СПОСОБЫ И СИСТЕМА ОБРАБОТКИ УФ ИЗЛУЧЕНИЕМ

1. Способ, включающий следующее:
получают текучую среду для обработки, характеризующуюся первой численностью микроорганизмов в результате присутствия, по меньшей мере, множества микроорганизмов в текучей среде;
к текучей среде для обработки добавляют средство, снижающее вирулентность микроорганизмов;
текучую среду для обработки помещают в систему обработки УФ излучением, имеющую в своем составе источник УФ излучения, с тем, чтобы образовывалось множество свободных радикалов при помощи средства, снижающего вирулентность микроорганизмов;
обеспечивают возможность взаимодействия свободных радикалов с микроорганизмами в текучей среде с целью уменьшения численности микроорганизмов в текучей среде для обработки до второй численности микроорганизмов;
размещают текучую среду для обработки, характеризующуюся второй численностью микроорганизмов, в подземном пласте.
2. Способ по п.1, в котором текучая среда для обработки представляет собой буровой раствор, текучую среду для гидроразрыва пласта, тампонажный состав, текучую среду на водной основе, насыщенный раствор соли или вспененную текучую среду.
3. Способ по п.1, в котором текучая среда для обработки представляет собой свежеприготовленную текучую среду или рециклированную текучую среду.
3
30
4. Способ по п.1, в котором первая численность микроорганизмов находится в пределах примерно от 10 примерно до 10 бактерий/мл.
5
5. Способ по п.4, в котором вторая численность микроорганизмов представляет собой сокращение первой численности микроорганизмов в log раз.
6. Способ по п.1, в котором средство, снижающее вирулентность микроорганизмов, представляет собой органическое средство, снижающее вирулентность микроорганизмов, выбранное из группы, состоящей из: ацетофенона, пропиофенона, бензофенона, ксантона, тиоксантона, флуоренона, бензальдегида, антрахинона, карбазола, тиоиндигоидного красителя, фосфиноксида, кетона, простых бензоиновых эфиров, бензилкеталей, альфа-диалкоксиацетофенона, альфа-гидроксиалкилфенона, альфа-аминоалкилфенона, ацилфосфиноксида, бензофенона, бензоамина, тиоксантона, тиоамина, любого их сочетания и любого их производного.
7. Способ по п.1, в котором средство, снижающее вирулентность микроорганизмов, представляет собой неорганическое средство, снижающее вирулентность микроорганизмов, выбранное из группы, состоящей из: наноразмерного диоксида титана, наноразмерного оксида железа, наноразмерного оксида кобальта, наноразмерного оксида хрома, наноразмерного оксида магния, наноразмерного оксида алюминия, наноразмерного оксида меди, наноразмерного оксида цинка, наноразмерного оксида марганца, любого их сочетания и любого их производного.
8. Способ по п.1, в котором система обработки УФ излучением включает УФ излучение в диапазоне длин волн примерно от 250 примерно до 500 нм.
9. Способ по п.1, в котором система обработки УФ излучением включает УФ лампу, и, по меньшей мере, часть средства, снижающего вирулентность микроорганизмов, представляет собой неорганическое средство, снижающее вирулентность микроорганизмов, которое помещают, по меньшей мере, на часть лампы.
10. Способ по п.1, в котором концентрация средства, снижающего вирулентность микроорганизмов, в текучей среде для обработки составляет примерно до 5% масс. от текучей среды для обработки.
2
11. Способ по п.1, в котором текучая среда для обработки содержит добавку, выбранную из группы, состоящей из: гелеобразующего агента, стабилизатора геля, соли, агента для регулирования рН, ингибитора коррозии, дисперсанта, флоккулянта, кислоты, вспенивающего агента, противовспенивающего агента, поглотителя HS, смазочного вещества, сыпучего материала, закупоривающего агента, утяжеляющего агента, ингибитора образования накипи, химического биоцида, агента для уменьшения трения, любого их сочетания и любого их производного.
12. Способ по п.11, в котором добавка представляет собой химический биоцид, а стадия, на которой обеспечивают возможность взаимодействия свободных радикалов с микроорганизмами в текучей среде с целью уменьшения численности микроорганизмов в текучей среде для обработки до второй численности микроорганизмов, включает обеспечение возможности взаимодействия свободных радикалов и химического биоцида с микроорганизмами в текучей среде с целью снижения численности микроорганизмов в текучей среде для обработки до второй численности микроорганизмов.
13. Способ по п.1, дополнительно включающий размещение текучей среды для обработки, характеризующейся второй численностью микроорганизмов, в емкости для хранения с целью дальнейшего повторного использования.
14. Способ по п.1, дополнительно включающий размещение текучей среды для обработки в подземном пласте.
15. Способ по п.1, дополнительно включающий добавление к текучей среде химического биоцида перед помещением текучей среды в систему обработки УФ излучением.
16. Способ по п.2, в котором средство, снижающее вирулентность микроорганизмов, представляет собой органическое средство, снижающее вирулентность микроорганизмов, выбранное из группы, состоящей из: ацетофенона, пропиофенона, бензофенона, ксантона, тиоксантона, флуоренона, бензальдегида, антрахинона, карбазола, тиоиндигоидного красителя, фосфиноксида, кетона, простых бензоиновых эфиров, бензилкеталей, альфа-диалкоксиацетофенона, альфа-гидроксиалкилфенона, альфа-аминоалкилфенона, ацилфосфиноксида, бензофенона, бензоамина, тиоксантона, тиоамина, любого их сочетания и любого их производного.
17. Способ по п.2, в котором средство, снижающее вирулентность микроорганизмов, представляет собой неорганическое средство, снижающее вирулентность микроорганизмов, выбранное из группы, состоящей из: наноразмерного диоксида титана, наноразмерного оксида железа, наноразмерного оксида кобальта, наноразмерного оксида хрома, наноразмерного оксида магния, наноразмерного оксида алюминия, наноразмерного оксида меди, наноразмерного оксида цинка, наноразмерного оксида марганца, любого их сочетания и любого их производного.
18. Способ по п.2, в котором система обработки УФ излучением включает УФ излучение в диапазоне длин волн примерно от 250 примерно до 500 нм.
19. Способ по п.3, в котором средство, снижающее вирулентность микроорганизмов, представляет собой органическое средство, снижающее вирулентность микроорганизмов, выбранное из группы, состоящей из: ацетофенона, пропиофенона, бензофенона, ксантона, тиоксантона, флуоренона, бензальдегида, антрахинона, карбазола, тиоиндигоидного красителя, фосфиноксида, кетона, простых бензоиновых эфиров, бензилкеталей, альфа-диалкоксиацетофенона, альфа-гидроксиалкилфенона, альфа-аминоалкилфенона, ацилфосфиноксида, бензофенона, бензоамина, тиоксантона, тиоамина, любого их сочетания и любого их производного.
20. Способ по п.3, в котором средство, снижающее вирулентность микроорганизмов, представляет собой неорганическое средство, снижающее вирулентность микроорганизмов, выбранное из группы, состоящей из: наноразмерного диоксида титана, наноразмерного оксида железа, наноразмерного оксида кобальта, наноразмерного оксида хрома, наноразмерного оксида магния, наноразмерного оксида алюминия, наноразмерного оксида меди, наноразмерного оксида цинка, наноразмерного оксида марганца, любого их сочетания и любого их производного.
21. Способ по п.3, в котором система обработки УФ излучением включает УФ излучение в диапазоне длин волн примерно от 250 примерно до 500 нм.