СПОСОБ ЛАЗЕРНОЙ МАРКИРОВКИ И СИСТЕМА ЛАЗЕРНОЙ МАРКИРОВКИ

Т
1. Способ лазерной маркировки подложки (103) обеспеченной участком (102), чувствительным к лазерному излучению с использованием лазера, указанный участок, чувствительный к лазерному излучению содержит чувствительные к лазерному излучению чернила или покрытие, или красители и выполнен с возможностью активации на пороговом уровне () энергии, при этом способ содержит этапы, при которых:
активируют указанный участок, чувствительный к лазерному излучению, посредством активирующего элемента (101), подвергающего облучению весь участок, чувствительный к лазерному излучению, и подвергают
облучению часть указанного участка, чувствительного к лазерному излучению, посредством лазера (102),
Т
в котором активирующий элемент сконфигурирован таким образом, что испускаемое излучение является сконцентрированным на определенной длине волны, и в котором совокупное облучение приводит к прохождению энергией указанного порогового уровня (), при котором участок, чувствительный к лазерному излучению, активируется в той части, где происходит совокупное облучение.
2. Способ по п.1, в котором этап активации посредством активирующего элемента (101) выполняется до того, как подложка (103) подвергается воздействию лазера (102).
3. Способ по п.1, в котором лазер (102) является лазером ближнего инфракрасного диапазона.
4. Способ по п.3, в котором лазер (102) является лазером с диодной решеткой.
5. Способ по п.3, в котором лазер (102) является волоконным лазером.
6. Способ по п.1, в котором активирующий элемент (101) является источником инфракрасного излучения или лазерным лучом.
7. Способ по п.6, в котором этап активации выполняется с помощью источника инфракрасного излучения, указанный источник инфракрасного излучения выполнен с возможностью испускания излучения на длине волны в диапазоне 0,65-5,6 микрометров (мкм), и в котором лазер (102) испускает излучение на длине волны в диапазоне 0,65-5,6 микрометров (мкм).
Т
8. Система лазерной маркировки для лазерной маркировки подложки (103), обеспеченной участком, чувствительным к лазерному излучению, указанный участок, чувствительный к лазерному излучению, содержит чувствительные к лазерному излучению чернила или покрытие, или красители и выполнен с возможностью активации на пороговом уровне () энергии, система содержит
активирующий элемент (101), выполненный с возможностью облучения всего участка, чувствительного к лазерному излучению, и
Т
лазер (102), выполненный с возможностью облучения части участка, чувствительного к лазерному излучению, в котором совокупное облучение приводит к прохождению энергией указанного порогового уровня (), при котором участок, чувствительный к лазерному излучению, активируется в той части, где происходит совокупное излучение.
9. Система лазерной маркировки по п.8, в которой лазер (102) является лазером ближнего инфракрасного диапазона.
10. Система лазерной маркировки по п.8, в которой лазер (102) является лазером с диодной решеткой.
11. Система лазерной маркировки по п.8, в которой лазер (102) является волоконным лазером или лазером с волоконно-диодной решеткой.
12. Система лазерной маркировки по п.8, в которой активирующий элемент (101) является одним из следующих: источником инфракрасного излучения, лазерным лучом, импульсной лампой, горячим воздухом или горячей жидкостью.
13. Система лазерной маркировки по любому из п.п.8-12, в которой подложка (103) в виде полотна упаковочного материала проходит через систему лазерной маркировки со скоростью 0,2-15 метров в секунду.
14. Система лазерной маркировки по любому из п.п.8-12, в которой активирующий элемент (101) и лазер (102) расположены относительно друг друга таким образом, что подложка (103) проходит активирующий элемент (101) прежде, чем она пройдет лазер (102).