УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ОБРАБОТКИ ГАЗООБРАЗНОЙ СРЕДЫ И ПРИМЕНЕНИЕ УКАЗАННОГО УСТРОЙСТВА ДЛЯ ОБРАБОТКИ ГАЗООБРАЗНОЙ СРЕДЫ, ЖИДКОСТИ, ТВЕРДОГО ТЕЛА, ПОВЕРХНОСТИ ИЛИ ЛЮБОГО ИХ СОЧЕТАНИЯ

1. Устройство (1) для обработки газообразной среды, содержащее в направлении потока газообразной среды
генерирующее плазму устройство (2) для создания в газообразной среде плазмы (21), и
по меньшей мере одну диэлектрическую структуру (3), сформированную в виде по меньшей мере одной трубки из плавленого кварца,
отличающееся тем, что плазма способна переноситься в указанную по меньшей мере одну диэлектрическую структуру (3).
2. Устройство (1) по п.1, отличающееся тем, что в направлении потока газообразной среды, ниже по ходу указанной по меньшей мере одной диэлектрической структуры (3), содержит камеру (10) взаимодействия, включающую внутреннее пространство (11) и по меньшей мере одну стенку (12).
3. Устройство (1) по п.2, отличающееся тем, что указанная по меньшей мере одна стенка (12) покрыта по меньшей мере частично алмазным покрытием (13).
4. Устройство (1) по п.1, отличающееся тем, что отсутствует микроволновое излучение, направленное на указанную по меньшей мере одну диэлектрическую структуру (3).
5. Устройство (1) по п.2, отличающееся тем, что камера (10) взаимодействия содержит по меньшей мере один электрод (15).
6. Устройство (1) по п.5, отличающееся тем, что указанный по меньшей мере один электрод (15) покрыт частично алмазным покрытием (13).
7. Устройство (1) по п.2, отличающееся тем, что камера (10) взаимодействия содержит размножающую структуру (23), причем размножающая структура (23) покрыта по меньшей мере частично алмазным покрытием (13).
8. Устройство (1) по п.7, отличающееся тем, что, по существу, цилиндрическая структура (24) размещена в объеме, который охватывает конусообразная размножающая структура (23), причем цилиндрическая структура (24) покрыта по меньшей мере частично алмазным покрытием (13).
9. Устройство (1) по п.2, отличающееся тем, что в направлении потока газообразной среды, ниже по ходу камеры (10) взаимодействия, содержит по меньшей мере одну дополнительную диэлектрическую структуру (3'), причем из камеры (10) взаимодействия плазма (21) способна переноситься в указанную по меньшей мере одну дополнительную диэлектрическую структуру (3').
10. Устройство (1) по п.2, отличающееся тем, что в направлении потока газообразной среды, ниже по ходу указанной по меньшей мере одной дополнительной диэлектрической структуры (3'), содержит дополнительную камеру (16) для гашения плазмы (21).
11. Устройство (1) по п.10, отличающееся тем, что в направлении потока указанная камера (16) имеет конусообразное сечение (17) внутри камеры (16).
12. Устройство (1) по п.1, отличающееся тем, что по меньшей мере одна из диэлектрических структур (3) покрыта внутри, по меньшей мере, частично покрытием, содержащим пигмент (4), для преобразования длины волны электромагнитного излучения в большую длину волны.
13. Устройство (1) по п.1, отличающееся тем, что содержит средства для переноса реакционного газа в устройство (1).
14. Устройство (1) по п.2, отличающееся тем, что камера (10) взаимодействия, содержит средства увеличения числа фотонов.
15. Устройство (1) по п.1, отличающееся тем, что содержит средства, способные пропускать исходящие фотоны.
16. Устройство (1) по п.1, отличающееся тем, что устройство (1) содержит по меньшей мере один входной канал (5) плазменного устройства для переноса газообразной среды в генерирующее плазму устройство (2), причем входной канал (5) генерирующего плазму устройства имеет конусообразное сечение (14) в направлении потока.
