7,0
26,00
1,3
161,67
1,3
5,00
Таблица 57
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-C166
Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
152,20
Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц:20 нм)
-
6,6
25,60
1,3
162,00
1,3
5,00
Нет
CP-C167
45
4,50
5,1
151,10
Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
7,1
27,35
1,3
160,92
1,3
5,00
CP-C168
45
4,50
5,1
152,20
Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
6,6
25,60
1,3
162,00
1,3
5,00
CP-C169
Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,2
153,30
Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
7,0
25,70
1,3
160,00
1,3
5,00
СР-С170
Частицы оксида титана, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
150,60
Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
7,4
26,25
1,3
163,58
1,3
5,00
СР-С171
Частицы сульфата бария, покрытые Nb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц:230 нм)
45
4,50
5,1
151,90
Частицы Nb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц:20 нм)
4,50
7,0
26,00
1,3
161,83
1,3
5,00
Таблица 58
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
(1) Первые частицы оксида металла
(2) Вторые частицы оксида металла
(3) Связующий материал (фенольная смола)
(4) Частицы кремнийорганической смолы
(5) Частицы помимо частиц с (1) по (4)
Вид
Доля покровного слоя [%]
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Вид
Степень легирования [%]
Плотность
Количество [части]
Плотность
Количество [части] (содержание сухого остатка смолы составляет 60% по массе от количества, указанного ниже)
Плотность
Количество [части]
Вид
Плотность
Количество [части]
CP-C172
Частицы оксида титана, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
-
5,1
152,00
Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
7,4
26,00
1,3
161,67
1,3
5,00
Нет
CP-C173
Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
-
5,1
152,00
4,50
7,4
26,00
1,3
161,67
1,3
5,00
CP-C174
Частицы оксида титана, покрытые Sb-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,1
152,00
4,50
7,4
26,00
1,3
161,67
1,3
5,00
СР-С175
Частицы оксида титана, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
152,20
Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)
-
6,6
25,60
1,3
162,00
1,3
5,00
СР-С176
45
4,50
5,2
151,10
Частицы оксида индия-олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
7,1
27,35
1,3
160,92
1,3
5,00
СР-С177
45
4,50
5,2
152,20
Частицы Sb-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
6,6
25,60
1,3
162,00
1,3
5,00
СР-С178
Частицы сульфата бария, покрытые Ta-легированным оксидом олова, (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
4,50
5,2
151,90
Частицы Ta-легированного оксида олова (средний диаметр частиц: 20 нм)
4,50
7,0
26,00
1,3
161,83
1,3
5,00
СР-С179
Частицы сульфата бария, покрытые оксидом олова, обедненным кислородом (средний диаметр частиц: 230 нм)
45
-
5,1
152,20
Частицы оксида олова, обедненного кислородом, (средний диаметр частиц: 20 нм)
-
6,6
25,60
1,3
162,00
1,3
5,00
(Пример 1 (пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента 1))
Алюминиевый цилиндр (JIS-A3003, алюминиевый сплав), имеющий длину 251,5 мм, диаметр 24 мм и толщину 1,0 мм, который был изготовлен способом производства, включающим процесс экструзии и процесс вытягивания, использовали в качестве основы (цилиндрической основы).
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя CP-1 наносили на основу в окружающей среде при 22°C/относительной влажности (RH) 55% методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку сушили и термически отверждали в течение 30 минут при 140°C, чтобы сформировать электропроводный слой, имеющий толщину 20 мкм.
13
Измеренное объемное удельное сопротивление электропроводного слоя составляло 2,2×10 Ом·см.
Затем 4,5 части N-метоксиметилированного нейлона (торговое название: Toresin EF-30T; производства компании Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.) и 1,5 части сополимеризованной нейлоновой смолы (торговое название: Amilan CM8000; производства компании Toray Industries, Inc.) растворяли в смешанном растворителе из 65 частей метанола и 30 частей н-бутанола, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования промежуточного слоя. Раствор материала покрытия для формирования промежуточного слоя наносили на электропроводный слой методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку сушили в течение 6 минут при 70°C, чтобы сформировать промежуточный слой, имеющий толщину 0,85 мкм.
После этого, 10 частей кристаллического фталоцианина гидроксигаллия (вещества, генерирующего заряды) в кристаллической форме, имеющего интенсивные пики при брэгговских углах (2θ0,2°) при дифракции CuKα-характеристического рентгеновского излучения, равных 7,5°, 9,9°, 16,3°, 18,6°, 25,1° и 28,3°, 5 частей поливинилбутираля (торговое наименование: S-LEC BX-1, производства компании SEKISUI CHEMICAL, CO., LTD.) и 250 частей циклогексанона загружали в песчаную мельницу с применением стеклянных шариков, каждый из которых имел диаметр 1 мм, и затем подвергали диспергирующей обработке при продолжительности диспергирующей обработки 3 часа. После диспергирующей обработки, 250 частей этилацетата добавляли к обработанному продукту, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов. Раствор материала покрытия для формирования слоя для генерации зарядов наносили на промежуточный слой методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку в течение 10 минут сушили при 100°C, чтобы сформировать слой для генерации зарядов, имеющий толщину 0,12 мкм.
Затем 56 частей аминового соединения (вещества, переносящего заряды), представленного приведенной ниже формулой (CT-1),
24 части аминового соединения (вещества, переносящего заряды), представленного приведенной ниже формулой (CT-2),
90 частей поликарбоната (торговое наименование: Z200, производства компании Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation), 10 частей поликарбоната, модифицированного силоксаном, имеющего повторяющееся структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-1), и повторяющееся структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-2), ((B-1):(B-2)=98:2 (молярное отношение)):
и 0,9 части поликарбоната, модифицированного силоксаном, имеющего повторяющееся структурное звено, представленне приведенной ниже формулой (B-3), и повторяющееся структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-4), и имеющего концевое структурное звено, представленное приведенной ниже формулой (B-5), ((B-3):(B-4)=95:5 (молярное отношение)):
растворяли в смешанном растворителе из 300 частей о-ксилола, 250 частей диметоксиметана и 27 частей метилбензоата, чтобы приготовить раствор материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов. Раствор материала покрытия для формирования слоя для переноса зарядов наносили на слой для генерации зарядов методом нанесения покрытия погружением, и затем полученную покровную пленку сушили в течение 30 минут при 120°C, чтобы сформировать слой для переноса зарядов, имеющий толщину 18,5 мкм. Таким образом, получали электрофотографический фоточувствительный элемент 1, включающий слой для переноса заряда в качестве поверхностного слоя.
Что касается электрофотографического фоточувствительного элемента 1, отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и отношение содержания фосфора к оксиду олова в частицах P-легированного оксида олова определяли каждое из атомного отношения представленным выше методом.
Затем, объем частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и объем частиц P-легированного оксида олова измеряли посредством идентификации частиц оксида титана, покрытых P-легированным оксидом олова, и частиц P-легированного оксида олова на основании их разницы в контрасте в методе Slice & View с применением сканирующей электронной микроскопии со сфокусированным ионным пучком (FIB-SEM) посредством применения представленного выше метода. То же самое относится к последующим примерам.
(Примеры с 2 по 700 и Сравнительные примеры с 1 по 179 (примеры изготовления электрофотографических фоточувствительных элементов с 2 по 700 и с C1 по C179))
Электрофотографические фоточувствительные элементы с 2 по 700 и с C1 по C179 изготавливали посредством тех же самых процедур, что и в случае Примера 1 (примера изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента 1), за исключением того, что раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя изменяли как представлено в Таблицах с 22 по 43 и Таблицах с 59 по 73.
(Оценка)
Оценку образования трещин выполняли посредством обследования поверхности электропроводного слоя на стадии формирования электропроводного слоя на основе с помощью оптического микроскопа и посредством обследования изображения, выведенного из электрофотографического устройства (лазерного принтера), оснащенного изготовленным электрофотографическим фоточувствительным элементом.
Обследование изображения выполняли, как описано ниже.
Изготовленный электрофотографический фоточувствительный элемент устанавливали в лазерный принтер производства компании Hewlett-Packard Company (торговое наименование: LaserJet P2055dn) в качестве устройства для выполнения оценки. Полученное устройство размещали в окружающей среде с нормальной температурой и нормальной влажностью (23°C, 50% относительной влажности (RH)) и затем выводили сплошное черное изображение, сплошное белое изображение и полутоновое изображение одноточечного рисунка с шахматным расположением с последующим обследованием выведенных изображений. Полутоновое изображение одноточечного рисунка с шахматным расположением является полутоновым изображением рисунка, проиллюстрированного на Фиг. 5.
Степени наличия трещин классифицировали с разделением на категории на основании обследования изображений и последующего электропроводного слоя обследования под микроскопом, как описано ниже.
Случай, когда обследование поверхности электропроводного слоя с помощью оптического микроскопа не могло подтвердить наличие каких-либо трещин, определяли как категорию 3. Кроме того, случай, когда обследование поверхности электропроводного слоя с помощью оптического микроскопа было в состоянии подтвердить наличие трещин, однако дефекты изображения вследствие наличия трещин не наблюдались на любом из сплошного черного изображения, сплошного белого изображения и полутонового изображения с одноточечным рисунком с шахматным расположением, определяли как категорию 2. Кроме того, случай, когда обследование поверхности электропроводного слоя с помощью оптического микроскопа было в состоянии подтвердить наличие трещин, и дефекты изображения, возможно вследствие наличия трещин, наблюдались на любом из сплошного черного изображения, сплошного белого изображения и полутонового изображения с одноточечным рисунком с шахматным расположением, определяли как категорию 1. Полутоновое изображение одноточечного рисунка с шахматным расположением является полутоновым изображением рисунка, проиллюстрированного на Фиг. 5.
