ПОКРЫТИЕ С ВЫСОКОЙ КОРОНОСТОЙКОСТЬЮ, А ТАКЖЕ СПОСОБ ЕГО ПОЛУЧЕНИЯ

1. Покрытие для полимерного изоляционного материала, которое включает от 1 до 10 слоев и в принципе является силикатным, причем покрытие содержит подходящую смесь силикатной основной структурной единицы с органическими остатками, благодаря чему оно может быть нанесено на гибкие подложки, и толщина отдельного слоя в покрытии лежит в диапазоне от 0,1 до 100 мкм, отдельные слои получаются мокрым химическим методом, причем предшественниками являются силан, силоксан и/или силикат.
2. Покрытие по п. 1, причем силан или содержащее силан соединение и/или силоксан или содержащее силоксан соединение получены из предшественника, который содержит или тетраэтилортосиликат (TEOS) и/или метилтриэтоксисилан.
3. Покрытие по п. 2, причем содержание органических остатков внутри покрытия изменяется от слоя к слою, так что содержание неорганических фрагментов Si-О внутри покрытия возрастает наружу, то есть по мере отдаления от подложки.
4. Покрытие по п. 3, причем кремнийорганические компоненты представляют собой модифицированные органосиланы, которые содержат в качестве функциональных групп эпоксидные, аминные, акрилатные и/или винильные группы.
5. Покрытие по любому из п. 1-4, причем покрытие дополнительно содержит наполнители, например металлоксидный материал, оксид кремния, оксид алюминия, карбид кремния и/или нитрид кремния.
6. Покрытие по любому из пп. 1-4, причем покрытие дополнительно содержит классическую систему смол, такую как
системы смол на основе эпоксидов, ненасыщенных сложных полиэфиров, сложных полиэфиров, фенолов, цианатов, виниловых сложных эфиров или других известных смол.
7. Покрытие по п. 5, причем покрытие дополнительно содержит
классическую систему смол, такую как системы смол на основе эпоксидов,
ненасыщенных сложных полиэфиров, сложных полиэфиров, фенолов, цианатов, виниловых сложных эфиров или других известных смол.
8. Способ получения покрытия по любому из пп. 1-7, причем  покрытие наносят с помощью мокрого химического метода в один или более слоев, каждый из которых после отверждения дает  компактное наслоение с толщиной в диапазоне от 0,1 до 100 мкм на слой.