СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГОЛОГРАММЫ, А ТАКЖЕ ЗАЩИТНЫЙ ЭЛЕМЕНТ И ЗАЩИЩЕННЫЙ ДОКУМЕНТ

1. Способ изготовления голограммы (1), в частности, голограммы (1) для защитного элемента (1a) и/или защищенного документа (1b),
отличающийся тем,
что одну или более виртуальных плоскостей (10) голограммы располагают перед и/или сзади одной или более виртуальных моделей (20), и/или одну или более виртуальных плоскостей (10) голограммы располагают таким образом, что они пересекают одну или более виртуальных моделей (20),
что на одной или более подобластях поверхности (21) одной или более из виртуальных моделей (20) располагают один или более виртуальных источников света (30),
что вычисляют одно или более виртуальных электромагнитных полей (40), исходящих от по меньшей мере одного из виртуальных источников света (30), в одной или более зонах (11) одной или более виртуальных плоскостей (10) голограммы,
что в одной или более зонах (11) соответственно вычисляют виртуальное полное электромагнитное поле (41) на основе суммы двух или более, в частности всех, из виртуальных электромагнитных полей (40) в соответствующей зоне (11),
что вычисляют одно или более фазовых изображений (50) из виртуальных полных электромагнитных полей (41) в одной или более зонах (11),
что из одного или более фазовых изображений (50) вычисляют профиль (60) высот голограммы (1) и вводят профиль (60) высот голограммы (1) в подложку (2) для обеспечения голограммы (1).
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что одну или более из виртуальных моделей (20) соответственно выполняют как виртуальную 2D-модель или как виртуальную 3D-модель.
3. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что виртуальное электромагнитное поле (40), которое исходит от двух или более из виртуальных источников света (30), в частности исходит от всех виртуальных источников света (30), имеет одинаковую интенсивность и/или одинаковое распределение интенсивности в одном или более диапазонах пространственных углов.
4. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что виртуальное электромагнитное поле (40), которое исходит от двух или более виртуальных источников света (30), в частности от всех виртуальных источников света (30), имеет различные интенсивности и/или различные распределения интенсивности в одном или более диапазонах пространственных углов.
5. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что виртуальное электромагнитное поле (40), которое исходит от одного или более виртуальных источников света (30), в частности от всех виртуальных источников света (30), имеет изотропное или анизотропное распределение интенсивности в одном или более диапазонах пространственных углов.
6. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что один или более из виртуальных источников света (30), в частности все виртуальные источники света (30), образуют виртуальный точечный источник света (31), причем виртуальные точечные источники света (31) предпочтительно излучают виртуальную сферическую волну.
7. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что посредством виртуальной апертуры конус излучения виртуального источника света (30), в частности виртуального точечного источника света (31), ограничивают до диапазона пространственных углов ±45°, предпочтительно до диапазона пространственных углов ±35°, более предпочтительно до ±25°, более предпочтительно до ±15°.
i
i
i
i
h
h
h
8. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что виртуальное электромагнитное поле U, которое исходит от i-го виртуального точечного источника света (31) в точке (х, y, z), вычисляют в точке (х, y, z) по меньшей мере одной зоны (11) с помощью уравнения
9. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что виртуальные источники света (30), которые расположены на одной или более из подобластей поверхности (21) одной из виртуальных моделей (20), по меньшей мере в одном направлении расположены периодически на поверхности (21) виртуальной модели и/или по меньшей мере в одном направлении расположены случайным или псевдо-случайным образом на поверхности (21) виртуальной модели (20.
10. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что расстояния смежных виртуальных источников света (30) лежат между 5 мкм и 500 мкм, предпочтительно между 10 мкм и 200 мкм.
11. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что расположение виртуальных источников света (30), в частности виртуальных точечных источников света (31), выполнено в виде перекрестного растра, причем расстояние между соседними виртуальными источниками света (30) составляет от 5 мкм до 500 мкм, в частности между 10 мкм и 200 мкм.
12. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что один или более из виртуальных источников света (30) имеют форму микросимволов (32), в частности, выбранных из: буквы, портрета, изображения, буквенно-цифрового знака, печатного знака, геометрической свободной формы, квадрата, треугольника, круга, изогнутой линии, контура.
13. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что поперечные размеры микросимволов (32) на одной или более из подобластей (21) поверхности одной или более из виртуальных моделей (20) лежат между 5 мкм и 500 мкм, в частности между 10 мкм и 200 мкм.
14. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что предусмотрены две или более виртуальных плоскостей (10) голограммы, причем каждая из двух или более виртуальных плоскостей (10) голограммы имеет одну или более из зон (11).
15. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что две или более виртуальных плоскостей (10) голограммы различаются относительно их ориентации, позиционирования, размера и/или кривизны, в частности, две или более виртуальных плоскостей (10) голограммы различаются в соответствующих зонах относительно их ориентации, позиционирования, размера и/или кривизны.
16. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что предусмотрены две или более виртуальных моделей (20).
17. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что каждая из двух или более виртуальных моделей (20) соотнесена с одной из виртуальных плоскостей (10) голограммы, и в одной или более зонах (11) соответствующей виртуальной плоскости (10) голограммы вычисляют одно или более виртуальных электромагнитных полей (40), исходящих от одного или более виртуальных источников света (30) соотнесенной виртуальной модели (20).
18. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что виртуальная модель (20) или каждая из двух или более виртуальных моделей (20) соотнесена с двумя или более виртуальными плоскостями (10) голограммы, и в одной или более зонах (11) соответствующей виртуальной плоскости (10) голограммы вычисляют одно или более виртуальных электромагнитных полей (40), исходящих от одного или более виртуальных источников света (30) соотнесенной виртуальной модели (20) или соотнесенных виртуальных моделей (20).
19. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что для вычисления одного или более фазовых изображений (50), виртуальные полные электромагнитные поля (41) двух или более из зон (11), в частности двух или более зон (11), которые являются зонами (11) различных виртуальных плоскостей (10) голограммы, накладывают, в частности, накладывают, основываясь на предопределенном опорном направлении.
20. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что две или более зон (11), наложенных для расчета одного или более фазовых изображений (50), перекрываются по меньшей мере частично относительно предопределенного опорного направления (42), предпочтительно перекрываются полностью, так что предпочтительно два или более мотивов (22), предоставленных различными зонами (11) в обеспеченной голограмме (1), генерируются относительно предопределенного опорного направления (42) в пересекающихся областях поверхности обеспеченной голограммы (1).
21. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что две или более зон (11), наложенных для расчета одного или более фазовых изображений (50), не перекрываются относительно предопределенного опорного направления, так что предпочтительно два или более мотивов (22), предоставленных различными зонами (11) в обеспеченной голограмме (1), генерируются относительно предопределенного опорного направления (42) в отдельных областях поверхности обеспеченной голограммы (1).
22. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что одна или более из виртуальных плоскостей (10) голограммы в одной или более из зон (11) по меньшей мере вдоль опорного направления (42) имеют кривизну отличную от нуля, в частности изогнуты выпукло или вогнуто, или имеют локальную кривизну, причем радиус кривизны, соотнесенный с локальной кривизной, лежит, в частности, между 5 мм и 50 мм, предпочтительно между 10 мм и 30 мм.
23. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что геометрия одной или более из виртуальных плоскостей (10) голограммы соответственно в одной или более из зон (11), соответствует боковой поверхности цилиндрического сегмента или поверхности свободной формы.
24. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем,
что одна или более из виртуальных плоскостей (10) голограммы в одной или более из зон (11) имеют предопределенный профиль кривизны,
что виртуальное полное электромагнитное поле (41) в одной или более зонах (11) соответственно вычисляют, основываясь на виртуальных электромагнитных полях (40) одной или более первых из одной или более виртуальных моделей (20а), так что обеспеченная голограмма (1) при изгибании или искривлении подложки (2) согласно профилю кривизны одной или более зон (11) может обнаруживаться полностью или частично наблюдателем (70) и/или датчиком (71), в частности, один или несколько первых мотивов (22а), соотнесенных с одной или более первыми виртуальными моделями (20а), при изгибании или искривлении подложки (2) согласно профилю кривизны одной или более зон могут обнаруживаться полностью или частично наблюдателем (70) и/или датчиком (71).
25. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что один или более первых мотивов (22а) при изгибании или искривлении подложки (2) согласно профилю кривизны одной или более зон (11) могут обнаруживаться наблюдателем (70) и/или датчиком (71) полностью выше и/или ниже и/или внутри плоскости, образованной подложкой (2), причем расстояние между одним или более первыми мотивами (22а) и плоскостью, образованной подложкой (2), преимущественно лежит между -30 мм и +30 мм, предпочтительно между -15 мм и +15 мм, более предпочтительно между -5 мм и +5 мм и более предпочтительно между -3 мм и +3 мм.
26. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем,
что две или более из виртуальных плоскостей (10) голограммы в одной или более первых из зон (11) имеют отличающийся профиль кривизны и/или отличающуюся ориентацию относительно профиля кривизны и/или ориентации в одной или более вторых из зон (11b),
что виртуальные полные электромагнитные поля (41) в одной или более первых и вторых зонах (11а, 11b) соответственно вычисляют, основываясь на виртуальных электромагнитных полях (40) одной или более первых или вторых из одной или более виртуальных моделей (20а, 20b), так что обеспеченная голограмма (1) при изгибании или искривлении подложки (2) согласно профилю кривизны одной или более первых или вторых зон (11а, 11b) или при ориентации согласно ориентации первых или вторых зон (11а, 11b) могут обнаруживаться полностью или частично наблюдателем (70) и/или датчиком (71).
27. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что виртуальные полные электромагнитные поля (41) в одной или более первых зонах (11) соответственно вычисляют, основываясь на виртуальных электромагнитных полях (40) одной или более первых виртуальных моделей (20а), и виртуальные полные электромагнитные поля (41) в одной или более вторых зонах (11b) соответственно вычисляют, основываясь на виртуальных электромагнитных полях (40) одной или более вторых виртуальных моделей (20b), так что один или более первых мотивов (22а), соотнесенных с одной или более первыми виртуальными моделями (20а), при изгибании или искривлении подложки (20) согласно профилю кривизны одной или более первых зон (11а) могут обнаруживаться полностью или частично наблюдателем (70) и/или датчиком (71), и что один или более вторых мотивов (22b), соотнесенных с одной или более вторыми виртуальными моделями (20b), при изгибании или искривлении подложки (2) согласно профилю кривизны одной или более вторых зон (11) могут обнаруживаться полностью или частично наблюдателем (70) и/или датчиком (71).
28. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что виртуальные полные электромагнитные поля (41) в одной или более первых зонах (11а) соответственно вычисляют, основываясь на виртуальных электромагнитных полях (40) одной или более первых виртуальных моделей (20а), и/или что виртуальные полные электромагнитные поля (41) в одной или более вторых зонах (11b) соответственно вычисляют, основываясь на виртуальных электромагнитных полях (40) одной или более вторых виртуальных моделей (20b) таким образом, что первая часть одного или более мотивов (22а), соотнесенных с одной или более первыми виртуальными моделями (20а), и/или что вторая часть одного или более мотивов (22b), соотнесенных с одной или более вторыми виртуальными моделями (20b), при изгибании или искривлении подложки, в частности согласно профилю кривизны одной или более зон (11), первых зон (11а) и/или вторых зон (11b), могут обнаруживаться полностью или частично наблюдателем (70) и/или датчиком (71), и/или в плоском или не изогнутом или не искривленном состоянии подложки (2), в частности согласно профилю кривизны одной или более зон (11), первых зон (11а) и/или вторых зон (11b), не могут, в частности частично, обнаруживаться наблюдателем (70) и/или датчиком (71), причем преимущественно один или более первых мотивов (22а) генерируют первый полный мотив, содержащий первую часть одного или более первых мотивов (22а), и/или преимущественно один или более вторых мотивов (22b) генерируют второй полный мотив, содержащий вторую часть одного или более вторых мотивов (22b).
29. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что виртуальные полные электромагнитные поля (41) в одной или более первых зонах (11а) соответственно вычисляют, основываясь на виртуальных электромагнитных полях (40) одной или более первых виртуальных моделей (20а), и/или что виртуальные полные электромагнитные поля (41) в одной или более вторых зонах (11b) соответственно вычисляют, основываясь на виртуальных электромагнитных полях (40) одной или более вторых виртуальных моделей (20b), таким образом, что один или более первых мотивов (22а), соотнесенных с одной или более первыми виртуальными моделями (20а), и/или что один или более вторых мотивов (22b), соотнесенных с одной или более вторыми виртуальными моделями (20b), в частности согласно профилю кривизны одной или более зон (11), первых зон (11а) и/или вторых зон (11b), не могут обнаруживаться наблюдателем (70) и/или датчиком (71), в частности при освещении неколлимированным светом, предпочтительно при диффузном освещении, и/или могут обнаруживаться наблюдателем (70) и/или датчиком (71), в частности при освещении коллимированным светом, предпочтительно при освещении LED-освещением, в частности предпочтительно при освещении LED-освещением смартфона.
30. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что виртуальные полные электромагнитные поля (41) в одной или более первых зонах (11a) соответственно вычисляют, основываясь на виртуальных электромагнитных полях (40) одной или более первых виртуальных моделей (20a), и виртуальные полные электромагнитные поля (41) в одной или более вторых зонах (11b) соответственно вычисляют, основываясь на виртуальных электромагнитных полях (40) одной или более вторых виртуальных моделей (20b), так что один или более первых мотивов (22a), соотнесенных с одной или несколькими первыми виртуальными моделями (20a), при ориентации подложки (2) согласно ориентации одной или более первых зон (11a) могут обнаруживаться полностью или частично наблюдателем (70) и/или датчиком (71), и что один или более вторых мотивов (22b), соотнесенных с одной или более вторыми виртуальными моделями (20b), при ориентации подложки (2) согласно ориентации одной или более вторых зон (11b) могут обнаруживаться полностью или частично наблюдателем (70) и/или датчиком (71).
31. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что две или более из зон (11) соотнесены соответственно с одной из виртуальных плоскостей (10) голограммы, и виртуальные полные электромагнитные поля (41) в одной или более зонах (11) соответственно вычисляют, основываясь на виртуальных электромагнитных полях одной или более зон (11), так что одна или несколько из виртуальных моделей (20) при наклоне и/или повороте подложки (2) могут обнаруживаться полностью или частично наблюдателем (70) и/или датчиком (71) как последовательность одного или более мотивов (22), соотнесенных с одной или более виртуальными моделями (20), которые, в частности, проявляют параллактический эффект движения, ортопараллактический эффект движения или комбинацию из параллактического эффекта движения и ортопараллактического эффекта движения.
32. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что в одной или более зонах (11), в частности во всех зонах (11), виртуальное полное электромагнитное поле (41) соответственно вычисляют, основываясь на сумме двух или более, в частности всех, виртуальных электромагнитных полей (40) в соответствующей зоне (11), перемноженных с одним или более опорными полями (43) одного или более виртуальных опорных источников света (33) в одной или более зонах (11).
33. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что одно или более из виртуальных опорных полей (43) имитируют неизотропное освещение виртуальной 2D-модели и/или виртуальной 3D-модели, в частности освещение одним или более опорными источниками света (33), соотнесенными с одним или более виртуальными опорными полями (43).
34. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что направление распространения одного или более из виртуальных опорных полей (43) имеет угол между 10° и 50°, в частности между 15° и 45°, предпочтительно между 30° и 40° к нормалям к поверхности или к средней нормали к поверхности  одной или более виртуальных плоскостей (10) голограммы, и/или конус излучения одного или нескольких из виртуальных опорных источников света (33) имеет угол раскрыва между 0° и 45°, более предпочтительно между 0° и 15°, и/или один или более виртуальных опорных источников света (33) имеют расстояние до одной или более  виртуальных плоскостей (10) голограммы между 0,01 м и 10 м, предпочтительно между 0,1 м и 2м, более предпочтительно между 0,2 м и 1.
35. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что один или более диапазонов пространственных углов, в частности полный диапазон пространственных углов, в котором один или более мотивов (22, 22a, 22b, 22c, 22d, 22e, 22f, 22g, 22h, 22i, 22j, 22k, 22l, 22m) могут обнаруживаться наблюдателем (70) и/или датчиком (71) полностью или частично, расположены симметрично относительно нормали к поверхности, в частности относительно средней нормали к поверхности, плоскости (10) голограммы и охватывают, в частности, угловой диапазон от 0° до 30°, предпочтительно угловой диапазон от 0° до 20°, в частности предпочтительно угловой диапазон от 0° до 15°, относительно к нормалям к поверхности, в частности к средней нормали к поверхности.
36. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что при вычислении профиля (60) высот обеспеченной голограммы (1) одно или более из фазовых изображений (50) преобразуют, в частности линейно преобразуют, в один или более  соотнесенных профилей (62) высот, причем, в частности, профиль (60) высот обеспеченной голограммы (1) вычисляют посредством наложения и/или растрирования профилей (62) высот, соотнесенных с одним или более фазовыми изображениями (50).
37. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что один или более из соотнесенных профилей (62) высот для обеспечения голограммы (1) вводят в подложку (2), причем соотнесенные профили (62) высоты присутствуют в подложке (2) предпочтительно наложенными и/или растрированными.
38. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что соотнесенные профили (62) высот и/или профиль (60) высот обеспеченной голограммы (1) кодируют как изображение (61) уровней серого, при этом значения уровней серого соотносят со значениями высоты, в частности нормированными значениями высоты, которые предпочтительно имеют минимальное значение высоты 0 и максимальное значение высоты 2π.
39. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что разность между минимальным значением высоты введенного в подложку (2) профиля (60) высот и максимальным значением высоты введенного в подложку (2) профиля (62) высот соответствует оптической разности пути, равной половине или кратному половины опорной длины волны, в случае выполнения обеспеченной голограммы (1) как отражательной голограммы, или что разность между минимальным значением высоты введенного в подложку (2) профиля высот и максимальным значением высоты введенного в подложку (2) профиля высот соответствует оптической разности пути опорной длины волны или кратному опорной длины волны, в случае выполнения обеспеченной голограммы (1) как просветной голограммы.
40. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что соотнесенные профили (62) высот и/или профиль (60) высот обеспеченной голограммы (1) вводят в подложку (2), в частности в подложку (2), имеющую фоторезистивный слой, посредством способа, выбранного из: лазерно-лучевой литографии, электронно-лучевой литографии.
41. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что соотнесенные профили (62) высот и/или профиль (60) высот обеспеченной голограммы (1) вводят в подложку (2) посредством способа репликации, в частности посредством термической репликации и UV репликации.
42. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что соотнесенные профили (62) высот и/или профиль (60) высот обеспеченной голограммы (1) вводят посредством способа гальваники, рекомбинации и репликации с рулона на рулон в пленку, в частности в пленку, имеющую по меньшей мере один металлический слой и/или по меньшей мере один прозрачный слой, причем пленка имеет, в частности, HRI-слой.
43. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что соотнесенные профили (62) высот и/или профиль (60) высот обеспеченной голограммы (1) вводят в тонкопленочную структуру, в частности слоистую структуру Фабри-Перо, причем слоистая структура Фабри-Перо имеет предпочтительно по меньшей мере один первый полупрозрачный поглощающий слой, по меньшей мере один прозрачный промежуточный слой и по меньшей мере один второй полупрозрачный поглощающий слой или непрозрачный отражающий слой.
44. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что первый полупрозрачный поглощающий слой имеет толщину слоя между 5 нм и 10 нм и/или состоит из алюминия или хрома.
2
2
45. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что прозрачный промежуточный слой имеет толщину слоя между 300 нм и 600 нм и/или состоит из SiO или MgF .
46. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что прозрачный промежуточный слой состоит из печатного полимерного слоя, который наносят, в частности, посредством глубокой печати, шлицевого литья или струйной печати.
47. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что непрозрачный отражающий слой имеет толщину слоя между 5 нм и 50 нм.
48. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что соотнесенные профили (62) высот и/или профиль (60) высот обеспеченной голограммы (1) вводят или наносят в/на непрозрачную подложку (2), в частности в/на непрозрачные бумажные документы или в/на непрозрачные бумажные банкноты.
49. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что соотнесенные профили (62) высот и/или профиль (60) высот обеспеченной голограммы (1) вводят или наносят в/на по меньшей мере одну область окна, в частносьти в/на по меньшей мере одну область окна ID1-карты или в/на прозрачную подложку, в частности в/на прозрачную полимерную банкноту, за счет чего профиль (60) высот голограммы (1) может обнаруживаться по меньшей мере при наблюдении в проходящем свете.
50. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что соотнесенные профили (62) высот и/или профиль (60) высот голограммы (1) вводят в подложку (2) посредством освещения материала объемной голограммы, причем соотнесенные профили (62) высот и/или профиль (60) высот голограммы (1) определяют посредством профиля брэгговских плоскостей генерируемой при этом объемной голограммы.
51. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что в подложку (2) дополнительно к соотнесенным профилям (62) высот и/или к профилю (60) высот голограммы (1) вводят профиль высот по меньшей мере одной дополнительной оптически изменяемой структуры (63), выбранной из: дифракционной рельефной структуры, в частности дифракционной решетки, Kinegrams и/или Trustseals, дифракционной структуры нулевого порядка, профилированной решетки, микрозеркальной структуры, изотропной или анизотропной матовой структуры, микролинзовой структуры.
52. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что соотнесенные профили (62) высот и/или профиль (60) высот голограммы (1) вводят в одну или более первых областей (2a) подложки (2), и что профиль высот по меньшей мере одной дополнительной оптической изменяемой структуры (63) вводят в одну или более вторых областей (2b) подложки (2).
53. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что по меньшей мере одна или более из вторых областей (2b) по меньшей мере частично перекрывают одну или более первых областей (2a).
54. Способ по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что одна или более первых областей (2a) не перекрывают одну или более вторых областей (2b), предпочтительно одна или более первых областей (2a) и одна или более вторых областей (2b) расположены смежно друг с другом, также предпочтительно расположены вложенными одна в другую, и/или одна из первых или вторых областей (2a, 2b) окружает другую из первых или вторых областей (2a, 2b).
55. Защитный элемент (1a), в частности, изготовленный согласно одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что защитный элемент (1a) имеет подложку (2), в которую введен профиль (60) высот голограммы (1), который вычислен из одного или более фазовых изображений (50), причем одно или более фазовых изображений (50) вычисляются из одного или более виртуальных полных электромагнитных полей (41) в одной или более зонах (11) одной или более виртуальных плоскостей (10) голограммы, причем каждое из виртуальных полных электромагнитных полей (41) вычисляется на основе суммы двух или более виртуальных электромагнитных полей (40) в соответствующих одной или более зонах (11), причем вычисляются два или более виртуальных электромагнитных полей (40), соответственно исходящих от по меньшей мере одного виртуального источника света (30), причем один или более из виртуальных источников света (30) расположены на одной или более подобластях поверхности (21) одной или более виртуальных моделей (20), причем одна или более виртуальных плоскостей (10) голограммы расположены перед и/или позади одной или более из виртуальных моделей (20) и/или одна или более виртуальных плоскостей (10) голограммы пересекают одну или более виртуальных моделей (20).
56. Защитный элемент (1a) по п. 55, отличающийся тем, что одна или более из виртуальных моделей (20) при наклоне и/или повороте подложки (2) могут обнаруживаться частично или полностью наблюдателем (70) и/или датчиком (71) как последовательность одного или более мотивов (22), соотнесенных с одной или более виртуальными моделями (20), причем один или более из мотивов (22) имеют различные или одинаковые скорости движения и/или различные или одинаковые направления движения, причем расстояние между одним или более из мотивов (22), в частности геометрическими центрами тяжести одного или более из мотивов (22), и плоскостью, образованной подложкой (2), преимущественно лежит между -30 мм и +30 mm, предпочтительно лежит между -15 мм и +15 mm, также предпочтительно лежит между -5 мм и +5 mm, также предпочтительно лежит между ±3 mm.
57. Защитный элемент (1a) по одному из пп. 55, 56, отличающийся тем, что один или более мотивов (22), соотнесенных с одной или более виртуальными моделями (20), могут обнаруживаться частично или полностью наблюдателем (70) и/или датчиком (71) с различных направлений наблюдения, причем мотивы (22) при наблюдении с различных направлений наблюдения объединяются в растр из точек или из полос, в частности, линейного штрих-кода или 2D штрих-кода, предпочтительно QR-кода, причем одна или более из точек или одна или более из полос расположены соответственно на различных расстояниях от плоскости, образованной подложкой (2), в частности выше и/или ниже и/или внутри плоскости, образованной подложкой (2).
58. Защитный элемент (1a) по одному из пп. 55-57, отличающийся тем, что один или более мотивов (22), которые соответственно соотнесены с одной из виртуальных моделей (20), могут обнаруживаться датчиком (70) и/или наблюдателем (71) обеспеченной голограммы (1).
