О возможности термопроявления фазовых голограмм, фотоиндуцированных в полиметилметакрилате, допированном антраценоилацетонатом дифторида бора

Фотоника в ДВО РАН

Вестник ДВО РАН. 2015. № 3

УДК 67.02;681.785;778.38

Ю Н. КУЛЬЧИН, О Б. ВИТРИК, А.Ю. ЖИЖЧЕНКО

О возможности термопроявления фазовых голограмм, фотоиндуцированных в полиметилметакрилате, допированном антраценоилацетонатом дифторида бора

Исследованы процессы формирования голографических решеток в полиметилметакрилате, допированном антраценоилацетонатом дифторида бора. Рассмотрена возможность записи в изучаемом материале объемных фазовых голографических решеток с относительно слабой (<8 %) дифракционной эффективностью, которая может быть увеличена до 70 % за счет термического постэкспозиционного проявления при 75 оС. В результате конкуренции фотохимических процессов и процессов диффузии на этапе записи решеток частотно-контрастная характеристика материала имеет выраженный минимум, который в течение термического проявления сдвигается в область низких пространственных частот. Механизмом постэкспозиционного термического проявления является диффузия молекул исходной фотоактивной добавки и молекул фотопродукта.

Ключевые слова: светочувствительная полимерная среда, антраценоилацетонат дифторида бора, лазерная модификация, скрытая запись голограмм, диффузионное проявление.

On the possibility of thermal development of phase holograms photoinduced in polymethylmethacrylate doped with boron difluoride anthracene oil acetonate. Yu.N. KULCHIN, O.B. VITRIK, A.Yu. ZHIZHCHENKO (Institute of Automation and Control Processes, FEB RAS, Vladivostok).

Holographic gratings formation in polymethylmethacrylate doped with boron difluoride anthracene oil acetonate was studied. The possibility of recording in the studied material volume phase holographic gratings with a relatively low (<8 %) diffraction efficiency, which can be increased to 70 % due to post-exposure thermal development at 75°C was demonstrated. The result of competition ofphotochemical processes and diffusion processes during the grating recording is that the phase-contrast frequency characteristic of the material has a pronounced minimum, which during thermal manifestations shifts to low spatial frequencies. Mechanism for post-exposure thermal developing is the molecules diffusion of the original photoactive additive and photoproduct molecules.

Key words: photosensitive polymer, boron difluoride anthracene oil acetonate, laser modification, latent hologram recording, diffusion development.

Введение

Для лазерной записи объемных и интегрально-оптических дифракционных элементов (ДОЭ) при решении задач обработки, передачи и преобразования оптических

КУЛЬЧИН Юрий Николаевич - академик, директор, ВИТРИК Олег Борисович - доктор физико-математических наук, заведующий лабораторией, *ЖИЖЧЕНКО Алексей Юрьевич - инженер-программист (Институт автоматики и процессов управления ДВО РАН, Владивосток). *Е-таП: g89leksig@mail.ru

Работа выполнена при финансовой поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (проект № 14-29-07203 офи_м), а также Министерства образования и науки РФ (договор № 02.G25.31.0116).

сигналов разработано большое количество фоторегистрирующих материалов, которые по многим параметрам превосходят классические регистрирующие среды на основе галогенсеребряных фотоэмульсий и бихромированного желатина. Среди таких сред заслуживают внимания полимерные фоточувствительные материалы (ПФМ) [1, 9], которые наряду с низкой стоимостью и высокой технологичностью обладают хорошей разрешающей способностью, низким светорассеянием и возможностью фазовой фоторегистрации без использования жидкостной постэкспозиционной обработки. Но одним из основных преимуществ традиционных фоторегистрирующих сред перед ПФМ остается возможность записи скрытых изображений. Действительно, склонность полимерных фотоматериалов к самопроявлению приводит, вследствие самодифракции, к искажению волнового фронта экспонирующего излучения и, в свою очередь, к появлению шумов и ухудшению качества записываемого ДОЭ [1, 5]. Задача создания полимерного фоточувствительного материала, обладающего возможностью скрытой фазовой записи, осложняется тем, что вследствие медленной диффузии реагентов для полимерных матриц классическая жидкостная схема постэкспозиционного проявления сопряжена с большими временными затратами [5].

