СПОСОБ КОЛЬЦЕВОЙ ПЛАЗМЕННОЙ СТРУИ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПРЕФОРМЫ ОПТИЧЕСКОГО ВОЛОКНА

1. Способ изготовления преформы оптического волокна включающий в себя:
введение плазменного исходного газа в первый конец трубчатого элемента, который имеет центральную продольную ось;
создание кольцевого плазменного факела, который имеет температуру, по меньшей мере, 3000°C, причем упомянутый плазменный исходный газ протекает через сопло питателя плазменного газа, причем упомянутое сопло подачи плазменного газа включает в себя:
внутреннюю трубку, и
наружную трубку, причем упомянутый источник плазменного газа вводится между упомянутой внутренней трубкой и упомянутой наружной трубкой, чтобы создать упомянутый кольцевой плазменный факел, такой, чтобы, по меньшей мере, часть упомянутого кольцевого плазменного факела была направлена радиально по направлению к упомянутой внутренней поверхности упомянутого трубчатого элемента;
перемещение упомянутого трубчатого элемента вдоль продольной оси относительно упомянутого плазменного факела;
осаждение, по меньшей мере, одного неуплотненного слоя ультрадисперсного вещества на внутреннюю поверхность упомянутого трубчатого элемента путем введения реактивов в упомянутый плазменный факел, причем упомянутые реактивы вводятся в упомянутый первый конец упомянутого трубчатого элемента на заданном расстоянии от упомянутого плазменного факела; и
сплавление всех неуплотненных слоев ультрадисперсного вещества в материал недокристаллизованного стекла на внутренней поверхности трубчатого элемента.
2. Способ по п.1, в котором упомянутое создание кольцевого плазменного факела дополнительно содержит:
установление осциллирующего электромагнитного поля в упомянутом внутреннем пространстве упомянутого трубчатого элемента.
3. Способ по п.1, в котором упомянутые реактивы вводятся во внутреннее пространство упомянутого трубчатого элемента в позиции, расположенной на заданном расстоянии от упомянутого кольцевого плазменного факела, в направлении упомянутой продольной оси, и вводятся в том же направлении, в котором вводится часть плазменного газа.
4. Способ по п.1, в котором упомянутое осаждение, по меньшей мере, одного неуплотненного слоя ультрадисперсного материала дополнительно содержит:
введение легирующего вещества в упомянутый плазменный факел, причем упомянутое легирующее вещество вводится во второй конец упомянутого трубчатого элемента на заданном расстоянии от упомянутого плазменного факела, упомянутое легирующее вещество вводится в противоположном направлении, в котором вводится часть плазменного газа.
5. Способ по п.4, в котором упомянутое введение легирующего вещества в упомянутый плазменный факел дополнительно содержит:
введение упомянутого легирующего вещества в упомянутый плазменный факел после того, как произведено осаждение, по меньшей мере, одного или более неуплотненных слоев ультрадисперсного вещества упомянутыми реактивами.
6. Способ по п.4, в котором упомянутое введение легирующего вещества в упомянутый плазменный факел дополнительно содержит:
введение инертного газа с упомянутым легирующим веществом в упомянутый плазменный факел, упомянутый инертный газ вводится в противоположном направлении, в котором вводится часть плазменного газа.
7. Способ по п.4, в котором упомянутое легирующее вещество находится в твердой фазе.
8. Способ по п.1, в котором упомянутое сплавление включает в себя перемещение упомянутого трубчатого элемента относительно упомянутого кольцевого плазменного факела на заданную длину осаждения в направлении упомянутой продольной оси.
9. Способ по п.1, в котором упомянутое перемещение включает в себя перемещение упомянутого трубчатого элемента относительно упомянутого кольцевого плазменного факела на заданную длину осаждения в направлении упомянутой продольной оси.
10. Способ по п.8, в котором заданная длина осаждения остается, по существу, постоянной одновременно с упомянутым перемещением упомянутого трубчатого элемента.
