СИСТЕМА ЛИТОГРАФИИ С МОДУЛЕМ ДИФФЕРЕНЦИАЛЬНОГО ИНТЕРФЕРОМЕТРА

1. Способ предварительного выравнивания модуля интерферометра для использования в средстве экспонирования, содержащем основание, снабженное первыми установочными поверхностями и зеркалом для отражения луча интерферометра, причем упомянутый модуль содержит головку интерферометра для излучения луча интерферометра и причем упомянутый модуль соединен со вторыми установочными поверхностями для взаимного контактирования с упомянутыми первыми установочными поверхностями, причем упомянутый способ содержит этап, на котором:
выравнивают ориентацию упомянутого модуля относительно упомянутых вторых установочных поверхностей за пределами упомянутого средства экспонирования, причем упомянутую ориентацию упомянутого модуля относительно упомянутых вторых установочных поверхностей выравнивают на основании заданной ориентации упомянутой первой установочной поверхности относительно упомянутого зеркала.
2. Способ по п. 1, в котором упомянутый этап выравнивания содержит этапы, на которых:
обеспечивают выравнивающее основание, расположенное на расстоянии от упомянутого средства экспонирования и содержащее третьи установочные поверхности для взаимного контактирования с упомянутыми вторыми установочными поверхностями, и датчик для определения, излучается ли луч, излучаемый упомянутой головкой интерферометра, в заданное местоположение,
устанавливают упомянутый модуль интерферометра с упомянутыми вторыми установочными поверхностями на упомянутые третьи установочные поверхности упомянутого выравнивающего основания,
излучают луч посредством упомянутой головки интерферометра и
корректируют ориентацию упомянутого модуля интерферометра относительно упомянутых вторых установочных поверхностей для помещения упомянутого луча в упомянутое заданное местоположение.
3. Способ по п. 2, дополнительно содержащий использование ножевой пластины, выполненной с возможностью частичной блокировки упомянутого луча от достижения упомянутого датчика, когда упомянутый модуль интерферометра установлен в упомянутом выравнивающем основании, причем упомянутый этап корректировки содержит этап, на котором определяют, что упомянутый луч находится в упомянутом заданном местоположении, когда энергия упомянутого луча, принимаемая упомянутым датчиком, равна заданной части полной энергии упомянутого луча.
4. Способ по п. 2 или 3, в котором упомянутые первые установочные поверхности упомянутого средства экспонирования и/или упомянутые третьи установочные поверхности упомянутого выравнивающего основания выполнены с возможностью формирования кинематической установки с упомянутыми вторыми установочными поверхностями упомянутого модуля интерферометра.
5. Способ по п. 1 или 2, в котором упомянутый модуль интерферометра содержит дополнительную головку интерферометра, выполненную с возможностью излучения дополнительного луча, перпендикулярного упомянутому лучу, причем упомянутое выравнивание дополнительно содержит этапы, на которых:
выравнивают ориентацию упомянутой дополнительной головки интерферометра относительно упомянутых вторых установочных поверхностей за пределами упомянутого средства экспонирования на основании упомянутой заданной ориентации упомянутых первых установочных поверхностей,
причем ориентации упомянутой головки интерферометра и упомянутой дополнительной головки интерферометра корректируют таким образом, что упомянутые лучи, излучаемые упомянутой головкой интерферометра и упомянутой дополнительной головкой интерферометра, наклонены под заданным углом друг к другу.
6. Модуль интерферометра для использования в способе по п. 1, причем упомянутый модуль интерферометра содержит головку интерферометра для излучения луча, вторые установочные поверхности для взаимного контактирования с упомянутыми первыми установочными поверхностями упомянутого средства экспонирования и средство корректировки для корректировки ориентации упомянутой головки интерферометра относительно упомянутых вторых установочных поверхностей.
