СИСТЕМА НАВОДКИ ЛАЗЕРА

1. Система наводки лазерного пучка, отличающаяся тем, что содержит:
- по меньшей мере, один лазерный источник (S1) обработки для излучения обрабатывающего лазерного пучка (FS1, FS2) в сторону мишени (С1), при этом упомянутый обрабатывающий пучок (FS1) проходит через неотражающую зону (z1) первого зеркала (М1), при этом упомянутое зеркало (М1) обеспечивает направление освещающего пучка (FR2), отраженного мишенью, в систему (СА) формирования изображений, при этом упомянутая зона (z1) с низким коэффициентом отражения первого зеркала (М1) наводит теневую зону (ZA) в направлении системы (СА) формирования изображений;
- второе зеркало (М2), принимающее упомянутый обрабатывающий пучок и предназначенное для его отражения и направления в сторону мишени;
- освещающий источник (Е1) для освещения упомянутой мишени при помощи освещающего пучка (FE1);
- первую схему (СС) управления для управления направлением упомянутой системы наводки в сторону мишени;
- вторую схему (СТ) управления для смещения в угловом направлении обрабатывающего пучка (FS1) на определенный угол, измерения на основании изображения, получаемого системой формирования изображений, расстояния (D2), отделяющего положение зоны (Р1) мишени от положения пятна обрабатывающего пучка, затем смещения в обратном направлении освещающего пучка на угол, соответствующий упомянутому измеренному расстоянию (D2), при этом угловое смещение обрабатывающего пучка имеет такую амплитуду, чтобы теневая зона не создавала помех для измерения положения мишени.
2. Система по п.1, отличающаяся тем, что упомянутый угол, на который смещают в угловом направлении обрабатывающий пучок (FS1), соответствует в устройстве (СА) формирования изображений диаметру упомянутой теневой зоны (ZA).
3. Система по п.2, отличающаяся тем, что содержит третье зеркало (М3), предназначенное для отражения в сторону мишени (С1) света, пришедшего от второго зеркала (М2), или, наоборот, для отражения в сторону второго зеркала света, пришедшего от мишени, при этом третье зеркало (М3) позволяет регулировать фокусировку пучка, принятого от второго зеркала (М2).
4. Система по п.3, отличающаяся тем, что содержит четвертое зеркало (М4), принимающее свет, пришедший от первого зеркала (М1), и отражающее его в сторону системы (СА) формирования изображений.
5. Система по п.1 или 2, отличающаяся тем, что упомянутый обрабатывающий пучок (FS1) имеет первую длину волны или диапазон длин волн, упомянутый освещающий пучок (FE1) имеет вторую длину волны или диапазон длин волн, отличающиеся от первой длины волны или диапазона длин волн, при этом система дополнительно содержит спектральный фильтр (F1), расположенный между первым зеркалом (М1) и системой (СА) формирования изображений и обеспечивающий передачу излучения только второй длины волны или диапазона длин волн в систему формирования изображений.
6. Система по п.1 или 2, отличающаяся тем, что обрабатывающий лазерный источник (S1) содержит оптическое волокно испускания излучения или набор из нескольких оптических волокон испускания излучения, один конец которых доходит до упомянутой отражающей стороны (1), при этом поверхность упомянутого конца образует упомянутую слабо отражающую или неотражающую зону (z1), при этом отражающая сторона и поверхность упомянутого конца находятся в одной и той же плоскости и имеют наклон по отношению к оси оптического волокна испускания излучения или набора оптических волокон испускания излучения.
7. Система по п.1 или 2, отличающаяся тем, что упомянутое первое зеркало (М1) содержит сторону, покрытую объемной дифракционной решеткой, которая содержит отверстие в упомянутой зоне (z1) для прохождения упомянутого обрабатывающего пучка (FS1) и дифракционную способность которой определяют таким образом, чтобы отклонять почти монохроматическое излучение освещающего лазера, отраженное мишенью.