ДЕРЖАТЕЛЬ ДЛЯ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ РЕАКТОРОВ И ИНСТРУМЕНТ ДЛЯ ОБРАЩЕНИЯ С НИМ

1. Держатель для эпитаксиальных реакторов, содержащий тело (31), снабженное по меньшей мере одним углублением (311) для помещения подложек, на которых должно выполняться эпитаксиальное выращивание, отличающийся тем, что он содержит выступающую часть (32), пригодную для захвата инструментом (9), чтобы вводить его в реакционную камеру (12) и извлекать из реакционной камеры (12) эпитаксиального реактора.
2. Держатель по п.1, в котором выступающая часть (32) представляет собой палец.
3. Держатель по п.2, в котором упомянутый палец содержит стойку (321) и головку (322), причем первый конец стойки (321) присоединен к телу (31), а второй конец стойки (321) присоединен к головке (322).
4. Держатель по п.3, в котором стойка (321) имеет практически цилиндрическую форму, головка (322) имеет практически цилиндрическую форму, диаметр головки предпочтительно в 2 или 3 раза больше диаметра стойки, а высота стойки в 2 или 3 раза больше высоты головки.
5. Держатель по п.1, в котором тело (31) имеет практически дискообразную форму.
6. Держатель по п.5, в котором выступающая часть (32) расположена практически в центре дискообразного тела (31).
7. Держатель по п.5 или 6, в котором углубление или каждое углубление (311) расположено на одной стороне диска (31), а выступающая часть (32) расположена на упомянутой стороне диска (31).
8. Держатель по любому из пп.1-6, в котором выступающая часть (32) образует единое целое с телом (31).
9. Держатель по п.1, в котором выступающая часть (32) установлена на теле (31).
10. Держатель по п.1, в котором тело (31) сделано из электропроводящего материала, предпочтительно графита.
11. Держатель по п.10, в котором тело (31) покрыто слоем инертного и стойкого материала, предпочтительно SiC или ТаС.
12. Держатель по п.1, в котором выступающая часть (32) сделана из электропроводящего материала, предпочтительно графита.
13. Держатель по п.12, в котором выступающая часть (32) покрыта слоем инертного и стойкого материала, предпочтительно SiC или ТаС.
14. Держатель по пп.11 и 13, в котором слои, покрывающие тело (31) и выступающую часть (32), формируются после установки выступающей части (32) на теле (31).
15. Инструмент, отличающийся тем, что он специально спроектирован для захвата выступающей части (32) держателя (3) по п.1.
16. Инструмент по п.15, отличающийся тем, что он содержит средство для его установки или зацепления на манипуляторе робота.
17. Инструмент по п.15, отличающийся тем, что он содержит пластину (91), которая на одном своем конце имеет прорезь (92).
18. Инструмент по п.17, в котором пластина (91) имеет на упомянутом конце практически прямоугольное поперечное сечение, при этом ширина пластины (91) предпочтительно в 3-9 раз больше толщины пластины (91), а ширина прорези (92) предпочтительно в 1-3 раза больше толщины пластины (91).
19. Инструмент по п.17 или 18, в котором пластина (91) имеет по меньшей мере одно углубление (93) вдоль упомянутой прорези (92).
20. Инструмент по п.17 или 18, в котором пластина (91) сделана из металла, предпочтительно из нержавеющей стали, или неметаллического материала, предпочтительно кварца.
21. Эпитаксиальный реактор, отличающийся тем, что он содержит держатель (3) по п.1 и/или он содержит инструмент (9) по п.15.
22. Эпитаксиальный реактор по п.21, отличающийся тем, что он содержит средство, пригодное для нагревания держателя (3) посредством электромагнитной индукции.