ЧИСТЯЩАЯ КОМПОЗИЦИЯ И СПОСОБ ОЧИСТКИ И/ИЛИ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ ИЛИ ТКАНИ

1. Композиция, включающая фотоотбеливатель и вариант родительской липазы, причем указанный вариант по сравнению с указанным родительским содержит в общем по меньшей мере три замещения, и указанные замещения выбраны из одной или больше следующих групп замещений:
a) по меньшей мере двух замещений в Области I,
b) по меньшей мере одного замещения в Области II,
c) по меньшей мере одного замещения в Области III, и/или
d) по меньшей мере одного замещения в Области IV.
2. Композиция моющего средства по п.1, отличающаяся тем, что указанные замещения в Области I включают замещения в положениях, соответствующих положениям 231 и 233.
3. Композиция моющего средства по п.2, отличающаяся тем, что указанные замещения в положениях 231 и 233 представляют собой замещения на R.
4. Композиция моющего средства по п.2, отличающаяся тем, что указанный вариант включает замещение в положении, соответствующем положению 4 SEQ ID NO:2.
5. Композиция моющего средства по п.4, отличающаяся тем, что указанное замещение в положении, соответствующем положению 4 SEQ ID NO:2, представляет собой V.
6. Композиция моющего средства по п.2, отличающаяся тем, что указанный вариант включает замещение, соответствующее положению 227 SEQ ID NO:2.
7. Композиция моющего средства по п.6, отличающаяся тем, что указанное замещение в положении, соответствующем положению 227 SEQ ID NO:2, представляет собой G.
8. Композиция моющего средства по п.1, отличающаяся тем, что указанное по меньшей мере одно замещение в Области II включает замещение, выбранное из группы, состоящей из замещений в положениях, соответствующих положениям 202, 211, 255 и 256.
9. Композиция моющего средства по п.8, отличающаяся тем, что указанное по меньшей мере одно замещение в Области II включает замещение, выбранное из группы, состоящей из X202G, X211L, X255Y/V и Х256К.
10. Композиция моющего средства по п.1, отличающаяся тем, что указанное по меньшей мере одно замещение в Области II включает замещение в положении, соответствующем положению 210.
11. Композиция моющего средства по п.10, отличающаяся тем, что указанное замещение в положении, соответствующем положению 210, представляет собой Х210К.
12. Композиция моющего средства по п.1, отличающаяся тем, что указанное по меньшей мере одно замещение в Области III включает замещение, выбранное из группы, состоящей из замещений в положениях, соответствующих положениям 86 и 90,
13. Композиция моющего средства по п.12, отличающаяся тем, что указанное по меньшей мере одно замещение в Области III включает замещение, выбранное из группы, состоящей из X86V и X90A/R.
14. Композиция моющего средства по п.1, отличающаяся тем, что указанное по меньшей мере одно замещение в Области III включает замещение в положении, соответствующем положению 83.
15. Композиция моющего средства по п.14, отличающаяся тем, что указанное замещение в положении, соответствующем положению 83, представляет собой Х83Т.
16. Композиция моющего средства по п.1, где указанное по меньшей мере одно замещение в Области IV включает замещение, выбранное из группы, состоящей из замещений в положениях, соответствующих положениям 27, 58 и 60.
17. Композиция моющего средства по п.15, отличающаяся тем, что указанное по меньшей мере одно замещение в Области IV включает замещение, выбранное из группы, состоящей из X27R, X58N/A/G/P/T и X60S/V/G/N/R/K/A/L.
18. Композиция моющего средства по п.1, отличающаяся тем, что содержит по меньшей мере два замещения в Области IV, соответствующие положениям 27, 58 и 60.
19. Композиция моющего средства по п.1, отличающаяся тем, что содержит по меньшей мере два замещения в Области IV, выбранные из группы, состоящей из X27R, X58N/A/G/P/T и X60S/V/G/N/R/K/A/L.
20. Композиция моющего средства по п.1, отличающаяся тем, что указанный вариант включает по меньшей мере одно замещение за пределами указанных Областей I-IV.
21. Композиция моющего средства по п.20, отличающаяся тем, что указанное по меньшей мере одно замещение за пределами указанных Областей I-IV выбрано из группы, состоящей из замещений в положениях, соответствующих положениям 81, 147, 150 и 249.
22. Композиция моющего средства по п.20, отличающаяся тем, что указанное по меньшей мере одно замещение за пределами указанных Областей I-IV выбрано из группы, состоящей из X81Q/E, X147M/Y, X150G и X249R/I/L.
23. Композиция моющего средства по п.2, отличающаяся тем, что указанная родительская липаза по меньшей мере на 90% идентична SEQ ID NO:2.
24. Композиция моющего средства по п.1, отличающаяся тем, что родительская липаза идентична SEQ ID NO:2 и указанный вариант включает одну из следующих групп замещений:
a) T231R+N233R+I255Y
b) I202G+T231R+N233R
c) I86V+L227G+T231R+N233R+Р256К
d) Q4V+S58N+V60S+Т231R+N233R
e) S58N+V60S+I90R+T231R+N233R
f) I90A+T231R+N233R+I255V
g) S58N+V60S+I86V+A150G+L227G+T231R+N233R+Р256К
h) S58N+V60S+L147M+F211L+Т231R+N233R
i) Q4V+S58A+V60S+S83T+I86V+A150G+E210K+L227G+T231R+N233R+Р256К
j) S58N+V60S+I86V+A150G+L227G+T231R+N233R+Р256К.
25. Композиция моющего средства по п.1, отличающаяся тем, что родительская липаза идентична SEQ ID NO:2 и указанный вариант включает одну из следующих групп замещений:
a) Q4V+S58A+V60S+S83T+I86V+A150G+E210K+L227G+T231R+N233R+Р256К
b) S58N+V60S+I86V+A150G+L227G+T231R+N233R+Р256К.
26. Композиция моющего средства по п.1, отличающаяся тем, что вариант липазы отличается тем, что соотношение Польза-Риск, измеренное, как указано в описании, имеет значение больше 1.
27. Композиция моющего средства, включающая фотоотбеливатель и полипептид, обладающий липазной активностью, при этом композиция характеризуется средней относительной эффективностью по меньшей мере 0,8 и соотношением Польза-Риск по меньшей мере 1.1 в условиях тестирования, приведенных в описании.
28. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что содержит от 0,1 до 40% анионного поверхностно-активного вещества.
29. Композиция по п.28, отличающаяся тем, что представляет собой композицию для очистки и/или обработки.
30. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что дополнительно содержит сульфированный фталоцианин цинка.
31. Композиция по п.25, отличающаяся тем, что дополнительно содержит смесь сульфированного фталоцианина цинка и сульфированного фталоцианина алюминия, причем указанная смесь характеризуется весовым соотношением сульфированного фталоцианина цинка к сульфированному фталоцианину алюминия большим 1.
32. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что дополнительно содержит сульфированный фталоцианин алюминия.
33. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что фотоотбеливатель включает ксантеновый краситель, антрахинон или нафтахинон.
34. Способ очистки и/или обработки поверхности или ткани, включающий этапы, на которых, опционально, стирают и/или полощут указанные поверхность или ткань, вводят в контакт указанные поверхность или ткань с композицией по п.1, а затем, опционально, стирают и/или полощут указанные поверхность или ткань.
35. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что указанный вариант липазы является вариантом SEQ ID NO:2, содержащим по меньшей мере одну из мутаций Q4V, S58N/A/G/P/T, I90R или Q249I/L.