УСТРОЙСТВО ДЛЯ АТОМНО-СЛОЕВОГО ОСАЖДЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ

1. Устройство для атомно-слоевого осаждения тонких пленок из газовой фазы, состоящее из цилиндрической реакционной камеры, внутри которой размещен нагреваемый пьедестал для подложек, системы подачи газообразных реагентов и удаления отработанных газов, блока управления и механизма автоматической загрузки/выгрузки подложек, отличающееся тем, что пьедестал имеет форму поршня, уплотненного относительно реакционной камеры, связанного с механизмом возвратно-поступательного движения с ходом 50-100 мм, выпускное отверстие имеет клапан с компьютерным управлением, согласованным с движением поршня и впускными клапанами, а стенки реакционной камеры и поршня имеют покрытие, обладающее пластичностью, химической пассивностью и низким коэффициентом трения.
2. Устройство для атомно-слоевого осаждения тонких пленок из газовой фазы, отличающееся тем, что покрытие стенок реакционной камеры может быть из тефлона или фторопласта.