МУЛЬТИСПЕКТРАЛЬНАЯ СЕЛЕКТИВНО-ОТРАЖАЮЩАЯ СТРУКТУРА

1. Структура, содержащая:
переднюю поверхность и заднюю поверхность;
подложку, пропускающею тепло и непрозрачную для видимого света, содержащую первый микропористый полимерный слой и краситель, причем подложка имеет первую поверхность, приближенную к передней поверхности структуры, и вторую поверхность; и
термоотражающий слой, содержащий компонент с низким коэффициентом излучения, прилегающий ко второй поверхности пропускающей тепло и непрозрачной для видимого света подложки, причем термоотражающий слой приближен к задней поверхности структуры,
при этом структура имеет
средний коэффициент отражения <70% в диапазоне длин волн 400-600 нм;
средний коэффициент отражения >25% в диапазоне длин волн 9-12 мкм; и
средний коэффициент пропускания радиолокационных волн >90% в диапазоне частот от 1 ГГц до около 5 ГГц.
2. Структура по п.1, в которой средний коэффициент отражения <70% в диапазоне длин волн 700-1000 нм.
3. Структура по п.1, в которой средний коэффициент пропускания радиолокационных волн >90% во всем частотном диапазоне от 1 ГГц до около 20 ГГц.
4. Структура по п.1, в которой средний коэффициент пропускания радиолокационных волн >99% во всем частотном диапазоне от 1 ГГц до около 20 ГГц.
5. Структура по п.1, в которой первый микропористый полимерный слой содержит первый микропористый пенополитетрафторэтилен (пПТФЭ).
6. Структура по п.1, в которой термоотражающий слой содержит полимерный слой.
7. Структура по п.6, в которой термоотражающий слой содержит металлизированный полимерный слой.
8. Структура по п.1, в которой термоотражающий слой содержит второй микропористый полимерный слой.
9. Структура по п.8, в которой второй микропористый полимерный слой металлизированный,
10. Структура по п.9, в которой второй микропористый полимерный слой содержит металлизированный пПТФЭ.
11. Структура по п.5, в которой термоотражающий слой содержит второй микропористый слой из пПТФЭ, а на компонент с низким коэффициентом излучения является металлом, нанесенным для формирования металлизированной поверхности второго микропористого слоя из пПТФЭ, причем металлизированная поверхность прилегает ко второй поверхности пропускающей тепло и непрозрачной для видимого света подложки.
12. Структура по п.1, в которой толщина металла менее чем около 1 мкм.
13. Структура по п.1, в которой толщина металла менее чем около 500 нм.
14. Структура по п.1, в которой толщина металла менее чем около 400 нм.
15. Структура по п.1, в которой термоотражающий слой связан с пропускающей тепло, непрозрачной для видимого света подложкой через промежуточным адгезивный слой.
16. Структура по п.11, в которой компонент с низким коэффициентом излучения содержит на поверхности второго микропористого слоя из вспученного ПТФЭ металлические частицы, нанесенные из паровой фазы.
17. Структура по п.5, в которой компонент с низким коэффициентом излучения содержит на поверхности второго микропористого слоя из пПТФЭ напыленное покрытие, содержащее металлические частицы.
18. Структура по п.1, в которой компонент с низким коэффициентом излучения содержит Al.
19. Структура по п.1, в которой компонент с низким коэффициентом излучения содержит Cu.
20. Структура по п.1, в которой компонент с низким коэффициентом излучения содержит Au.
21. Структура по п.1, в которой компонент с низким коэффициентом излучения выбран из серебра (Ag), никеля (Ni), олова (Sn), цинка (Zn), свинца (Pb), хрома (Cr) или их сплавов.
22. Структура по п.1, дополнительно включающая противолокационный слой для ослабления радиолокационного сигнала, прилегающий к термоотражающему слою по другую сторону от слоя, пропускающего тепло и непрозрачного для видимого света.
23. Структура по п.22, в которой противолокационный слой содержит компонент, поглощающий радиолокационное излучение.