Оценку для остаточного потенциала и оценку для памяти рисунка также выполняли с помощью лазерного принтера производства компании Hewlett-Packard Company (торговое наименование: LaserJet P2055dn) в качестве устройства для выполнения оценки.
Оценку для памяти рисунка выполняли описанным ниже образом.
Изготовленный электрофотографический фоточувствительный элемент устанавливали в лазерный принтер производства компании Hewlett-Packard Company. Полученное устройство размещали в окружающей среде с низкой температурой и низкой влажностью (15°C, 7% относительной влажности (RH)) и затем выполняли эксплуатационное испытание на долговечность, включающее непрерывное выведение 15000 изображений с рисунков в виде 3-точечных вертикальных линий со 100-точечным промежутком повторяющимся образом. Степень возникновения явления памяти рисунка классифицировали на шесть категорий, как показано в Таблице 74, таким образом, что вертикальные полосы, являющимися следствием гистерезиса вертикальных линий, обследовали на каждом из четырех видов полутоновых изображений и сплошном черном изображении, представленных в Таблице 74, выведенных после испытания. Номер категории становится больше, когда степень, до которой предотвращается память рисунка, улучшается. Следует заметить, что четыре вида полутоновых изображений являются полутоновым изображением с одноточечным рисунком с шахматным расположением, полутоновым изображением с поперечными одноточечными линиями с одноточечным промежутком, полутоновым изображением с поперечными двухточечными линиями с трехточечным промежутком, и полутоновым изображением с поперечными одноточечными линиями с двухточечным промежутком.
Оценку для остаточного потенциала выполняли описанным ниже образом.
Перед эксплуатационным испытанием на долговечность и после него, измеряли остаточные потенциалы после непрерывного вывода трех сплошных белых изображений и пяти сплошных черных изображений. Увеличение остаточного потенциала на 10 В или менее определяли как категорию 4. Кроме того, увеличение на более чем 10 В и 20 В или менее определяли как категорию 3. Кроме того, увеличение на более чем 20 В и 30 В или менее определяли как категорию 2. Кроме того, увеличение на более чем 30 В определяли как категорию 1.
Таблицы с 22 по 43 и Таблицы с 59 по 73 показывают результаты.
Таблица 22
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление проводящего слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 1
CP-1
1
2
15
0,8
2,2×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 2
CP-2
2
2
15
0,9
2,2×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 3
CP-3
3
2
15
1,0
2,2×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 4
CP-4
4
2
15
1,1
2,2×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 5
CP-5
5
2
15
1,2
2,2×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 6
CP-6
6
5
15
1,0
2,1×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 7
CP-7
7
13
15
0,8
2,0×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 8
CP-8
8
13
15
0,9
2,0×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 9
CP-9
9
13
15
1,0
2,0×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 10
CP-10
10
13
15
1,1
2,0×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 11
CP-11
11
13
15
1,2
2,0×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 12
CP-12
12
20
15
1,0
1,9×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 13
CP-13
13
25
15
0,8
1,8×10<sup>13</sup>
3
3
3
Пример 14
CP-14
14
25
15
0,9
1,8×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 15
CP-15
15
25
15
1,0
1,8×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 16
CP-16
16
25
15
1,1
1,8×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 17
CP-17
17
25
15
1,2
1,8×10<sup>13</sup>
3
3
3
Пример 18
CP-18
18
2
20
1,0
6,6×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 19
CP-19
19
5
20
0,8
6,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 10
CP-20
20
5
20
0,9
6,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 21
CP-21
21
5
20
1,0
6,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 22
CP-22
22
5
20
1,1
6,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 23
CP-23
23
5
20
1,2
6,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 24
CP-24
24
13
20
0,8
5,8×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 25
CP-25
25
13
20
0,9
5,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 26
CP-26
26
13
20
1,0
5,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 27
CP-27
27
13
20
1,1
5,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 28
CP-28
28
13
20
1,2
5,8×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 29
CP-29
29
20
20
0,8
5,4×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 30
CP-30
30
20
20
0,9
5,4×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 31
CP-31
31
20
20
1,0
5,5×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 32
CP-32
32
20
20
1,1
5,5×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 33
CP-33
33
20
20
1,2
5,5×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 34
CP-34
34
25
20
1,0
5,2×10<sup>12</sup>
4
4
3
Пример 35
CP-35
35
2
30
0,8
3,6×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 36
CP-36
36
2
30
0,9
3,6×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 37
CP-37
37
2
30
1,0
3,6×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 38
CP-38
38
2
30
1,1
3,6×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 39
CP-39
39
2
30
1,2
3,6×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 40
CP-40
40
5
30
0,8
3,4×10<sup>11</sup>
5
4
3
Таблица 23
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 41
CP-41
41
5
30
0,9
3,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 42
CP-42
42
5
30
1,0
3,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 43
CP-43
43
5
30
1,1
3,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 44
CP-44
44
5
30
1,2
3,4×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 45
CP-45
45
13
30
0,8
2,9×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 46
CP-46
46
13
30
0,9
3,0×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 47
CP-47
47
13
30
1,0
3,0×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 48
CP-48
48
13
30
1,1
3,0×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 49
CP-49
49
13
30
1,2
3,0×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 50
CP-50
50
20
30
0,8
2,6×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 51
CP-51
51
20
30
0,9
2,6×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 52
CP-52
52
20
30
1,0
2,6×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 53
CP-53
53
20
30
1,1
2,6×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 54
CP-54
54
20
30
1,2
2,6×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 55
CP-55
55
25
30
0,8
2,4×10<sup>11</sup>
3
4
3
Пример 56
CP-56
56
25
30
0,9
2,5×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 57
CP-57
57
25
30
1,0
2,5×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 58
CP-58
58
25
30
1,1
2,5×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 59
CP-59
59
25
30
1,2
2,5×0<sup>11</sup>
3
4
3
Пример 60
CP-60
60
2
40
1,0
7,7×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 61
CP-61
61
5
40
0,8
6,9×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 62
CP-62
62
5
40
0,9
7,0×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 63
CP-63
63
5
40
1,0
7,0×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 64
CP-64
64
5
40
1,1
7,0×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 65
CP-65
65
5
40
1,2
7,0×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 66
CP-66
66
13
40
0,8
5,4×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 67
CP-67
67
13
40
0,9
5,5×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 68
CP-68
68
13
40
1,0
5,5×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 69
CP-69
69
13
40
1,1
5,5×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 70
CP-70
70
13
40
1,2
5,5×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 71
CP-71
71
20
40
0,8
4,5×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 72
CP-72
72
20
40
0,9
4,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 73
CP-73
73
20
40
1,0
4,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 74
CP-74
74
20
40
1,1
4,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 75
CP-75
75
20
40
1,2
4,6×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 76
CP-76
76
25
40
1,0
4,1×10<sup>9</sup>
4
4
3
Пример 77
CP-77
77
2
45
0,8
6,4×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 78
CP-78
78
2
45
0,9
6,6×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 79
CP-79
79
2
45
1,0
6,6×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 80
CP-80
80
2
45
1,1
6,6×10<sup>8</sup>
5
4
2
Таблица 24
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 81
CP-81
81
2
45
1,2
6,6×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 82
CP-82
82
5
45
1,0
5,8×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 83
CP-83
83
13
45
0,8
4,2×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 84
CP-84
84
13
45
0,9
4,4×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 85
CP-85
85
13
45
1,0
4,4×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 86
CP-86
86
13
45
1,1
4,4×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 87
CP-87
87
13
45
1,2
4,4×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 88
CP-88
88
20
45
1,0
3,5×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 89
CP-89
89
25
45
0,8
3,0×10<sup>8</sup>
3
4
2
Пример 90
CP-90
90
25
45
0,9
3,1×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 91
CP-91
91
25
45
1,0
3,1×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 92
CP-92
92
25
45
1,1
3,1×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 93
CP-93
93
25
45
1,2
3,1×10<sup>8</sup>
3
4
2
Пример 94
CP-94
94
5
20
0,8
4,8×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 95
CP-95
95
5
20
0,9
4,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 96
CP-96
96
5
20
1,0
4,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 97
CP-97
97
5
20
1,1
4,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 98
CP-98
98
5
20
1,2
4,8×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 99
CP-99
99
13
20
0,8
4,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 100
CP-100
100
13
20
0,9
4,4×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 101
CP-101
101
13
20
1,0
4,4×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 102
CP-102
102
13
20
1,1
4,4×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 103
CP-103
103
13
20
1,2
4,4×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 104
CP-104
104
20
20
0,8
4,0×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 105
CP-105
105
20
20
0,9
4,1×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 106
CP-106
106
20
20
1,0
4,1×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 107
CP-107
107
20
20
1,1
4,1×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 108
