СИСТЕМА ПОЛУЧЕНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЯ ВЫСОКОГО РАЗРЕШЕНИЯ

1. Система получения изображений высокого разрешения, содержащая, если смотреть в направлении распространения применяемого излучения в указанной системе получения изображений:
- объектив (1), выполненный с возможностью формирования промежуточного изображения сцены в промежуточной плоскости фокусировки (PI);
2
- фильтр (2) изображения, содержащий плоскую и непрозрачную маску с отверстиями (О), которые находятся в промежуточной плоскости фокусировки (PI);
- плоскую матрицу микролинз (3), которые являются идентичными и расположены рядом друг с другом, по меньшей мере, в двух направлениях выравнивания (х, у), причем матрица микролинз расположена параллельно и на расстоянии от промежуточной плоскости фокусировки (PI);
9
- оптическую систему (8) сопряжения, расположенную таким образом, чтобы формировать изображение матрицы микролинз (3) в плоскости (Р) съемки изображения; и
9
- матрицу (9) детектирования изображения, которая содержит совокупность фоточувствительных элементов (90), расположенных в плоскости (Р) съемки изображения;
при этом объектив (1), маска фильтра (2) изображения, микролинзы (3), фоточувствительные элементы (90) и оптическая система (8) сопряжения выполнены с возможностью работы при применяемом излучении,
причем оптическая система (8) сопряжения выполнена с возможностью сопряжения один к одному каждой микролинзы с одним фоточувствительным элементом (90),
2
при этом отверстия (О) маски фильтра (2) изображения расположены напротив микролинз (3), так что каждое отверстие напротив одной микролинзы,
2
ech
rep
причем размер каждого отверстия (О) маски фильтра (2) изображения, если его измерить параллельно каждому направлению выравнивания (х, у), меньше или равен шагу дискретизации (I) промежуточного изображения, причем указанный шаг дискретизации равен шагу повторения (I) указанных отверстий в указанном направлении выравнивания, поделенному на коэффициент дискретизации, который является целым числом и превышает единицу,
при этом система получения изображений дополнительно содержит:
ech
- устройство перемещения изображения, выполненное с возможностью поступательного перемещения промежуточного изображения внутри промежуточной плоскости фокусировки (PI) с шагом поступательного перемещения, равным или кратным шагу дискретизации (I) промежуточного изображения, параллельно каждому направлению выравнивания (х, у).
3
2. Система по п.1, в которой расстояние (е) между матрицей микролинз (3) и промежуточной плоскостью фокусировки (PI) равно общей фокусной длине указанных микролинз.
3
3. Система по п.1, в которой расстояние (е) между матрицей микролинз (3) и промежуточной плоскостью фокусировки (PI) превышает 200 мкм.
2
4. Система по п.1, в которой каждое отверстие (О) маски фильтра (2) изображения центровано относительно микролинзы (3), которая находится напротив указанного отверстия.
5. Система по любому из пп.1-4, в которой оптическая система (8) сопряжения включает в себя по меньшей мере следующие элементы в направлении распространения применяемого излучения внутри системы получения изображений:
- оптический компонент (4) рефокусировки;
- диафрагму (5), которая находится в плоскости (РР), сопряженной с маской фильтра (2) изображения через микролинзы (3) и оптический компонент (4) рефокусировки; и
9
- оптический компонент (6) ретрансляции, который расположен с возможностью формирования изображения матрицы микролинз (3) в плоскости (Р) съемки изображения через оптический компонент (4) рефокусировки и указанный оптический компонент (6) ретрансляции.
6. Система по любому из пп.1-4, в которой оптическая система (8) сопряжения включает в себя по меньшей мере следующие компоненты в направлении распространения применяемого излучения внутри системы получения изображений:
- оптический компонент (4) рефокусировки;
2
- оптический компонент (6а) ретрансляции, расположенный с возможностью формирования изображения отверстий (О) маски фильтра (2) изображения через микролинзы (3), через оптический компонент (4) рефокусировки и через указанный оптический компонент ретрансляции; и
9
- конечную часть (7) оптической системы, расположенную с возможностью формирования изображения матрицы микролинз (3) в плоскости съемки изображения (Р) через оптический компонент (4) рефокусировки, оптический компонент (6а) ретрансляции и указанную конечную часть (7) оптической системы.
7. Система по п.1, адаптированная для применяемого излучения, находящегося в инфракрасной области.
2
8. Система по п.6, дополнительно содержащая криостат (50), содержащий конечную часть (7) оптической системы и матрицу (9) детектирования изображения, при этом указанный криостат ограничен стенкой, имеющей окно напротив изображения отверстий (О) маски фильтра (2), формуемого через микролинзы (3), оптический компонент (4) рефокусировки и оптический компонент (6а) ретрансляции.
9. Система по п.1, дополнительно содержащая блок (11) управления, выполненный:
ech
- с возможностью управления устройством перемещения изображения таким образом, чтобы помещать промежуточное изображение последовательно в положения, смещенные на значения, кратные шагу дискретизации (I), параллельно каждому направлению выравнивания (х, у); и
- для каждого положения промежуточного изображения - с возможностью управления циклом съемки и записи изображения при помощи матрицы (9) детектирования изображения.
10. Система по п.9, дополнительно содержащая:
- блок (12) воссоздания изображения, выполненный с возможностью комбинирования изображений, снятых и записанных соответственно для последовательных положений промежуточного изображения, в порядке, соответствующем этим последовательным положениям.
11. Система по п.1, в которой устройство перемещения изображения содержит пластинку (10), прозрачную для применяемого излучения и расположенную между объективом (1) и промежуточной плоскостью фокусировки (PI), при этом указанная пластинка имеет наклон, меняющийся по отношению к оптической оси объектива (1).
12. Система по п.1, в которой устройство перемещения изображения содержит ряд пластинок, прозрачных для применяемого излучения и взаимозаменяемых, при этом каждая пластинка поочередно располагается между объективом (1) и промежуточной плоскостью фокусировки (PI), и она производит разное смещение промежуточного изображения указанной промежуточной плоскости фокусировки.