17. Устройство (1) по п.1, отличающееся тем, что содержит по меньшей мере один входной канал (5) плазменного устройства для переноса газообразной среды в генерирующее плазму устройство (2), причем ниже по ходу входного канала (5) плазменного устройства размещен дефлектор (19) для создания турбулентности в потоке газообразной среды.
18. Устройство (1) по п.16, отличающееся тем, что содержит магнетрон (30) по меньшей мере с первым электродом (31) магнетрона и по меньшей мере один противоэлектрод (32), при этом по меньшей мере один дополнительный электрод (33) размещен в генерирующем плазму устройстве (2) в зоне, сформированной выступом входного канала (5) плазменного устройства вдоль среднего потока газообразной среды, проходящей через входной канал (5) плазменного устройства.
19. Устройство (1) по п.16, отличающееся тем, что дефлектор (19) расположен таким образом, чтобы дефлектор (19) не пересекал линию прямой видимости, проходящую от противоэлектрода (32) до указанного дополнительного электрода (33).
20. Устройство (1) по п.1, отличающееся тем, что внутреннее пространство (26) генерирующего плазму устройства (2) находится в по меньшей мере одной секции, по существу, сужающейся в среднем направлении потока газообразной среды, а внутреннее пространство (11) камеры (10) взаимодействия находится в по меньшей мере одной секции, по существу, расширяющейся в среднем направлении потока газообразной среды для усиления турбулентности в устройстве (1).
21. Устройство (1) по п.1, отличающееся тем, что генерирующее плазму устройство (2) содержит по меньшей мере одну стенку с поверхностью (22) из плавленого кварца внутри устройства (2).
22. Устройство для обработки газообразной среды, содержащее:
- входной канал для газообразной среды,
- выходное отверстие для газообразной среды,
- средства увеличения числа фотонов, в частности, фотонов выбранной длины волны или выбранного диапазона длин волн, и
- средства генерирования плазмы.
23. Способ обработки газообразной среды, включающий этапы, на которых:
создают плазму (21) в газообразной среде в генерирующем плазму устройстве (2) и переносят плазму (21) по меньшей мере в одну диэлектрическую структуру (3).
24. Способ по п.23, в котором плазму (21) переносят в камеру (10) взаимодействия, размещенную ниже по ходу указанной по меньшей мере одной диэлектрической структуры (3).
25. Применение устройства (1) по п.1, функционирующего по способу по п.23, для обработки газообразной среды.
26. Применение устройства (1) по п.1, функционирующего по способу по п.23, для обработки жидкостей, твердых тел, поверхностей или любого их сочетания.
27. Применение устройства (1) по п.1, функционирующего по способу по п.23, для реформинга метанола.
28. Магнетрон (30) для применения в устройстве (1) по п.1, содержащий первый электрод (31) магнетрона, противоэлектрод (36) и петлеобразный электрод (32) в виде замкнутого контура, охватывающий некоторую область, причем первый электрод (31) магнетрона размещен в указанной области, дополнительный электрод (33) размещен за пределами указанной области, отличающийся тем, что петлеобразный электрод (32) содержит по меньшей мере один внутренний элемент (34), размещенный в указанной области, причем внутренний элемент (34) размещен по существу параллельно оси, перпендикулярной петлеобразному электроду (32), между петлеобразным электродом (32) и первым электродом (31) магнетрона, а по меньшей мере один наружный электрод (35) расположен снаружи области, по существу, параллельно оси, перпендикулярной петлеобразному электроду (32), между петлеобразным электродом (32) и дополнительным электродом (33).
29. Магнетрон (30) по п.28, отличающийся тем, что петлеобразный электрод (32), содержит по меньшей мере два внутренних элемента (34), при этом один из внутренних элементов (34) имеет первую длину, а другой из внутренних элементов (34) имеет вторую отличающуюся длину.
30. Магнетрон (30) по п.28, отличающийся тем, что по меньшей мере один внутренний элемент (34) и по меньшей мере один наружный элемент (35) размещены на петлеобразном электроде (32) в разных местах вдоль петли.