СПОСОБ ПРОИЗВОДСТВА ТРЕХМЕРНЫХ ОБЪЕКТОВ И ПРИМЕНЯЮЩЕЕ ЕГО УСТРОЙСТВО

1. Способ производства трехмерных объектов (W), состоящих из ряда наложенных слоев (L) основного материала (М), жидкого при температуре окружающей среды и способного затвердевать навсегда под воздействием стимуляции, содержащий операции:
распределения слоя (L1) жидкого основного материала (М) на предшествующем слое (L);
выборочного воздействия стимуляцией на слой (L1) в одном или нескольких заданных участках (K);
повтор операции распределения и облучения для каждого последующего слоя трехмерного объекта (W);
охлаждения слоев (L) до заданной рабочей температуры, которая ниже температуры окружающей среды, перед стимуляцией для затвердевания основного материала (М), отличающийся тем, что содержит операцию распределения основного слоя (L0) основного материала (М) перед распределением первого слоя трехмерного объекта (W), причем основной слой (L0) не подвергается стимуляции.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что операция охлаждения продолжается во время всей операции распределения и облучения упомянутых слоев (L).
3. Способ по п.2, отличающийся тем, что охлаждение каждого из слоев (L) происходит самопроизвольно при соприкосновении с предыдущим слоем (L).
4. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что операция охлаждения выполняется посредством батарей (10) Пельтье.
5. Способ по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что содержит операцию выравнивая каждого из слоев (L) перед распределением последующего слоя.
6. Способ по п.4, отличающийся тем, что операция выравнивания выполняется перед стимуляцией.
7. Способ по п.6, отличающийся тем, что операция выравнивания осуществляется инструментом (8) для механического извлечения материала.
8. Способ по п.7, отличающийся тем, что инструмент (8) является резаком (8а).
9. Способ по любому из пп.1-3, 6-8, отличающийся тем, что распределение основного материала (М) осуществляется выборочно в заданных участках.
10. Способ по любому из пп.1-3, 6-8, отличающийся тем, что распределение каждого из слоев (L) происходит посредством дозирующего сопла (6).
11. Способ по любому из пп.1-3, 6-8, отличающийся тем, что основной материал (М) является фотополимером, а стимуляция выполняется посредством заданных радиоизлучений.
12. Способ по п.11, отличающийся тем, что заданное радиоизлучение выделяется лазерным генератором (9).
13. Способ по любому из пп.1-3, 6-8 и 12, отличающийся тем, что содержит операцию удаления нестимулированного основного материала (M1).
14. Способ по п.13, отличающийся тем, что это удаление выполняется воздействием температуры окружающей среды на слои (L).