СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ АМПЛИТУДНЫХ ДИФРАКЦИОННЫХ МИКРОСТРУКТУР И КОНТАКТНЫХ МАСОК

Способ изготовления амплитудных дифракционных микроструктур и контактных масок, заключающийся в нанесении светочувствительного слоя на поверхность подложки, локальном воздействии лазерного излучения на светочувствительный слой и проявлении скрытого изображения, отличающийся тем, что светочувствительный слой обрабатывается сфокусированным лазерным излучением через толщу диэлектрической подложки с показателем преломления n>1.