СОЛНЦЕЗАЩИТНЫЕ ПОКРЫТИЯ С ЧЕТЫРЬМЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИМИ СЛОЯМИ
SUNSCREEN COATINGS WITH FOUR METAL LAYERS

Перекрестная ссылка на родственные заявки
В данной заявке притязают на приоритет предварительной патентной заявки Соединенных Штатов № 62/626,332, поданной 5 февраля 2018 года, которая во всей своей полноте посредством ссылки на нее включается в настоящий документ.
Область техники, к которой относится изобретение
Данное изобретение в общем случае относится к солнцезащитным покрытиям, включающим четыре металлических слоя.
Уровень техники
Солнцезащитные покрытия известны в сферах архитектурных прозрачных конструкций и прозрачных конструкций для транспортных средств. Данные солнцезащитные покрытия блокируют или отфильтровывают избранные диапазоны электромагнитного излучения, такие как в диапазоне солнечного инфракрасного или солнечного ультрафиолетового излучения для уменьшения количества солнечной энергии, поступающей в транспортное средство или здание. Данное уменьшение пропускания солнечной энергии содействует уменьшению нагрузки на охлаждающие установки транспортного средства или здания. Наиболее близким уровнем техники является документ WO 2016/126758, который относится к солнцезащитному покрытию, имеющему по меньшей мере четыре металлических функциональных слоя. Покрытие документа WO 2016/126758 раскрывает металлические слои, имеющие различную толщину, причем более чем один металлический слой является прерывистым. В результате этого не удается достичь желаемых материальных и оптических свойств покрытия.
Сущность изобретения
Покрытие изобретения включает покрытие, расположенное поверх, по меньшей мере, части подложки. Покрытие включает, по меньшей мере, три непрерывных металлических слоя и, по меньшей мере, один прерывистый металлический слой. Прерывистый металлический слой увеличивает поглощение видимого света покрытием и в комбинации с диэлектрическими слоями надлежащей толщины также может обеспечить получение изделия с нанесенным покрытием, характеризующееся асимметричной отражающей способностью.
Покрытие изобретения включает покрытие, расположенное поверх, по меньшей мере, части подложки. Покрытие включает, по меньшей мере, четыре металлических слоя, чередующиеся с, по меньшей мере, пятью диэлектрическими слоями, где, по меньшей мере, один из металлических слоев включает прерывистый металлический слой, включающий прерывистые области металла.
Изделие с нанесенным покрытием изобретения включает подложку и покрытие, сформированное поверх, по меньшей мере, части подложки. Покрытие включает первый диэлектрический слой, сформированный поверх, по меньшей мере, части подложки; первый металлический слой, сформированный поверх, по меньшей мере, части первого диэлектрического слоя; второй диэлектрический слой, сформированный поверх, по меньшей мере, части первого металлического слоя; второй металлический слой, сформированный поверх, по меньшей мере, части второго диэлектрического слоя; третий диэлектрический слой, сформированный поверх, по меньшей мере, части второго металлического слоя; третий металлический слой, сформированный поверх, по меньшей мере, части третьего диэлектрического слоя; четвертый диэлектрический слой, сформированный поверх, по меньшей мере, части третьего металлического слоя; четвертый металлический слой, сформированный поверх, по меньшей мере, части четвертого диэлектрического слоя; пятый диэлектрический слой, сформированный поверх, по меньшей мере, части четвертого металлического слоя; и необязательный защитный слой, сформированный поверх, по меньшей мере, части третьего металлического слоя. По меньшей мере, один из металлических слоев представляет собой прерывистый слой. Например, прерывистым слоем могут быть второй металлический слой или третий металлический слой.