CP-108
108
20
20
1,2
4,1×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 109
CP-109
109
5
30
0,8
1,7×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 110
CP-110
110
5
30
0,9
1,8×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 111
CP-111
111
5
30
1,0
1,8×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 112
CP-112
112
5
30
1,1
1,8×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 113
CP-113
113
5
30
1,2
1,8×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 114
CP-114
114
13
30
0,8
1,4×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 115
CP-115
115
13
30
0,9
1,5×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 116
CP-116
116
13
30
1,0
1,5×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 117
CP-117
117
13
30
1,1
1,5×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 118
CP-118
118
13
30
1,2
1,5×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 119
CP-119
119
20
30
0,8
1,3×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 120
CP-120
120
20
30
0,9
1,3×10<sup>11</sup>
6
4
3
Таблица 25
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 121
CP-121
121
20
30
1,0
1,3×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 122
CP-122
122
20
30
1,1
1,3×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 123
CP-123
123
20
30
1,2
1,3×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 124
CP-124
124
5
40
0,8
1,6×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 125
CP-125
125
5
40
0,9
1,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 126
CP-126
126
5
40
1,0
1,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 127
CP-127
127
5
40
1,1
1,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 128
CP-128
128
5
40
1,2
1,6×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 129
CP-129
129
13
40
0,8
1,2×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 130
CP-130
130
13
40
0,9
1,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 131
CP-131
131
13
40
1,0
1,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 132
CP-132
132
13
40
1,1
1,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 133
CP-133
133
13
40
1,2
1,2×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 134
CP-134
134
20
40
0,8
9,5×10<sup>8</sup>
5
4
3
Пример 135
CP-135
135
20
40
0,9
9,9×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 136
CP-136
136
20
40
1,0
9,9×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 137
CP-137
137
20
40
1,1
9,9×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 138
CP-138
138
20
40
1,2
9,9×10<sup>8</sup>
5
4
3
Пример 139
CP-139
139
13
30
1,0
2,5×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 140
CP-140
140
13
30
1,0
5,5×10<sup>11</sup>
6
4
3
Таблица 26
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 1
CP-C1
C1
-
-
-
2,2×10<sup>13</sup>
1
3
3
Сравнительный пример 2
CP-C2
C2
-
-
-
3,8×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 3
CP-C3
C3
-
-
-
7,1×10<sup>8</sup>
1
4
2
Сравнительный пример 4
CP-C4
C4
1
15
1,0
2,2×10<sup>13</sup>
2
3
3
Сравнительный пример 5
CP-C5
C5
1
30
1,0
3,7×10<sup>11</sup>
2
4
3
Сравнительный пример 6
CP-C6
C6
1
45
1,0
6,8×10<sup>8</sup>
2
4
2
Сравнительный пример 7
CP-C7
C7
30
15
1,0
1,8×10<sup>13</sup>
2
3
3
Сравнительный пример 8
CP-C8
C8
30
30
1,0
2,3×10<sup>11</sup>
2
4
3
Сравнительный пример 9
CP-C9
C9
30
45
1,0
2,7×10<sup>8</sup>
2
4
2
Сравнительный пример 10
CP-C10
C10
-
-
-
9,0×10<sup>12</sup>
1
3
3
Сравнительный пример 11
CP-C11
C11
-
-
-
4,3×10<sup>10</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 12
CP-C12
C12
-
-
-
1,1×10<sup>7</sup>
1
4
2
Сравнительный пример 13
CP-C13
C13
2
10
1,0
6,3×10<sup>13</sup>
5
1
3
Сравнительный пример 14
CP-C14
C14
5
10
1,0
6,2×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 15
CP-C15
C15
13
10
1,0
5,9×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 16
CP-C16
C16
20
10
1,0
5,8×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 17
CP-C17
C17
25
10
1,0
5,7×10<sup>13</sup>
4
1
3
Сравнительный пример 18
CP-C18
C18
2
50
1,0
3,4×10<sup>7</sup>
5
4
1
Сравнительный пример 19
CP-C19
C19
5
50
1,0
3,0×10<sup>7</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 20
CP-C20
C20
13
50
1,0
2,1×10<sup>7</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 21
CP-C21
C21
20
50
1,0
1,6×10<sup>7</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 22
CP-C22
C22
25
50
1,0
1,4×10<sup>7</sup>
4
4
1
Таблица 27
Раствор материала покрытия для формирования электропро-водного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 23
CP-C23
C23
-
-
-
2,9×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 24
CP-C24
C24
-
-
-
2,9×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 25
CP-C25
C25
-
-
-
2,9×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 26
CP-C26
C26
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 27
CP-C27
C27
-
-
-
2,8×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 28
CP-C28
C28
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 29
CP-C29
C29
-
-
-
2,6×10<sup>11</sup>
1
4
3
Таблица 28
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 30
CP-C30
C30
-
-
-
3,3×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 31
CP-C31
C31
-
-
-
2,6×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 32
CP-C32
C32
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 33
CP-C33
C33
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 34
CP-C34
C34
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 35
CP-C35
C35
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Таблица 29
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 141
CP-141
141
2
15
0,8
2,0×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 142
CP-142
142
2
15
0,9
2,0×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 143
CP-143
143
2
15
1,0
2,0×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 144
CP-144
144
2
15
1,1
2,0×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 145
CP-145
145
2
15
1,2
2,0×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 146
CP-146
146
5
15
1,0
2,0×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 147
CP-147
147
13
15
0,8
1,8×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 148
CP-148
148
13
15
0,9
1,8×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 149
CP-149
149
13
15
1,0
1,8×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 150
CP-150
150
13
15
1,1
1,8×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 151
CP-151
151
13
15
1,2
1,8×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 152
CP-152
152
20
15
1,0
1,7×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 153
CP-153
153
25
15
0,8
1,6×10<sup>13</sup>
3
3
3
Пример 154
CP-154
154
25
15
0,9
1,6×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 155
CP-155
155
25
15
1,0
1,6×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 156
CP-156
156
25
15
1,1
1,6×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 157
CP-157
157
25
15
1,2
1,6×10<sup>13</sup>
3
3
3
Пример 158
CP-158
158
2
20
1,0
6,0×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 159
CP-159
159
5
20
0,8
5,8×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 160
CP-160
160
5
20
0,9
5,7×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 161
CP-161
161
5
20
1,0
5,7×1012
6
4
3
Пример 162
CP-162
162
5
20
1,1
5,7×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 163
CP-163
163
5
20
1,2
5,7×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 164
CP-164
164
13
20
0,8
5,1×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 165
CP-165
165
13
20
0,9
5,1×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 166
CP-166
166
13
20
1,0
5,1×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 167
CP-167
167
13
20
1,1
5,0×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 168
CP-168
168
13
20
1,2
5,0×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 169
CP-169
169
20
20
0,8
4,7×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 170
CP-170
170
20
20
0,9
4,6×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 171
CP-171
171
20
20
1,0
4,6×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 172
CP-172
172
20
20
1,1
4,5×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 173
CP-173
173
20
20
1,2
4,5×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 174
CP-174
174
25
20
1,0
4,3×10<sup>12</sup>
4
4
3
Пример 175
CP-175
175
2
30
0,8
3,1×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 176
CP-176
176
2
30
0,9
3,1×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 177
CP-177
177
2
30
1,0
3,1×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 178
CP-178
178
2
30
1,1
3,1×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 179
CP-179
179
2
30
1,2
3,1×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 180
CP-180
180
5
30
0,8
2,9×10<sup>11</sup>
5
4
3
Таблица 30
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 181
CP-181
181
5
30
0,9
2,9×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 182
CP-182
182
5
30
1,0
2,9×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 183
CP-183
183
5
30
1,1
2,9×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 184
CP-184
184
5
30
1,2
2,9×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 185
CP-185
185
13
30
0,8
2,4×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 186
CP-186
186
13
30
0,9
2,3×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 187
CP-187
187
13
30
1,0
2,3×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 188
CP-188
188
13
30
1,1
2,3×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 189
CP-189
189
13
30
1,2
2,3×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 190
CP-190
190
20
30
0,8
2,0×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 191
CP-191
191
20
30
0,9
2,0×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 192
CP-192
192
20
30
1,0
2,0×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 193
CP-193
193
20
30
1,1
1,9×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 194
CP-194
194
20
30
1,2
1,9×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 195
CP-195
195
25
30
0,8
1,8×10<sup>11</sup>
3
4
3
Пример 196
CP-196
196
25
30
0,9
1,8×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 197
CP-197
197
25
30
1,0
1,8×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 198
CP-198
198
25
30
1,1
1,7×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 199
CP-199
199
25
30
1,2
1,7×10<sup>11</sup>
3
4
3
Пример 200
CP-200
200
2
40
1,0
6,0×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 201
CP-201
201
5
40
0,8
5,3×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 202
CP-202
202
5
40
0,9
5,3×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 203
CP-203
203
5
40
1,0
5,3×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 204
CP-204
204
5
40
1,1
5,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 205
CP-205
205
5
40
1,2
5,2×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 206
CP-206
206
13
40
