Способ покрытия поверхностей в химических установках

1. Способ обеспечения металлической или бетонной поверхности химической установки покрытием, который включает в себя этапы
- обеспечения двухкомпонентного состава для покрытия, где первый компонент содержит эпоксидную смолу, а второй компонент содержит аминный отверждающий реагент для эпоксидной смолы, при этом состав для покрытия дополнительно содержит борорганическое соединение формулы BX1X2X3, где X1, X2, и X3 независимо друг от друга выбраны из -Y1 и -OY2, где Y1 независимо выбрана из одновалентных С1-С12 алкильных групп и одновалентных С6-С12 арильных групп, а Y2 независимо выбрана из одновалентных С1-С12 алкильных групп и одновалентных С6-С12 арильных групп, и где, по меньшей мере, одна из Х1, Х2 и Х3 представляет собой -OY2 группу,
- объединения первого компонента и второго компонента, чтобы сформировать состав для покрытия,
- нанесения состава для покрытия на поверхность химической установки для получения покрывающего слоя, и
- предоставления возможности покрывающему слою отверждаться при температуре в диапазоне от 0 до 50°С.
2. Способ по п.1, в котором слой для покрытия дополнительно подвергают этапу дополнительного отверждения при температуре выше 50°С.
3. Способ по любому из предыдущих пунктов, в котором химическая установка является дымовой трубой, трубой, или резервуаром, например, грузовым танком танкера или резервуаром для хранения.
4. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором борорганическое соединение присутствует в таком количестве, что
- когда эквивалентное соотношение активного водорода в отверждающем реагенте (ах) к эпоксидным группам, присутствующим в составе, составляет 1,00:1,00 или выше, то количество B-OY2 групп, присутствующих в составе, составляет 5-80% от количества эпоксидных групп, присутствующих в составе, более предпочтительно 10-50%, наиболее предпочтительно 20-40%, и
- когда эквивалентное соотношение активного водорода в отверждающем  реагенте (ах) к эпоксидным группам, присутствующим в составе, составляет менее 1,00:1,00, то количество B-OY2 групп, присутствующих в составе, составляет 5-80% от числа активных водородных атомов в отверждающем реагенте (ах), предпочтительно от 10 - 50%, наиболее предпочтительно 20 - 40%.
5. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором Y1 и/или Y2 независимо друг от друга выбирают из C1-C8-алкильных групп и С6-C8 арильных групп, в частности, Y1 и Y2 оба независимо выбраны из C1-C8 алкильных групп, и C6-C8 арильных групп.
6. Способ по п.5, в котором Y1 и/или Y2 независимо друг от друга выбираются из С2-С5 алкильных групп.
7. Способ по любому из пп. 1-4, в котором все из X1, X2 и X3, являются независимо друг от друга выбранными -OY2 группами, причем, в частности, Y2 группы независимо друг от друга выбраны из С1-С8 алкильных групп и С6-C8 арильных групп, более конкретно, из С2-С5 алкильных групп.
8. Способ по любому из предшествующих пунктов, в котором состав для покрытия содержит менее 10 вес.% RDGE (диглицидилового эфира резорцина), в частности менее 5 вес.% RDGE, например, менее 2 вес.%  RDGE.
9. Химическая установка, содержащая металлическую или бетонную поверхность, снабженную внутренним защитным покрытием из отвержденного состава для покрытия, где состав для покрытия получают из состава для покрытия, содержащего эпоксидную смолу и аминный отвердитель для эпоксидной смолы, причем состав для покрытия дополнительно содержит борорганическое соединение с формулой BX1X2X3, где X1, Х2 и Х3 и независимо друг от друга выбраны из -Y1 и -OY2, где Y1 независимо выбрана из одновалентных С1-С12 алкильных групп и одновалентных С6-С12 арильных групп, а Y2 независимо выбрана из одновалентных С1-С12 алкильных групп и одновалентных С6-С12 арильных групп, и где, по меньшей мере, одна из X1, X2 и X3 представляет собой -OY2 группу.
10. Химическая установка по п.9, которая является дымовой трубой, трубой или резервуаром, например, грузовым танком танкера или резервуаром для хранения.
11. Химическая установка по пп. 9 или 10, в которой Y1 и/или Y2 независимо друг от друга выбраны из C1-C8 алкильных групп и С6-C8 арильных групп, в частности, Y1 и Y2 обе независимо друг от друга выбраны из C1-C8 алкильных групп и С6-C8 арильных групп.
12. Химическая установка по любому из пп. 9-11, в которой все из X1, X2 и X3, являются независимо друг от друга выбранными -OY2 группами, причем, в частности, Y2 группы независимо друг от друга выбраны из С1-С8 алкильных групп и С6-C8 арильных групп, более конкретно, из С2-С5 алкильных групп.
13. Состав для покрытия, подходящий для обеспечения металлической или бетонной поверхности химической установки покрытием, при этом состав для покрытия является двухкомпонентным составом для покрытия, в котором первый компонент содержит эпоксидную смолу, а второй компонент содержит аминный отверждающий реагент для эпоксидной смолы, причем состав для покрытия дополнительно содержит борорганическое соединение формулы BX1X2X3, где X1, Х2 и Х3 независимо друг от друга выбраны из -Y1 и -OY2, где Y1 независимо выбрана из одновалентных С1-C12 алкильных групп и одновалентных С6-С12 арильных групп, а Y2 независимо выбрана из одновалентных С1-С12 алкильных групп и одновалентных С6-С12 арильных групп, и где, по меньшей мере, одна из X1, X2 и X3 представляет собой -OY2 группу и в котором борорганическое соединение присутствует в таком количестве, что
- когда эквивалентное соотношение активного водорода в отверждающем реагенте (ах) к эпоксидным группам, присутствующим в составе, составляет 1,00:1,00 или выше, то количество B-OY2 групп, присутствующих в составе, составляет 5-80% от количества эпоксидных групп, присутствующих в составе, более предпочтительно 10-50%, наиболее предпочтительно 20-40%, и
- когда эквивалентное соотношение активного водорода в отверждающем  реагенте (ах) к эпоксидным группам, присутствующим в составе, составляет менее 1,00:1,00, то количество B-OY2 групп, присутствующих в составе, составляет 5-80% от числа активных водородных атомов в отверждающем реагенте (ах), предпочтительно от 10 - 50%, наиболее предпочтительно 20 - 40%.
14. Состав для покрытия по п. 13, в котором Y1 и/или Y2 независимо друг от друга выбраны из C1-C8 алкильных групп и С6-C8 арильных групп, в частности, Y1 и Y2 обе независимо друг от друга выбраны из C1-C8 алкильных групп и С6-C8 арильных групп.
15. Состав для покрытия по п. 14, в котором все из X1, X2 и X3, являются независимо друг от друга выбранными -OY2 группами, причем, в частности, Y2 группы независимо друг от друга выбраны из С1-С8 алкильных групп и С6-C8 арильных групп, более конкретно, из С2-С5 алкильных групп.