ПРОДУКТ ДЛЯ ОЧИСТКИ ФЛЮИДОВ И СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ

1. Продукт (10) для очистки флюидов, содержащий, с одной стороны, пористое тело (12), имеющее наружную и внутреннюю удельную поверхность (14), и, с другой стороны, металлизированный слой (16) максимум нанометровой толщины, покрывающий по меньшей мере часть наружной и внутренней удельной поверхности (14) пористого тела (12), причем металлизированный слой (16) содержит по меньшей мере один металл (Ag), связанный с пористым телом (12) химическими связями (18), возникшими под действием внутримолекулярных сил, отличающийся тем, чтометаллизированный слой (16) также содержит кремний (Si), также связанный с пористым телом (12) химическими связями (18), возникшими в результате действия внутримолекулярных сил.
2. Продукт для очистки флюидов по п.1, в котором по меньшей мере часть кремния (Si) также связана с по меньшей мере частью металла (Ag) металлизированного слоя (16) химическими связями (18), возникшими в результате действия внутримолекулярных сил.
3. Продукт для очистки флюидов по п.1, в котором, когда пористое тело (12) содержит углеродный компонент, металлизированный слой (16) содержит, во взаимодействии с пористым телом, компоненты типа карбосилицидов металла, в частности, обнаруживаемые на энергетическом уровне, по существу равном 283 эВ.
4. Продукт для очистки флюидов по п.2, в котором, когда пористое тело (12) содержит углеродный компонент, металлизированный слой (16) содержит, во взаимодействии с пористым телом, компоненты типа карбосилицидов металла, в частности, обнаруживаемые на энергетическом уровне, по существу равном 283 эВ.
5. Продукт для очистки флюидов по п.3, в котором металлизированный слой (16) дополнительно включает компоненты, содержащие атомы углерода, кремния и металла, связанные между собой химическими связями типа ковалентных связей.
6. Продукт для очистки флюидов по п.4, в котором металлизированный слой (16) дополнительно включает компоненты, содержащие атомы углерода, кремния и металла, связанные между собой химическими связями типа ковалентных связей.
7. Продукт для очистки флюидов по любому из пп.1-6, в котором пористое тело (12) содержит по меньшей мере один из элементов группы, состоящей из угольной пыли, графита, активированного угля, песка и цеолита.
8. Продукт для очистки флюидов по любому из пп.1-6, в котором металл (Ag) содержит по меньшей мере один тяжелый металл с атомной массой, большей или равной атомной массе меди.
9. Продукт для очистки флюидов по п.7, в котором металл (Ag) содержит по меньшей мере один тяжелый металл с атомной массой, большей или равной атомной массе меди.
10. Продукт для очистки флюидов по любому из пп.1-6, в котором металлизированный слой (16) частично покрывает наружную и внутреннюю удельную поверхность (14) пористого тела (12) посредством образования агрегатов.
11. Продукт для очистки флюидов по п.7, в котором металлизированный слой (16) частично покрывает наружную и внутреннюю удельную поверхность (14) пористого тела (12) посредством образования агрегатов.
12. Продукт для очистки флюидов по п.8, в котором металлизированный слой (16) частично покрывает наружную и внутреннюю удельную поверхность (14) пористого тела (12) посредством образования агрегатов.
13. Продукт для очистки флюидов по п.9, в котором металлизированный слой (16) частично покрывает наружную и внутреннюю удельную поверхность (14) пористого тела (12) посредством образования агрегатов.
отличающийся тем, что
14. Способ получения продукта (10) для очистки флюидов, включающий этап (102) обработки пористого тела (12), имеющего наружную и внутреннюю удельную поверхность (14), в реакторе (24) осаждения из плазмы инертного газа в условиях радиочастотного разряда, путем погружения пористого тела (12) в плазму и инжекции металла (Ag) в плазму,  этап (102) обработки пористого тела включает также инжекцию кремния (Si) в плазму.
15. Способ получения продукта для очистки флюидов по п.14, в котором реактор осаждения (24) является реактором диодного типа с электрической мощностью, по существу равной 10 кВт, соединенным с блоком настройки полного сопротивления типа RLC, и в котором температура возбуждения плазмы на этапе обработки (102) доводится до 5000-7000 K.
16. Способ получения продукта для очистки флюидов по п.14 или 15, дополнительно включающий предварительный этап (100) функционализации пористого тела (12) в реакторе (22) с псевдоожиженным слоем, кипящим при низком давлении, в частности, от 5 до 500 Па, с холодной плазмой инертного газа и с индуктивным разрядом.