КОМПОЗИЦИИ РЕАГЕНТОВ С НИЗКОЙ ОБЩЕЙ КОНЦЕНТРАЦИЕЙ СОЛИ И СИСТЕМЫ ДЛЯ БИОСЕНСОРОВ

1. Биосенсорная система для определения концентрации анализируемого вещества в образце, содержащая:
реакционное средство для избирательного осуществления окислительно-восстановительной реакции анализируемого вещества,
при этом реакционное средство содержит связующее средство, буферную соль, посредник, содержащий не более 20% (масс./масс.) неорганической соли непереходного металла, и ферментативную систему; и
измерительное средство для измерения скорости окислительно-восстановительной реакции анализируемого вещества,
при этом измерительное средство содержит по меньшей мере два проводника; и
измерительное средство выполнено с возможностью измерения значения выходного сигнала из реакционного средства при максимальной кинетической эффективности в течение не более 7 секунд от введения образца в реакционное средство, и значение выходного сигнала чувствительно к концентрации анализируемого вещества в образце,
измерительное средство выполнено с возможностью определения по меньшей мере одного значения ΔS, чувствительного к по меньшей мере одному параметру ошибок, и
измерительное средство выполнено с возможностью дополнительного определения концентрации анализируемого вещества в образце из уравнения компенсации, содержащего по меньшей мере одну эталонную зависимость и по меньшей мере одно значение ΔS;
2
где уравнение компенсации имеет значение R, равное по меньшей мере 0,5.
2. Система по п.1, в которой реакционное средство содержит композицию реагента, которая имеет среднюю площадь поверхности композиции реагента и содержит:
связующее средство,
2
буферную соль, присутствующую в композиции реагента в концентрации не более 9,54 нмоль на мм площади поверхности композиции реагента,
2
посредник, присутствующий в композиции реагента в концентрации не более 4,76 нмоль на мм площади поверхности композиции реагента,
ферментативную систему и
неионное поверхностно-активное средство.
3. Система по п.2, в которой композиция реагента содержит:
2
от приблизительно 0,14 до приблизительно 0,43 мкг связующего средства на мм площади поверхности композиции реагента,
2
от приблизительно 2,30 до приблизительно 9,54 нмоль буферной соли на мм площади поверхности композиции реагента,
2
от приблизительно 1,70 до приблизительно 4,76 нмоль посредника на мм площади поверхности композиции реагента,
2
от приблизительно 0,07 до приблизительно 0,3 единиц ферментативной системы на мм площади поверхности композиции реагента,
2
и от приблизительно 0,04 до приблизительно 0,24 мкг неионного поверхностно-активного средства на мм площади поверхности композиции реагента.
4. Система по п.3, в которой композиция реагента содержит:
2
от приблизительно 3,40 до приблизительно 4,77 нмоль буферной соли на мм площади поверхности композиции реагента, и
2
от приблизительно 2,80 до приблизительно 4,00 нмоль посредника на мм площади поверхности композиции реагента.
2
5. Система по п.2, в которой композиция реагента дополнительно содержит от приблизительно 3 до приблизительно 16 нг анионного поверхностно-активного средства на мм площади поверхности композиции реагента.
6. Система по п.1, в которой реакционное средство содержит:
резервуар, имеющий объем резервуара,
по меньшей мере два проводника в резервуаре, при этом один из проводников представляет собой рабочий электрод, и
композицию реагента, расположенную на или рядом с рабочим электродом, и
композиция реагента содержит:
связующее средство,
буферную соль, присутствующую в композиции реагента в концентрации не более 67 нмоль на мкл объема резервуара,
посредник, присутствующий в композиции реагента в концентрации не более 40 нмоль на мкл объема резервуара,
ферментативную систему и
неионное поверхностно-активное средство.
7. Система по п.6, в которой композиция реагента содержит:
от приблизительно 1 до приблизительно 3 мкг полимерного связующего средства на мкл объема резервуара,
от приблизительно 16 до приблизительно 67 нмоль буферной соли на мкл объема резервуара,
от приблизительно 12 до приблизительно 40 нмоль посредника на мкл объема резервуара,
от приблизительно 0,5 до приблизительно 1,8 единиц ферментативной системы на мкл объема резервуара, и
от приблизительно 0,3 до приблизительно 1,7 мкг неионного поверхностно-активного средства на мкл объема резервуара.
8. Сенсор по п.7, в котором композиция реагента содержит:
от приблизительно 24 до приблизительно 34 нмоль буферной соли на мкл объема резервуара, и
от приблизительно 20 до приблизительно 28 нмоль посредника на мкл объема резервуара.
9. Система по п.6, в которой композиция реагента дополнительно содержит от приблизительно 20 до приблизительно 40 нг ионного поверхностно-активного средства на мкл объема резервуара.
