ФОРМУЕМЫЕ В РАСПЛАВЕ СТЕКЛА, СОДЕРЖАЩИЕ ДИОКСИД КРЕМНИЯ И НАТРИЙ

1. Стекло, содержащее, мас.%:
2
50-72% SiO;
2
3
от более чем 15 до 25% AlO;
2
3
0-10% BO;
2
10-25% суммарного MO; и
от более чем 0 до 25% суммарного RO;
2
где M является щелочным металлом, выбранным из Na, K, Li, Rb и Cs, и где стекло содержит, по меньшей мере, 9 мас.% NaO, и где R является щелочноземельным металлом, выбранным из Mg, Ca, Ba и Sr.
2. Стекло по п.1, где стекло содержит менее чем 2,5 мас.% MgO.
2
3. Стекло по п.2, где стекло содержит менее чем 4 мас.% KO.
-7
4. Стекло по п.2, где стекло имеет температуру деформации 535°C или более, коэффициент термического расширения 50·10 или более, и вязкость при температуре ликвидуса 130000 П или более.
2
5. Стекло по п.4, где стекло содержит менее чем 4 мас.% KO.
2
6. Стекло по п.1, где стекло содержит менее чем 4 мас.% KO.
7. Стекло по п.1, где стекло содержит от 0,5 до менее чем 14 мас.% RO.
8. Стекло по п.7, где стекло содержит менее чем 2,5 мас.% MgO.
2
9. Стекло по п.8, где стекло содержит менее чем 4 мас.% KO.
-7
10. Стекло по п.8, где стекло имеет температуру деформации 535°C или более, коэффициент термического расширения 50·10 или более, и вязкость при температуре ликвидуса 130000 П или более.
2
11. Стекло по п.10, где стекло содержит менее чем 4 мас.% KO.
12. Стекло, содержащее, мас.%:
2
50-72 SiO;
2
3
10-25 AlO;
2
3
0-10 BO;
2
10-25 суммарного MO; и
от 0,5 и до менее чем 14 RO;
2
где M является щелочным металлом, выбранным из Na, K, Li, Rb и Cs, и где стекло содержит, по меньшей мере, 9 мас.% NaO, и где R является щелочноземельным металлом, выбранным из Mg, Ca, Ba и Sr.
13. Стекло по п.12, где стекло содержит менее чем 2,5 мас.% MgO.
14. Фотоэлектрическое устройство, содержащее стекло, содержащее, мас.%:
2
50-72% SiO;
2
3
10-25% AlO;
2
3
0-10% BO;
2
10-25% суммарного MO; и
от более чем 0 до 25% суммарного RO;
2
где M является щелочным металлом, выбранным из Na, K, Li, Rb и Cs, и где стекло содержит, по меньшей мере, 9 мас.% NaO, и где R является щелочноземельным металлом, выбранным из Mg, Ca, Ba и Sr.
-7
15. Фотоэлектрическое устройство по п.14, в котором стекло имеет температуру деформации 535°C или более, коэффициент термического расширения 50·10 или более, и вязкость при температуре ликвидуса 130000 П или более.
2
3
16. Фотоэлектрическое устройство по п.14, в котором стекло содержит от более чем 15 до 25 мас.% AlO.
2
17. Фотоэлектрическое устройство по п.14, в котором стекло содержит 55-72 мас.% SiO.
2
3
18. Фотоэлектрическое устройство по п.17, в котором стекло содержит от более чем 15 до 25 мас.% AlO.
2
19. Фотоэлектрическое устройство по п.14, в котором стекло содержит 9-17 мас.% NaO.
20. Фотоэлектрическое устройство по п.14, в котором стекло содержит от 0,5 до менее чем 14 мас.% RO.
2
3
21. Фотоэлектрическое устройство по п.14, в котором стекло содержит от более чем 15 до 25 мас.% AlO, и содержащее от 0,5 до менее 14 мас.% RO.
22. Фотоэлектрическое устройство по п.14, в котором стекло находится в виде тонкого листа.
23. Фотоэлектрическое устройство по п.22, в котором стекло находится в виде тонкого листа и является подложкой или вышележащим слоем.
24. Фотоэлектрическое устройство по п.23, содержащее активную фотоэлектрическую среду, содержащую диселенид галлия-индия-меди или теллурид кадмия, прилегающую к подложке или вышележащему слою.
25. Фотоэлектрическое устройство по п.24, содержащее запирающий слой между активной фотоэлектрической средой и подложкой или вышележащим слоем.