11. Способ по п.1, в котором упомянутое перемещение упомянутого трубчатого элемента дополнительно включает в себя:
селективное вращение упомянутого трубчатого элемента одновременно с, по меньшей мере, частью длительности упомянутого создания кольцевого плазменного факела и осаждения материала.
12. Способ по п.1, в котором упомянутое введение плазменного исходного газа включает в себя обеспечение сопла питателя плазменного газа в упомянутом внутреннем пространстве упомянутого трубчатого элемента, сопло питателя плазменного газа сконструировано и выполнено с возможностью придать циркулярную характеристику потоку упомянутого плазменного исходного газа.
13. Способ по п.12, в котором упомянутое создание кольцевого плазменного факела вызывает вихревое течение упомянутого кольцевого плазменного факела так, что часть упомянутого кольцевого плазменного факела падает на кольцо вокруг внутренней поверхности трубчатого элемента, имея угловую скорость относительно продольной оси, таким образом образуя плазменное кольцо, и в котором упомянутое осаждение упомянутого материала включает в себя осаждение упомянутого материала на упомянутое кольцо.
14. Способ по п.13, в котором упомянутые реактивы имеют такое же вихревое течение, что и упомянутый кольцевой плазменный факел.
15. Способ по п.13, в котором упомянутое перемещение кольцевого плазменного факела на заданную длину осаждения в направлении продольной оси перемещает упомянутое кольцо на соответствующее расстояние, и в котором упомянутое осаждение материала включает в себя осаждение материала на упомянутое перемещающееся кольцо.
16. Способ по п.1, в котором одновременно с, по меньшей мере, частью длительности упомянутого осаждения давление поддерживается внутри упомянутого трубчатого элемента, причем упомянутое давление находится между приблизительно 0,1 и 1 атм.
17. Способ по п.1, в котором упомянутое осаждение включает в себя:
расположение упомянутого трубчатого элемента в, по существу, вертикальном положении.
18. Способ по п.1 дополнительно содержит:
усаживание упомянутой преформы оптического волокна.
19. Способ по п.18 дополнительно содержит:
осаждение, по меньшей мере, одного слоя недокристаллизованного стекла на наружную поверхность упомянутой усаженной преформы оптического волокна.
20. Устройство для изготовления преформы оптического волокна содержит:
средство введения плазменного исходного газа в первый конец трубчатого элемента, который имеет центральную продольную ось;
средство создания кольцевого плазменного факела, который имеет температуру, по меньшей мере, 3000°C, причем упомянутый плазменный исходный газ протекает через сопло питателя плазменного газа, причем упомянутое сопло подачи плазменного газа включает в себя:
внутреннюю трубку, и
наружную трубку, причем упомянутый источник плазменного газа вводится между упомянутой наружной трубкой и упомянутой внутренней трубкой, чтобы создать упомянутый кольцевой плазменный факел такой, чтобы, по меньшей мере, часть упомянутого кольцевого плазменного факела была направлена радиально по направлению к упомянутой внутренней поверхности упомянутого трубчатого элемента;
средство перемещения упомянутого трубчатого элемента вдоль продольной оси относительно упомянутого плазменного факела;
средство осаждения, по меньшей мере, одного неуплотненного слоя ультрадисперсного вещества на внутреннюю поверхность упомянутого трубчатого элемента путем введения реактивов в упомянутый плазменный факел, причем упомянутые реактивы вводятся в упомянутый первый конец упомянутого трубчатого элемента на заданном расстоянии от упомянутого плазменного факела.
21. Устройство по п.20, в котором упомянутое средство создания кольцевого плазменного факела дополнительно содержит:
средство установления осциллирующего электромагнитного поля в упомянутом внутреннем пространстве упомянутого трубчатого элемента.
22. Устройство по п.20, в котором упомянутые реактивы вводятся во внутреннее пространство упомянутого трубчатого элемента в позиции, расположенной на заданном расстоянии от упомянутого кольцевого плазменного факела, в направлении упомянутой продольной оси, и вводятся в том же направлении, в котором вводится часть плазменного газа.