0,8
3,9×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 207
CP-207
207
13
40
0,9
3,8×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 208
CP-208
208
13
40
1,0
3,8×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 209
CP-209
209
13
40
1,1
3,7×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 210
CP-210
210
13
40
1,2
3,7×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 211
CP-211
211
20
40
0,8
3,1×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 212
CP-212
212
20
40
0,9
3,0×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 213
CP-213
213
20
40
1,0
3,0×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 214
CP-214
214
20
40
1,1
2,9×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 215
CP-215
215
20
40
1,2
2,9×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 216
CP-216
216
25
40
1,0
2,5×10<sup>9</sup>
4
4
3
Пример 217
CP-217
217
2
45
0,8
4,9×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 218
CP-218
218
2
45
0,9
4,9×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 219
CP-219
219
2
45
1,0
4,9×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 220
CP-220
220
2
45
1,1
4,9×10<sup>8</sup>
5
4
2
Таблица 31
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 221
CP-221
221
2
45
1,2
4,9×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 222
CP-222
222
5
45
1,0
4,2×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 223
CP-223
223
13
45
0,8
2,9×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 224
CP-224
224
13
45
0,9
2,8×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 225
CP-225
225
13
45
1,0
2,8×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 226
CP-226
226
13
45
1,1
2,7×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 227
CP-227
227
13
45
1,2
2,7×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 228
CP-228
228
20
45
1,0
2,0×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 229
CP-229
229
25
45
0,8
1,8×10<sup>8</sup>
3
4
2
Пример 230
CP-230
230
25
45
0,9
1,7×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 231
CP-231
231
25
45
1,0
1,7×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 232
CP-232
232
25
45
1,1
1,6×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 233
CP-233
233
25
45
1,2
1,6×10<sup>8</sup>
3
4
2
Таблица 32
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 234
CP-234
234
5
20
0,8
4,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 235
CP-235
235
5
20
0,9
4,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 236
CP-236
236
5
20
1,0
4,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 237
CP-237
237
5
20
1,1
4,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 238
CP-238
238
5
20
1,2
4,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 239
CP-239
239
13
20
0,8
3,8×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 240
CP-240
240
13
20
0,9
3,7×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 241
CP-241
241
13
20
1,0
3,7×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 242
CP-242
242
13
20
1,1
3,7×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 243
CP-243
243
13
20
1,2
3,7×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 244
CP-244
244
20
20
0,8
3,4×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 245
CP-245
245
20
20
0,9
3,4×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 246
CP-246
246
20
20
1,0
3,4×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 247
CP-247
247
20
20
1,1
3,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 248
CP-248
248
20
20
1,2
3,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 249
CP-249
249
5
30
0,8
1,4×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 250
CP-250
250
5
30
0,9
1,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 251
CP-251
251
5
30
1,0
1,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 252
CP-252
252
5
30
1,1
1,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 253
CP-253
253
5
30
1,2
1,4×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 254
CP-254
254
13
30
0,8
1,1×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 255
CP-255
255
13
30
0,9
1,1×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 256
CP-256
256
13
30
1,0
1,1×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 257
CP-257
257
13
30
1,1
1,1×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 258
CP-258
258
13
30
1,2
1,1×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 259
CP-259
259
20
30
0,8
9,5×10<sup>10</sup>
5
4
3
Пример 260
CP-260
260
20
30
0,9
9,2×10<sup>10</sup>
6
4
3
Пример 261
CP-261
261
20
30
1,0
9,2×10<sup>10</sup>
6
4
3
Пример 262
CP-262
262
20
30
1,1
9,0×10<sup>10</sup>
6
4
3
Пример 263
CP-263
263
20
30
1,2
9,0×10<sup>10</sup>
5
4
3
Пример 264
CP-264
264
5
40
0,8
1,2×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 265
CP-265
265
5
40
0,9
1,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 266
CP-266
266
5
40
1,0
1,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 267
CP-267
267
5
40
1,1
1,1×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 268
CP-268
268
5
40
1,2
1,1×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 269
CP-269
269
13
40
0,8
7,9×10<sup>8</sup>
5
4
3
Пример 270
CP-270
270
13
40
0,9
7,6×10<sup>8</sup>
6
4
3
Таблица 33
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 271
CP-271
271
13
40
1,0
7,6×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 272
CP-272
272
13
40
1,1
7,3×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 273
CP-273
273
13
40
1,2
7,3×10<sup>8</sup>
5
4
3
Пример 274
CP-274
274
20
40
0,8
5,9×10<sup>8</sup>
5
4
3
Пример 275
CP-275
275
20
40
0,9
5,6×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 276
CP-276
276
20
40
1,0
5,6×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 277
CP-277
277
20
40
1,1
5,3×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 278
CP-278
278
20
40
1,2
5,3×10<sup>8</sup>
5
4
3
Пример 279
CP-279
279
13
30
1,0
2,1×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 280
CP-280
280
13
30
1,0
5,1×10<sup>11</sup>
6
4
3
Таблица 34
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 42
CP-C42
C42
-
-
-
2,1×10<sup>13</sup>
1
3
3
Сравнительный пример 43
CP-C43
C43
-
-
-
3,3×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 44
CP-C44
C44
-
-
-
5,5×10<sup>8</sup>
1
4
2
Сравнительный пример 45
CP-C45
C45
1
15
1,0
2,1×10<sup>13</sup>
2
3
3
Сравнительный пример 46
CP-C46
C46
1
30
1,0
3,2×10<sup>11</sup>
2
4
3
Сравнительный пример 47
CP-C47
C47
1
45
1,0
5,2×10<sup>8</sup>
2
4
2
Сравнительный пример 48
CP-C48
C48
30
15
1,0
1,6×10<sup>13</sup>
2
3
3
Сравнительный пример 49
CP-C49
C49
30
30
1,0
1,6×10<sup>11</sup>
2
4
3
Сравнительный пример 50
CP-C50
C50
30
45
1,0
1,4×10<sup>8</sup>
2
4
2
Сравнительный пример 51
CP-C51
C51
-
-
-
5,8×10<sup>12</sup>
1
3
3
Сравнительный пример 52
CP-C52
C52
-
-
-
1,5×10<sup>10</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 53
CP-C53
C53
-
-
-
1,5×10<sup>6</sup>
1
4
2
Сравнительный пример 54
CP-C54
C54
2
10
1,0
6,0×10<sup>13</sup>
5
1
3
Сравнительный пример 55
CP-C55
C55
5
10
1,0
5,9×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 56
CP-C56
C56
13
10
1,0
5,6×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 57
CP-C57
C57
20
10
1,0
5,4×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 58
CP-C58
C58
25
10
1,0
5,2×10<sup>13</sup>
4
1
3
Сравнительный пример 59
CP-C59
C59
2
50
1,0
2,4×10<sup>7</sup>
5
4
1
Сравнительный пример 60
CP-C60
C60
5
50
1,0
2,0×10<sup>7</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 61
CP-C61
C61
13
50
1,0
1,2×10<sup>7</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 62
CP-C62
C62
20
50
1,0
8,3×10<sup>6</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 63
CP-C63
C63
25
50
1,0
6,5×10<sup>6</sup>
4
4
1
Таблица 35
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 64
CP-C64
C64
-
-
-
2,6×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 65
CP-C65
C65
-
-
-
2,6×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 66
CP-C66
C66
-
-
-
2,3×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 67
CP-C67
C67
-
-
-
2,7×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 68
CP-C68
C68
-
-
-
2,5×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 69
CP-C69
C69
-
-
-
2,7×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 70
CP-C70
C70
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 71
CP-C71
C71
-
-
-
2,3×10<sup>11</sup>
1
4
3
Таблица 36
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 281
CP-281
281
2
15
0,8
2,3×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 282
CP-282
282
2
15
0,9
2,3×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 283
CP-283
283
2
15
1,0
2,3×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 284
CP-284
284
2
15
1,1
2,3×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 285
CP-285
285
2
15
1,2
2,3×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 286
CP-286
286
5
15
1,0
2,2×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 287
CP-287
287
13
15
0,8
2,1×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 288
CP-288
288
13
15
0,9
2,1×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 289
CP-289
289
13
15
1,0
2,1×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 290
CP-290
290
13
15
1,1
2,1×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 291
CP-291
291
13
15
1,2
2,1×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 292
CP-292
292
20
15
1,0
2,0×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 293
CP-293
293
25
15
0,8
1,9×10<sup>13</sup>
3
3
3
Пример 294
CP-294
294
25
15
0,9
1,9×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 295
CP-295
295
25
15
1,0
2,0×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 296
CP-296
296
25
15
1,1
2,0×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 297
CP-297
297
25
15
1,2
2,0×10<sup>13</sup>
3
3
3
Пример 298
CP-298
298
2
20
1,0
7,1×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 299
CP-299
299
5
20
0,8
6,9×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 300
CP-300
300
5
20
0,9
6,9×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 301
CP-301
301
5
20
1,0
6,9×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 302
CP-302
302
5
20
1,1
6,9×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 303
CP-303
303
5
20
1,2
6,9×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 304
CP-304
304
13
20
0,8
6,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 305
CP-305
305
13
20
0,9
6,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 306
CP-306
306
13
20
1,0
6,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 307
CP-307
307
13
20
1,1
6,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 308
CP-308
308
13
20
1,2
6,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 309
CP-309
309
20
20
0,8
5,8×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 310
CP-310
310
20
20
0,9
5,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 311
CP-311
