ДЕМПФИРУЮЩЕЕ РАДИОЛОКАЦИОННОЕ ОТРАЖЕНИЕ ОСТЕКЛЕНИЕ

1. Демпфирующее радиолокационное отражение остекление, по меньшей мере, содержащее:
- первый субстрат (1) и расположенный по площади над первым субстратом (1) второй субстрат (2),
- первую отражающую радиолокационное излучение структуру (3) на внешней поверхности (I) или на внутренней поверхности (II) первого субстрата (1), и
- вторую отражающую радиолокационное излучение структуру (4) на внутренней поверхности (III) или на внешней поверхности (IV) второго субстрата (2),
причем первая отражающая радиолокационное излучение структура (3) является электропроводным покрытием (3'), в которое введены линейные области (5) с удаленным слоем.
2. Остекление по п. 1, причем ширина линий областей (5) с удаленным слоем равна 1 мм или менее, предпочтительно равна 500 мкм или менее, особо предпочтительно равна 300 мкм или менее.
3. Остекление по п. 1 или 2, причем общая площадь всех областей (5) с удаленным слоем составляет менее 5%, предпочтительно от 0,2% до 1%, площади электропроводного покрытия (3').
4. Остекление по п. 1 или 2, причем области (5) с удаленным слоем выполнены в форме прямолинейных, непрерывных или прерывистых, расположенных параллельно друг другу полос, и причем расстояние между двумя соседними областями (5) с удаленным слоем составляет, предпочтительно, от 2 мм до 100 мм, особо предпочтительно от 20 мм до 40 мм.
5. Остекление по п. 3, причем области (5) с удаленным слоем выполнены в форме прямолинейных, непрерывных или прерывистых, расположенных параллельно друг другу полос, и причем расстояние между двумя соседними
областями (5) с удаленным слоем составляет, предпочтительно, от 2 мм до 100 мм, особо предпочтительно от 20 мм до 40 мм.
6. Остекление по п. 4, причем угол α между вектором напряженности электрического поля радиолокационного излучения и ориентацией областей (5) с удаленным слоем составляет от 70º до 90º, предпочтительно от 80º до 90º.
7. Остекление по п. 5, причем угол α между вектором напряженности электрического поля радиолокационного излучения и ориентацией областей (5) с удаленным слоем составляет от 70º до 90º, предпочтительно от 80º до 90º.
8. Остекление по п. 1 или 2, причем области (5) с удаленным слоем выполнены в форме дуг, закрытых или открытых кривых, закрытых многоугольников или открытых полигональных линий, крестов, звезд или прямолинейных структур.
9. Остекление по п. 1, причем электропроводное покрытие (3′) имеет удельное поверхностное электрическое сопротивление от 0,1 Ом/квадрат до 200 Ом/квадрат, предпочтительно от 0,1 Ом/квадрат до 30 Ом/квадрат, особо предпочтительно от 1 Ом/квадрат до 20 Ом/квадрат.
10. Остекление по п. 3, причем электропроводное покрытие (3′) имеет удельное поверхностное электрическое сопротивление от 0,1 Ом/квадрат до 200 Ом/квадрат, предпочтительно от 0,1 Ом/квадрат до 30 Ом/квадрат, особо предпочтительно от 1 Ом/квадрат до 20 Ом/квадрат.
11. Остекление по п. 1, причем первый субстрат (1) и второй субстрат (2) посредством по меньшей мере одного распорного элемента (6), предпочтительно всесторонне, соединены в изолирующее остекление.
12. Остекление по п. 1, причем первый субстрат (1) и второй субстрат (2) соединены друг с другом посредством по меньшей мере одного термопластического промежуточного слоя (7).
13. Остекление по п. 1, причем электропроводное покрытие (3′) имеет отражающие свойства в инфракрасной области и/или в области спектра солнечного излучения и содержит, предпочтительно, по меньшей мере, серебро или содержащий серебро металлический сплав, и имеет, предпочтительно, толщину слоя от 10 нм до 5 мкм, особо предпочтительно от 30 нм до 1 мкм.
14. Остекление по п. 3, причем электропроводное покрытие (3′) имеет отражающие свойства в инфракрасной области и/или в области спектра солнечного излучения и содержит, предпочтительно, по меньшей мере, серебро или содержащий серебро металлический сплав, и имеет, предпочтительно, толщину слоя от 10 нм до 5 мкм, особо предпочтительно от 30 нм до 1 мкм.
15. Остекление по п. 11 или 12, причем первый субстрат (1) и/или второй субстрат (2) содержат, по меньшей мере, стекло, предпочтительно листовое стекло, термополированное стекло, кварцевое стекло, боросиликатное стекло, натриево-калиевое стекло, или прозрачный пластик, прежде всего полиэтилен, полипропилен, поликарбонат, полиметилметакрилат, полистирол, полиамид, полиэфир, поливинилхлорид и/или их смеси.
16. Остекление по п. 1, причем вторая отражающая радиолокационное излучение структура (4) содержит плоскостное электропроводное покрытие, электропроводное покрытие с линейными областями с удаленным слоем, напечатанные проводящие структуры или размещенные на полимерной пленке тонкие проволоки.
17. Способ изготовления демпфирующего радиолокационное отражение остекления, причем, по меньшей мере,
а) на первый субстрат (1) наносят электропроводное покрытие (3′) с линейными областями (5) с удаленным слоем в качестве первой отражающей радиолокационное излучение структуры (3), и
б) первый субстрат (1) и снабженный второй отражающей радиолокационное излучение структурой (4) второй субстрат (2) плоскостно соединяют друг поверх друга.
18. Способ по п. 17, причем на этапе а) способа области (5) с удаленным слоем вводят в электропроводное покрытие (3′) посредством лазерной абляции, плазменного травления, мокро-химическими или механическими способами.
19. Способ по п. 17 или 18, причем на этапе б) способа первый субстрат (1) и второй субстрат (2) соединяют друг с другом посредством по меньшей мере одного распорного элемента (6) или посредством по меньшей мере одного термопластического промежуточного слоя (7).
20. Применение демпфирующего радиолокационное отражение остекления по одному из пп. 1-16 в качестве оконных стекол зданий или средств передвижения для перемещения по земле, в воздухе или на воде, прежде всего в качестве оконных стекол или отделки фасадов высотных зданий в окрестностях аэропортов.