ПОКРЫТИЕ НА ОСНОВЕ AlCrN, ОБЕСПЕЧИВАЮЩЕЕ ПОВЫШЕННУЮ УСТОЙЧИВОСТЬ К КРАТЕРНОМУ ИЗНОСУ

1. Покрытие (210), нанесенное на поверхность подложки (201), содержащее многослойную пленку (216), состоящую из группы слоев А и группы слоев В, нанесенных чередующимися друг на друга и образующих структуру А/В/А/В/А…, в которой слои А содержат нитрид алюминийхромбора, а слои В содержат нитрид алюминийхрома и не содержат бора, и отличающееся тем, что:
многослойная пленка (216) содержит по меньшей мере первую часть (216а) и последнюю часть (216с), причем среднее содержание бора в первой части (216а) покрытия выше, чем среднее содержание бора в последней части (216с) покрытия, и
как в первой части (216а), так и в последней части (216с) покрытия присутствуют собственные напряжения сжатия, причем собственное напряжение сжатия в первой части (216а) ниже, чем в последней части (216с) покрытия.
2. Покрытие по п. 1, отличающееся тем, что среднее содержание бора в его первой части (216а) по меньшей мере в 1,2 раза выше, чем в его последней части (216с).
3. Покрытие по п. 2, отличающееся тем, что среднее содержание бора в его первой части (216а) по меньшей мере в 1,4 раза выше, чем в его последней части (216с).
4. Покрытие по одному из пп. 1-3, отличающееся тем, что среднее содержание бора в его первой части (216а) максимум в 6 раз выше, чем в его последней части (216с).
5. Покрытие по одному из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что собственное напряжение сжатия в первой части (216а) покрытия составляет около 2,5 ГПа или ниже.
6. Покрытие по одному из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что собственное напряжение сжатия в последней части (216с) покрытия составляет около 3 ГПа или выше.
7. Покрытие по одному из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что собственное напряжение сжатия в последней части (216с) покрытия не превышает 8 ГПа.
x
y
z
8. Покрытие по одному из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что слои А в многослойной пленке (216) имеют состав элементов, который без учета примесей описывается формулой (AlCrB)N, где х>0, y>0 и z>0 представляют собой соответственно концентрацию в атомных процентах алюминия, хрома и бора, если при оценке состава элементов в соответствующих слоях А учитываются только алюминий, хром и бор.
v
w
9. Покрытие по одному из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что слои В в многослойной пленке (216) имеют состав элементов, который без учета примесей описывается формулой (AlCr)N, где v>0 и w>0 представляют собой соответственно концентрацию в атомных процентах алюминия и хрома, если при оценке состава элементов в соответствующих слоях В учитываются только алюминий и хром.
10. Покрытие по п. 7 или 8, отличающееся тем, что коэффициенты x, y и z в слоях А удовлетворяют условиям 1≤x/y≤4,5 и/или 0,01≤z≤30.
11. Покрытие по одному из пп.7-9, отличающееся тем, что коэффициенты v и w в слоях В удовлетворяют условию 1≤v/w≤4,5.
12. Покрытие по одному из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что оно содержит несущий слой (212), собственное напряжение сжатия в котором равно соответствующему напряжению в первой части (216а) многослойной пленки (216) или ниже этого напряжения.
13. Покрытие по одному из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что оно содержит наружный слой (220), собственное напряжение сжатия в котором равно соответствующему напряжению в последней части (216с) многослойной пленки (216) или выше этого напряжения.
14. Способ изготовления покрытия по одному из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что по меньшей мере многослойную пленку (216) изготавливают с помощью методов физического осаждения из газовой фазы, предпочтительно с помощью метода электродугового ионного осаждения, а первую часть (216а) покрытия и последнюю часть (216с) покрытия в многослойной пленке (216) наносят, используя одну и ту же схему нанесения покрытия, включая одни и те же мишени и одни и те же параметры нанесения покрытия, за исключением потенциала смещения.
15. Способ по п. 14, отличающийся тем, что для нанесения первой части (216а) покрытия в многослойной пленке (216) используют отрицательный потенциал смещения, который по абсолютному значению ниже отрицательного потенциала смещения, используемого для нанесения последней части (216с) покрытия в многослойной пленке (216).