Компонент для часового механизма

1. Ось (1) вращения для часового механизма, содержащая по меньшей мере на одном из своих концов по меньшей мере одну цапфу (3), выполненную из первого немагнитного металлического материала (4) для ограничения ее чувствительности к воздействию магнитных полей, отличающаяся тем, что по меньшей мере внешняя поверхность указанной цапфы (3) покрыта слоем (5) из второго материала, выбранного из группы, включающей в себя Ni и NiP.
2. Ось (1) вращения по п. 1, отличающаяся тем, что указанный второй материал является химическим NiP.
3. Ось (1) вращения по п. 1, отличающаяся тем, что она выполнена из первого немагнитного металлического материала для ограничения ее чувствительности к воздействию магнитных полей, при этом ее внешняя поверхность покрыта слоем из второго материала, выбранного из группы, включающей в себя Ni и NiP.
4. Ось (1) вращения по п. 3, отличающаяся тем, что указанный второй материал является химическим NiP.
5. Ось (1) вращения по п. 1, отличающаяся тем, что первый немагнитный металлический материал (4) выбран из группы, включающей в себя аустенитную сталь, аустенитный кобальтовый сплав, аустенитный никелевый сплав, титановый сплав, алюминиевый сплав, латунь на основе меди и цинка, медно-бериллиевый сплав, нейзильбер, бронзу, алюминиевую бронзу, медно-алюминиевый сплав, медно-никелевый сплав, медно-никелево-оловянный сплав, медно-никелево-кремниевый сплав, медно-никелево-фосфорный сплав, медно-титановый сплав.
6. Ось (1) вращения по п. 1, отличающаяся тем, что твердость первого немагнитного металлического материала (4) составляет менее 600 HV.
7. Ось (1) вращения по п. 1, отличающаяся тем, что толщина слоя (5) из второго материала составляет от 0,5 мкм до 10 мкм.
8. Ось (1) вращения по п. 7, отличающаяся тем, что толщина слоя (5) из второго материала составляет от 1 мкм до 5 мкм.
9. Ось (1) вращения по п. 8, отличающаяся тем, что толщина слоя (5) из второго материала составляет от 1 мкм до 2 мкм.
10. Ось (1) вращения по п. 1, отличающаяся тем, что твердость указанного слоя (5) из второго материала составляет более 400 HV.
11. Ось (1) вращения по п. 10, отличающаяся тем, что твердость указанного слоя (5) из второго материала составляет более 500 HV.
12. Ось (1) вращения по п. 1, отличающаяся тем, что первым немагнитным металлическим материалом (4) является медно-бериллиевый сплав, при этом указанный слой (5) из второго материала является слоем из химического NiP.
13. Ось (1) вращения по п. 1, отличающаяся тем, что первым немагнитным металлическим материалом (4) является медно-никелево-оловянный сплав, при этом указанный слой (5) из второго материала является слоем из химического NiP.
14. Ось (1) вращения по п. 1, отличающаяся тем, что первым немагнитным металлическим материалом (4) является нержавеющая сталь, при этом указанный слой (5) из второго материала является слоем из химического NiP.
15. Часовой механизм, содержащий ось (1) вращения, содержащую по меньшей мере на одном из своих концов по меньшей мере одну цапфу (3), выполненную из первого немагнитного металлического материала (4) для ограничения ее чувствительности к воздействию магнитных полей, отличающийся тем, что по меньшей мере внешняя поверхность указанной цапфы (3) покрыта слоем (5) из второго материала, выбранного из группы, включающей в себя Ni и NiP.
16. Механизм по п. 15, отличающийся тем, что указанный второй материал является химическим NiP.
17. Часовой механизм, характеризующийся тем, что он содержит ось баланса, ось анкера и/или анкерный триб, содержащие ось (1) вращения, содержащую по меньшей мере на одном из своих концов по меньшей мере одну цапфу (3), выполненную из первого немагнитного металлического материала (4) для ограничения ее чувствительности к воздействию магнитных полей, причем по меньшей мере внешняя поверхность указанной цапфы (3) покрыта слоем (5) из второго материала, выбранного из группы, включающей в себя Ni и NiP.
18. Механизм по п. 17, отличающийся тем, что указанный второй материал является химическим NiP.
19. Способ изготовления оси (1) вращения для часового механизма, включающий в себя следующие этапы:
a) формирование оси (1) вращения, содержащей на одном из своих концов по меньшей мере одну цапфу (3), выполненную из первого немагнитного металлического материала (4) для ограничения ее чувствительности к воздействию магнитных полей;
b) нанесение слоя (5) из второго материала по меньшей мере на внешнюю поверхность указанной цапфы (3), причем указанный второй материал выбран из группы, включающей в себя Ni и NiP.
20. Способ по п. 19, отличающийся тем, что слой (5) из второго материала наносят так, чтобы его толщина составляла от 0,5 мкм до 10 мкм.
21. Способ по п. 20, отличающийся тем, что толщина слоя (5) из второго материала составляет от 1 мкм до 5 мкм.
22. Способ по п. 21, отличающийся тем, что толщина слоя (5) из второго материала составляет от 1 мкм до 2 мкм.
23. Способ по п. 19, отличающийся тем, что этап b) нанесения слоя (5) из второго материала осуществляют методом, выбранным из группы, включающей в себя осаждение из паровой фазы (PVD), химическое осаждение из паровой фазы (CVD), атомно-слоевое осаждение (ALD), электролитическое и химическое осаждение.
24. Способ по п. 23, отличающийся тем, что вторым материалом является NiP, при этом этап нанесения слоя (5) из NiP осуществляют путем химического осаждения никеля из гипофосфита.
25. Способ по п. 19, отличающийся тем, что второй материал является NiP, при этом указанный способ дополнительно включает в себя после этапа b) этап c) термообработки слоя (5) из второго материала.