10. Система по п.1, в которой реакционное средство содержит:
по меньшей мере два проводника, при этом один из проводников представляет собой рабочий электрод, который имеет площадь рабочего электрода, и
композицию реагента, размещенную на или около рабочего электрода;
где композиция реагента содержит:
связующее средство,
2
буферную соль, присутствующую в композиции реагента в концентрации не более 167 нмоль на мм площади рабочего электрода,
2
посредник, присутствующий в композиции реагента в концентрации не более 100 нмоль на мм площади рабочего электрода,
ферментативную систему и
неионное поверхностно-активное средство.
11. Система по п.10, в которой композиция реагента содержит:
2
от приблизительно 1 до приблизительно 7,5 мкг связующего средства на мм площади рабочего электрода,
2
от приблизительно 16 до приблизительно 167 нмоль буферной соли на мм площади рабочего электрода,
2
от приблизительно 12 до приблизительно 100 нмоль посредника на мм площади рабочего электрода,
2
от приблизительно 0,5 до приблизительно 5 единиц активности ферментативной системы на мм площади рабочего электрода и
2
от приблизительно 0,3 до приблизительно 4,3 мкг неионного поверхностно-активного средства на мм площади рабочего электрода.
12. Система по п.11, в которой композиция реагента содержит:
2
от приблизительно 24 до приблизительно 84 нмоль буферной соли на мм площади рабочего электрода, и
2
от приблизительно 20 до приблизительно 70 нмоль посредника на мм площади рабочего электрода.
2
13. Система по п.10, в которой композиция реагента дополнительно содержит от приблизительно 10 до приблизительно 350 нг ионного поверхностно-активного средства на мм площади рабочего электрода.
14. Система по п.1, в которой реакционное средство дополнительно содержит ионное поверхностно-активное средство.
15. Система по п.14, в которой ионное поверхностно-активное средство содержит анионное поверхностно-активное средство.
2
4
16. Система по п.1, в которой буферная соль содержит NaHPO.
17. Система по п.1, в которой посредник содержит не более 10% (масс./масс.) неорганической соли непереходного металла.
18. Система по п.1, в которой посредник содержит не более 5% (масс./масс.) неорганической соли непереходного металла.
19. Система по п.1, в которой посредник содержит не более 4% (масс./масс.) неорганической соли непереходного металла.
20. Система по по п.1, в которой неионное поверхностно-активное средство содержит поверхностно-активное средство на основе сахара.
21. Система по по п.1, в которой измерительное средство выполнено с возможностью измерять значение выходного сигнала из реакционного средства при максимальной кинетической эффективности в течение не более 5 секунд от введения образца в реакционное средство.
22. Система по по п.1, в которой измерительное средство выполнено с возможностью измерять значение выходного сигнала из реакционного средства при максимальной кинетической эффективности в течение не более 3,5 секунды от введения образца в реакционное средство.
23. Тестовый сенсор для определения концентрации анализируемого вещества в образце, содержащий:
по меньшей мере два проводника, при этом один из проводников представляет собой рабочий электрод; и
композицию реагента, расположенную на или рядом с рабочим электродом, композиция реагента имеет среднюю площадь поверхности композиции реагента и содержит:
- связующее средство,
2
- буферную соль в концентрации не более 9,54 нмоль на ммплощади поверхности композиции реагента,
2
- посредник в концентрации не более 4,76 нмоль на ммплощади поверхности композиции реагента, при этом посредник содержит не более 20% (масс./масс.) неорганической соли непереходного металла,
ферментативную систему, и
неионное поверхностно-активное средство.
24. Сенсор по п.23, в котором композиция реагента содержит:
2
от приблизительно 0,14 до приблизительно 0,43 мкг связующего средства на мм площади поверхности композиции реагента.
2
от приблизительно 2,30 до приблизительно 9,54 нмоль буферной соли на мм площади поверхности композиции реагента,
2
от приблизительно 1,70 до приблизительно 4,76 нмоль посредника на мм площади поверхности композиции реагента,
2
от приблизительно 0,07 до приблизительно 0,3 единиц ферментативной системы на мм площади поверхности композиции реагента, и
2
от приблизительно 0,04 до приблизительно 0,24 мкг неионного поверхностно-активного средства на мм площади поверхности композиции реагента.
25. Сенсор по п.24, в котором композиция реагента содержит:
2
от приблизительно 3,40 до приблизительно 4,77 нмоль буферной соли на мм площади поверхности композиции реагента, и
2
от приблизительно 2,80 до приблизительно 4,00 нмоль посредника на мм площади поверхности композиции реагента.
26. Сенсор по п.23, в котором композиция реагента дополнительно содержит ионное поверхностно-активное средство.
27. Сенсор по п.26, в котором ионное поверхностно-активное средство содержит анионное поверхностно-активное средство.
2
28. Сенсор по п.27, в котором композиция реагента дополнительно содержит от приблизительно 3 до приблизительно 16 нг анионного поверхностно-активного средства на мм площади поверхности композиции реагента.
