СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПРОВОДЯЩИХ МИКРОСТРУКТУР НА ПОЛУПРОВОДНИКОВОЙ ПОДЛОЖКЕ

1. Способ изготовления проводящих микроструктур на полупроводниковых подложках, включающий приготовление чернил с наночастицами золота, нанесение их на подложку и отвердение лазерным излучением, отличающийся тем, что перед нанесением чернил с наночастицами золота на подложку, в них вводят в качестве наполнителя нанопорошок Si или Ge, которые вступают в контактное плавление с золотом в соотношениях, соответствующих эвтектическому составу бинарных систем Au-Si или Au-Ge.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве вещества для подложки используют полупроводниковый материал.