ПЛАЗМЕННЫЙ РЕАКТОР ДЛЯ ПЕРЕРАБОТКИ ГАЗА

1. Генерирующая плазму система, содержащая
волновод, служащий для передачи микроволновой энергии через него;
внутреннюю стенку, расположенную внутри волновода для определения плазменной полости, причем плазма генерируется внутри плазменной полости с применением микроволновой энергии;
первый газовый впуск, установленный на первой стороне волновода и выполненный с возможностью введения первого газа в плазменную полость и генерации первого вихревого потока внутри плазменной полости с применением первого газа, причем первый газовый впуск содержит отверстие, через которое газ, обработанный плазмой, выходит из плазменной полости; и
плазменный стабилизатор, имеющий форму круглого полого цилиндра, установленный на второй стороне волновода и выступающий в плазменную полость, причем продольное направление плазменного стабилизатора является параллельным по отношению к оси вращения первого вихревого потока.
2. Генерирующая плазму система по п. 1, в которой внутренняя стенка изготовлена из материала, способного пропускать микроволновую энергию.
3. Генерирующая плазму система по п. 1, в которой первый вихревой поток содержит наружную область, которая движется по направлению ко второй стороне волновода в спиральном движении, и внутреннюю область, которая движется по направлению к первой стороне волновода в спиральном движении, и при этом плазма генерируется во внутренней области первого вихревого потока.
4. Генерирующая плазму система по п. 1, в которой первый газовый впуск содержит один или несколько каналов, через которые первый газ вводится в плазменную полость, и при этом каждый из одного или нескольких каналов выполнен с возможностью придания вихревого движения первому газу, который проходит через него.
5. Генерирующая плазму система по п. 1, дополнительно содержащая
второй газовый впуск, установленный на второй стороне волновода и выполненный с возможностью введения второго газа по направлению к плазменному стабилизатору,
причем второй газовый впуск выполнен с возможностью генерации второго вихревого потока внутри плазменной полости с применением второго газа.
6. Генерирующая плазму система по п. 5, в которой второй вихревой поток расположен внутри первого вихревого потока, и плазма генерируется во втором вихревом потоке.
7. Генерирующая плазму система по п. 5, в которой второй газовый впуск содержит один или несколько каналов, через которые протекает второй газ, и при этом каждый из одного или нескольких каналов выполнен с возможностью придания вихревого движения второму газу, который проходит через него.
8. Генерирующая плазму система по п. 5, в которой скорость потока второго газа находится в диапазоне от 5 до 95 мас.% по отношению к полной скорости потока газа, протекающего в плазменную полость.
9. Генерирующая плазму система по п. 1, в которой по меньшей мере один элемент из внутренней стенки и плазменного стабилизатора имеет поверхность, которая выполнена нарезной для придания спирального движения газу, который находится в контакте с поверхностью.
10. Генерирующая плазму система, содержащая
волновод, служащий для передачи микроволновой энергии через него;
внутреннюю стенку, расположенную внутри волновода для определения плазменной полости, причем плазма генерируется внутри плазменной полости с применением микроволновой энергии;
первый газовый впуск, установленный на первой стороне волновода и выполненный с возможностью введения первого газа в плазменную полость и генерации первого вихревого потока внутри плазменной полости с применением первого газа, причем первый газовый впуск содержит отверстие, через которое газ, обработанный плазмой, выходит из плазменной полости; и
плазменный стабилизатор, имеющий форму круглого полого цилиндра и установленный на первом газовом впуске, причем продольное направление плазменного стабилизатора является параллельным по отношению к оси вращения первого вихревого потока.
11. Генерирующая плазму система по п. 10, в которой внутренняя стенка изготовлена из материала, способного пропускать микроволновую энергию.
12. Генерирующая плазму система по п. 10, в которой первый вихревой поток содержит наружную область, которая движется по направлению ко второй стороне волновода в спиральном движении, и внутреннюю область, которая движется по направлению к первой стороне волновода в спиральном движении, и при этом плазма генерируется во внутренней области первого вихревого потока.
13. Генерирующая плазму система по п. 10, в которой первый вихревой поток содержит наружную область, которая движется по направлению ко второй стороне волновода в спиральном движении, и внутреннюю область, которая движется по направлению к первой стороне волновода в спиральном движении, и при этом плазменный стабилизатор расположен на границе между внутренней и наружной областями первого вихревого потока.
14. Генерирующая плазму система по п. 10, в которой первый газовый впуск содержит один или несколько каналов, через которые первый газ вводится в плазменную полость, и при этом каждый из одного или нескольких каналов выполнен с возможностью придания вихревого движения первому газу, который проходит через него.
15. Генерирующая плазму система по п. 10, дополнительно содержащая
второй газовый впуск, установленный на второй стороне волновода и выполненный с возможностью введения второго газа по направлению к плазменному стабилизатору,
причем второй газовый впуск выполнен с возможностью генерации второго вихревого потока внутри плазменной полости с применением второго газа.
16. Генерирующая плазму система по п. 15, в которой второй вихревой поток расположен внутри первого вихревого потока, и плазма генерируется во втором вихревом потоке.
17. Генерирующая плазму система по п. 15, в котором второй вихревой поток расположен в первом вихревом потоке.
18. Генерирующая плазму система по п. 15, в которой второй газовый впуск содержит один или несколько каналов, через которые протекает второй газ, и при этом каждый из одного или нескольких каналов выполнен с возможностью придания вихревого движения второму газу, который проходит через него.
19. Генерирующая плазму система по п. 15, в которой скорость потока второго газа находится в диапазоне от 5 до 95 мас.% по отношению к полной скорости газового потока в плазменную полость.
20. Генерирующая плазму система по п. 10, в которой по меньшей мере один элемент из внутренней стенки и плазменного стабилизатора имеет поверхность, которая является выполнена нарезной для придания спиральное движение газу, который находится в контакте с поверхностью.