УСТАНОВКА ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ И НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ НА ДЕТАЛИ ТИПА БЛИСКОВ

1. Установка для ионно-плазменной обработки и нанесения покрытий на детали типа блисков, содержащая цилиндрическую вакуумную камеру, внутри которой расположен держатель изделий, по крайней мере один источник плазмы, системы вакуумирования, подачи и регулирования расхода газа, источники питания и блок управления, отличающаяся тем, что вакуумная камера выполнена в виде горизонтально расположенной цилиндрической обечайки, на двух торцах которой расположены крышки с фланцами, снабженные технологическими модулями, набор и компоновка которых обеспечивает выполнение заданного технологического цикла ионно-имплантационной обработки и нанесения покрытий, причем держатель изделий расположен в средней части вакуумной камеры установки и выполнен с возможностью установки на нем либо блиска, либо диска с лопатками, причем ось упомянутого блиска или упомянутого диска расположена параллельно оси обечайки камеры.
2. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что снабжена, по меньшей мере, двумя крышками с технологическими модулями, расположенными напротив друг друга на противоположных сторонах корпуса вакуумной камеры.
3. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что вакуумная камера выполнена с загрузочной дверью, а верхняя часть камеры снабжена люком, при этом загрузочная дверь и люк выполнены с возможностью установки дополнительных источников плазмы.
4. Установка по п. 1, отличающаяся тем, что имеет разъем в средней части вакуумной камеры, разделяющий ее на две части и обеспечивающий доступ для закрепления блиска в держателе изделия.
5. Установка по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что габариты рабочей зоны вакуумной камеры превышают габариты зоны обработки изделий.