Дополнительное изделие с нанесенным покрытием включает подложку и пакет покрытий, расположенный поверх, по меньшей мере, части подложки. Покрытие включает первый диэлектрический слой, сформированный поверх, по меньшей мере, части подложки. Первый диэлектрический слой включает первую пленку и вторую пленку, расположенную поверх первой пленки. Поверх первого диэлектрического слоя располагают первый металлический слой. Поверх первого металлического слоя располагают необязательный первый грунтовочный слой. Поверх необязательного первого грунтовочного слоя или первого металлического слоя располагают второй диэлектрический слой. Второй диэлектрический слой включает первую пленку и вторую пленку, расположенную поверх первой пленки. Необязательно поверх второй пленки располагают третью пленку. Поверх второго диэлектрического слоя располагают второй металлический слой. Поверх второго металлического слоя располагают третий диэлектрический слой. Третий диэлектрический слой включает первую пленку и вторую пленку, расположенную поверх первой пленки. Необязательно поверх второй пленки может быть расположена третья пленка (третьего диэлектрического слоя). Поверх третьего диэлектрического слоя располагают третью металлическую пленку. Поверх третьего металлического слоя располагают четвертый диэлектрический слой, включающий первую пленку и вторую пленку, расположенную поверх первой пленки. Необязательно поверх второй пленки может быть расположена третья пленка (четвертого диэлектрического слоя). Поверх четвертого диэлектрического слоя располагают четвертый металлический слой. Поверх четвертого металлического слоя располагают необязательный четвертый грунтовочный слой. Поверх четвертого металлического слоя располагают пятый диэлектрический слой, включающий первую пленку и вторую пленку, расположенную поверх первой пленки. По меньшей мере, один из металлических слоев представляет собой прерывистый слой, включающий прерывистые области металла. Например, прерывистым слоем, включающим прерывистые области металла, являются второй металлический слой или третий металлический слой.
Способ изготовления изделия с нанесенным покрытием включает получение подложки. Поверх, по меньшей мере, части подложки наносят первый диэлектрический слой. Поверх, по меньшей мере, части первого диэлектрического слоя наносят первый металлический слой. Поверх, по меньшей мере, части первого металлического слоя наносят необязательный первый грунтовочный слой. Поверх, по меньшей мере, части необязательного первого грунтовочного слоя или первого металлического слоя наносят второй диэлектрический слой. Поверх, по меньшей мере, части второго диэлектрического слоя наносят второй металлический слой. Поверх, по меньшей мере, части необязательного второго грунтовочного слоя или второго металлического слоя наносят третий диэлектрический слой. Поверх, по меньшей мере, части третьего диэлектрического слоя наносят третий металлический слой. Поверх, по меньшей мере, части необязательного третьего грунтовочного слоя или третьего металлического слоя наносят четвертый диэлектрический слой. Поверх, по меньшей мере, части четвертого диэлектрического слоя наносят четвертый металлический слой. Поверх, по меньшей мере, части необязательного четвертого грунтовочного слоя или четвертого металлического слоя наносят пятый диэлектрический слой. По меньшей мере, один из металлических слоев представляет собой прерывистый слой, включающий прерывистые области металла. Например, второй металлический слой или третий металлический слой является субкритическим металлическим слоем, включающим прерывистые области металла. Необязательная грунтовка, расположенная непосредственно поверх прерывистого слоя, может отсутствовать.
Еще один вариант осуществления изобретения представляет собой архитектурную прозрачную конструкцию. Прозрачная конструкция включает первую прослойку, имеющую поверхность номер 1 и поверхность номер 2, и вторую прослойку, имеющую поверхность номер 3 и поверхность номер 4. Поверх, по меньшей мере, части поверхности номер 2 или поверхности номер 3 располагают покрытие в соответствии с описанием изобретения в настоящем документе.
Еще один вариант осуществления изобретения представляет собой способ изготовления архитектурной прозрачной конструкции. Способ включает получение первой прослойки, имеющей поверхность номер 1 и поверхность номер 2, и второй прослойки, имеющей поверхность номер 3 и поверхность номер 4. Либо поверхность номер 2 первой прослойки, либо поверхность номер 3 второй прослойки имеют покрытие в соответствии с описанием изобретения в настоящем документе. Первую прослойку и вторую прослойку собирают таким образом, чтобы поверхность номер 2 была обращена к поверхности номер три, и чтобы имелось свободное пространство между поверхностью номер 2 и поверхностью номер 3. Свободное пространство заполняют газом.