Ранее мы сообщали о создании полимерного материала на основе полиметилмета-крилата (ПММА), допированного новым производным антрацена - 2,2-дифтор-4-(9-антрацил)-6-метил-1,3,2-диоксаборином (AntBF2), в котором возможна лазерная запись тонких и толстых (толще 1 мм) фазовых дифракционных [4] и тонкопленочных интегрально-оптических элементов [14]. Эксперименты показывают, что при достаточно малых экспозициях в таком материале реализуется запись очень слабых, практически скрытых фазовых изображений с возможностью их последующего термического проявления. В настоящей работе мы проведем детальное исследование этих явлений.

Модель формирования решеток

Исследуемый фотополимерный материал представляет собой полимери-зованный в блоке раствор фотоактивной добавки AntBF2 в метилметакрилате [4]. Фотохимические процессы в нем сводятся в основном к фотодимеризации молекул добавки, так же, как это имеет место для кристаллов AntBF2 [6]. Несмотря на то что природа фотохимических процессов в данном материале не до конца изучена, для настоящей статьи важно лишь представление о том, что молекулы фотопродукта имеют большие размеры по сравнению с молекулами исходной фотоактивной добавки и поэтому обладают существенно меньшей подвижностью.

Рассмотрим случай записи в исследуемом материале синусоидальной дифракционной решетки. Будем полагать, что запись происходит в интерференционном поле скрещенных когерентных пучков модифицирующего излучения. Допуская, что образцы материала являются достаточно тонкими, будем считать, что распределение интенсивности экспонирующего излучения равномерно по глубине. Тогда изменение концентрации молекул исходной фотоактивной добавки AntBF2 (С(1)) и ее фотопродукта (С(2)) под действием экспонирующего излучения описывается системой уравнений [10, 12]:

дх дг

со следующими начальными условиями: С(1)(х, 0) = С0, С(2)(х, 0) = 0, где /(х) = /0[1+со$(2пг/Л)], / Л - соответственно распределение, среднее значение интенсивности и период модуляции интерференционного поля; у - константа, характеризующая скорость фотохимической реакции; Б1 и Б2 - коэффициенты диффузии молекул исходной добавки и фотопродукта в матрице ПММА соответственно; Ф(0 - ступенчатая функция, равная единице при 0 < t < t0 и нулю во всех остальных случаях, t0 - длительность экспонирования. Первое слагаемое в левой части системы (1) обусловлено фотодимеризацией,

а второе - диффузией вследствие градиентов концентрации молекул, возникающих при экспозиции материала пространственно неоднородным световым полем. Далее будем полагать, что распределение концентрации молекул имеет такой же период (Л), как распределение интенсивности экспонирующего поля. В этом случае решение системы (1) целесообразно искать на интервале от 0 до Л, причем граничным условием будет отсутствие

дС( т\х, t) пмт_

потока вещества через границу указанного интервала:--—- = 0 [10]. В дальнейшем

дх

нас будут интересовать не собственно решения системы (1), а амплитуды модуляции величин С(1) и С(2) на пространственной частоте ^ = Л-1, поскольку эти амплитуды, в конечном счете, задают эффективность первого порядка дифракции для записываемой решетки.

Известно [2], что характерное время диффузионной модификации решетки уменьшается с увеличением ее пространственной частоты Поэтому существуют такие достаточно низкие значения параметра для которых характерное время диффузионной модификации решетки (т0) будет значительно больше, чем характерное время ее записи (/0). В связи с этим при рассмотрении механизма формирования таких решеток можно разделить по времени фотохимические процессы (при t < и процессы диффузии (при t > t0). В первом случае ^ < (0) можно с хорошей точностью принять, что Б = Б2 = 0 и система (1) переходит в обычное уравнение фотохимии с известным экспоненциальным решением [13]. Раскладывая это решение в ряд Тейлора по параметру у/0/, можно в первом приближении найти амплитуды первой пространственной гармоники распределения концентрации молекул исходной добавки и фотопродукта в виде

-С

Связь величин С1(1) и С(2) с амплитудой первой пространственной гармоники распределения показателя преломления записываемой решетки п1 задается выражением Лоренца-Лорентца, на основании которого, предположив, что п1  п где п, - показатель преломления материала, можно записать [7]:

п = (С(2) ^2+С1(1) Я,),

6п

где Я и Я — молярные рефракции молекул исходной фотоактивной добавки и фотопродукта соответственно. В работе [4] было экспериментально показано, что при однородном экспонировании изучаемого материала его показатель преломления уменьшается, т.е. величина п1 является отрицательной. Заметим, что соответствующий знак в выражении (3) появляется, если принять, что Я2 < Я Отрицательное значение для п1 также означает, что фаза записываемой решетки показателя преломления сдвинута относительно фазы распределения интерференционного синусоидально модулированного поля на п. Из выражений (2) и (3) следует, что в момент времени ^ = 1/у/0 модуль величины п1 достигает максимального значения, равного ~ 0,74|С0(Я2 - Я1)|. При дальнейшем экспонировании абсолютное значение амплитуды п1, как это следует из выражений (2) и (3), уменьшается. Это объясняется увеличением вкладов от высших пространственных гармоник в распределение показателя преломления.

После окончания экспонирования при t > (0 уравнения (1) преобразуются в обычные уравнения диффузии с прежними граничными условиями, в то время как начальные условия (при т = t - t0 = 0) теперь могут быть сформулированы на основании выражения (2): С(т) (х, 0) = (С^ + Ст)(г0^(2пх/Л) , где т = 1, 2, а С^ - средняя концентрация, не влияющая на амплитуду п1 записываемой решетки. Решение данной задачи имеет вид

г

С

где Л2

= П

Если сформулированное выше предположение об уменьшении подвижности молекул при фотомодификации справедливо, то коэффициенты диффузии молекул исходной добавки и фотопродукта будут удовлетворять неравенству Б > Б2. В этом случае характерные времена затухания амплитуд С(1) и С(2) в выражении (4) будут различны и т1 < т2. Это означает, что диффузия сначала будет приводить к уменьшению абсолютного значения параметра п1 за счет более быстрой релаксации величины С1(1) Я1 по сравнению с С(2) Я2. Причем в характерный момент

= и у 2,

0

когда, согласно выражению (4), выполняется: С1(1) Я1 = - С(2) Я2 амплитуда п , как это видно из выражения (3), становится равной нулю. В этот момент фаза записанной решетки изменяется на п. Затем происходит постепенное возрастание абсолютной величины п1, которая достигает максимального значения в момент времени

т = + Ы( D1/ Р2)т

м

Амплитуда модуляции показателя преломления решетки при этом, согласно выражению (3), оказывается в Я2/Я - Я2) раз выше, чем в момент времени t0 окончания экспонирования. Это усиление и является физической причиной проявления записанной решетки. Из этих рассуждений становится понятна роль нагрева в этом процессе [4]. Действительно, при комнатной температуре коэффициенты диффузии Б1 и Б2 могут оказаться достаточно малыми и время тм будет значительным. В то же время умеренный нагрев экспонированного материала на несколько десятков градусов Цельсия приводит к значительному возрастанию коэффициентов диффузии, что в свою очередь обусловливает уменьшение времени проявления решетки до десятков часов, как это наблюдается в работе [4]. Стоит отметить, что охлаждение решетки до комнатной температуры сразу после достижения максимума для величины п1 приводит к замедлению процесса диффузионной деградации решетки, причем характерное время т2 этого процесса будет задаваться коэффициентом диффузии молекул фотопродукта Б2 в соответствии с выражением (5).

Из выражения (6) следует, что условие т0 » t0 выполняется только для низкочастотных решеток с пространственной частотой О, существенно меньшей, чем характерная частота:

п„ .

В случае, когда О = О0 оказывается, что времена ^ и т0 совпадают. Это означает, что амплитуда п1 решетки становится близкой к нулю в момент окончания процесса экспонирования. Это должно привести к появлению минимума на пространственной частоте О0 на частотно-контрастной характеристике п1(О) материала. При этом нагрев решетки должен вызвать смещение минимума зависимости п1(О) в низкочастотную область из-за уменьшения времени т0.

Для расчета явного вида зависимостей п^) и п1(О) для исследуемого материала требуются данные о коэффициентах диффузии Б и Б Эти данные могут быть получены на основании выражений (6) и (7) после экспериментального измерения характерных времен т0 и тм

Эксперимент

В экспериментах используются образцы полиметилметакрилата, допированного антраценоилацетонатом дифторида бора с молярной концентрацией С0 ~ 4,2 * 106 моль/см3.

Для записи в исследуемых образцах голографических решеток пропускающего типа используется экспериментальная установка, схема которой представлена на рис. 1.

