СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТВЕРДЫХ ПОКРЫТИЙ С НИЗКОЙ СТЕПЕНЬЮ ИЗНОСА

1. Способ изготовления твердого покрытия с низкой степенью износа на металлической поверхности, содержащего никель и бор, причем покрываемую металлическую поверхность при включении напряжения осаждения вводят в контакт с содержащим никель электролитом, который в виде дисперсной ванны содержит частицы бора или частицы соединений бора, причем содержащиеся в электролите частицы бора или частицы соединений бора во время процесса нанесения покрытия удерживаются в дисперсном состоянии с помощью протекающего через электролит газа и предотвращают осаждение частиц, причем способ осуществляется в резервуаре, в котором газ протекает от дна резервуара через электролит до поверхности электролита, в котором дно резервуара, по меньшей мере, частично выполнено герметичным для жидкости, но пропускает газ, и газ при этом поступает в электролит через часть дна резервуара, которая герметична для жидкости, но пропускает газ.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что протекающий через электролит газ проходит по существу против воздействия силы тяжести.
3. Способ по одному из пп.1 или 2, отличающийся тем, что протекающий через электролит газ представляет собой, по меньшей мере, газ группы, состоящей из азота, кислорода, гелия, неона, аргона, углекислого газа, водорода или из их смеси.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что герметичная для жидкости, но пропускающая газ часть дна резервуара выполнена в виде диафрагмы или мембраны.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что давление газа на противоположной электролиту стороне герметичной для жидкости, но пропускающей газ части дна резервуара, регулируется в зависимости от необходимого результата нанесения покрытия.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что способ осуществляется с помощью постоянного напряжения, импульсного напряжения или реверсивного импульсного напряжения.
7. Способ по п.1, отличающийся тем, что анод экранирован открытой для ионов и герметичной для шлама и диспергата мембраной.
8. Устройство для осуществления способа по одному из предыдущих пунктов, содержащее резервуар для размещения электролита, отличающееся тем, что дно резервуара выполнено, по меньшей мере, частично герметичным для жидкости, но пропускающим газ.
9. Устройство по п.8, отличающееся тем, что герметичная для жидкости, но пропускающая газ часть дна резервуара выполнена в виде диафрагмы или мембраны.
10. Устройство по одному из пп.8 или 9, отличающееся тем, что устройство снабжено приспособлением для регулирования давления газа на противоположной электролиту стороне герметичной для жидкости, но пропускающей газ части дна резервуара.
11. Устройство по п.8, отличающееся тем, что анод экранирован открытой для ионов, но герметичной для шлама и диспергата мембраной.
12. Твердое покрытие, полученное по способу по одному из пп.1-6, отличающееся тем, что покрытие наряду с никелем и бором содержит и другие компоненты.
13. Твердое покрытие по п.12, отличающееся тем, что твердое покрытие в качестве дополнительных компонентов содержит, по меньшей мере, элемент группы, состоящей из Ti, Cr, V, Mn, Mo, Mg, Со, Сu, Zn, Nb, W, Sn, Al, Si, P, C, N или их соединений.