24. Структура по п.22, в которой противолокационный слой содержит компонент, отражающий радиолокационное излучение.
25. Структура по п.22, в которой противолокационный слой содержит отдельные области компонента, отражающего радиолокационное излучение и отдельные области компонента, поглощающего радиолокационное излучение.
26. Структура по п.22, в которой противолокационный слой наложен на термоотражающий слой на стороне, противоположной подложке, пропускающей тепло и непрозрачной для видимого света.
27. Структура по п.1, характеризующаяся тем, что имеет оценку масла более 1.
28. Структура по п.1, характеризующаяся тем, что имеет оценку масла более 2.
29. Структура по п.1, характеризующаяся тем, что имеет прочность менее 500 г.
30. Структура по п.1, характеризующаяся тем, что имеет прочность менее 300 г.
31. Структура по п.1, характеризующаяся тем, что имеет прочность менее 200 г.
32. Способ обеспечения визуальной и тепловой маскировки для транспортного средства с противолокационной маскировкой, характеризующийся тем, что
формируют структуру, содержащую
переднюю поверхность и заднюю поверхность;
подложку, пропускающую тепло и непрозрачную для видимого света, прилегающую к первой поверхности; и
термоотражающий слой, содержащий компонент с низким коэффициентом излучения, прилегающий к пропускающей тепло и непрозрачной для видимого света подложке,
причем структура имеет:
средний коэффициент отражения <70% в диапазоне длин волн 400-600 нм;
средний коэффициент отражения >25% в диапазоне длин волн 9-12 мкм; и
средний коэффициент пропускания радиолокационных волн >90% в диапазоне частот от 1 ГГц до около 20 ГГц; и
размещают структуру между детектором и транспортным средством с противолокационной маскировкой, причем переднюю поверхность структуры ориентируют в сторону детектора.
33. Способ изготовления структуры с тепловой и визуальной маскировкой, прозрачной для радиолокационного излучения, включающий стадии, на которых:
обеспечивают первую подложку, содержащую пропускающий тепло первый микропористый полимерный материал, имеющий первую и вторую поверхности;
обеспечивают краситель;
наносят краситель по меньшей мере на первую поверхность первой подложки для формирования пропускающего тепло и непрозрачного для видимого света слоя;
обеспечивают вторую подложку, содержащую компонент с низким коэффициентом излучения;
ориентируют компонент с низким коэффициентом излучения второй подложки в сторону второй поверхности первой подложки.
склеивают первую и вторую подложки для формирования структуры, имеющей средний коэффициент отражения <70% в диапазоне длин волн 400-600 нм, средний коэффициент отражения >25% в диапазоне длин волн 9-12 мкм и коэффициент пропускания радиолокационного излучения более 90% в частотном диапазоне 1 ГГц до около 20 ГГц.
34. Способ по п.33, в котором пропускающий тепло полимерный материал содержит пПТФЭ.
35. Способ по п.34, в котором наносят краситель методом печати на пПТФЭ для формирования пропускающего тепло и непрозрачного для видимого света слоя.
36. Способ по п.33, в котором вторая подложка содержит второй микропористый полимерный слой, причем дополнительно выполняют осаждение металла из паровой фазы на второй микропористый слой.
37. Способ по п.33, в котором вторая подложка содержит второй микропористый полимерный слой, причем дополнительно выполняют напыление металла на второй микропористый слой.
38. Способ по п.36, дополнительно содержащий стадию, на которой соединяют вместе первый и второй микропористые слои.
39. Способ по п.37, дополнительно содержащий стадию, на которой склеивают первый и второй микропористые слои путем нанесения в качестве адгезива брызг металла.
40. Способ по п.33, включающий наложение по меньшей мере одного дополнительного слоя на стороне структуры, ближайшей ко второй подложке.
41. Способ по п.40, в котором по меньшей мере один дополнительный слой является текстильным слоем.
42. Способ по п.40, в котором по меньшей мере один дополнительный слой является слоем противолокационной маскировки.