СПОСОБ ПЛАЗМЕННО-ЭЛЕКТРОМАГНИТНОГО ВОЗДЕЙСТВИЯ НА ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ МАТЕРИАЛ

1. Способ плазменно-электромагнитного воздействия на диэлектрический материал, заключающийся в том, что создают плазму плазмотроном, формируют из нее плазменный поток и направленно воздействуют им на поверхность материала, отличающийся тем, что плазму создают и формируют из нее плазменный поток плазмотроном с регулируемыми параметрами, при этом дополнительно создают управляемый поток электромагнитных волн с частотой 0,5-5 ГГц и направляют его в место контакта плазменного потока с поверхностью материала, при этом регулировкой параметров плазмотрона и/или управлением потоком электромагнитных волн обеспечивают и поддерживают температуру плазмы в ее скин-слое в месте контакта плазмы с поверхностью материала в диапазоне 3000-5000 К.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что поток электромагнитных волн подают в скин-слой плазмы в месте контакта плазмы с поверхностью материала из объема материала.
3. Способ по п.2, отличающийся тем, что подают дополнительный поток электромагнитных волн навстречу основному потоку электромагнитных волн.
4. Способ по п.2, отличающийся тем, что после формирования плазмотроном плазменного потока последний уменьшают, а мощность потока электромагнитных волн увеличивают и таким образом поддерживают температуру в диапазоне 3000-5000 К в скин-слое в месте контакта плазмы с поверхностью материала.
5. Способ по любому из пп.1-4, отличающийся тем, что используют плазмотрон в виде ВЧ плазмотрона, СВЧ плазмотрона или гибридного плазмотрона.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что формируют плазменный поток в импульсном режиме и/или создают поток электромагнитных волн в импульсном режиме.
7. Способ по п.6, отличающийся тем, что импульсные режимы плазменного потока и потока электромагнитных волн синхронизируют для работы в противофазе.