311
20
20
1,0
5,9×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 312
CP-312
312
20
20
1,1
5,9×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 313
CP-313
313
20
20
1,2
5,9×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 314
CP-314
314
25
20
1,0
5,7×10<sup>12</sup>
4
4
3
Пример 315
CP-315
315
2
30
0,8
4,1×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 316
CP-316
316
2
30
0,9
4,1×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 317
CP-317
317
2
30
1,0
4,2×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 318
CP-318
318
2
30
1,1
4,2×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 319
CP-319
319
2
30
1,2
4,2×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 320
CP-320
320
5
30
0,8
3,9×10<sup>11</sup>
5
4
3
Таблица 37
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 321
CP-321
321
5
30
0,9
3,9×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 322
CP-322
322
5
30
1,0
3,9×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 323
CP-323
323
5
30
1,1
3,9×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 324
CP-324
324
5
30
1,2
3,9×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 325
CP-325
325
13
30
0,8
3,3×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 326
CP-326
326
13
30
0,9
3,3×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 327
CP-327
327
13
30
1,0
3,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 328
CP-328
328
13
30
1,1
3,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 329
CP-329
329
13
30
1,2
3,4×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 330
CP-330
330
20
30
0,8
3,0×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 331
CP-331
331
20
30
0,9
3,0×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 332
CP-332
332
20
30
1,0
3,0×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 333
CP-333
333
20
30
1,1
3,0×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 334
CP-334
334
20
30
1,2
3,0×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 335
CP-335
335
25
30
0,8
2,7×10<sup>11</sup>
3
4
3
Пример 336
CP-336
336
25
30
0,9
2,7×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 337
CP-337
337
25
30
1,0
2,8×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 338
CP-338
338
25
30
1,1
2,8×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 339
CP-339
339
25
30
1,2
2,8×10<sup>11</sup>
3
4
3
Пример 340
CP-340
340
2
40
1,0
9,5×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 341
CP-341
341
5
40
0,8
8,4×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 342
CP-342
342
5
40
0,9
8,4×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 343
CP-343
343
5
40
1,0
8,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 344
CP-344
344
5
40
1,1
8,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 345
CP-345
345
5
40
1,2
8,6×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 346
CP-346
346
13
40
0,8
6,7×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 347
CP-347
347
13
40
0,9
6,7×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 348
CP-348
348
13
40
1,0
6,8×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 349
CP-349
349
13
40
1,1
6,8×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 350
CP-350
350
13
40
1,2
6,8×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 351
CP-351
351
20
40
0,8
5,6×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 352
CP-352
352
20
40
0,9
5,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 353
CP-353
353
20
40
1,0
5,7×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 354
CP-354
354
20
40
1,1
5,7×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 355
CP-355
355
20
40
1,2
5,7×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 356
CP-356
356
25
40
1,0
5,1×10<sup>9</sup>
4
4
3
Пример 357
CP-357
357
2
45
0,8
8,4×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 358
CP-358
358
2
45
0,9
8,4×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 359
CP-359
359
2
45
1,0
8,5×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 360
CP-360
360
2
45
1,1
8,5×10<sup>8</sup>
5
4
2
Таблица 38
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 361
CP-361
361
2
45
1,2
8,5×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 362
CP-362
362
5
45
1,0
7,6×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 363
CP-363
363
13
45
0,8
5,6×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 364
CP-364
364
13
45
0,9
5,6×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 365
CP-365
365
13
45
1,0
5,7×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 366
CP-366
366
13
45
1,1
5,7×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 367
CP-367
367
13
45
1,2
5,7×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 368
CP-368
368
20
45
1,0
4,7×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 369
CP-369
369
25
45
0,8
3,8×10<sup>8</sup>
3
4
2
Пример 370
CP-370
370
25
45
0,9
3,8×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 371
CP-371
371
25
45
1,0
4,1×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 372
CP-372
372
25
45
1,1
4,1×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 373
CP-373
373
25
45
1,2
4,1×10<sup>8</sup>
3
4
2
Таблица 39
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 374
CP-374
374
5
20
0,8
5,2×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 375
CP-375
375
5
20
0,9
5,2×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 376
CP-376
376
5
20
1,0
5,2×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 377
CP-377
377
5
20
1,1
5,2×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 378
CP-378
378
5
20
1,2
5,2×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 379
CP-379
379
13
20
0,8
4,7×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 380
CP-380
380
13
20
0,9
4,7×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 381
CP-381
381
13
20
1,0
4,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 382
CP-382
382
13
20
1,1
4,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 383
CP-383
383
13
20
1,2
4,8×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 384
CP-384
384
20
20
0,8
4,4×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 385
CP-385
385
20
20
0,9
4,4×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 386
CP-386
386
20
20
1,0
4,4×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 387
CP-387
387
20
20
1,1
4,4×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 388
CP-388
388
20
20
1,2
4,4×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 389
CP-389
389
5
30
0,8
2,0×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 390
CP-390
390
5
30
0,9
2,0×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 391
CP-391
391
5
30
1,0
2,1×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 392
CP-392
392
5
30
1,1
2,1×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 393
CP-393
393
5
30
1,2
2,1×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 394
CP-394
394
13
30
0,8
1,7×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 395
CP-395
395
13
30
0,9
1,7×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 396
CP-396
396
13
30
1,0
1,7×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 397
CP-397
397
13
30
1,1
1,7×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 398
CP-398
398
13
30
1,2
1,7×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 399
CP-399
399
20
30
0,8
1,5×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 400
CP-400
400
20
30
0,9
1,5×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 401
CP-401
401
20
30
1,0
1,5×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 402
CP-402
402
20
30
1,1
1,5×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 403
CP-403
403
20
30
1,2
1,5×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 404
CP-404
404
5
40
0,8
2,1×10<sup>9</sup>
5
4
3
Таблица 40
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 405
CP-405
405
5
40
0,9
2,1×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 406
CP-406
406
5
40
1,0
2,1×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 407
CP-407
407
5
40
1,1
2,1×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 408
CP-408
408
5
40
1,2
2,1×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 409
CP-409
409
13
40
0,8
1,6×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 410
CP-410
410
13
40
0,9
1,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 411
CP-411
411
13
40
1,0
1,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 412
CP-412
412
13
40
1,1
1,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 413
CP-413
413
13
40
1,2
1,6×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 414
CP-414
414
20
40
0,8
1,2×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 415
CP-415
415
20
40
0,9
1,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 416
CP-416
416
20
40
1,0
1,3×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 417
CP-417
417
20
40
1,1
1,3×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 418
CP-418
418
20
40
1,2
1,3×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 419
CP-419
419
13
30
1,0
2,7×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 420
CP-420
420
13
30
1,0
5,8×10<sup>11</sup>
6
4
3
Таблица 41
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 76
CP-C76
C76
-
-
-
2,3×10<sup>13</sup>
1
3
3
Сравнительный пример 77
CP-C77
C77
-
-
-
4,4×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 78
CP-C78
C78
-
-
-
9,2×10<sup>8</sup>
1
4
2
Сравнительный пример 79
CP-C79
C79
1
15
1,0
2,3×10<sup>13</sup>
2
3
3
Сравнительный пример 80
CP-C80
C80
1
30
1,0
4,3×10<sup>11</sup>
2
4
3
Сравнительный пример 81
CP-C81
C81
1
45
1,0
8,8×10<sup>8</sup>
2
4
2
Сравнительный пример 82
CP-C82
C82
30
15
1,0
1,9×10<sup>13</sup>
2
3
3
Сравнительный пример 83
CP-C83
C83
30
30
1,0
2,6×10<sup>11</sup>
2
4
3
Сравнительный пример 84
CP-C84
C84
30
45
1,0
3,5×10<sup>8</sup>
2
4
2
Сравнительный пример 85
CP-C85
C85
-
-
-
9,6×10<sup>12</sup>
1
3
3
Сравнительный пример 86
CP-C86
C86
-
-
-
5,0×10<sup>10</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 87
CP-C87
C87
-
-
-
1,5×10<sup>7</sup>
1
4
2
Сравнительный пример 88
CP-C88
C88
2
10
1,0
6,5×10<sup>13</sup>
5
1
3
Сравнительный пример 89
CP-C89
C89
5
10
1,0
6,4×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 90
CP-C90
C90
13
10
1,0
6,1×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 91
CP-C91
C91
20
10
1,0
6,0×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 92
CP-C92
C92
25
10
1,0
5,8×10<sup>13</sup>
4
1
3
Сравнительный пример 93
CP-C93
C93
2
50
1,0
4,8×10<sup>7</sup>
5
4
1
Сравнительный пример 94
CP-C94
C94
5
50
1,0
4,1×10<sup>7</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 95
CP-C95
C95
13
50
1,0
2,9×10<sup>7</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 96
CP-C96
C96
20
50
1,0
2,2×10<sup>7</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 97
CP-C97
C97
25
50
1,0
1,9×10<sup>7</sup>
4
4
1
Таблица 42
