UV
ФОТОПОЛИМЕРНЫЕ КОМПОЗИЦИИ С РЕГУЛИРУЕМЫМ МЕХАНИЧЕСКИМ МОДУЛЕМ G

UV
1. Способ изготовления экспонированных голографических сред, содержащих фотополимерную композицию с модулем G в пределах от 0,1 до 160 МПа и Δn≥0,008, при реализации которого
i. готовят фотополимерную композицию, включающую в себя
A) Полимеры матрицы в виде аморфной сетчатой структуры,
B) комбинацию одного монофункционального записывающего мономера и одного мультифункционального записывающего мономера,
C) фотоинициирующую систему,
D) в качестве опции компонент, неспособный к фотополимеризации,
Е) при необходимости катализаторы, стабилизаторы радикалов, растворители, присадки, а также прочие вспомогательные и/или дополнительные вещества
ii. придают фотополимерной композиции форму среды,
iii. проводят над средами эксперимент по голографической экспозиции, чтобы записать голограмму, и
iv. освещают всю среду УФ-излучением, чтобы зафиксировать голограмму
0
UV
причем записывающие мономеры представляют собой соединения с акрилатными и/или метакрилатными функциональными группами, общее содержание записывающих мономеров в фотополимерной композиции составляет не менее 30% масс. и не более 45% масс., неэкспонированная фотополимерная композиция имеет модуль G<0,7 МПа, а модуль G экспонированной композиции через отношение относительной доли монофункционального записывающего мономера к относительной доле мультифункционального записывающего мономера в общем содержании записывающих мономеров регулируют в предусмотренной области от 0,1 до 160 МПа таким образом, что высокий модуль обеспечивают посредством высокой относительной доли мультифункционального записывающего мономера, а низкий модуль - посредством высокой относительной доли монофункционального записывающего мономера в общем содержании записывающих мономеров.
UV
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что модуль G экспонированных голографических сред находится в пределах от 0,3 до 40, предпочтительно от 0,7 до 15 МПа.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что записывающие мономеры и полимеры матрицы выбирают либо так, чтобы показатель преломления каждого из двух записывающих мономеров по меньшей мере на 0,05 единицы превышал показатель преломления полимеров матрицы, либо так, чтобы показатель преломления каждого из двух записывающих мономеров был по меньшей мере на 0,05 единицы ниже показателя преломления полимеров матрицы.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что полимеры матрицы представляют собой полиуретаны, которые в частности, синтезируют путем реакции компонента, несущего NCO-группы, и компонента, реакционноспособного по отношению к NCO, причем по меньшей мере один из двух компонентов обладает эквивалентной массой более 200 г/моль, предпочтительно более 350 г/моль, и также предпочтительно, чтобы в остове полимера не встречались циклические структуры.
G
5. Способ по п.4, отличающийся тем, что полиуретаны в прореагировавшем состоянии имеют температуру стеклования T<-45°С.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что монофункциональный записывающий мономер имеет общую формулу (II)
,
1
2
G
в которой R, R представляют собой водород и/или независимо друг от друга линейные, разветвленные, циклические или гетероциклические, незамещенные или же при необходимости замещенные гетероатомами органические остатки, и что монофункциональный записывающий мономер предпочтительно имеет температуру стеклования T<15°С.
7. Способ по п.1, отличающийся тем, что мультифункциональный записывающий мономер имеет общую формулу (III)
,
3
4
<mrow><msubsup><mi>n</mi><mi>D</mi><mrow><mn>20</mn></mrow></msubsup></mrow>
в которой n≥2 и n≥4, a R, R представляют собой водород и/или независимо друг от друга линейные, разветвленные, циклические или гетероциклические, незамещенные или же при необходимости замещенные гетероатомами органические остатки, а показатель преломления мультифункционального записывающего мономера
предпочтительно >1,50.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что фотополимерная композиция дополнительно содержит пластификатор.
9. Способ по п.8, отличающийся тем, что пластификатор выбирают так, чтобы показатель преломления пластификатора был по меньшей мере на 0,05 единицы меньше показателя преломления полимеров матрицы, если показатели преломления обоих записывающих мономеров больше такового полимеров матрицы, и чтобы показатель преломления пластификатора был по меньшей мере на 0,05 единицы больше показателя преломления полимеров матрицы, если показатели преломления обоих записывающих мономеров меньше такового полимеров матрицы.
10. Способ по п.8, отличающийся тем, что в качестве пластификаторов применяют уретаны общей формулы (VI)
,
10
11
12
10
11
12
10
в которой n≥1 и n≤8, a R, R, R представляют собой водород и/или независимо друг от друга линейные, разветвленные, циклические или гетероциклические, незамещенные или же при необходимости замещенные гетероатомами органические остатки, причем предпочтительно по меньшей мере один из остатков R, R, R замещен по меньшей мере одним атомом фтора, а особо предпочтительно R представляет собой органический остаток по меньшей мере с одним атомом фтора.
11. Способ по п.1, отличающийся тем, что фотоинициирующая система включает в себя анионный, катионный или нейтральный краситель и соинициатор.
max
min
min
12. Способ по п.1, отличающийся тем, что Δn отдельных экспонированных голографических сред с различными долями монофункциональных и мультифункциональных записывающих мономеров варьирует менее, чем на 55%, причем вариацию рассчитывают следующим образом: (Δn-Δn)/Δn·100%.
13. Способ по одному из п.п.1-12, отличающийся тем, что слой фотополимерной композиции на этапе ii) соединяют с субстратом.
14. Способ по п.13, отличающийся тем, что слой фотополимерной композиции соединяют еще с одним субстратом.
15. Способ по п.13, отличающийся тем, что покрытие и субстрат или субстраты соединяют друг с другом склейкой или ламинированием.
16. Способ по п.14, отличающийся тем, что покрытие и субстрат или субстраты соединяют друг с другом склейкой или ламинированием.