59. Защитный элемент (1a) по одному из пп. 55-58, отличающийся тем, что один или более мотивов первого множества мотивов (22c) при плоском или неизогнутом расположении подложки (2) могут обнаруживаться наблюдателем (70) и/или датчиком (71), и/или что один или более мотивов второго множества мотивов (22d) при изгибании или искривлении подложки (2) согласно профилю кривизны одной или более из виртуальных плоскостей (10) голограммы в одной или более из зон (11) могут обнаруживаться частично или полностью наблюдателем (70) и/или датчиком (71), причем мотивы первого множества мотивов (22c) и мотивы второго множества мотивов (22d) частично или полностью различаются.
60. Защитный элемент по одному из пп. 55-59, отличающийся тем, что один или более мотивов третьего множества мотивов (22e) при наклоне и/или повороте подложки (2) предоставляют обнаруживаемый частично или полностью наблюдателем (70) и/или датчиком (71) параллактический эффект движения, и/или что один или более мотивов четвертого множества мотивов (22f) при наклоне и/или повороте подложки (2) предоставляют обнаруживаемый наблюдателем (70) и/или датчиком (71) ортопараллактический эффект движения, причем мотивы третьего множества мотивов (22e) и мотивы четвертого множества мотивов (22f) частично или полностью различаются.
61. Защитный элемент по одному из пп. 55-60, отличающийся тем, что один или более мотивов пятого множества мотивов (22g) имеют одинаковые пространственные расстояния или различные пространственные расстояния одного или более мотивов шестого множества мотивов (22h), причем мотивы пятого множества мотивов (22g) и мотивы шестого множества мотивов (22h) частично или полностью различаются.
62. Защитный элемент по одному из пп. 55-61, отличающийся тем, что один или более мотивов седьмого множества мотивов (22i) и/или один или более  мотивов восьмого множества мотивов (22j) полностью или частично перекрываются друг с другом или взаимно и/или полностью или частично пространственно отделены один от другого, причем мотивы седьмого множества мотивов (22i) и мотивы восьмого множества мотивов (22j) частично или полностью различаются.
63. Защитный элемент по одному из пп. 55-62, отличающийся тем, что один или более мотивов (22), соотнесенных с одной или более из виртуальных моделей (20), при ортогональном наблюдении плоскости, образованной подложкой (2), представляются белыми, при угле наблюдения от 30° до 34° относительно угла падения света при длине волны от 440 нм до 460 нм могут обнаруживаться в синем цвете, при угле наблюдения от 38° до 42° относительно угла падения света при длине волны от 530 нм до 550 нм могут обнаруживаться в зеленом цвете и/или при угле наблюдения от 49° до 53° относительно угла падения света при длине волны от 640 нм до 660 нм могут обнаруживаться в красном цвете.
64. Защитный элемент по одному из пп. 55-63, отличающийся тем, что цвет одного или более мотивов (22), соотнесенных с одной или более виртуальными моделями (20), изменяется при наклоне и/или повороте подложки (2).
65. Защитный элемент по одному из пп. 55-64, отличающийся тем, что один или более мотивов (22), соотнесенных с одной или более из виртуальных моделей (20), составляются из по меньшей мере одного красного мотива (22k) третьей виртуальной модели (20c), из по меньшей мере одного зеленого мотива (22l) четвертой виртуальной модели (20d) и/или из по меньшей мере одного синего мотива (22m) пятой виртуальной модели (20e) в изображение истинного цвета.
66. Защитный элемент по одному из пп. 55-65, отличающийся тем, что интенсивности по меньшей мере одного красного, по меньшей мере одного зеленого и/или по меньшей мере одного синего мотива (22k, 22l, 22m) соответственно соотнесенных первой, второй или третьей виртуальных моделей (20c, 20d, 20e), соответственно взвешиваются согласно профилю спектра падающего света и/или профилю функции отклика человеческого глаза.
67. Защитный элемент по одному из пп. 55-66, отличающийся тем, что один или более из мотивов (22, 22a, 22b, 22c, 22d, 22e, 22f, 22g, 22h, 22i, 22j, 22k, 22l, 22m) выбраны из: букв, портретов, изображений, буквенно-цифровых знаков, печатных знаков, геометрических свободных форм, квадратов, треугольников, кругов, изогнутых линий, контуров.
68. Защищенный документ (1b), который имеет по меньшей мере один защитный элемент (1a), изготовленный по одному из пп. 1-54, и/или защитный элемент (1a) по одному из пп. 55-67.