СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ОСНОВЕ EuS

1. Способ формирования тонких пленок на основе EuS, включающий осаждение на подложку пленки на основе сульфидных соединений и серы из разных мишеней в вакууме и последующий отжиг, отличающийся тем, что осаждают на подложку тонкопленочный слой EuS, причем серу осаждают перед осаждением или в процессе осаждения пленки EuS, при этом отжиг проводят при достижении температуры десорбции серы.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что отжиг проводят при температуре 400-700° С в течении 10-40 мин.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что осаждают на подложку тонкопленочный слой EuS и серу методом импульсного лазерного осаждения.