Краткое описание чертежей
Изобретение будет описываться при обращении к следующим далее фигурам чертежей, где подобные ссылочные позиции идентифицируют подобные детали по всем чертежам.
Фигура 1 представляет собой изображение вида сбоку (не в масштабе) для теплоизоляционного стеклопакета (IGU), имеющего покрытие изобретения;
Фигура 2 представляет собой вид сбоку в разрезе (не в масштабе) для субкритического металлического слоя совместно с грунтовочным слоем;
Фигура 3 представляет собой вид сбоку в разрезе (не в масштабе) для дополнительного покрытия изобретения.
Фигура 4 представляет собой вид в разрезе (не в масштабе) для покрытия изобретения.
Фигура 5 представляет собой вид в разрезе (не в масштабе) для покрытия изобретения.
Фигура 6 представляет собой вид в разрезе (не в масштабе) для покрытия изобретения.
Фигура 7 представляет собой вид в разрезе (не в масштабе) для покрытия изобретения.
Описание предпочтительных вариантов осуществления
В соответствии с использованием в настоящем документе термины расположения или направления в пространстве, такие как «левый», «правый», «внутренний», «наружный», «верхний», «нижний» и тому подобное, относятся к изобретению в том виде, как оно демонстрируется на фигурах чертежей. Однако, как это необходимо понимать, изобретение может допускать и различные альтернативные ориентации, и, в соответствии с этим, такие термины не должны рассматриваться в качестве ограничивающих. Кроме того, в соответствии с использованием в настоящем документе все числа, выражающие размеры, физические характеристики, технологические параметры, количества ингредиентов, условия проведения реакции и тому подобное и использующиеся в описании изобретения и формуле изобретения, должны пониматься как во всех случаях модифицированные термином «приблизительно». В соответствии с этим, если только не будет указываться на противоположное, то численные значения, представленные в следующих далее описании изобретения и формуле изобретения, могут варьироваться в зависимости от желательных свойств, получения которых добиваются в настоящем изобретении. В самом крайнем случае и не в порядке попытки наложения ограничений на область применения доктрины эквивалентов для объема формулы изобретения, каждый численный параметр должен, по меньшей мере, восприниматься в свете количества представленных значащих численных разрядов и при использовании обычных методик округления. Помимо этого, все диапазоны, раскрытые в настоящем документе, должны пониматься как включающие начальное и конечное значения диапазона и все без исключения поддиапазоны, заключенные в него. Например, установленный диапазон «от 1 до 10» должен рассматриваться как включающий все без исключения поддиапазоны в промежутке от (и с включением) минимального значения 1 до (и с включением) максимального значения 10; то есть, все поддиапазоны, начинающиеся с минимального значения, составляющего 1 и более, и заканчивающиеся максимальным значением, составляющим 10 и менее, например, от 1 до 3,3, от 4,7 до 7,5, от 5,5 до 10 и тому подобное. Кроме того, в соответствии с использованием в настоящем документе термины «сформированный поверх», «осажденный поверх» или «полученный поверх» подразумевают формирование, осаждение или получение на поверхности, но необязательно при контакте с поверхностью. Например, слой покрытия, «сформированный поверх» подложки, не исключает присутствия одного или нескольких других слоев покрытия или пленок той же самой или другой композиции, расположенных между сформированным слоем покрытия и подложкой. Термины «видимая область» или «видимый свет» относятся к электромагнитному излучению, характеризующемуся длиной волны в диапазоне от 380 нм до 800 нм. Термины «инфракрасная область» или «инфракрасное излучение» относятся к электромагнитному излучению, характеризующемуся длиной волны в диапазоне от более, чем 800 нм до 100000 нм. Термины «ультрафиолетовая область» или «ультрафиолетовое излучение» подразумевают электромагнитную энергию, характеризующуюся длиной волны в диапазоне от 300 нм до менее, чем 380 нм. В дополнение к этому, все документы, такие как нижеследующие, но не ограничивающиеся только этим: выданные патенты и патентные заявки, упомянутые в настоящем документе, должны рассматриваться как «включенные посредством ссылки в настоящий документ» во всей своей полноте. В соответствии с использованием в настоящем документе термин «пленка» относится к области покрытия, характеризующейся желательной или выбранной композицией покрытия. «Слой» может включать одну или несколько «пленок», а «покрытие» или «пакет покрытия» могут включать один или несколько «слоев». Термин «асимметричная отражательная способность» означает, что отражение видимого света покрытием с одной стороны отличается от того, что имеет место для покрытия с противоположной стороны. Термин «критическая толщина» означает толщину, выше которой материал покрытия формирует непрерывный сплошной слой, а ниже которой материал покрытия формирует прерывистые области или острова из материала покрытия, а не непрерывный слой. Термин «субкритическая толщина» означает толщину, меньшую, чем критическая толщина таким образом, что материал покрытия формирует изолированные несоединенные области из материала покрытия. Термин «островной» означает не присутствие материала покрытия в виде непрерывного слоя, а скорее осаждение материала с образованием изолированных областей или островов.
Для целей следующего далее обсуждения изобретение будет обсуждаться при обращении к использованию в связи с архитектурной прозрачной конструкцией, такой как нижеследующее, но не ограничивающейся только этим: изоляционный стеклопакет (IGU). В соответствии с использованием в настоящем документе термин «архитектурная прозрачная конструкция» относится к любой прозрачной конструкции, расположенной на здании, такой как нижеследующее, но не ограничивающейся только этим: окна и световые фонари. Однако необходимо понимать, что изобретение не ограничивается использованием таких архитектурных прозрачных конструкций, но оно могло бы быть реализовано на практике в связи с прозрачными конструкциями в любой желательной сфере, такой как нижеследующее, но не ограничивающейся только этим: ламинированные или неламинированные окна для жилых и/или коммерческих помещений, изоляционные стеклопакеты и/или прозрачные конструкции для наземных, воздушных, космических, надводных и подводных транспортных средств. Поэтому, как это необходимо понимать, конкретно раскрытые типичные варианты осуществления представлены просто для разъяснения общих концепций изобретения, и на изобретение не накладывают ограничений данными конкретными типичными вариантами осуществления. В дополнение к этому, несмотря на демонстрацию типичной «прозрачной конструкцией» достаточного пропускания видимого света таким образом, что материалы могут быть видимы сквозь прозрачную конструкцию, в практике изобретения «прозрачная конструкция» необязательно должна быть прозрачной для видимого света, но может быть и полупрозрачной или непрозрачной.
Неограничивающая прозрачная конструкция 10, включающая признаки изобретения, иллюстрируется на фигуре 1. Прозрачная конструкция 10 может пропускать и/или отражать любой желаемый видимый свет, инфракрасное излучение или ультрафиолетовое излучение. Например, прозрачная конструкция 10 может характеризоваться пропусканием видимого света любой желательной величины, например, в диапазоне от более, чем 0 % и вплоть до 100 %.
