ИНТЕГРАЛЬНАЯ СИСТЕМА ДАТЧИКОВ

1. Интегральная система датчиков для литографической машины, содержащая:
систему (132) проекционного объектива для фокусировки одного или более экспонирующих пучков на мишень;
подвижный стол (134) для транспортировки мишени (9);
емкостную измерительную систему (300) для проведения измерений, связанных с расстоянием между последним фокусирующим элементом системы (104) проекционного объектива и поверхностью мишени (9); и
блок (400) управления для управления перемещением подвижного стола (134), чтобы регулировать положение мишени (9), по меньшей мере частично, на основании сигнала из емкостной измерительной системы, причем емкостная измерительная система (300) содержит множество емкостных датчиков (30), каждый из которых содержит тонкопленочную структуру,
в которой емкостные датчики и последний фокусирующий элемент (104) системы проекционного объектива установлены непосредственно на общем основании (112), и
в которой датчики расположены в непосредственной близости к краю последнего фокусирующего элемента системы проекционного объектива.
2. Интегральная система датчиков по п.1, в которой, по меньшей мере, некоторые из датчиков (30) расположены так, что нижняя поверхность измерительного электрода (31) датчика, обращенная к мишени, находится, по существу, на той же самой высоте, что и нижняя поверхность последнего фокусирующего элемента (104) системы проекционного объектива в направлении оси z, перпендикулярном к поверхности мишени (9).
3. Интегральная система датчиков по п.1 или 2, в которой по меньшей мере некоторые из датчиков (30) имеют нижнюю поверхность измерительного электрода (31) датчика, обращенную к мишени, которая расположена в пределах 50 микрон от нижней поверхности последнего фокусирующего элемента (104) системы проекционного объектива в направлении оси z, перпендикулярном к поверхности мишени (9).
4. Интегральная система датчиков по п.1 или 2, в которой по меньшей мере некоторые из датчиков имеют толщину 50-150 микрон, предпочтительно около 100 микрон, от задней поверхности датчика до передней поверхности измерительного электрода датчика, обращенной к мишени.
5. Интегральная система датчиков по п.1 или 2, в которой последний фокусирующий элемент (104) системы проекционного объектива имеет толщину 100-150 микрон.
6. Интегральная система датчиков по п.1 или 2, в которой датчики расположены в пределах ширины или длины размера рабочего поля литографической машины на краю последнего фокусирующего элемента.
7. Интегральная система датчиков по п.1 или 2, в которой последний фокусирующий элемент является нижним элементом системы проекционного объектива.
8. Интегральная система датчиков по п.1 или 2, в которой емкостные датчики и последний фокусирующий элемент (104) системы проекционного объектива непосредственно соединены друг с другом.
9. Интегральная система датчиков по п.1, в которой емкостная измерительная система (300) содержит множество емкостных датчиков (30), каждый из которых содержит тонкопленочную структуру, причем эта тонкопленочная структура содержит первый изолирующий слой (34) и первую проводящую пленку, содержащую измерительный электрод (31), сформированный на первой поверхности первого изолирующего слоя, вторую проводящую пленку, содержащую задний охранный электрод (35), расположенный на второй поверхности первого изолирующего слоя (34) и первой поверхности второго изолирующего слоя (43), и в которой периферийная часть заднего охранного электрода продолжается за пределы измерительного электрода и окружает его, образуя боковой охранный электрод, объединенный с задним охранным электродом.
10. Интегральная система датчиков по п.9, в которой тонкопленочная структура емкостных датчиков дополнительно содержит третью проводящую пленку, содержащую экранирующий электрод (44), расположенный на второй поверхности второго изолирующего слоя (43).
11. Интегральная система датчиков по п.1 или 2, в которой тонкопленочная структура является гибкой.
12. Интегральная система датчиков по п.1 или 2, в которой емкостная измерительная система (300) содержит активные электронные компоненты, расположенные на удалении от измерительных электродов, и в которой отсутствуют какие-либо активные электронные компоненты, расположенные вместе с датчиками.
13. Интегральная система датчиков по п.1, в которой каждый датчик дополнительно содержит удлиненный соединительный элемент (110), содержащий гибкую мембрану, на которой напечатаны или к которой прикреплены токопроводящие дорожки (114a-114c), причем токопроводящие дорожки электрически соединены с измерительным электродом (31) и с задним охранным электродом (35) датчика на одном конце и с соединителем (116) на другом конце.
14. Интегральная система датчиков по п.13, в которой токопроводящие дорожки (114a-114c) сформированы на первом изолирующем слое (34), и в которой первый изолирующий слой содержит первую область, где расположены измерительный электрод (31) и задний охранный электрод (35), и вторую удлиненную область, на которой сформированы токопроводящие дорожки.
15. Интегральная система датчиков по п.1 или 2, в которой емкостные датчики содержат множество пар емкостных датчиков, сформированных на тонкопленочном изолирующем слое (34, 102, 120) основы, причем тонкопленочный изолирующий слой основы непосредственно установлен на общем основании.
16. Интегральная система датчиков по п.1 или 2, в которой емкостные датчики содержат множество пар емкостных датчиков, сформированных на тонкопленочном изолирующем слое (34, 102, 120) основы, а система дополнительно содержит один или более источников питания переменного тока, выполненных с возможностью запитывать первый датчик из пары датчиков переменным током или напряжением, имеющим сдвиг по фазе на 180 градусов относительно тока или напряжения для второго датчика из этой пары датчиков.