Повышение качества обесцвечивания волосяного покрова шубных овчин с применением ВЧ-плазмы пониженного давления

УДК 675.06.014

Ф. С. Шарифуллин, И. М. Нуриев

ПОВЫШЕНИЕ КАЧЕСТВА ОБЕСЦВЕЧИВАНИЯ ВОЛОСЯНОГО ПОКРОВА ШУБНЫХ ОВЧИН С ПРИМЕНЕНИЕМ ВЧ-ПЛАЗМЫ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ

Ключевые слова: шубная овчина, низкотемпературная плазма, отбеливание, крашение.

Исследовано влияние плазмы ВЧ-разряда на процесс обесцвечивания шубной овчины.

Keywords: a sheepskin, the low temperature plasma, bleaching, dyeing.

Influence of plasma High frequency of the category on decolouration process sheepskins is investigated.

В технологиях производства меховых и шубных полуфабрикатов одним из основных процессов после дубления является крашение. Целью крашения является придание полуфабрикату эстетического внешнего вида. Процесс крашения волосяного покрова протекает в «жестких» температурно-временных и концентрационных режимах, а крашение в светлые тона связано с предварительным процессом отбеливания.

Отбелка, давая возможность обесцвечивать темные меха, открывает широкое поле для колориста, окрашивая от темно-голубого цвета до светлого тона при имитации меха. Поэтому повышение качества обесцвечивания волосяного покрова шубных овчин является одним из перспективных направлений. Достичь этого можно при помощи воздействия низкотемпературной плазмы (НТП) пониженного давления, сохраняя при этом блеск и шелковистость волосяного покрова [1, 2].

Образцы полуфабриката обрабатывались в ВЧ-плазме со входными параметрами плазменной установки в следующих диапазонах: расход плазмообразующего газа G=0,04-0,12 г/с, мощность разряда Wp=0,4-1,2 кВт, частота генератора f= 1,76 МГц ± 10%, давление в вакуумной камере Р=13,3-26,6 Па, время обработки t=1-5 мин. В качестве плазмообразующего газа в экспериментах использован аргон (Дг).

Повышение качества проведения обесцвечивания определяли через цветовые характеристики волосяного покрова с использованием спектрофотометра Х-Rite Color Digital Swatchbook. Микропроцессорная часть Digital Swatchbook вычисляет спектральную информацию, используя технологию 16-точечного измерения в видимой части спектра, и отправляет значения программному обеспечению в ПЭВМ, интерпретируя их в 31-точечное измерение.

Изменения показателя осветления (W,%) в зависимости от расхода плазмообразующего газа и времени плазменной обработки представлены на рисунке 1. Показатель осветления контрольного образца составило 45,5%.

Показатель осветления образцов, обработанных ВЧ-плазмой пониженного давления в режиме Wp=0,5 кВт, Р —26,6 Па, Gar— 0,12 г/с; t — 3 мин выше контрольных на 15,8%. Плазменная обработка перед процессом осветления способствует раскрытию чешуек кутикулы волоса и приводит к разрушению водородных и Ван-дер-Ваальсовых межмолекулярных связей меланокератинов. Меланины связываются с кератином волоса посредством прочных поперечных связей, которые невозможно полностью разрушить, применяя традиционные способы осветления. Обработка ВЧ-плазмой пониженного давления приводит к активному взаимодействию меланинов с пероксидом водорода, что позволяет получить меховой полуфабрикат с более высоким показателем осветления.

Рис. 1 - Изменение показателя осветления волосяного покрова меховой овчины, обработанных ВЧ-плазмой пониженного давления с варьированием расхода газа и времени обработки ^р=0,5 кВт, Р=26,6 Па)

Таким образом, в результате проведенных исследований установлен режим плазменной обработки: Wp=0,5 кВт, Р=26,6 Па, Оаг= 0,12 г/с; 1 = 3 мин, при котором достигается показатель осветления волосяного покрова меховой овчины на 15,8% выше чем у контрольных образцов, что характеризует интенсивность проведения процесса обесцвечивания.

Литература

1. Антонова, М. В. Применение НТ плазмы пониженного давления в процессе депигментирования волосяного покрова шубной овчины/ М.В.Антонова, Г.Н.Кулевцов, И.Ш.Абдуллин // Кожевеннообувная промышленность.- 2009.- №1.- С.32-33.

2. Абдуллин, И.Ш. Неравновесная низкотемпературная плазма пониженного давления в процессах обработки натуральных полимеров / И.Ш. Абдуллин, Р.Ф.Ахвердиев, М.Ф.Шаехов // Вестник Казан. технол. ун-та. - 2003. - №2. - С. 348 - 353.

© Ф. С. Шарифуллин - канд. техн. наук, доц. каф. плазмохимических и нанотехнологий высокомолекулярных материалов КГТУ, sharifullin80@mail.ru; И. М. Нуриев - асп. той же кафедры, r332co@mail.ru.