Типичная прозрачная конструкция 10 фигуры 1 имеет вид обыкновенного изоляционного стеклопакета и включает первую прослойку 12, имеющую первую основную поверхность 14 (поверхность № 1) и противолежащую вторую основную поверхность 16 (поверхность № 2). В проиллюстрированном неограничивающем варианте осуществления первая основная поверхность 14 обращена к внешнему пространству для здания, то есть, является наружной основной поверхностью, а вторая основная поверхность 16 обращена к внутреннему пространству здания. Прозрачная конструкция 10 также включает вторую прослойку 18, имеющую наружную (первую) основную поверхность 20 (поверхность № 3) и внутреннюю (вторую) основную поверхность 22 (поверхность № 4) и отстоящую в пространстве от первой прослойки 12. Данное нумерование поверхностей прослоек согласуется с обыкновенной практикой, принятой на современном уровне техники изготовления оконно-дверных изделий. Первая и вторая прослойки 12, 18 могут быть соединены друг с другом любым подходящим образом, таким как в результате клеевого соединения с обыкновенной дистанционной рамкой 24. Между двумя прослойками 12, 18 формируются зазор или камера 26. Камера 26 может быть заполнена выбранной атмосферой, такой как воздух или нереакционно-способный газ, такой как газообразные аргон или криптон. Солнцезащитное покрытие 30 (или любое из других покрытий, описанных ниже) формируют поверх, по меньшей мере, части одной из подложек 12, 18 таким образом, как нижеследующее, но без ограничения только этим: поверх, по меньшей мере, части поверхности № 2 16 или, по меньшей мере, части поверхности № 3 20. Несмотря на это, при желании покрытие также могло бы располагаться и на поверхности № 1 или поверхности № 4. Примеры изоляционных стеклопакетов встречаются, например, в патентах США №№ 4,193,236; 4,464,874; 5,088,258; и 5,106,663.
В широкой практике изобретения прослойки 12, 18 прозрачной конструкции 10 могут представлять собой идентичные или различные материалы. Прослойки 12, 18 могут включать любой желательный материал, демонстрирующий любые желательные характеристики. Например, одна или нескольких прослоек 12, 18 могут быть прозрачными или полупрозрачными для видимого света. Термин «прозрачный» подразумевает демонстрацию пропускания видимого света в диапазоне от более, чем 0 % вплоть до 100 %. В альтернативном варианте, одна или нескольких прослоек 12, 18 могут быть полупрозрачными. Термин «полупрозрачный» подразумевает демонстрацию возможности прохождения электромагнитной энергии (например, видимого света), но рассеивание данной энергии таким образом, что предметы на стороне, противоположной для наблюдателя, не являются ясно видимыми для него. Примеры подходящих для использования материалов включают нижеследующее, не ограничиваются только этим: пластмассовые подложки (такие, как акриловые полимеры, например, полиакрилаты; полиалкилметакрилаты, например, полиметилметакрилаты, полиэтилметакрилаты, полипропилметакрилаты и тому подобное; полиуретаны; поликарбонаты; полиалкилтерефталаты, таких как полиэтилентерефталат (РЕТ), полипропилентерефталаты, полибутилентерефталаты и тому подобное; полисилоксансодержащие полимеры; или сополимеры любых мономеров для получения данных материалов или любых их смесей); керамические подложки; стеклянные подложки; или смеси или комбинации из любых вышеупомянутых представителей. Например, одна или несколько прослоек 12, 18 могут включать обыкновенные натриево-кальциево-силикатное стекло, боросиликатное стекло или хрустальное стекло. Стекло может быть бесцветным стеклом. Термин «бесцветное стекло» подразумевает нетонированное или неокрашенное стекло. В альтернативном варианте, стекло может быть тонированным или другим образом окрашенным стеклом. Стекло может быть отожженным или термообработанным стеклом. В соответствии с использованием в настоящем документе термин «термообработанный» подразумевает понятия «закаленный» или «по меньшей мере, частично закаленный». Стекло может относиться к любому типу, такому как обыкновенное флоат-стекло, и может характеризоваться любой композицией, имеющей любые оптические свойства, например, любую величину пропускания видимого света, пропускания ультрафиолетового излучения, пропускания инфракрасного излучения и/или пропускания совокупной солнечной энергии. Термин «флоат-стекло» подразумевает стекло, полученное при использовании обыкновенного технологического флоат-процесса, при котором расплавленное стекло осаждают на ванну из расплавленного металла и контролируемым образом охлаждают для получения ленты флоат-стекла. Примеры технологических процессов получения флоат-стекла раскрываются в патентах США №№ 4,466,562 и 4,671,155.