Излучение непрерывного лазера с длиной волны Хм - 405 нм разделяется на два пучка В1 и В2 равной интенсивности /0/2 - 5 Вт/см2, которые затем сходятся под углом 2в0 в образце исследуемого фоточувствительного материала (8) толщиной Ь - 1 мм, в котором под действием интерференционного поля этих пучков записывается голографическая ре-

Рис. 1. Схема экспериментальной установки для записи и считывания фазовых решеток. М - зеркала, L - линзы, 8М - одномодовый волоконный световод в качестве пространственного фильтра, Р - поляризаторы, В8 - светоделитель, VF - переменный светофильтр, RF -красный светофильтр, 8 - образец фоторегистрирующего материала, D - фотоприемники, РМ - измеритель мощности, РС - компьютер

шетка (ГР). Для бездиструкционного считывания решеток в процессе их записи и после используется излучение Не-№ лазера с длиной волны Хс - 633 нм (пучок В3), на которой не происходит фотомодификация материала. Значения эффективности дифракции первого порядка, измеренные для этого пучка, применяются затем для расчета амплитуды модуляции показателя преломления (п^ ГР в соответствии со стандартными методиками [8, 11].

На рис. 2 кривая 1 иллюстрирует результаты измерения частотно-контрастной характеристики (ЧКХ) материала, полученные непосредственно после окончания записи нескольких ГР с различными пространственными частотами. Время записи для всех решеток принято равным t0 = 4 мин (доза экспозиции 2,4 х 103 Дж/см2), оно выбрано из условия достижения максимума дифракционной эффективности для решеток с низкой пространственной частотой (^  1000 мм-1), как это видно из экспериментальных точек на кривой 1 рис. 3 (на этой кривой результаты измерения приведены для ГР с ^ = 200 мм-1, в случае других пространственных частот в диапазоне от 10 до 350 мм-1 полученные зависимости п^) практически совпадают с приведенной и для простоты не показаны).

Как видно из рис. 2, кривая 1 имеет минимум на пространственной частоте -1500 мм-1, что в рамках рассмотренной модели интерпретируется как результат диффузионного ослабления решеток при совпадении времен записи ^ и диффузионного ослабления т0. Для более высоких пространственных частот при ^ - 2500 мм-1 наблюдается некоторое возрастание амплитуды п , что может быть объяснено приближением времени записи ^ к характерному времени диффузионного усиления решетки тм, определяемому выражением (7). Однако это возрастание не столь значительно, как это можно было бы ожидать, что объясняется снижением контраста экспонирующего интерференционного поля из-за повышенного светорассеяния на микрофлуктуациях показателя преломления материала, когда период решетки становится сравнимым с размером микрофлуктуаций.

Исходя из представленных кривой 1 на рис. 2 данных можно утверждать, что за время записи (4 мин) процессы диффузии не оказывают влияния на решетки с пространственной

частотой О ^ 1000 мм-1. Для решеток с пространственной частотой выше ~1000 мм-1 влияние диффузии проявляется непосредственно в процессе записи решеток, что иллюстрируется на рис. 3 изменением характера зависимости п() для О = 1150 мм-1 (экспериментальная кривая 4).

Для низкочастотных решеток влияние диффузии проявляется только на этапе постэкспозиционной выдержки. На рис. 2 экспериментальными точками на кривой 1 представлены результаты измерения амплитуды модуляции показателя преломления в зависимости от времени постэкспозиционной выдержки (т = t - /0) решетки с пространственной частотой 200 мм-1. Как и ожидалось, эта зависимость имеет выраженный минимум при т0 = 20 ч, после которого происходит возрастание амплитуды модуляции показателя преломления решетки. Однако за время эксперимента (100 ч) ожидаемый на основании рассмотренной выше модели максимум не был достигнут.

