СИСТЕМА ПРОИЗВОДСТВА ИЗОТОПОВ С РАЗДЕЛЕННЫМ ЭКРАНИРОВАНИЕМ

1. Система производства изотопов, содержащая:
циклотрон, содержащий ярмо магнита, которое окружает ускорительную камеру, и выполненный с возможностью направления пучка частиц из ускорительной камеры через ярмо магнита, и
систему мишени, расположенную рядом с ярмом магнита, причем система мишени выполнена с возможностью удержания материала мишени и содержит радиационный экран, который проходит между ярмом магнита и областью мишени, при этом радиационный экран имеет размер и форму, обеспечивающие ослабление нейтронов, испускаемых из материала мишени к ярму магнита, и
проход для пучка, проходящий от ускорительной камеры к области мишени и, по меньшей мере частично, образованный ярмом магнита и радиационным экраном системы мишени.
2. Система по п.1, в которой проход для пучка имеет длину и диаметр поперечного сечения, которые обеспечивают возможность существенного сокращения количества нейтронов, испускаемых из области мишени в ярмо магнита.
3. Система по п.1, в которой внешняя поверхность радиационного экрана непосредственно примыкает к ярму магнита.
4. Система по п.1, дополнительно содержащая общий корпус, в котором находятся циклотрон и систему мишени.
5. Система по п.4, в которой корпус обеспечивает доступ к ускорительной камере циклотрона и к системе мишени.
6. Система по п.1, в которой радиационный экран содержит материал с составом, выполненным с возможностью ослабления излучения, выходящего из материала мишени, а ярмо магнита содержит материал с другим составом, выполненным с возможностью ослабления излучения, выходящего из ускорительной камеры.
7. Система по п.1, в которой ярмо магнита имеет наружную поверхность, которая образует вмещающую экран выемку, причем проход для пучка проходит через ярмо магнита из ускорительной камеры и во вмещающую экран выемку, при этом часть радиационного экрана выполнена с возможностью размещения во вмещающей экран выемке ярма магнита.
8. Система по п.7, в которой радиационный экран имеет форму, которая по существу соответствует форме выемки.
9. Система по п.1, в которой система мишени содержит первую экранирующую структуру, которая непосредственно окружает область мишени и содержит материал с первым составом, который выполнен с возможностью ослабления гамма лучей, которые испускаются из материала мишени.
10. Система по п.9, в которой система мишени дополнительно содержит вторую экранирующую структуру, которая окружает первую экранирующую структуру и содержит материал со вторым составом, который выполнен с возможностью ослабления нейтронов, которые испускаются из материала мишени.
11. Система по п.10, в которой материал со вторым составом выполнен с возможностью ослабления гамма лучей, которые испускаются из материала мишени и создаются в результате захвата нейтрона.
12. Система по п.1, в которой пучок частиц может проходить расстояние от внутренней поверхности ускорительной камеры до материала, причем указанное расстояние составляет от 0,5 м до 1,5 м.
13. Система по п.1, в которой ярмо магнита имеет геометрический центр, расположенный в ускорительной камере, причем внешняя граница циклотрона имеет мощность дозы менее 4 микроЗиверта/ч на расстоянии менее чем приблизительно 1 метр от геометрического центра, а внешняя граница системы мишени имеет мощность дозы менее 4 микроЗиверта/ч на расстоянии менее чем приблизительно 1 метр от мишени, при этом материал мишени испытывает действие тока пучка приблизительно от 20 мкА до 30 мкА.
14. Система производства изотопов, содержащая:
циклотрон, поддерживаемый платформой и содержащий ярмо магнита, которое окружает ускорительную камеру, причем циклотрон выполнен с возможностью направления пучка частиц из ускорительной камеры через ярмо магнита, и
систему мишени, расположенную на платформе и вблизи ярма магнита, причем система мишени выполнена с возможностью удержания материала мишени в области мишени, а пучок частиц может падать на материал мишени, и
проход для пучка, проходящий от ускорительной камеры к области мишени, причем проход для пучка, по меньшей мере частично, образован ярмом магнита и системой мишени и проходит вдоль оси пучка, которая пересекает платформу.
15. Система по п.14, в которой система мишени содержит радиационный экран, выполненный с возможностью ослабления по меньшей мере одного из гамма лучей и нейтронов, которые испускаются из материала мишени, при этом радиационный экран проходит между областью мишени и ярмом магнита.
16. Система по п.15, в которой радиальная толщина радиационного экрана измеряется от области мишени, а наружная поверхность радиационного экрана ограничивает уменьшенную часть радиальной толщины, при этом радиационный экран поддерживается платформой вдоль наружной поверхности уменьшенной части.
17. Система по п.15, в которой радиационный экран имеет наружную поверхность, которая примыкает к ярму магнита.
18. Система по п.14, в которой проход для пучка является по существу прямолинейным.
19. Система по п.14, дополнительно содержащая безжидкостной насос, который проточно соединен с ускорительной камерой ярма магнита, причем указанный насос ориентирован вдоль продольной оси, которая образует угол относительно направления действия силы тяжести, составляющий больше 10 градусов.
20. Система по п.19, в которой безжидкостной вакуумный насос представляет собой турбомолекулярный насос.
21. Система по п.14, дополнительно содержащая платформу, которая опирается на пол и имеет толщину, обеспечивающую возможность поглощения утечек излучения от по меньшей мере одного из циклотрона и системы мишени.
22. Способ вывода из эксплуатации системы производства изотопов, находящейся в помещении здания, включающий:
использование системы производства изотопов, которая содержит циклотрон, поддерживаемый на платформе, поддерживаемой полом помещения, причем циклотрон выполнен с возможностью направления пучка частиц вдоль прохода для пучка к системе мишени, которая расположена на платформе рядом с ярмом магнитом, причем проход для пучка проходит вдоль оси пучка, которая пересекает платформу,
удаление системы мишени с платформы и
удаление платформы с пола помещения.
23. Способ по п.22, в котором проход для пучка проходит по направлению к платформе так, что накопленная радиоактивность в стенах или потолке помещения не превышает пороговый уровень.
24. Способ по п.22, в котором платформу дополнительно утилизируют в управляемом режиме.
25. Способ по п.22, в котором помещение содержит первоначальную опорную конструкцию, причем в способе не удаляют первоначальную опорную конструкцию в помещении из-за накопленной радиоактивности.
26. Способ по п.25, в котором первоначальная опорная конструкция представляет собой по меньшей мере часть потолка, пола или стен.