Каждая из первой и второй прослоек 12, 18 может представлять собой, например, прозрачное флоат-стекло или может представлять собой тонированное или окрашенное стекло, или одна прослойка 12, 18 может представлять собой прозрачное стекло, а другая подложка 12, 18 - окрашенное стекло. Хотя и без наложения ограничений на изобретение, примеры стекла, подходящего для использования в первой прослойке 12 и/или во второй прослойке 18, описываются в патентах США №№ 4,746,347; 4,792,536; 5,030,593; 5,030,594; 5,240,886; 5,385,872; и 5,393,593. Первая и вторая прослойки 12, 18 могут иметь любые желательные размеры, например, длину, ширину, профиль или толщину. В одной типичной автомобильной прозрачной конструкции каждая из первой и второй прослоек может иметь от 1 мм до 10 мм в толщину, например, от 1 мм до 8 мм в толщину, например, от 2 мм до 8 мм, например, от 3 мм до 7 мм, например, от 5 мм до 7 мм, например, 6 мм в толщину.
Солнцезащитное покрытие 30 изобретения осаждают поверх, по меньшей мере, части, по меньшей мере, одной основной поверхности одной из стеклянных подложек 12, 18. В примере, продемонстрированном на фигуре 1, покрытие 30 формируют поверх, по меньшей мере, части внутренней поверхности 16 внешней стеклянной прослойки 12. В соответствии с использованием в настоящем документе термин «солнцезащитное покрытие» относится к покрытию, образованному из одного или нескольких слоев или пленок, которые влияют на характеристики взаимодействия с солнечным излучением изделия с нанесенным покрытием, такие как нижеследующее, но не ограничивающиеся только этим: количество солнечного излучения, например, видимого, инфракрасного или ультрафиолетового излучения, отраженного от изделия с нанесенным покрытием, поглощенного им или проходящего через него; коэффициент экранирования; излучательная способность и тому подобное. Солнцезащитное покрытие 30 может блокировать, поглощать или отфильтровывать выбранные части спектра солнечного излучения, такие как нижеследующее, но не ограничивающиеся только этим: спектры в ИК, УФ- и/или видимом диапазонах.
Солнцезащитные покрытия 30 могут быть осаждены при использовании любого обыкновенного способа, такого как нижеследующее, но не ограничивающегося только этим: обыкновенные способы химического осаждения из паровой фазы («CVD») и/или физического осаждения из паровой фазы («PVD»). Примеры технологических процессов CVD включают пиролиз распыляемого вещества. Примеры технологических процессов PVD включают электронно-пучковое испарение и вакуумное напыление (такое как вакуумное осаждение при магнетронном напылении (MSVD)). Также могли бы быть использованы и другие способы нанесения покрытия, такие как нижеследующее, но не ограничивающиеся только этим: золь-гелевое осаждение. В одном неограничивающем варианте осуществления покрытие 30 может быть осаждено при использовании способа MSVD. Примеры устройств для нанесения покрытий при использовании способа MSVD должны быть хорошо понятными для специалистов в соответствующей области техники и описываются, например, в патентах США №№ 4,379,040; 4,861,669; 4,898,789; 4,898,790; 4,900,633; 4,920,006; 4,938,857; 5,328,768; и 5,492,750.
