ЛАЗЕРНЫЙ ИСТОЧНИК, В ЧАСТНОСТИ ДЛЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ

1. Лазерный источник для применения, в частности, в технологических процессах, содержащий:
- блок (2) генерации лазерного луча, содержащий один или более диодных лазерных источников (20), для генерации первого лазерного луча;
- блок (6) оптического усиления, содержащий по меньшей мере один усилительный модуль (60), выполненный с возможностью накачки лазерным излучением, полученным из упомянутого первого лазерного луча, излучаемого упомянутым блоком (2) генерации, и излучения на его выходе второго лазерного луча, имеющего более высокое качество луча и меньшее значение мощности по отношению к упомянутому первому лазерному лучу на выходе из упомянутого блока (1) генерации; и
- оптический блок (4) переключения и адресации лазерного луча, расположенный между упомянутым блоком (2) генерации и упомянутым блоком (6) оптического усиления, при этом упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации лазерного луча содержит:
- вход (40) для приема упомянутого первого лазерного луча, выходящего из упомянутого блока (2) генерации;
- первую оптическую линию (44) для транспортировки упомянутого первого лазерного луча по направлению к первому выходу (U1) упомянутого лазерного источника (1);
- вторую оптическую линию (45) для транспортировки упомянутого первого лазерного луча по направлению к упомянутому по меньшей мере одному усилительному модулю (60) упомянутого блока (6) оптического усиления; и
- селекторное устройство (43) оптического пути, расположенное между упомянутым входом (40) и упомянутыми первой и второй оптическими линиями (44, 45), для избирательного направления упомянутого первого лазерного луча, выходящего из упомянутого блока (2) генерации, по направлению к:
- упомянутой первой оптической линии (44) так, чтобы генерировать излучение лазерного луча, имеющего относительно более высокую мощность и относительно более низкое качество на упомянутом первом выходе (U1) упомянутого лазерного источника (1);
или по направлению к:
- упомянутой второй оптической линии (45) так, чтобы генерировать излучение лазерного луча, имеющего относительно меньшую мощность и относительно более высокое качество на втором выходе (U2) упомянутого лазерного источника (1).
2. Лазерный источник по п. 1, отличающийся тем, что упомянутый блок (6) оптического усиления содержит множество усилительных модулей (60), расположенных параллельно и имеющих соответствующие входы (5), питаемые параллельно упомянутой второй оптической линией (45), и соответствующие выходы, соединенные с оптическими линиями (64), все из которых сходятся по направлению к упомянутому второму выходу (U2).
3. Лазерный источник по п. 1, отличающийся тем, что упомянутый по меньшей мере один усилительный модуль (60) содержит по меньшей мере одно оптическое волокно (61), содержащее активный материал, выполненный с возможностью усиления лазерного луча, входящего внутрь упомянутого модуля (60) и выходящего из упомянутого блока (2) генерации через упомянутую вторую оптическую линию (45) упомянутого оптического блока (4) переключения и адресации.
4. Лазерный источник по п. 1, отличающийся тем, что упомянутое селекторное устройство оптического пути состоит из зеркала (43), выполненного с возможностью перемещения между первым рабочим положением и вторым рабочим положением, которые соответствуют направлению лазерного луча, выходящего из упомянутого блока (2) генерации, соответственно, по направлению к упомянутой первой оптической линии (44) и по направлению к упомянутой второй оптической линии (45).
5. Лазерный источник по п. 4, отличающийся тем, что в упомянутом первом рабочем положении упомянутое зеркало (43) не перекрывает упомянутый первый лазерный луч, выходящий из упомянутого блока (2) генерации, и тем, что в упомянутом втором рабочем положении упомянутое зеркало (43) перекрывает упомянутый первый лазерный луч, выходящий из упомянутого блока генерации.
6. Лазерный источник по п. 5, отличающийся тем, что в упомянутом первом рабочем положении упомянутое зеркало (43) обеспечивает возможность прохождения лазерного луча, выходящего из упомянутого блока (2) генерации, дальше в направлении упомянутой первой оптической линии (44), при этом в упомянутом втором рабочем положении упомянутое зеркало (42) отражает лазерный луч, выходящий из упомянутого блока (2) генерации, в направлении второй оптической линии (45).
