Способ микроструктурирования поверхности прозрачных материалов

2
1. Способ микроструктурирования поверхности прозрачных материалов, при котором сфокусированное импульсное лазерное излучение воздействует на обратную поверхность образца из прозрачного материала, отличающийся тем, что эта поверхность находится в контакте с поглощающей лазерное излучение жидкостью, в качестве которой используются прекурсоры благородных металлов, используется импульсное лазерное излучение видимой области спектра с длительностью импульсов 1-50 нс при плотности энергии 5-500 Дж/см, а формирование необходимой конфигурации отверстий и каналов на поверхности и в объеме образца из прозрачного материала происходит при его перемещении в пространстве по заданной траектории.
2. Способ микроструктурирования поверхности прозрачных материалов по п. 1, отличающийся тем, что в качестве прекурсора благородного металла используется нитрат серебра.
3. Способ микроструктурирования поверхности прозрачных материалов по п. 1, отличающийся тем, что длина волны импульсного лазерного излучения выбирается из области полосы плазмонного поглощения кластеров и наночастиц соответствующего металла.