МНОГОСЛОЙНЫЕ КОЛОРИМЕТРИЧЕСКИЕ ДАТЧИКИ

1. Оптически считываемый чувствительный элемент для обнаружения аналита, содержащий:
оптически реагирующий слой, расположенный между отражающим слоем и полу-отражающим слоем,
причем оптически реагирующий слой содержит по меньшей мере первый, высоко чувствительный к аналиту подслой и второй, минимально чувствительный к аналиту подслой.
2. Чувствительный элемент по п.1, отличающийся тем, что высоко чувствительный к аналиту подслой содержит полимер с заданной микропористостью.
3. Чувствительный элемент по п.1, отличающийся тем, что отношение толщины первого, высоко чувствительного к аналиту подслоя к толщине второго, минимально чувствительного к аналиту подслоя составляет от примерно 1:8 до примерно 8:1.
4. Чувствительный элемент по п.1, отличающийся тем, что высоко чувствительный к аналиту подслой имеет толщину менее чем примерно 300 нм, а минимально чувствительный к аналиту подслой имеет толщину более чем примерно 300 нм.
5. Чувствительный элемент по п.1, отличающийся тем, что минимально чувствительный к аналиту подслой является непроницаемым для аналита.
6. Чувствительный элемент по п.1, отличающийся тем, что минимально чувствительный к аналиту подслой гидрофобный материал, а высоко чувствительный к аналиту подслой содержит гидрофобный материал.
7. Чувствительный элемент по п.1, отличающийся тем, что минимально чувствительный к аналиту подслой содержит по меньшей мере слой неорганического непористого материала.
8. Чувствительный элемент по п.1, отличающийся тем, что отражающий слой является проницаемым для аналита.
9. Чувствительный элемент по п.8, отличающийся тем, что отражающий слой является нанопористым слоем, содержащий спекшиеся наночастицы.
-1
10. Чувствительный элемент по п.1, отличающийся тем, что характеризуется отсутствием эффекта циклического перехода под воздействием атмосферы, содержащей 1000 млн органического аналита.
11. Способ изготовления чувствительного элемента для обнаружения аналита, содержащий этапы, на которых:
формируют полуотражающий слой на оптически прозрачной основе;
формируют слой минимально чувствительного к аналиту материала поверх полуотражающего слоя;
формируют слой высоко чувствительного к аналиту материала поверх слоя минимально чувствительного к аналиту материала; и
формируют проницаемый для аналита отражающий слой поверх слоя высоко чувствительного к аналиту материала.
12. Способ по п.11, отличающийся тем, что этап формирования слоя минимально чувствительного к аналиту материала содержит нанесение раствора на полу-отражающий слой и удаление из раствора растворителя для формирования высушенного слоя минимально чувствительного к аналиту материала.
13. Способ по п.12, отличающийся тем, что дополнительно содержит формирование поперечных связей в материале высушенного слоя минимально чувствительного к аналиту материала.
14. Способ по п.11, отличающийся тем, что этап формирования слоя минимально чувствительного к аналиту материала содержит нанесение способом осаждения и конденсации паров многофункциональных мономеров и/или олигомеров на полу-отражающий слой, с последующей реакцией мономеров и/или олигомеров друг с другом с образованием сети из поперечных связей в минимально чувствительном к аналиту материале.
15. Способ по п.11, отличающийся тем, что этап формирования слоя высоко чувствительного к аналиту материала содержит нанесение раствора на слой минимально чувствительного к аналиту материала и удаление растворителя из раствора для образования высушенного слоя высоко чувствительного к аналиту материала.