7. Лазерный источник по п. 4, отличающийся тем, что в упомянутом первом рабочем положении и в упомянутом втором рабочем положении упомянутое зеркало (43) ориентировано по-разному, так чтобы отражать упомянутый первый лазерный луч, выходящий из упомянутого блока (2) генерации, соответственно по направлению к упомянутой первой оптической линии (44) и по направлению к упомянутой второй оптической линии (45).
8. Лазерный источник по п. 1, отличающийся тем, что выход упомянутого блока (2) генерации и вход упомянутого оптического блока (4) переключения и адресации соединены друг с другом посредством оптического волокна (3).
9. Лазерный источник по п. 1, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации содержит свободное пространство (S) для прохождения лазерного луча, в котором расположено упомянутое селекторное устройство оптического пути.
10. Лазерный источник по п. 9, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок переключения и адресации содержит оптическое волокно (41) входа, соединенное с входом упомянутого блока, и первый оптический интерфейс (42) для приема упомянутого первого лазерного луча из упомянутого оптического волокна (41) входа и для передачи упомянутого первого лазерного луча внутри упомянутого свободного пространства (S), в котором расположено упомянутое селекторное устройство (43) оптического пути.
11. Лазерный источник по п. 10, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации содержит второй оптический интерфейс (47), расположенный вдоль упомянутой первой оптической линии (44), для приема упомянутого первого лазерного луча, проходящего внутри упомянутого свободного пространства (S), и для его направления внутрь оптического волокна (44) выхода, которое соединено с упомянутым первым выходом (U1) лазерного источника (1).
12. Лазерный источник по п. 11, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации содержит по меньшей мере третий оптический интерфейс (454), расположенный вдоль упомянутой второй оптической линии (45), для приема упомянутого первого лазерного луча, проходящего внутри упомянутого свободного пространства (S), и для его направления в множество оптических волокон (5) выхода, соединенных с упомянутыми усилительными модулями (60) упомянутого блока (6) оптического усиления.
13. Лазерный источник по п. 12, отличающийся тем, что упомянутый оптический блок (4) переключения и адресации содержит множество оптических интерфейсов (454), соединенных посредством упомянутых оптических волокон (5) выхода с упомянутыми усилительными модулями (60).
14. Лазерный источник по п. 13, отличающийся тем, что внутри упомянутого свободного пространства (S) упомянутого оптического блока (4) переключения и адресации расположена матрица полуотражающих зеркал (452) для разделения первого лазерного луча, направленного вдоль упомянутой второй оптической линии (45), на множество лазерных лучей, направленных по направлению к упомянутым усилительным модулям (60).
15. Лазерный источник по п. 14, отличающийся тем, что выходы упомянутых усилительных модулей (60) соединены с соответствующими оптическими волокнами (64), объединенными в оптическое сумматорное устройство (65), соединенное с упомянутыми вторым выходом (U2) лазерного источника (1).
16. Промышленная установка, содержащая множество устройств лазерной обработки или ячеек лазерной обработки или станций лазерной обработки, и содержащее по меньшей мере первое устройство, ячейку или станцию лазерной обработки, где требуется применение лазерного луча, имеющего относительно более высокую мощность и относительно более низкое качество, и по меньшей мере второе устройство, ячейку или станцию лазерной обработки, где требуется применение лазерного луча, имеющего относительно меньшую мощность и относительно более высокое качество, отличающаяся тем, что она содержит по меньшей мере один лазерный источник по любому из пп. 1-15, причем упомянутый по меньшей мере один лазерный источник имеет выходы, соответственно соединенные с упомянутыми первым и вторым устройствами, ячейками или станциями лазерной обработки, при этом упомянутая установка имеет электронный блок управления для управления селекторным устройством упомянутого по меньшей мере одного лазерного источника, который запрограммирован для активации упомянутого первого выхода или упомянутого второго выхода лазерного источника на основании сигналов, поступающих от электронного блока, управляющего упомянутыми устройствами, ячейками или станциями лазерной обработки.
17. Способ управления множеством ячеек или станций лазерной обработки, каждая из которых снабжена лазерным источником для подачи лазерного луча к оборудованию лазерной обработки, предусмотренному в ячейке или станции обработки, отличающийся тем, что по меньшей мере один из упомянутых лазерных источников представляет собой лазерный источник с двумя выходами по любому из пп. 1-15, и тем, что первый выход упомянутого лазерного источника, имеющего два выхода, соединяют с одной основной ячейкой или станцией, тогда как второй выход соединяют с дополнительной ячейкой или станцией обработки, если и когда упомянутая дополнительная ячейка или станция обработки имеет сбой.