2
4
29. Сенсор по п.23, в котором буферная соль содержит NaHPO.
30. Сенсор по п.23, в котором в которой посредник содержит не более 5% (масс./масс.) неорганической соли непереходного металла.
31. Сенсор по п.23, в котором неионное поверхностно-активное средство содержит поверхностно-активное средство на основе сахара.
32. Тестовый сенсор для определения концентрации анализируемого вещества в образце, содержащий:
резервуар, который имеет объем резервуара;
по меньшей мере два проводника, при этом один из проводников представляет собой рабочий электрод; и
композицию реагента, расположенную на или рядом с рабочим электродом, композиция реагента содержит:
- связующее средство,
- буферную соль в концентрации не более 67 нмоль на мкл объема резервуара,
- посредник в концентрации не более 40 нмоль на мкл объема резервуара, при этом посредник содержит не более 20% (масс./масс.) неорганической соли непереходного металла,
- ферментативную систему, и
- неионное поверхностно-активное средство.
33. Сенсор по п.32, в котором композиция реагента содержит:
от приблизительно 1 до приблизительно 3 мкг связующего средства на мкл объема резервуара,
от приблизительно 16 до приблизительно 67 нмоль буферной соли на мкл объема резервуара,
от приблизительно 12 до приблизительно 40 нмоль посредника на мкл объема резервуара,
от приблизительно 0,5 до приблизительно 1,8 единиц ферментативной системы на мкл объема резервуара, и
от приблизительно 0,3 до приблизительно 1,7 мкг неионного поверхностно-активного средства на мкл объема резервуара.
34. Сенсор по п.33, в котором композиция реагента содержит
от приблизительно 24 до приблизительно 34 нмоль буферной соли на мкл объема резервуара, и
от приблизительно 20 до приблизительно 28 нмоль посредника на мкл объема резервуара.
35. Сенсор по п.32, в котором композиция реагента дополнительно содержит ионное поверхностно-активное средство.
36. Сенсор по п.35, в котором ионное поверхностно-активное средство содержит анионное поверхностно-активное средство.
37. Сенсор по п.36, в котором композиция реагента дополнительно содержит от приблизительно 20 до приблизительно 40 нг анионного поверхностно-активного средства на мкл объема резервуара.
2
4
38. Сенсор по п.32, в котором буферная соль содержит NaHPO.
39. Сенсор по п.32, в котором в которой посредник содержит не более 5% (масс./масс.) неорганической соли непереходного металла.
40. Сенсор по п.32, в котором неионное поверхностно-активное средство содержит поверхностно-активное средство на основе сахара.
41. Тестовый сенсор для определения концентрации анализируемого вещества в образце, содержащий:
по меньшей мере два проводника, при этом один из проводников представляют собой рабочий электрод, который имеет площадь рабочего электрода; и
композицию реагента, расположенную на или рядом с рабочим электродом, композиция реагента содержит:
- связующее средство,
2
- буферную соль в концентрации не более 167 нмоль на мм площади рабочего электрода,
2
- посредник в концентрации не более 100 нмоль на мм площади рабочего электрода, при этом посредник содержит не более 20% (масс./масс.) неорганической соли непереходного металла,
- ферментативную систему и
- неионное поверхностно-активное средство.
42. Сенсор по п.41, который содержит
2
от приблизительно 1 до приблизительно 7,5 мкг связующего средства на мм площади рабочего электрода,
2
от приблизительно 16 до приблизительно 167 нмоль буферной соли на мм площади рабочего электрода,
2
от приблизительно 12 до приблизительно 100 нмоль посредника на мм площади рабочего электрода,
2
от приблизительно 0,5 до приблизительно 5 единиц активности ферментативной системы на мм площади рабочего электрода, и
2
от приблизительно 0,3 до приблизительно 4,3 мкг неионного поверхностно-активного средства на мм площади рабочего электрода.
43. Сенсор по п.42, который содержит
2
от приблизительно 24 до приблизительно 84 нмоль буферной соли на мм площади рабочего электрода, и
2
от приблизительно 20 до приблизительно 70 нмоль посредника на мм площади рабочего электрода.
44. Сенсор по п.41, в котором композиция реагента дополнительно содержит ионное поверхностно-активное средство.
45. Сенсор по п.44, в котором ионное поверхностно-активное средство содержит анионное поверхностно-активное средство.
2
46. Сенсор по п.45, который содержит от приблизительно 10 до приблизительно 350 нг ионного поверхностно-активного средства на мм площади рабочего электрода.
2
4
47. Сенсор по п.41, в котором буферная соль содержит NaHPO.
48. Сенсор по п.41, в котором посредник содержит не более 5% (масс./масс.) неорганической соли непереходного металла.
49. Сенсор по п.41, в котором неионное поверхностно-активное средство содержит поверхностно-активное средство на основе сахара.