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропровод-ного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 98
CP-C98
C98
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 99
CP-C99
C99
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 100
CP-C100
C100
-
-
-
2,7×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 101
CP-C101
C101
-
-
-
3,4×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 102
CP-C102
C102
-
-
-
3,1×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 103
CP-C103
C103
-
-
-
3,4×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 104
CP-C104
C104
-
-
-
2,7×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 105
CP-C105
C105
-
-
-
3,4×10<sup>11</sup>
1
4
3
Таблица 43
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропро-водного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 36
CP-C36
C36
-
-
-
8,0×10<sup>6</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 37
CP-C37
C37
-
-
-
1,0×10<sup>7</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 38
CP-C38
C38
-
-
-
4,4×10<sup>10</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 39
CP-C39
C39
-
-
-
2,0×10<sup>13</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 40
CP-C40
C40
-
-
-
2,1×10<sup>9</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 41
CP-C41
C41
-
-
-
3,1×10<sup>9</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 72
CP-C72
C72
-
-
-
3,5×10<sup>10</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 73
CP-C73
C73
-
-
-
2,0×10<sup>13</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 74
CP-C74
C74
-
-
-
4,0×10<sup>9</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 75
CP-C75
C75
-
-
-
5,8×10<sup>9</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 106
CP-C106
C106
-
-
-
3,5×10<sup>10</sup>
1
4
3
Таблица 59
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 421
CP-421
421
2
15
0,8
2,2×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 422
CP-422
422
2
15
0,9
2,2×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 423
CP-423
423
2
15
1,0
2,2×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 424
CP-424
424
2
15
1,1
2,2×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 425
CP-425
425
2
15
1,2
2,2×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 426
CP-426
426
5
15
1,0
2,1×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 427
CP-427
427
13
15
0,8
2,0×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 428
CP-428
428
13
15
0,9
2,0×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 429
CP-429
429
13
15
1,0
2,0×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 430
CP-430
430
13
15
1,1
2,0×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 431
CP-431
431
13
15
1,2
2,0×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 432
CP-432
432
20
15
1,0
1,9×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 433
CP-433
433
25
15
0,8
1,8×10<sup>13</sup>
3
3
3
Пример 434
CP-434
434
25
15
0,9
1,8×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 435
CP-435
435
25
15
1,0
1,8×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 436
CP-436
436
25
15
1,1
1,8×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 437
CP-437
437
25
15
1,2
1,8×10<sup>13</sup>
3
3
3
Пример 438
CP-438
438
2
20
1,0
6,6×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 439
CP-439
439
5
20
0,8
6,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 440
CP-440
440
5
20
0,9
6,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 441
CP-441
441
5
20
1,0
6,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 442
CP-442
442
5
20
1,1
6,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 443
CP-443
443
5
20
1,2
6,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 444
CP-444
444
13
20
0,8
5,7×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 445
CP-445
445
13
20
0,9
5,7×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 446
CP-446
446
13
20
1,0
5,7×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 447
CP-447
447
13
20
1,1
5,7×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 448
CP-448
448
13
20
1,2
5,7×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 449
CP-449
449
20
20
0,8
5,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 450
CP-450
450
20
20
0,9
5,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 451
CP-451
451
20
20
1,0
5,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 452
CP-452
452
20
20
1,1
5,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 453
CP-453
453
20
20
1,2
5,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 454
CP-454
454
25
20
1,0
5,0×10<sup>12</sup>
4
4
3
Пример 455
CP-455
455
2
30
0,8
3,6×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 456
CP-456
456
2
30
0,9
3,6×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 457
CP-457
457
2
30
1,0
3,6×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 458
CP-458
458
2
30
1,1
3,6×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 459
CP-459
459
2
30
1,2
3,6×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 460
CP-460
460
5
30
0,8
3,4×10<sup>11</sup>
5
4
3
Таблица 60
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 461
CP-461
461
5
30
0,9
3,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 462
CP-462
462
5
30
1,0
3,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 463
CP-463
463
5
30
1,1
3,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 464
CP-464
464
5
30
1,2
3,4×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 465
CP-465
465
13
30
0,8
2,8×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 466
CP-466
466
13
30
0,9
2,8×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 467
CP-467
467
13
30
1,0
2,8×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 468
CP-468
468
13
30
1,1
2,8×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 469
CP-469
469
13
30
1,2
2,8×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 470
CP-470
470
20
30
0,8
2,5×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 471
CP-471
471
20
30
0,9
2,5×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 472
CP-472
472
20
30
1,0
2,5×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 473
CP-473
473
20
30
1,1
2,5×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 474
CP-474
474
20
30
1,2
2,5×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 475
CP-475
475
25
30
0,8
2,3×10<sup>11</sup>
3
4
3
Пример 476
CP-476
476
25
30
0,9
2,3×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 477
CP-477
477
25
30
1,0
2,3×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 478
CP-478
478
25
30
1,1
2,3×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 479
CP-479
479
25
30
1,2
2,3×10<sup>11</sup>
3
4
3
Пример 480
CP-480
480
2
40
1,0
7,6×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 481
CP-481
481
5
40
0,8
6,8×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 482
CP-482
482
5
40
0,9
6,8×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 483
CP-483
483
5
40
1,0
6,8×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 484
CP-484
484
5
40
1,1
6,8×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 485
CP-485
485
5
40
1,2
6,8×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 486
CP-486
486
13
40
0,8
5,2×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 487
CP-487
487
13
40
0,9
5,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 488
CP-488
488
13
40
1,0
5,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 489
CP-489
489
13
40
1,1
5,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 490
CP-490
490
13
40
1,2
5,2×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 491
CP-491
491
20
40
0,8
4,2×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 492
CP-492
492
20
40
0,9
4,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 493
CP-493
493
20
40
1,0
4,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 494
CP-494
494
20
40
1,1
4,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 495
CP-495
495
20
40
1,2
4,2×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 496
CP-496
496
25
40
1,0
3,7×10<sup>9</sup>
4
4
3
Пример 497
CP-497
497
2
45
0,8
6,5×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 498
CP-498
498
2
45
0,9
6,5×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 499
CP-499
499
2
45
1,0
6,5×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 500
CP-500
500
2
45
1,1
6,5×10<sup>8</sup>
5
4
2
Таблица 61
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 501
CP-501
501
2
45
1,2
6,5×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 502
CP-502
502
5
45
1,0
5,7×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 503
CP-503
503
13
45
0,8
4,1×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 504
CP-504
504
13
45
0,9
4,1×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 505
CP-505
505
13
45
1,0
4,1×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 506
CP-506
506
13
45
1,1
4,1×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 507
CP-507
507
13
45
1,2
4,1×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 508
CP-508
508
20
45
1,0
3,2×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 509
CP-509
509
25
45
0,8
2,7×10<sup>8</sup>
3
4
2
Пример 510
CP-510
510
25
45
0,9
2,7×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 511
CP-511
511
25
45
1,0
2,7×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 512
CP-512
512
25
45
1,1
2,7×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 513
CP-513
513
25
45
1,2
2,7×10<sup>8</sup>
3
4
2
Пример 514
CP-514
514
5
20
0,8
4,8×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 515
CP-515
515
5
20
0,9
4,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 516
CP-516
516
5
20
1,0
4,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 517
CP-517
517
5
20
1,1
4,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 518
CP-518
518
5
20
1,2
4,8×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 519
CP-519
519
13
20
0,8
4,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 520
CP-520
520
13
20
0,9
4,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 521
CP-521
521
13
20
1,0
4,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 522
CP-522
522
13
20
1,1
4,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 523
CP-523
523
13
20
1,2
4,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 524
CP-524
524
20
20
0,8
3,9×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 525
CP-525
525
20
20
0,9
3,9×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 526
CP-526
526
20
20
1,0
3,9×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 527
CP-527
527
20
20
1,1
3,9×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 528
CP-528
528
20
20
1,2
3,9×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 529
CP-529
529
5
30
0,8
1,7×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 530
CP-530
530
5
30
0,9
1,7×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 531
CP-531
531
5
30
1,0
1,7×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 532
