ИЗДЕЛИЕ С МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ПОДЛОЖКОЙ И КАНАЛОМ В МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ПОДЛОЖКЕ И СПОСОБ ЕГО ПОЛУЧЕНИЯ

1. Изделие с металлической подложкой и каналом в металлической подложке, который частично или полностью открыт к поверхности, причем сечение канала имеет локальный максимум (5) ширины между дном (7) канала и касательной плоскостью (1), измеренный на перпендикулярном поверхности шлифе параллельно касательной плоскости и перпендикулярно продольной оси канала, и причем в области поверхности канала имеется зона термического влияния, которая имеет измененную по сравнению с металлической подложкой структуру размеров зерен.
2. Изделие по п. 1, причем локальный максимум (5) ширины составляет ≥0,5 мкм под касательной плоскостью (1).
3. Изделие по п. 1 или 2, причем локальный максимум (5) ширины, измеренный перпендикулярно продольной оси канала, составляет ≥1 мкм, предпочтительно ≥5 мкм, более предпочтительно ≥25 мкм.
4. Изделие по любому из предшествующих пунктов, причем канал имеет аспектное отношение локального максимума (5) ширины, измеренного перпендикулярно продольной оси канала, к длине канала ≥1:3, предпочтительно ≥1:10, а более предпочтительно ≥1:100, и/или канал имеет длину ≥3 мкм, предпочтительно ≥100 мкм, а более предпочтительно ≥500 мкм, причем длина канала в каждом случае измерена параллельно поверхности изделия.
5. Изделие по любому из предшествующих пунктов, причем канал имеет глубину (3) от 0,1 мкм до 10000 мкм, предпочтительно от 0,2 мкм до 1000 мкм, а более предпочтительно в диапазоне от 0,5 мкм до 500 мкм, измеренную перпендикулярно касательной плоскости (1).
6. Изделие по любому из предшествующих пунктов, причем отверстия канала имеют ширину от 0,05 мкм до 2000 мкм, измеренную в касательной плоскости (1) перпендикулярно продольной оси канала.
7. Изделие по любому из предшествующих пунктов, причем канал перекрыт на ≥30%, предпочтительно на ≥50%, и в каждом случае более предпочтительно на ≥70%, ≥80%, ≥90%, ≥95% и ≥99%, относительно плоскости, образованной максимумом (5) ширины внутри канала, параллельной касательной плоскости.
8. Изделие по любому из предшествующих пунктов, имеющее первую зону термического влияния в области отверстия канала с меньшим среднестатистическим размером зерен по сравнению с металлической подложкой в соотношении минимально 1:2, более предпочтительно минимально 1:10, и вторую зону термического влияния в области самой нижней точки канала или сечения канала с толщиной от 0,1 мкм до 3000 мкм, предпочтительно в диапазоне от 0,2 мкм до 1000 мкм, более предпочтительно в диапазоне от 0,5 мкм до 500 мкм, и причем вторая зона термического влияния по направлению вертикально от самой нижней точки в сечении канала имеет меньший среднестатистический размер зерен по сравнению с металлической подложкой, предпочтительно ≤1:1,2, и более предпочтительно ≤1:5, и бóльший среднестатистический размер зерен, предпочтительно ≥2:1,2, по сравнению с первой зоной термического влияния.
9. Изделие по любому из предшествующих пунктов, причем металлическая подложка выбрана из группы, состоящей из титана, алюминия, ванадия, магния, меди, серебра, свинца, золота, их сплавов друг с другом или с другими металлами и стали.
10. Изделие по любому из предшествующих пунктов, имеющее вдоль стенок канала обогащенный кислородом по сравнению с подложкой слой, причем обогащение кислородом, измеренное на глубине 50 нм, предпочтительно 500 нм, составляет минимально 5% по измерению посредством рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS) после напыления, и/или имеющее вдоль стенок канала обогащенный азотом по сравнению с подложкой слой, причем обогащение азотом, измеренное на глубине 50 нм, предпочтительно 500 нм, составляет минимально 5% по измерению посредством XPS после напыления.
11. Способ получения изделия с металлической подложкой по любому из пп. 1-10, включающий этапы:
а) обеспечение изделия с металлической подложкой и
b) облучение металлической подложки импульсным лазером, причем облучение выполняют на одном и том же месте по меньшей мере 2 импульсами, предпочтительно по меньшей мере 5 импульсами, более предпочтительно 2-2000 импульсами, наиболее предпочтительно 5-100 импульсами, с частотой следования импульсов по меньшей мере 0,1 кГц, причем используемое лазерное излучение имеет длину волны в диапазоне от 400 нм до 30 мкм, а длительность импульсов находится в диапазоне от 500 пс до 100 с.
12. Способ по п. 11, причем используемое лазерное излучение имеет длину волны в диапазоне от 950 нм до 12 мкм.
13. Способ по п. 11 или 12, причем частота следования импульсов находится в диапазоне от 0,1 кГц до 4 МГц, предпочтительно в диапазоне от 10 кГц до 250 кГц.
14. Способ по любому из пп. 11-13, причем длительность импульсов находится в диапазоне от 1 нс до 1 мкс.
2
2
2
2
15. Способ по любому из пп. 11-14, причем плотность энергии, измеренная в местоположении образца посредством пироэлектрического датчика в фокусе лазерного пучка, составляет от 0,1 Дж/см до 100 Дж/см, особенно предпочтительно в диапазоне от 1 Дж/см до 20 Дж/см.
16. Способ по любому из пп. 11-15, причем распределение энергии в лазерном пятне имеет гауссовский профиль, или профиль с плоской вершиной, или профиль цилиндрической шляпы.
17. Способ по любому из пп. 11-16, причем этап b) проводят в 2-1000 циклов с временным интервалом между ними по меньшей мере от 0,01 с до 0,25 мкс.
18. Способ по любому из пп. 11-17, причем облучение металлической подложки на этапе b) выполняют CW или QCW лазером, причем локальное время пребывания лазерного импульса в поверхностной области, соответствующей размеру пятна, составляет по меньшей мере 5 нс, предпочтительно по меньшей мере 25 нс, более предпочтительно в диапазоне между 40 нс и 2 мс, наиболее предпочтительно 50 нс-500 нс.
19. Способ по любому из пп. 11-18, причем после этапа b) лазер перемещают так, что при повторении этапа b) созданные поры совместно образуют полностью или частично открытый к поверхности канал.
20. Изделие с металлической подложкой и каналом в металлической подложке, полученное или получаемое способом по любому из пп. 11-19.