Одно типичное неограничивающее солнцезащитное покрытие 30 изобретения продемонстрировано на фигуре 4. Данное типичное покрытие 30 включает слой основы или первый диэлектрический слой 440, осажденный поверх, по меньшей мере, части основной поверхности подложки (например, поверхности № 2 416 первой прослойки 12). Первый диэлектрический слой 440 может быть единственным слоем или может включать более чем одну пленку из противоотражающих материалов и/или диэлектрических материалов, таких как нижеследующее, не ограничивающихся только этим: оксиды металлов, оксиды металлических сплавов, нитриды, оксинитриды или их смеси. Первый диэлектрический слой 440 может быть прозрачным для видимого света. Примеры оксидов металлов или нитридов металлов, подходящих для использования в первом диэлектрическом слое 440 или любой пленке в нем, включают оксиды, нитриды или оксинитриды титана, гафния, циркония, ниобия, цинка, висмута, свинца, индия, олова, алюминия, кремния и их смесей. Оксиды металлов могут содержать маленькие количества других материалов, таких как марганец в оксиде висмута, олово в оксиде индия и тому подобное. В дополнение к этому, могут быть использованы оксиды металлических сплавов или металлических смесей, такие как оксиды, содержащие цинк и олово, (например, станнат цинка, определенный ниже), оксиды олово-индиевых сплавов, нитриды кремния, нитриды кремния-алюминия или нитриды алюминия. Кроме того, могут быть использованы легированные оксиды металлов, такие как оксиды олова, легированные сурьмой или индием, или оксиды кремния, легированные никелем или бором. Первый диэлектрический слой 440 может представлять собой по существу однофазную пленку, такую как пленка из оксида металлического сплава, например, станната цинка, или может представлять собой смесь из фаз, образованных из оксидов цинка и олова, или может быть образован из множества пленок.
x
1 - x
2 - x
2/3
1/3
4/3
2
4
Как это продемонстрировано на фигуре 5, первый диэлектрический слой 440 может включать многопленочную структуру, включающую первую пленку 442, например, пленку из оксида металлического сплава, осажденную поверх, по меньшей мере, части подложки (такой как внутренняя основная поверхность 16 первой прослойки 12), и вторую пленку 444, например, пленку из оксида металла или смеси из оксидов металлов, осажденную поверх первой пленки 442. В одном неограничивающем варианте осуществления первая пленка 442 может представлять собой оксид сплава цинк/олово. Термин «оксид сплава цинк/олово» подразумевает как истинные сплавы, так также и смеси из оксидов. Оксид сплава цинк/олово может представлять собой соответствующий материал, полученный в результате вакуумного осаждения при магнетронном напылении из катода из цинка и олова. Один неограничивающий катод может содержать цинк и олово с долями в диапазоне от 5 % (масс.) до 95 % (масс.) цинка и от 95 % (масс.) до 5 % (масс.) олова, таким образом, как от 10 % (масс.) до 90 % (масс.) цинка и от 90 % (масс.) до 10 % (масс.) олова. Однако, также могли бы быть использованы и другие соотношения между цинком и оловом. Один подходящий для использования оксид металлического сплава, который может присутствовать в первой пленке 442, представляет собой станнат цинка. Термин «станнат цинка» подразумевает композицию ZnSnO (формула 1), где «х» варьируется в диапазоне от более, чем 0 до менее, чем 1. Например, «х» может составлять более, чем 0 и может быть любой дробью или десятичной дробью в диапазоне между более, чем 0 и менее, чем 1. Например, при х = 2/3 формула 1 представляет собой ZnSnO, что в более общепринятом варианте записывается как «ZnSnO». Пленка, содержащая станнат цинка, включает одну или несколько форм формулы 1 в преобладающем количестве в пленке.
Вторая пленка 444 может быть пленкой из оксида металла такого как оксид цинка. Оксид цинка может быть осажден из цинкового катода, который содержит и другие материалы для улучшения характеристик напыления из катода. Например, цинковый катод может содержать маленькое количество (например, вплоть до 20 % (масс.), вплоть до 15 % (масс.), вплоть до 10 % (масс.) или вплоть до 5 % (масс.)) олова для улучшения напыления. В этом случае получающаяся в результате пленка из оксида цинка будет включать маленький уровень процентного содержания оксида олова, например, вплоть до 10 % (масс.) оксида олова, например, вплоть до 5 % (масс.) оксида олова. Слой покрытия, осажденный из цинкового катода, содержащего вплоть до 10 % (масс.) олова (добавленного для улучшения проводимости катода), в настоящем документе обозначается термином «пленка из оксида цинка» даже несмотря на возможность присутствия маленького количества олова. Считается, что маленькое количество олова в катоде (например, меньшее или равное 10 % (масс.), например, меньшее или равное 5 % (масс.)), формирует оксид олова во второй пленке 44, состоящей преимущественно из оксида цинка.