CP-532
532
5
30
1,1
1,7×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 533
CP-533
533
5
30
1,2
1,7×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 534
CP-534
534
13
30
0,8
1,4×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 535
CP-535
535
13
30
0,9
1,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 536
CP-536
536
13
30
1,0
1,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 537
CP-537
537
13
30
1,1
1,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 538
CP-538
538
13
30
1,2
1,4×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 539
CP-539
539
20
30
0,8
1,2×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 540
CP-540
540
20
30
0,9
1,2×10<sup>11</sup>
6
4
3
Таблица 62
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 541
CP-541
541
20
30
1,0
1,2×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 542
CP-542
542
20
30
1,1
1,2×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 543
CP-543
543
20
30
1,2
1,2×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 544
CP-544
544
5
40
0,8
1,6×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 545
CP-545
545
5
40
0,9
1,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 546
CP-546
546
5
40
1,0
1,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 547
CP-547
547
5
40
1,1
1,6×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 548
CP-548
548
5
40
1,2
1,6×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 549
CP-549
549
13
40
0,8
1,1×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 550
CP-550
550
13
40
0,9
1,1×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 551
CP-551
551
13
40
1,0
1,1×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 552
CP-552
552
13
40
1,1
1,1×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 553
CP-553
553
13
40
1,2
1,1×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 554
CP-554
554
20
40
0,8
8,7×10<sup>8</sup>
5
4
3
Пример 555
CP-555
555
20
40
0,9
8,7×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 556
CP-556
556
20
40
1,0
8,7×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 557
CP-557
557
20
40
1,1
8,7×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 558
CP-558
558
20
40
1,2
8,7×10<sup>8</sup>
5
4
3
Пример 559
CP-559
559
13
30
1,0
1,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 560
CP-560
560
11
30
1,0
4,8×10<sup>11</sup>
6
4
3
Таблица 63
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 107
CP-C107
C107
-
-
-
2,2×10<sup>13</sup>
1
3
3
Сравнительный пример 108
CP-C108
C108
-
-
-
3,8×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 109
CP-C109
C109
-
-
-
7,2×10<sup>8</sup>
1
4
2
Сравнительный пример 110
CP-C110
C110
1
15
1,0
2,2×10<sup>13</sup>
2
3
3
Сравнительный пример 111
CP-C111
C111
1
30
1,0
3,7×10<sup>11</sup>
2
4
3
Сравнительный пример 112
CP-C112
C112
1
45
1,0
6,8×10<sup>8</sup>
2
4
2
Сравнительный пример 113
CP-C113
C113
30
15
1,0
1,7×10<sup>13</sup>
2
3
3
Сравнительный пример 114
CP-C114
C114
30
30
1,0
2,1×10<sup>11</sup>
2
4
3
Сравнительный пример 115
CP-C115
C115
30
45
1,0
2,3×10<sup>8</sup>
2
4
2
Сравнительный пример 116
CP-C116
C116
-
-
-
7,7×10<sup>12</sup>
1
3
3
Сравнительный пример 117
CP-C117
C117
-
-
-
2,9×10<sup>10</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 118
CP-C118
C118
-
-
-
5,3×10<sup>6</sup>
1
4
2
Сравнительный пример 119
CP-C119
C119
2
10
1,0
6,3×10<sup>13</sup>
5
1
3
Сравнительный пример 120
CP-C120
C120
5
10
1,0
6,1×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 121
CP-C121
C121
13
10
1,0
5,9×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 122
CP-C122
C122
20
10
1,0
5,7×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 123
CP-C123
C123
25
10
1,0
5,5×10<sup>13</sup>
4
1
3
Сравнительный пример 124
CP-C124
C124
2
50
1,0
3,4×10<sup>7</sup>
5
4
1
Сравнительный пример 125
CP-C125
C125
5
50
1,0
2,9×10<sup>7</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 126
CP-C126
C126
13
50
1,0
1,9×10<sup>7</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 127
CP-C127
C127
20
50
1,0
1,4×10<sup>7</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 128
CP-C128
C128
25
50
1,0
1,2×10<sup>7</sup>
4
4
1
Таблица 64
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 561
CP-561
561
2
15
0,8
2,0×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 562
CP-562
562
2
15
0,9
2,0×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 563
CP-563
563
2
15
1,0
2,0×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 564
CP-564
564
2
15
1,1
2,0×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 565
CP-565
565
2
15
1,2
2,0×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 566
CP-566
566
5
15
1,0
2,0×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 567
CP-567
567
13
15
0,8
1,8×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 568
CP-568
568
13
15
0,9
1,8×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 569
CP-569
569
13
15
1,0
1,8×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 570
CP-570
570
13
15
1,1
1,8×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 571
CP-571
571
13
15
1,2
1,8×10<sup>13</sup>
5
3
3
Пример 572
CP-572
572
20
15
1,0
1,7×10<sup>13</sup>
6
3
3
Пример 573
CP-573
573
25
15
0,8
1,7×10<sup>13</sup>
3
3
3
Пример 574
CP-574
574
25
15
0,9
1,7×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 575
CP-575
575
25
15
1,0
1,6×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 576
CP-576
576
25
15
1,1
1,6×10<sup>13</sup>
4
3
3
Пример 577
CP-577
577
25
15
1,2
1,6×10<sup>13</sup>
3
3
3
Пример 578
CP-578
578
2
20
1,0
6,0×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 579
CP-579
579
5
20
0,8
5,8×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 580
CP-580
580
5
20
0,9
5,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 581
CP-581
581
5
20
1,0
5,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 582
CP-582
582
5
20
1,1
5,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 583
CP-583
583
5
20
1,2
5,7×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 584
CP-584
584
13
20
0,8
5,2×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 585
CP-585
585
13
20
0,9
5,2×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 586
CP-586
586
13
20
1,0
5,1×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 587
CP-587
587
13
20
1,1
5,1×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 588
CP-588
588
13
20
1,2
5,1×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 589
CP-589
589
20
20
0,8
4,7×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 590
CP-590
590
20
20
0,9
4,7×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 591
CP-591
591
20
20
1,0
4,7×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 592
CP-592
592
20
20
1,1
4,7×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 593
CP-593
593
20
20
1,2
4,6×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 594
CP-594
594
25
20
1,0
4,4×10<sup>12</sup>
4
4
3
Пример 595
CP-595
595
2
30
0,8
3,1×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 596
CP-596
596
2
30
0,9
3,1×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 597
CP-597
597
2
30
1,0
3,1×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 598
CP-598
598
2
30
1,1
3,1×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 599
CP-599
599
2
30
1,2
3,1×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 600
CP-600
600
5
30
0,8
2,9×10<sup>11</sup>
5
4
3
Таблица 65
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 601
CP-601
601
5
30
0,9
2,9×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 602
CP-602
602
5
30
1,0
2,9×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 603
CP-603
603
5
30
1,1
2,9×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 604
CP-604
604
5
30
1,2
2,9×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 605
CP-605
605
13
30
0,8
2,4×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 606
CP-606
606
13
30
0,9
2,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 607
CP-607
607
13
30
1,0
2,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 608
CP-608
608
13
30
1,1
2,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 609
CP-609
609
13
30
1,2
2,3×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 610
CP-610
610
20
30
0,8
2,1×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 611
CP-611
611
20
30
0,9
2,1×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 612
CP-612
612
20
30
1,0
2,0×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 613
CP-613
613
20
30
1,1
2,0×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 614
CP-614
614
20
30
1,2
2,0×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 615
CP-615
615
25
30
0,8
1,9×10<sup>11</sup>
3
4
3
Пример 616
CP-616
616
25
30
0,9
1,9×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 617
CP-617
617
25
30
1,0
1,8×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 618
CP-618
618
25
30
1,1
1,8×10<sup>11</sup>
4
4
3
Пример 619
CP-619
619
25
30
1,2
1,8×10<sup>11</sup>
3
4
3
Пример 620
CP-620
620
2
40
1,0
6,1×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 621
CP-621
621
5
40
0,8
5,4×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 622
CP-622
622
5
40
0,9
5,4×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 623
CP-623
623
5
40
1,0
5,3×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 624
CP-624
624
5
40
1,1
5,3×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 625
CP-625
625
5
40
1,2
5,3×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 626
CP-626
626
13
40
0,8
4,0×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 627
CP-627
627
13
40
0,9
4,0×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 628
CP-628
628
13
40
1,0
3,9×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 629
CP-629
629
13
40
1,1
3,9×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 630
CP-630
630
13
40
1,2
3,8×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 631
CP-631
631
20
40
0,8
3,2×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 632
CP-632
632
20
40
0,9
3,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 633
CP-633
633
20
40
1,0
3,1×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 634
CP-634
634
20
40
1,1
3,1×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 635
CP-635
635
20
40
1,2
3,0×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 636
CP-636
636
25
40
1,0
2,6×10<sup>9</sup>
4
4
3
Пример 637
CP-637
637
2
45
0,8
5,0×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 638
CP-638
638
2
45
0,9
5,0×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 639
CP-639
639
2
45
1,0
5,0×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 640
CP-640
640
2
45
1,1
5,0×10<sup>8</sup>
5
4
2
Таблица 66
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 641
CP-641
641
2
45
1,2
4,9×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 642
CP-642
642
5
45
1,0
4,2×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 643
CP-643
643
13
45
0,8