Поэтому для ускорения процесса диффузионной модификации и достижения максимума зависимости п1(т) записанные решетки выдерживали при повышенной температуре ~75 оС. На рис. 2 экспериментальными точками на кривой 3 представлены результаты измерения зависимости п1(т) для случая нагретой решетки с О = 200 мм-1. Видно, что в этом случае минимум данной зависимости достигается за время т0 = 1 ч, т.е. в 20 раз быстрее, чем при комнатной температуре. При этом через 25 ч после начала постэкспозиционной выдержки достигается максимум, в котором, как и ожидалось, значение параметра п1 в 3,3 раза выше, чем непосредственно после окончания экспозиции (2 х 10-4). Дифракционная эффективность решеток в этот момент увеличивается от 8 % в момент т = 0 до 70 %, что, собственно, и рассматривается нами как эффект термического проявления. На основе полученных данных, используя выражения (2)-(5), можно оценить коэффициенты рефракции и диффузии молекул исходной фотоактивной добавки для случая нагретого до 75 оС материала: Я1 = 89 см3/моль, Б1 = 4 х 105 мкм2/с -и фотопродукта: Я2 = 70 см3/моль, Б2 = 1 х 107 мкм2/с. Это дает возможность построить в явном виде зависимость п1(т) для нагретого материала в соответствии с выражениями (3)-(5), которая представлена расчетной кривой 3 на рис. 3. Видно, что расчетная зависимость как на временном интервале, соответствующем записи ГР (кривая 1), так и на интервале постэкспозиционной обработки (кривая 3) хорошо согласуется с экспериментальными данными. Полученные данные также позволяют с использованием выражения (5) оценить время постэкспозиционной выдержки т2, в течение которого должна наступать диффузионная деградация нагретой до 75 оС решетки. Это время для рассматриваемого случая О = 200 мм-1 составляет ~6 недель, что также видно из характера кривой 3 на рис. 3.

Если далее предположить, что в небольшом интервале температур (25-75 оС) отношение коэффициентов 01Ю2 слабо зависит от температуры [3], то с использованием выражений (2) и (3) и полученных данных о характерном времени т0 оказывается возможным оценить значения коэффициентов диффузии при комнатной температуре: Б1 = 2 х 106 мкм2/с и Б2 = 2 х 109 мкм2/с. Расчетная кривая п1(т), построенная на основе

Период (Л), мкм 102 10 1

10 10" 10 10 Пространственная частота 42, мм"1

Рис. 2. Частотно-контрастная характеристика полиме-тилметакрилата, допированного антраценоилацетона-том дифторида бора, измеренная на момент окончания экспонирования (1), после 5 ч (2) и 12 ч (3) постэкспозиционной выдержки решеток при 75 оС

1 10' Время (Ч), ч

Рис. 3. Зависимость амплитуды модуляции показателя преломления записываемых решеток от времени. Кривые 1-3 - расчетные зависимости, полученные для случаев записи решеток с О = 200 мм-1 (кривая 1) и постэкспозиционной выдержки материала при 25 0С (кривая 2) и 75 0С (кривая 3). Символами показаны соответствующие экспериментальные данные. Кривой 4 представлены результаты измерения зависимости п(), полученные в процессе записи решеток с О = 1150 мм-1

значений этих коэффициентов, представлена на рис. 3 (кривая 2). Видно, что экспериментальные данные находятся в хорошем соответствии с расчетными. Также с использованием выражений (5) и (7) можно оценить время достижения максимума для зависимости и1(х) и время жизни решетки при комнатной температуре. Для случая О = 200 мм-1 это составляет ~40 дней и ~4 года соответственно.

Таким образом, записанные решетки способны к проявлению и при комнатной температуре, однако требуемый

для этого срок (~40 дней) оказывается слишком большим для практического применения. Это, собственно, и требует постэкспозиционного нагрева решетки, который сокращает время проявления до десятков часов. Из сказанного также следует, что время деградации записанной решетки может быть значительно увеличено (по сравнению с 4 годами) при понижении температуры хранения ГР ниже комнатной.

Необходимо отметить, что термическое проявление приводит к изменению частотно-контрастной характеристики материала, что иллюстрируется экспериментальными кривыми 2 и 3 (рис. 2), полученными соответственно после 5 и 12 ч выдержки записанных решеток при температуре 75 оС. Из этих данных видно, что в течение времени постэкспозиционной выдержки минимум ЧКХ смещается в низкочастотную область (для случая т = 12 ч он наблюдается около 70 мм-1). При этом, как и ожидалось, амплитуда модуляции показателя преломления высокочастотных решеток (в диапазоне от 1000 до 2500 мм-1) значительно возрастает, в то время как амплитуда п решеток в диапазоне частот от 10 до 30 мм-1 практически не изменяется. Для пространственных частот выше 2500 мм-1 наблюдается уменьшение амплитуды модуляции показателя преломления, что, как указывалось выше, по-видимому, связано с микрофлуктуациями показателя преломления материала. Отметим, что заметная на фоне шумов дифракция с эффективностью > 0,1 % наблюдается для ГР с пространственными частотами вплоть до 4500 мм-1.

