НИЗКОЭМИССИОННОЕ СТЕКЛО И СПОСОБ ЕГО ПОЛУЧЕНИЯ

1. Низкоэмиссионное стекло, содержащее:
подложку,
низкоэмиссионный слой, сформированный на подложке; и
слой диэлектрика, сформированный на низкоэмиссионном слое, при этом указанное низкоэмиссионное стекло обладает эмиссионной способностью от 0,01 до 0,3 и коэффициентом пропускания в видимой области спектра 70% или более.
2. Низкоэмиссионное стекло по п.1, отличающееся тем, что низкоэмиссионное стекло обладает эмиссионной способностью от 0,01 до 0,2.
3. Низкоэмиссионное стекло по п.1, отличающееся тем, что низкоэмиссионное стекло обладает коэффициентом пропускания в видимой области спектра 80% или более.
2
4. Низкоэмиссионное стекло по п.1, отличающееся тем, что низкоэмиссионное стекло обладает удельным поверхностным сопротивлением от 5 до 15 Ом/см.
5. Низкоэмиссионное стекло по п.1, отличающееся тем, что низкоэмиссионный слой содержит по меньшей мере один из элементов, выбранных из группы, состоящей из серебра, меди, золота, алюминия и платины.
6. Низкоэмиссионное стекло по п.1, отличающееся тем, что толщина низкоэмиссионного слоя составляет от 5 до 35 нм.
7. Низкоэмиссионное стекло по п.1, отличающееся тем, что слой диэлектрика сформирован непосредственно на низкоэмиссионном слое.
8. Низкоэмиссионное стекло по п.1, отличающееся тем, что слой диэлектрика содержит по меньшей мере одно из соединений, выбранных из группы, состоящей из оксида цинка, оксида алюминия, оксида циркония, диоксида кремния, оксида олова, оксида титана, оксида висмута, легированного индием оксида олова, легированного галлием оксида цинка и легированного алюминием оксида цинка.
9. Низкоэмиссионное стекло по п.1, отличающееся тем, что толщина слоя диэлектрика составляет от 10 до 100 нм.
10. Низкоэмиссионное стекло по п.1, дополнительно содержащее слой диэлектрика, сформированный на нижней поверхности низкоэмиссионного слоя.
11. Низкоэмиссионное стекло по п.1, дополнительно содержащее внешний слой, сформированный на слое диэлектрика.
12. Низкоэмиссионное стекло по п.1, дополнительно содержащее подслой, сформированный между подложкой и низкоэмиссионным слоем.
13. Способ получения низкоэмиссионного стекла, включающий:
осаждение в вакууме слоя диэлектрика непосредственно на низкоэмиссионный слой с использованием оксида металла в качестве мишени.
14. Способ по п.13, отличающийся тем, что осаждение проводят в вакууме при рабочем давлении от 1 до 10 мТорр (от 1 до 10 мкм рт.ст.).
15. Способ по п.13, отличающийся тем, что осаждение проводят в атмосфере аргона.
3
16. Способ по п.15, отличающийся тем, что аргон подают в количестве от 10 до 100 стд. см/мин.
17. Способ по п.13, отличающийся тем, что осаждение проводят с использованием плазменного напыления.
2
18. Способ по п.17, отличающийся тем, что осаждение проводят с помощью плазмы, получаемой путем приложения входной мощности от 1 до 5 Вт/см.