МАЛОРАЗДРАЖАЮЩИЕ ПРОЗРАЧНЫЕ ОЧИЩАЮЩИЕ КОМПОЗИЦИИ С ОТНОСИТЕЛЬНО НИЗКИМ PH

1. Очищающая композиция для кожи, содержащая:
(a) низкомолекулярный несшитый линейный акриловый сополимер; и
(b) поверхностно-активный компонент, содержащий по меньшей мере одно неэтоксилированное анионное ПАВ и по меньшей мере одно амфотерное ПАВ;
где общее содержание ПАВ в указанной очищающей композиции для кожи составляет не более приблизительно 14% вес. очищающей композиции для кожи; причем pH указанной очищающей композиции для кожи составляет приблизительно 6,2 или менее; и очищающая композиция для кожи имеет частоту отсчетов приблизительно 70000 отсчетов в секунду или менее в тесте на рассеяние света.
2. Очищающая композиция для кожи, содержащая:
(a) низкомолекулярный несшитый акриловый сополимер; и
(b) поверхностно-активный компонент, содержащий по меньшей мере одно неэтоксилированное анионное ПАВ и по меньшей мере одно амфотерное ПАВ;
где общее содержание поверхностно-активного компонента в указанной очищающей композиции для кожи составляет не более приблизительно 14% вес. очищающей композиции для кожи; причем pH указанной очищающей композиции для кожи составляет приблизительно 6,2 или менее; и очищающая композиция для кожи имеет значение светопропускания более приблизительно 90%.
3. Очищающая композиция для кожи по п.1, где по меньшей мере одно неэтоксилированное анионное ПАВ и по меньшей мере одно амфотерное ПАВ присутствуют в соотношении менее 0,5, и pH которой составляет от приблизительно 4,8 до приблизительно 6,2.
4. Очищающая композиция для кожи по п.1, где по меньшей мере одно неэтоксилированное анионное ПАВ и по меньшей мере одно амфотерное ПАВ присутствуют в соотношении более 0,5, и pH составляет менее приблизительно 6,2.
5. Очищающая композиция для кожи по п.1, где указанный поверхностно-активный компонент содержит (a) по меньшей мере одно неэтоксилированное анионное ПАВ и (b) по меньшей мере одно амфотерное ПАВ.
6. Очищающая композиция для кожи по п.5, где соотношение ПАВ (a) и ПАВ (b) составляет менее приблизительно 0,5 и pH указанной композиции составляет от приблизительно 4,8 до приблизительно 6,2.
7. Очищающая композиция для кожи по п.5, где соотношение ПАВ (a) и ПАВ (b) составляет более приблизительно 0,5, и pH указанной композиции менее приблизительно 6,2.
8. Очищающая композиция для кожи по п.1, где указанное по меньшей мере одно неэтоксилированное анионное ПАВ выбрано из группы, состоящей из алкилсульфатов и сульфонатов.
9. Очищающая композиция для кожи по п.1, где указанные амфотерные ПАВ выбраны из группы, состоящей из бетаинов, сультаинов, моноамфоацетатов и амфоацетатов (моно- или ди-).
10. Очищающая композиция для кожи по п.1, где указанный низкомолекулярный несшитый линейный сополимер представляет собой несшитый линейный акриловый полимер.
11. Очищающая композиция для кожи по п.1, где указанная композиция дополнительно содержит неионное ПАВ.
12. Очищающая композиция для кожи, содержащая:
(a) низкомолекулярный несшитый линейный акриловый сополимер; и
(b) поверхностно-активный компонент, содержащий по меньшей мере одно неэтоксилированное анионное ПАВ, по меньшей мере одно амфотерное ПАВ и по меньшей мере одно неионное ПАВ;
где общее содержание ПАВ в указанной очищающей композиции для кожи составляет не более приблизительно 14% вес. очищающей композиции для кожи; причем pH указанной очищающей композиции для кожи составляет приблизительно 6,2 или менее; и очищающая композиция для кожи имеет частоту отсчетов приблизительно 70000 отсчетов в секунду или менее в тесте на рассеяние света.
13. Очищающая композиция для кожи, содержащая:
(a) низкомолекулярный несшитый акриловый сополимер; и
b) поверхностно-активный компонент, содержащий по меньшей мере одно неэтоксилированное анионное ПАВ, по меньшей мере одно амфотерное ПАВ и дополнительно содержит неионное ПАВ;
где общее содержание поверхностно-активного компонента в указанной очищающей композиции для кожи составляет не более приблизительно 14% вес. очищающей композиции для кожи; причем pH указанной очищающей композиции для кожи составляет приблизительно 6,2 или менее; и очищающая композиция для кожи имеет значение светопропускания более приблизительно 90%.
14. Очищающая композиция для кожи по п.13, где указанное неионное ПАВ выбрано из группы, состоящей из этоксилатов жирных спиртокислот, жирных спиртов, амидов, этоксилатов моноглицеридов, этоксилатов эфиров сорбитана, алкилполиглюкозидов, полиглицериловых эфиров, а также их смесей.
15. Способ очищения кожи, включающий нанесение на кожу композиции по п.1.