ФИЛЬТР СПЕКТРАЛЬНЫЙ ОЧИСТКИ ДЛЯ ЭУФ-НАНОЛИТОГРАФА И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

1. Фильтр спектральной очистки для ЭУФ-нанолитографа с экстремальным ультрафиолетовым излучением с пропусканием 30-70% на длине волны 13,4 нм, представляющий собой многослойную пленку, нанесенную на высокопрозрачную поддерживающую сетку с ячейками, изготовленную из никеля или золота, отличающийся тем, что пленка содержит от 30 до 50 пар слоев Si и Mo или Zr, или Nb, относительно прозрачных на длине волны 13,4 нм, расположенных симметрично относительно горизонтальной плоскости, разделяющей фильтр на две равные половины по сечению, а ячейки выполнены гексагональными.
2. Способ изготовления фильтра, заключающийся в магнетронном чередующемся распылении мишеней из указанных металлов на подложку, покрытую отслаивающимся резистом, отличающийся тем, что резист после нанесения многослойной пленки растворяется в органическом растворителе, после чего свободно плавающая на поверхности растворителя многослойная пленка фильтра вылавливается с помощью высокопрозрачной сетки с гексагональными ячейками, снабженной держателем для закрепления в корпусе ЭУФ-нанолитографа.