ОСТЕКЛЕНИЕ, ОБЕСПЕЧЕННОЕ ТОНКОСЛОЙНЫМ ПАКЕТОМ ДЛЯ ЗАЩИТЫ ОТ СОЛНЦА

1. Солнцезащитное остекление, содержащее  подложку, предпочтительно стеклянную подложку, снабженную пакетом тонких слоев, которые действуют на солнечное излучение, в которой упомянутый пакет состоит из последовательности следующих слоев, начиная от поверхности стекла:
- подслой или набор подслоев, причем упомянутый(ые) подслой(и) состоят из диэлектрических материалов,
- слой на основе оксида титана, также включающий в себя кремний, причем общее атомное отношение Si/Ti в упомянутом слое находится между 0,01 и 0,25, и в котором Si и Ti представляют, по меньшей мере, 90% атомов кроме кислорода, причем толщина упомянутого слоя находится между 20 и 70 нм,
- покрывающий слой или набор покрывающих слоев, причем упомянутый покрывающий(ие) слой(и) состоит(ят) из диэлектрических материалов.
2. Остекление по п.1, в котором диэлектрические материалы, составляющие покрывающие слои и подслои, выбирают из оксидов цинка, оксидов кремния, оксидов олова, оксидов титана, оксидов цинка-олова, нитридов кремния и/или алюминия, и оксинитридов кремния и/или алюминия.
3. Остекление по любому из предшествующих пунктов, в котором общая  оптическая толщина подслоя(ев) составляет между 30 и 90 нм.
4. Остекление по одному из предшествующих пунктов, в котором общая оптическая толщина подслоя(ев) составляет между 7 и 30 нм.
5. Остекление по одному из предшествующих пунктов, содержащее  между поверхностью стекла и слоем оксида титана два подслоя, включая один слой на основе оксида кремния и один слой на основе нитрида кремния.
6. Остекление по одному из пп.1-4, содержащее между поверхностью стекла и слоем оксида титана единственный подслой на основе нитрида кремния.
7. Остекление по одному из предшествующих пунктов,  включает в себя, поверх слоя оксида титана, последовательность из покрывающего слоя на основе оксида кремния и покрывающего слоя на основе оксида титана.
8. Остекление по одному из предшествующих пунктов, в котором отношение Si/Ti является одинаковым по всей толщине слоя на основе оксида титана.
9. Остекление по одному из пп.1-6, в котором слой на основе оксида титана включает в себя последовательность наслоений, в которых отношение Si/Ti изменяется между 0 и 0,20.
10. Остекление по одному из предшествующих пунктов, в котором общее атомное отношение Si/Ti в слое находится между 0,05 и 0,20, предпочтительно между 0,05 и 0,15.
L
L
11. Остекление по одному из предшествующих пунктов, в котором светопропускание T составляет между 50% и 80%, и предпочтительно между 60% и 70%, и имеет солнечный фактор SF около величины T.
12. Остекление по одному из предшествующих пунктов, отличающееся тем, что оно подверглось воздействию термообработки типа гибки, закалки и/или отжига.
13. Спандрельное остекление по одному из предшествующих пунктов, которое сделано непрозрачным, по меньшей мере, частично, и предпочтительно полностью, с помощью дополнительного покрытия, причем упомянутое покрытие находится в виде эмали или лака.
14. Спандрельное остекление по предшествующему пункту, в котором дополнительное покрытие в виде эмали или лака наносят поверх пакета слоев.
15. Многослойное остекление, в частности, двойное остекление, включающее остекление или панель по одному из предшествующих пунктов.