СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ЗАЩИТНОГО ЭЛЕМЕНТА

1. Способ изготовления защитного элемента, содержащего подложку (11), изготовленную из ориентированного пластика, и по меньшей мере один слой жидких кристаллов (13), нанесенных и ориентированных на подложке, адгезионную грунтовку (12) наносят до или после растяжения подложки по меньшей мере в одном направлении, причем указанное растяжение позволяет привести подложку в ориентированное состояние, и жидкие кристаллы наносят посредством печати на указанной адгезионной грунтовке.
2. Способ по п. 1, где адгезионную грунтовку (12) наносят до стадии растяжения подложки (11).
3. Способ по п. 1 или 2, где подложка содержит полиэтилентерефталат (ПЭТ).
4. Способ по любому из пп. 1-3, также включающий стадию поперечного сшивания адгезионной грунтовки, предпочтительно после указанного растяжения подложки.
5. Способ по любому из пп. 1-4, где адгезионная грунтовка содержит полиолефин, полиуретан, сложный полиэфир, полиэфир, поликарбонат или полиакрил или их сополимер.
6. Способ по п. 5, где адгезионная грунтовка содержит полиакрил.
7. Способ по п. 4, где адгезионная грунтовка содержит, в частности до ее нанесения, по меньшей мере один уретановый, сложноэфирный, эфирный, карбонатный или акриловый мономер.
8. Способ по любому из пп. 1-7, где печать жидких кристаллов осуществляют с помощью трафаретной печати, фотогравировки или флексографии.
9. Способ по любому из пп. 1-8, где жидкие кристаллы наносят после растяжения подложки.
10. Способ по любому из пп. 1-9, включающий печать на адгезионной грунтовке двух разных чернил, по меньшей мере одни из которых содержат холестерические жидкие кристаллы, более предпочтительно оба чернила содержат холестерические жидкие кристаллы.
11. Способ по любому из пп. 1-10, где эффект помутнения слоя холестерических жидких кристаллов меньше, чем эффект помутнения эталонного защитного элемента без слоя адгезионной грунтовки.
12. Способ по любому из пп. 1-11, где под слоем жидких кристаллов находится темный фон.
13. Способ по любому из пп. 1-12, где адгезионная грунтовка является прозрачной.
14. Защитный элемент (10) для защищенного документа, в частности полученный с помощью способа по любому из пп. 1-13, содержащий:
a. подложку (11), изготовленную из растянутого термопластичного материала,
b. адгезионную грунтовку (12) на поверхности подложки,
c. по меньшей мере один слой жидких кристаллов (13), нанесенный на адгезионную грунтовку посредством печати.
15. Защитный элемент по п. 14, содержащий печать по меньшей мере двух жидкокристаллических чернил, которые предпочтительно не накладываются друг на друга.
16. Защитный элемент по п. 14 или 15, где адгезия слоя жидких кристаллов к подложке, измеренная в соответствии с тестом Tesa, равна 2.
17. Защитный элемент по любому из пп. 14-16, где слой холестерических жидких кристаллов имеет форму узора, в частности буквенно-цифрового узора.
18. Защитный элемент по любому из пп. 14-17, также содержащий темный фон.
19. Способ аутентификации защитного элемента по любому из пп. 14-18, включающий изучение элемента для определения того, наблюдается ли гониохроматический эффект для углов падения больше или равных 70°, и стадию, заключающуюся в получении части информации относительно подлинности на основании по меньшей мере указанного изучения.
20. Способ аутентификации защитного элемента по любому из пп. 14-18, включающий изучение элемента через поляризационный фильтр с целью проявления ориентации подложки и адгезионной грунтовки и стадию, заключающуюся в получении части информации относительно подлинности на основании по меньшей мере указанного изучения.