Таким образом, в настоящей работе показано, что голографические решетки, записанные в полиметилметакрилате, допированном антраценоилацетонатом дифторида бора, при дозе экспозиции до 2,4 х 103 Дж/см2 обладают сравнительно слабой дифракционной эффективностью - <8 %, которая может быть увеличена до 70 % за счет термического проявления при 75 оС в течение -20 ч. Механизмом термического проявления служит диффузия молекул исходной фотоактивной добавки и фотопродукта. Данный процесс приводит к смещению минимума частотно-контрастной характеристики материала в область низких пространственных частот и значительному возрастанию амплитуды модуляции показателя преломления для высокочастотных решеток.

ЛИТЕРАТУРА

1. Вениаминов А.В., Могильный В.В. Голографические полимерные материалы с диффузионным проявлением: принципы, компоновка, исследования и применения // Оптика и спектроскопия. 2013. Т. 115, .№ 6. С. 1014-1038.

2. Вениаминов А.В., Гончаров В.Ф., Попов А.П. Усиление голограмм за счет диффузионной деструкции противофазных периодических структур // Оптика и спектроскопия. 1991. Т. 70, № 4. С. 864-869.

3. Гиллет Дж. Фотофизика и фотохимия полимеров. Введение в изучение фотопроцессов в макромолекулах. М.: Мир, 1988. 435 с.

4. Кульчин Ю.Н., Витрик О.Б., Жижченко А.Ю., Мирочник А.Г., Федоренко E.B. Оптические свойства нового полимерного фоторегистрирующего материала на основе 2,2-дифторо-4-(9-антрацил)-6-метил-1,3,2-диоксаборина // Оптика и спектроскопия. 2012. Т. 112, № 4. С. 580-585.

5. Степанов С.И. Оптическая голография с записью в трехмерных средах / под ред. Ю.Н. Денисюка. Л.: Наука, 1989. 121 с.

6. Fedorenko E.V., Bukvetskii B.V., Mirochnik A.G., Shlyk D.H., Tkacheva M.V., Karpenko A.A. Luminescence and crystal structure of 2,2-difluoro-4-(9-anthracyl)-6-methyl-1,3,2-dioxaborine // J. Luminescence. 2010. Vol. 130, N 5. P. 756-761.

7. Gleeson M.R. et al. Comparison of a new self-developing photopolymer with AA/PVA based photopolymer utilizing the NPDD model // Optics Express. 2011. Vol. 19, N 27. P. 26325-26342.

8. Kogelnik H. Coupled wave theory for thick hologram gratings // Bell System Techn. J. 1969. Vol. 48, N 9. P. 2909-2947.

9. Lawrence J.R., O'Neill F.T., Sheridan J.T. Photopolymer holographic recording material // Optik - Intern. J. for Light and Electron Optics. 2001. Vol. 112, N 10. P. 449-463.

10. Mackey D. et al. A diffusion model for spatially dependent photopolymerization // Progress in industrial mathematics at ECMI 2008. Berlin; Heidelberg: Springer, 2010. P. 253-258.

11. Moharam M.G., Gaylord T.K., Magnusson R. Criteria for Raman-Nath regime diffraction by phase gratings // Optics Commun. 1980. Vol. 32, N 1. P. 19-23.

12. Neipp C. et al. First-harmonic diffusion-based model applied to a polyvinyl-alcohol-acrylamide-based photopolymer // J. Optic. Soc. Amer. B. 2003. Vol. 20, N 10. P. 2052-2060.

13. Sztumpf-Kulikowska E., Shugar D., Boag J.W. Kinetics of photodimerization of orotic acid in aqueous medium // Photochemistry and Photobiology. 1967. Vol. 6, N 1. P. 41-54.

14. Zhizhchenko A.Yu., Vitrik O.B., Kulchin Yu.N., Mirochnik A.G., Fedorenko E.V., Lv Guohui, Salagin A.M., Korolkov V.P. Photoinduced record of waveguide structures in films of polymethylmethacrylate doped with beta-diketonatoboron difluorides // Optics Commun. 2013. Vol. 311. P. 364-367.