УСТРОЙСТВО ДЛЯ СОВМЕЩЕНИЯ НЕСКОЛЬКИХ ЛУЧЕЙ

1. Устройство для совмещения нескольких лучей, включающее в себя:
секцию сдвига фаз, конфигурированную для формирования группы лазерных лучей со сдвигом фаз за счет выполнения сдвига фаз для каждого луча из группы лазерных лучей;
секцию наложения, конфигурированную для формирования группы лазерных лучей, полученных наложением, за счет выполнения наложения опорного лазерного луча с каждым лучом из группы лазерных лучей со сдвигом фаз;
секцию регистрации, конфигурированную для формирования данных интерференционной картины для пространственной интерференционной картины при регистрации каждого луча из группы лазерных лучей, полученных наложением; и
секцию регулирования фазы, конфигурированную для выполнения регулирования сдвига фаз на основе обратной связи в указанной секции сдвига фаз на основе данных интерференционной картины, полученных от каждого луча из группы лазерных лучей, полученных наложением, и приведения каждого луча из группы лазерных лучей со сдвигом фаз в требуемое состояние.
2. Устройство по п. 1, в котором указанная секция регистрации включает в себя группу блоков регистрации, расположенных соответственно для регистрации группы лазерных лучей, полученных наложением,
причем каждый блок из указанной группы блоков регистрации включает в себя группу датчиков, конфигурированных для регистрации интенсивности соответствующего луча из группы полученных наложением лазерных лучей в группе положений регистрации,
при этом данные интерференционной картины содержат интенсивность, регистрируемую в каждом положении из группы положений регистрации.
3. Устройство по п. 2, в котором на основе интенсивности, регистрируемой в каждом положении из группы положений регистрации, определяют параметр интерференционной картины,
причем указанная секция регулирования фазы выполнена с возможностью выполнения регулирования сдвига фаз на основе обратной связи в указанной секции сдвига фаз так, чтобы параметр интерференционной картины каждого луча из группы лазерных лучей, полученных наложением, совпадал с заданным значением.
4. Устройство по п. 3, в котором указанная группа датчиков представляет собой два датчика,
причем указанные два датчика регистрируют интенсивность соответствующего лазерного луча, полученного наложением, в двух положениях регистрации,
при этом параметр интерференционной картины зависит от соотношения двух регистрируемых значений интенсивности, наклона между двумя регистрируемыми значениями интенсивности или разности между двумя регистрируемыми значениями интенсивности.
5. Устройство по п. 4, в котором указанная секция регулирования фазы осуществляет регулирование на основе обратной связи так, чтобы два регистрируемых значения интенсивности в двух положениях регистрации были равны друг другу или равны предварительно заданным значениям.
6. Устройство по любому из пп. 1-5, дополнительно включающее в себя:
секцию усиления луча, конфигурированную для усиления каждого луча из группы лазерных лучей со сдвигом фаз.
7. Устройство по любому из пп. 1-5, дополнительно включающее в себя:
лазерный генератор, конфигурированный для формирования основного лазерного луча; и
секцию расщепления луча, конфигурированную для расщепления основного лазерного луча на группу лазерных лучей и опорный лазерный луч.
8. Устройство по п. 7, в котором опорный лазерный луч, сформированный секцией расщепления луча, достигает указанной секции наложения без прохождения через устройство сдвига частоты.