7. Модуль интерферометра по п. 6, в котором упомянутая головка интерферометра представляет собой первую головку интерферометра, причем упомянутый модуль интерферометра дополнительно содержит вторую головку интерферометра, выполненную с возможностью излучения луча, перпендикулярного лучу, излучаемому упомянутой первой головкой интерферометра, и второе средство корректировки для корректировки ориентации упомянутой второй головки интерферометра относительно упомянутых вторых установочных поверхностей.
8. Выравнивающее основание для использования в способе по п. 1 или 2 для предварительного выравнивания модуля интерферометра, причем упомянутый модуль интерферометра содержит головку интерферометра для излучения луча, вторые установочные поверхности для взаимного контактирования с первыми установочными поверхностями средства экспонирования, расположенного на расстоянии от упомянутого выравнивающего основания, причем упомянутое выравнивающее основание содержит третьи установочные поверхности для взаимного контактирования с упомянутыми вторыми установочными поверхностями и датчик для обнаружения положения луча, излучаемого упомянутой головкой интерферометра.
9. Выравнивающее основание по п. 8, в котором упомянутый датчик содержит поверхность обнаружения луча для обнаружения падающего на нее луча, дополнительно содержащее ножевую пластину, расположенную между упомянутым модулем интерферометра и упомянутой поверхностью обнаружения луча и ближе к упомянутой поверхности обнаружения луча.
10. Выравнивающее основание по п. 8, дополнительно содержащее один или более дополнительных датчиков, расположенных на расстоянии от упомянутого датчика и выполненных с возможностью обнаружения положений одного или более пятен дополнительного луча одного или более дополнительных лучей, излучаемых упомянутым модулем интерферометра.
11. Средство экспонирования, содержащее:
проекционную оптику для проецирования одного или более лучей экспонирования на мишень,
систему размещения мишени, содержащую держатель мишени, выполненный с возможностью перемещения упомянутой мишени относительно упомянутой проекционной оптики,
причем упомянутый держатель мишени снабжен зеркалом,
первые установочные поверхности, имеющие заданную ориентацию,
модуль интерферометра по п. 6 или 7, выполненный с возможностью измерения смещения упомянутой мишени в пределах упомянутого средства экспонирования, причем упомянутый модуль интерферометра содержит вторые установочные поверхности, выполненные с возможностью взаимного контактирования с упомянутыми первыми установочными поверхностями,
причем упомянутая система размещения мишени выполнена с возможностью перемещения упомянутой мишени на основании упомянутого измеренного смещения,
причем упомянутое средство экспонирования и модуль интерферометра выполнены с возможностью установки с возможностью снятия упомянутых вторых установочных поверхностей упомянутого модуля интерферометра на упомянутые первые установочные поверхности упомянутого средства экспонирования таким образом, что упомянутые вторые установочные поверхности выровнены относительно упомянутых первых установочных поверхностей.
12. Средство экспонирования по п. 11, дополнительно содержащее средство фиксации с возможностью снятия для фиксации упомянутых вторых установочных поверхностей упомянутого модуля интерферометра к упомянутым первым установочным поверхностям.
13. Средство экспонирования по п. 11, в котором упомянутое средство экспонирования содержит участок размещения для приема упомянутого модуля интерферометра, причем упомянутый участок размещения содержит упомянутые первые установочные поверхности.
14. Средство экспонирования по п. 13, в котором упомянутый узел размещения содержит стенку, снабженную отверстием, позволяющим проходить через него лучу, излучаемому упомянутым интерферометром.
15. Средство экспонирования по п. 11, в котором упомянутые первые установочные поверхности содержат три расположенные на расстоянии друг от друга плоские опорные поверхности для опоры на упомянутые вторые установочные поверхности, причем упомянутые плоскости упомянутых опорных поверхностей пересекаются в местоположении, расстояние от которого до упомянутой проекционной оптики больше расстояния от упомянутой головки интерферометра до упомянутой проекционной оптики вдоль направления луча, излучаемого упомянутой головкой интерферометра.