23. Устройство по п.20, в котором упомянутое средство осаждения, по меньшей мере, одного неуплотненного слоя ультрадисперсного материала дополнительно содержит:
средство введения легирующего вещества в упомянутый плазменный факел, причем упомянутое легирующее вещество вводится во второй конец упомянутого трубчатого элемента на заданном расстоянии от упомянутого плазменного факела, упомянутое легирующее вещество вводится в противоположном направлении, в котором вводится часть плазменного газа.
24. Устройство по п.23, в котором упомянутое средство введения легирующего вещества в упомянутый плазменный факел дополнительно содержит:
средство введения упомянутого легирующего вещества в упомянутый плазменный факел после того, как произведено осаждение, по меньшей мере, одного или более неуплотненных слоев ультрадисперсного вещества упомянутыми реактивами.
25. Устройство по п.23, в котором упомянутое введение легирующего вещества в упомянутый плазменный факел дополнительно содержит:
средство введения инертного газа с упомянутым легирующим веществом в упомянутый плазменный факел, упомянутый инертный газ вводится в противоположном направлении, в котором вводится часть плазменного газа.
26. Устройство по п.23, в котором упомянутое легирующее вещество находится в твердой фазе.
27. Устройство по п.20, в котором упомянутое средство перемещения включает в себя перемещение упомянутого трубчатого элемента относительно упомянутого кольцевого плазменного факела на заданную длину осаждения в направлении упомянутой продольной оси.
28. Устройство по п.27, в котором заданная длина осаждения остается, по существу, постоянной одновременно с упомянутым перемещением упомянутого трубчатого элемента.
29. Устройство по п.20, в котором упомянутое средство перемещения упомянутого трубчатого элемента дополнительно содержит:
средство селективного вращения упомянутого трубчатого элемента одновременно с, по меньшей мере, частью длительности упомянутого создания кольцевого плазменного факела и осаждения материала.
30. Устройство по п.20, в котором упомянутое средство введения плазменного исходного газа включает в себя обеспечение сопла питателя плазменного газа в упомянутом внутреннем пространстве упомянутого трубчатого элемента, сопло питателя плазменного газа сконструировано и выполнено с возможностью придать циркулярную характеристику потоку упомянутого плазменного исходного газа.
31. Устройство по п.30, в котором упомянутое средство создания кольцевого плазменного факела вызывает вихревое течение упомянутого кольцевого плазменного факела так, что часть упомянутого кольцевого плазменного факела падает на кольцо вокруг внутренней поверхности трубчатого элемента, имея угловую скорость относительно продольной оси, таким образом образуя плазменное кольцо, и в котором упомянутое осаждение упомянутого материала включает в себя осаждение упомянутого материала на упомянутое кольцо.
32. Устройство по п.31, в котором упомянутые реактивы имеют такое же вихревое течение, что и упомянутый кольцевой плазменный факел.
33. Устройство по п.27, в котором упомянутое средство перемещения кольцевого плазменного факела на заданную длину осаждения в направлении продольной оси перемещает упомянутое кольцо на соответствующее расстояние, и в котором упомянутое осаждение материала включает в себя осаждение материала на упомянутое перемещающееся кольцо.
34. Устройство по п.20, в котором одновременно с, по меньшей мере, частью длительности упомянутого осаждения давление поддерживается внутри упомянутого трубчатого элемента, причем упомянутое давление находится между приблизительно 0,1 и 1 атм.
35. Устройство по п.20, в котором упомянутое средство осаждения содержит:
средство расположения упомянутого трубчатого элемента в, по существу, вертикальном положении.
36. Устройство по п.20 дополнительно содержит:
средство усаживания упомянутой преформы оптического волокна.
37. Устройство по п.36 дополнительно содержит:
средство осаждения, по меньшей мере, одного слоя недокристаллизованного стекла на наружную поверхность упомянутой усаженной преформы оптического волокна.