ЛАЗЕРНОЕ ПЛАКИРОВАНИЕ ТЕРМОПЛАСТИЧЕСКОГО ПОРОШКА НА ПЛАСТИКАХ

1. Способ нанесения покрытия (17) из термопластического материала на субстрат (11), выполненный из полимерного материала, причем указанный термопластический материал и указанный полимерный материал являются несовместимыми, включающий этапы:
обрабатывают субстрат первым плазменным разрядом (12) или полученной из него струей химически активного газа, получая обработанный плазмой субстрат (14), и образуя на этом обработанном плазмой субстрате одну или более химических групп, проявляющих химическое или физическое сродство для сцепления с термопластическим материалом;
осуществляют проход лучом лазера (15) по линии на указанном обработанном плазмой субстрате, нагревая обработанный плазмой субстрат; и
подают порошок (16) из указанного термопластического материала на указанную линию, образуя покрытие (17) на обработанном плазмой субстрате.
2. Способ нанесения покрытия из термопластического материала на субстрат, выполненный из полимерного материала, причем указанный термопластический материал и указанный полимерный материал являются несовместимыми, включающий этапы:
обрабатывают порошок из указанного термопластического материала вторым плазменным разрядом или полученной из него струей химически активного газа, получая обработанный плазмой порошок, и образуя на этом обработанном плазмой порошке одну или более химических групп, проявляющих химическое или физическое сродство для сцепления с термопластическим материалом;
осуществляют проход лучом лазера по линии на субстрате, нагревая субстрат; и
подают указанный обработанный плазмой порошок на указанную линию, образуя покрытие на субстрате.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что обработку порошка выполняют в соответствии с п.2.
2
2
2
2
2
4. Способ по любому из пп.1 или 2, отличающийся тем, что первый плазменный разряд и/или второй плазменный разряд образуют с плазмообразующим газом, выбранным из группы, состоящей из воздуха, N, O, CO, H, NO, Не, Аr и их смеси.
5. Способ по п.1, включающий этап введения первого прекурсора в первый плазменный разряд, или в полученную из него струю химически активного газа, до этапа обработки.
6. Способ по п.2, включающий этап введения второго прекурсора во второй плазменный разряд, или в полученную из него струю химически активного газа, до этапа обработки.
7. Способ по любому из пп.5 или 6, отличающийся тем, что первый и второй прекурсоры выбирают из группы, состоящей из: аллиламина, гидроксильного этилакрилата, акриловой кислоты, метана, пропана, этилена, ацетилена, аминопропилтритоксилана и воды.
8. Способ по любому из пп.1, 2, 5 или 6, отличающийся тем, что химическую группу выбирают из группы, состоящей из: карбоксильной группы, аминогруппы, гидроксильной группы, амидогруппы, имидогруппы, группы нитрила, диимида, изоцианида, карбоната, карбонила, пероксида, гидропероксида, имина, азида, эфира, сложных эфиров, силоксана и галогена.
9. Способ по любому из пп.1, 2, 5 или 6, отличающийся тем, что на этапе обработки поверхностный слой подвергают воздействию плазмы с толщиной в диапазоне 1Å-1000 нм, предпочтительно в диапазоне 3Å-500 нм, предпочтительнее в диапазоне 5Å-300 нм.
10. Способ по любому из пп.1, 2, 5 или 6, дополнительно включающий этап прохода лазерного луча по линии на покрытии.
11. Способ по любому из пп.1, 2, 5 или 6, отличающийся тем, что указанный полимерный материал является термопластическим материалом.
12. Способ по любому из пп.1, 2, 5 или 6, отличающийся тем, что указанный полимерный материал является термореактивным материалом.
13. Способ по любому из пп.1, 2, 5, или 6, отличающийся тем, что на этапе обработки субстрата и/или этапе обработки порошка обрабатываемую поверхность обрабатываемого материала нагревают, по меньшей мере временно, по меньшей мере до температуры стеклования, предпочтительно, по меньшей мере до температуры плавления.
14. Способ по п.3, включающий этап введения первого прекурсора в первый плазменный разряд, или в полученную из него струю химически активного газа, до этапа обработки, и введения второго прекурсора во второй плазменный разряд, или в полученную из него струю химически активного газа, до этапа обработки.
15. Способ по п.14, отличающийся тем, что первый и второй прекурсоры являются одинаковыми.