СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ БЫСТРОГО НАГРЕВАНИЯ И ОХЛАЖДЕНИЯ ПОДЛОЖКИ И НЕМЕДЛЕННОГО ПОСЛЕДУЮЩЕГО НАНЕСЕНИЯ НА НЕЕ ПОКРЫТИЯ В ВАКУУМЕ

1. Способ нагрева подложки (20) и немедленного последующего нанесения покрытия на подложку в вакуумной камере, содержащий следующие этапы:
(a) размещение подложки (20) на подложкодержателе (24) таким образом, чтобы нижняя поверхность (21а) подложки контактировала с подложкодержателем поверхность к поверхности,
(b) подъем подложки (20) на расстояние d относительно подложкодержателя,
(c) нагрев поднятой подложки через ее верхнюю поверхность (21b) с помощью нагревательного устройства (22),
(d) немедленное последующее нанесение покрытия на горячую подложку и
(e) опускание подложки на подложкодержатель (24) и охлаждение подложки.
2. Способ по п.1, в котором на охлажденную подложку наносят покрытие.
3. Способ по п.1, в котором нагревательным устройством (22) управляют с помощью температурного датчика (26, 28) для определения температуры подложки и с помощью регулятора температуры для установки заданной температуры.
4. Способ по пп.1, 2 или 3, в котором этап (d) содержит немедленное перемещение нагретой подложки вместе с подложкодержателем (24) в положение нанесения покрытия и нанесение покрытия на подложку.
5. Способ по пп.1, 2 или 3, в котором подложку (20) поднимают на этапе (d) способа на расстояние от 0,1 до 20 мм, в частности от 1 до 10 мм, относительно подложкодержателя (24).
6. Способ по пп.1, 2 или 3, в котором нагревательное устройство состоит из инфракрасных излучателей, использующих фильтрующие слои, чтобы испущенный инфракрасный свет содержал только такие длины волн, которые поглощаются либо подложкой, либо уже осажденной системой слоев.
7. Способ по п.4, в котором нагревательное устройство состоит из инфракрасных излучателей, использующих фильтрующие слои, чтобы испущенный инфракрасный свет содержал только такие длины волн, которые поглощаются либо подложкой, либо уже осажденной системой слоев.
8. Способ по пп.1, 2 или 3, содержащий этап размещения теплового аккумулятора (30) между подложкодержателем (24) и поднятой подложкой (20).
9. Способ по п.7, содержащий этап размещения теплового аккумулятора (30) между подложкодержателем (24) и поднятой подложкой (20).
10. Способ по пп.1, 2 или 3, в котором подложкодержатель (24) охлаждают.
11. Способ по п.8, в котором подложкодержатель (24) охлаждают.
12. Способ по пп.1, 2 или 3, в котором сразу после охлаждения охлажденную подложку перемещают вместе с подложкодержателем (24) в положение нанесения покрытия и там наносят покрытие.
13. Способ по п.4, в котором сразу после охлаждения охлажденную подложку перемещают вместе с подложкодержателем (24) в положение нанесения покрытия и там наносят покрытие.
14. Способ по п.8, в котором сразу после охлаждения охлажденную подложку перемещают вместе с подложкодержателем (24) в положение нанесения покрытия и там наносят покрытие.
15. Способ по пп.1, 2 или 3, в котором доведение подложки до различных температур с последующим нанесением покрытия проводят последовательно в несколько отдельных этапов.
16. Способ по п.4, в котором доведение подложки до различных температур с последующим нанесением покрытия проводят последовательно в несколько отдельных этапов.
17. Способ по п.12, в котором доведение подложки до различных температур с последующим нанесением покрытия проводят последовательно в несколько отдельных этапов.
18. Система для нагревания подложки (20) в вакуумной камере, содержащая:
- подложкодержатель (24), причем подложкодержатель содержит подъемное устройство (23) для подъема подложки (20), нижняя поверхность (21а) которой размещена на подложкодержателе (24), и
- нагревательное устройство (22) для нагрева поднятой подложки (20) через ее верхнюю поверхность.
19. Система по п.18, в которой подъемное устройство (23) выполнено так, чтобы предотвратить значительный тепловой поток между подложкодержателем (24) и подложкой (20).
20. Система по п.18 или 19, в которой подложкодержатель (24) содержит по меньшей мере один канал для контактного газа и система содержит, в частности, контроллер для охлаждения подложкодержателя (24) управляемым способом.
21. Система по п.18 или 19, содержащая температурный датчик (26, 28) для нагрева подложки (20) управляемым способом.
22. Система по п.20, содержащая температурный датчик (26, 28) для нагрева подложки (20) управляемым способом.
23. Система по п.18 или 19, в которой подъемное устройство предусмотрено на подложкодержателе (24).
24. Система по п.18 или 19, в которой подложкодержатель (24) может перемещаться, в частности, вместе с подложкой (20), в направлении, параллельном (25) нижней поверхности (21а) подложки.