3,0×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 644
CP-644
644
13
45
0,9
3,0×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 645
CP-645
645
13
45
1,0
2,9×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 646
CP-646
646
13
45
1,1
2,9×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 647
CP-647
647
13
45
1,2
2,8×10<sup>8</sup>
5
4
2
Пример 648
CP-648
648
20
45
1,0
2,1×10<sup>8</sup>
6
4
2
Пример 649
CP-649
649
25
45
0,8
1,9×10<sup>8</sup>
3
4
2
Пример 650
CP-650
650
25
45
0,9
1,9×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 651
CP-651
651
25
45
1,0
1,8×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 652
CP-652
652
25
45
1,1
1,8×10<sup>8</sup>
4
4
2
Пример 653
CP-653
653
25
45
1,2
1,7×10<sup>8</sup>
3
4
2
Таблица 67
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 654
CP-654
654
5
20
0,8
4,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 655
CP-655
655
5
20
0,9
4,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 656
CP-656
656
5
20
1,0
4,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 657
CP-657
657
5
20
1,1
4,3×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 658
CP-658
658
5
20
1,2
4,3×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 659
CP-659
659
13
20
0,8
3,8×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 660
CP-660
660
13
20
0,9
3,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 661
CP-661
661
13
20
1,0
3,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 662
CP-662
662
13
20
1,1
3,8×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 663
CP-663
663
13
20
1,2
3,7×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 664
CP-664
664
20
20
0,8
3,5×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 665
CP-665
665
20
20
0,9
3,5×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 666
CP-666
666
20
20
1,0
3,4×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 667
CP-667
667
20
20
1,1
3,4×10<sup>12</sup>
6
4
3
Пример 668
CP-668
668
20
20
1,2
3,4×10<sup>12</sup>
5
4
3
Пример 669
CP-669
669
5
30
0,8
1,5×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 670
CP-670
670
5
30
0,9
1,5×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 671
CP-671
671
5
30
1,0
1,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 672
CP-672
672
5
30
1,1
1,4×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 673
CP-673
673
5
30
1,2
1,4×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 674
CP-674
674
13
30
0,8
1,2×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 675
CP-675
675
13
30
0,9
1,2×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 676
CP-676
676
13
30
1,0
1,1×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 677
CP-677
677
13
30
1,1
1,1×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 678
CP-678
678
13
30
1,2
1,1×10<sup>11</sup>
5
4
3
Пример 679
CP-679
679
20
30
0,8
9,8×10<sup>10</sup>
5
4
3
Пример 680
CP-680
680
20
30
0,9
9,8×10<sup>10</sup>
6
4
3
Пример 681
CP-681
681
20
30
1,0
9,5×10<sup>10</sup>
6
4
3
Пример 682
CP-682
682
20
30
1,1
9,5×10<sup>10</sup>
6
4
3
Пример 683
CP-683
683
20
30
1,2
9,3×10<sup>10</sup>
5
4
3
Пример 684
CP-684
684
5
40
0,8
1,2×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 685
CP-685
685
5
40
0,9
1,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 686
CP-686
686
5
40
1,0
1,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 687
CP-687
687
5
40
1,1
1,2×10<sup>9</sup>
6
4
3
Пример 688
CP-688
688
5
40
1,2
1,2×10<sup>9</sup>
5
4
3
Пример 689
CP-689
689
13
40
0,8
8,2×10<sup>8</sup>
5
4
3
Пример 690
CP-690
690
13
40
0,9
8,2×10<sup>8</sup>
6
4
3
Таблица 68
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Пример 691
CP-691
691
13
40
1,0
8,0×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 692
CP-692
692
13
40
1,1
8,0×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 693
CP-693
693
13
40
1,2
7,7×10<sup>8</sup>
5
4
3
Пример 694
CP-694
694
20
40
0,8
6,2×10<sup>8</sup>
5
4
3
Пример 695
CP-695
695
20
40
0,9
6,2×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 696
CP-696
696
20
40
1,0
5,9×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 697
CP-697
697
20
40
1,1
5,9×10<sup>8</sup>
6
4
3
Пример 698
CP-698
698
20
40
1,2
5,6×10<sup>8</sup>
5
4
3
Пример 699
CP-699
699
13
30
1,0
1,1×10<sup>11</sup>
6
4
3
Пример 700
CP-700
700
13
30
1,0
4,7×10<sup>11</sup>
6
4
3
Таблица 69
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+ (V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 129
CP-C129
C129
-
-
-
2,1×10<sup>13</sup>
1
3
3
Сравнительный пример 130
CP-C130
C130
-
-
-
3,3×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 131
CP-C131
C131
-
-
-
5,5×10<sup>8</sup>
1
4
2
Сравнительный пример 132
CP-C132
C132
1
15
1,0
2,1×10<sup>13</sup>
2
3
3
Сравнительный пример 133
CP-C133
C133
1
31
1,0
3,2×10<sup>11</sup>
2
4
3
Сравнительный пример 134
CP-C134
C134
1
47
1,0
5,2×10<sup>8</sup>
2
4
2
Сравнительный пример 135
CP-C135
C135
30
15
1,0
1,6×10<sup>13</sup>
2
3
3
Сравнительный пример 136
CP-C136
C136
30
31
1,0
1,7×10<sup>11</sup>
2
4
3
Сравнительный пример 137
CP-C137
C137
30
47
1,0
1,5×10<sup>8</sup>
2
4
2
Сравнительный пример 138
CP-C138
C138
-
-
-
6,1×10<sup>12</sup>
1
3
3
Сравнительный пример 139
CP-C139
C139
-
-
-
1,7×10<sup>10</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 140
CP-C140
C140
-
-
-
1,9×10<sup>6</sup>
1
4
2
Сравнительный пример 141
CP-C141
C141
2
10
1,0
6,0×10<sup>13</sup>
5
1
3
Сравнительный пример 142
CP-C142
C142
5
10
1,0
5,9×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 143
CP-C143
C143
13
10
1,0
5,6×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 144
CP-C144
C144
20
10
1,0
5,4×10<sup>13</sup>
6
1
3
Сравнительный пример 145
CP-C145
C145
25
10
1,0
5,2×10<sup>13</sup>
4
1
3
Сравнительный пример 146
CP-C146
C146
2
52
1,0
2,4×10<sup>7</sup>
5
4
1
Сравнительный пример 147
CP-C147
C147
5
52
1,0
2,0×10<sup>7</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 148
CP-C148
C148
13
52
1,0
1,3×10<sup>7</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 149
CP-C149
C149
20
52
1,0
8,8×10<sup>6</sup>
6
4
1
Сравнительный пример 150
CP-C150
C150
25
52
1,0
7,0×10<sup>6</sup>
4
4
1
Таблица 70
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 151
CP-C151
C151
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 152
CP-C152
C152
-
-
-
2,6×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 153
CP-C153
C153
-
-
-
2,8×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 154
CP-C154
C154
-
-
-
2,7×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 155
CP-C155
C155
-
-
-
2,6×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 156
CP-C156
C156
-
-
-
2,3×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 157
CP-C157
C157
-
-
-
2,5×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 158
CP-C158
C158
-
-
-
2,4×10<sup>11</sup>
1
4
3
Таблица 71
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 159
CP-C159
C159
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 160
CP-C160
C160
-
-
-
2,7×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 161
CP-C161
C161
-
-
-
3,2×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 162
CP-C162
C162
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 163
CP-C163
C163
-
-
-
2,9×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 164
CP-C164
C164
-
-
-
2,9×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 165
CP-C165
C165
-
-
-
2,9×10<sup>11</sup>
1
4
3
Таблица 72
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 166
CP-C166
C166
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 167
CP-C167
C167
-
-
-
2,8×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 168
CP-C168
C168
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 169
CP-C169
C169
-
-
-
2,6×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 170
CP-C170
C170
-
-
-
3,3×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 171
CP-C171
C171
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Таблица 73
Раствор материала покрытия для формирования электропроводного слоя
Пример изготовления электрофотографического фоточувствительного элемента
{(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)/(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
{(V<sub>1</sub>/V<sub>T</sub>)+(V<sub>2</sub>/V<sub>T</sub>)}×100
R<sub>2</sub>/R<sub>1</sub>
Объемное удельное сопротивление электропроводного слоя [Ом·см]
Результат оценки
Память рисунка
Остаточный потенциал
Наличие трещин
Сравнительный пример 172
CP-C172
C172
-
-
-
2,9×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 173
CP-C173
C173
-
-
-
2,9×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 174
CP-C174
C174
-
-
-
2,9×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 175
CP-C175
C175
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 176
CP-C176
C176
-
-
-
2,8×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 177
CP-C177
C177
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 178
CP-C178
C178
-
-
-
3,0×10<sup>11</sup>
1
4
3
Сравнительный пример 179
CP-C179
C179
-
-
-
1,9×10<sup>12</sup>
1
4
3
Таблица 74
Категория памяти рисунка
6
5
4
3
2
1
Сплошное черное изображение
Ненаблюдаемое
Наблюдаемое
Наблюдаемое
Наблюдаемое
Наблюдаемое
Наблюдаемое
Полутоновое изображение
Изображение с одноточечным рисунком с шахматным расположением
Ненаблюдаемое
Ненаблюдаемое
Наблюдаемое
Наблюдаемое
Наблюдаемое
Наблюдаемое
С поперечными одноточечными линиями с одноточечным промежутком
Ненаблюдаемое
Ненаблюдаемое
Ненаблюдаемое
Наблюдаемое
Наблюдаемое
Наблюдаемое
С поперечными двухточечными линиями с трехточечным промежутком
Ненаблюдаемое
Ненаблюдаемое
Ненаблюдаемое
Ненаблюдаемое
Наблюдаемое
Наблюдаемое
С поперечными одноточечными линиями с двухточечным промежутком
Ненаблюдаемое
Ненаблюдаемое
Ненаблюдаемое
Ненаблюдаемое
Ненаблюдаемое
Наблюдаемое
Несмотря на то, что данное изобретение описано здесь со ссылками на типичные варианты осуществления, следует понимать, что данное изобретение не ограничивается этими описанными типичными вариантами осуществления. Объем представленной ниже формулы изобретения предоставляет наиболее широкое толкование, с тем, чтобы охватывать все такие модификации, эквивалентные структуры и функции.
Эта заявка притязает на приоритет по заявкам на патент Японии № 2012-189532, зарегистрированной 30 августа 2012 г., № 2013-077617, зарегистрированной 3 апреля 2013 г., и № 2013-177141, зарегистрированной 28 августа 2013 г., которые включены настоящим посредством ссылки во всей их полноте.
Список обозначений
1 электрофотографический фоточувствительный элемент
2 ось
3 узел для зарядки (первичный узел для зарядки)
4 экспонирующий свет (свет, передающий изображение)
5 узел для проявления
6 узел для переноса (такой как валик для переноса)
7 узел для очистки (такой как очистной ракельный нож)
8 фиксирующий узел
9 технологический картридж
10 направляющий узел
11 предэкспозиционный свет
P материал для переноса (такой как бумага)