Поверх первого диэлектрического слоя 440 может быть осажден первый металлический слой 446. Первый металлический слой 446 может содержать отражающий металл, такой как нижеследующее, но не ограничивающийся только этим: металлические золото, медь, палладий, алюминий, серебро или их смеси, сплавы или комбинации. В одном варианте осуществления отражающий металл представляет собой серебро или медь. В другом варианте осуществления первый металлический слой 446 содержит серебро и медь. Первый металлический слой 446 может быть непрерывным слоем. В альтернативном варианте, первый металлический слой 446 может быть прерывистым слоем. Первый металлический слой 446 может иметь толщину, составляющую менее, чем 250 Å, предпочтительно менее, чем 200 Å, более предпочтительно менее, чем 125 Å, наиболее предпочтительно менее, чем 100 Å; и/или более, чем 50 Å; предпочтительно более, чем 60 Å; более предпочтительно более, чем 65 Å; наиболее предпочтительно более, чем 70 Å. В одном варианте осуществления первый металлический слой 446 имеет толщину в диапазоне от 78 Å до 121 Å. В другом варианте осуществления первый металлический слой 446 имеет толщину в диапазоне от 70 Å до 99 Å.
Поверх первого металлического слоя 446 может быть расположен необязательный первый грунтовочный слой 448. Необязательный первый грунтовочный слой 448 может включать одиночную пленку, либо множество пленок. Необязательный первый грунтовочный слой 448 может содержать улавливающий кислород материал, который может жертвовать собой во время технологического процесса осаждения в целях предотвращения разложения или окисления первого металлического слоя 446 во время технологического процесса напыления или последующих технологических процессов нагревания. Необязательный первый грунтовочный слой 448 также может поглощать, по меньшей мере, часть электромагнитного излучения, такого как видимый свет, проходящего через покрытие 30. Примеры материалов, подходящих для использования в необязательном первом грунтовочном слое 448, включают титан, кремний, диоксид кремния, нитрид кремния, оксинитрид кремния, никель-хромовые сплавы (такие как продукт Inconel), цирконий, алюминий, сплавы кремния и алюминия, сплавы, содержащие кобальт и хром, (например, продукт Stellite) и их смеси. Например, необязательный первый грунтовочный слой 448 может представлять собой титан или сплав, или смесь из титана и алюминия.
2
4
Поверх первого металлического слоя 446 или поверх необязательного первого грунтовочного слоя 448 располагают второй диэлектрический слой 450. Второй диэлектрический слой 450 может включать одну или несколько содержащих оксид металла или оксид металлического сплава пленок, таких как соответствующие пленки, описанные выше в отношении первого диэлектрического слоя 440. Как это следует из обращения, например, к фигуре 5, второй диэлектрический слой 450 может включать первую пленку 452, например, пленку из оксида цинка, осажденную поверх первого металлического слоя 446 или необязательной первой грунтовочной пленки 448, и вторую пленку 454, например, пленку из станната цинка (ZnSnO), осажденную поверх первой пленки 452. Поверх второй пленки может быть осаждена необязательная третья пленка 456, например, вторая пленка из оксида цинка.
Поверх второго диэлектрического слоя 450 (например, поверх второй пленки из оксида цинка 456, если таковая присутствует, или поверх пленки из станната цинка, при отсутствии таковой) располагают второй металлический слой 458. Металлический материал может представлять собой металлические золото, медь, палладий, алюминий, серебро или их смеси, сплавы или комбинации. Он может быть нанесен в виде непрерывного слоя или в виде прерывистого слоя таким образом, чтобы сформировались изолированные области или острова материала, а не непрерывный слой материала. Второй металлический слой 458 может иметь толщину, которая является большей, чем толщина первого металлического слоя 446. Второй металлический слой 458 может иметь толщину, которая составляет, по меньшей мере, 70 Å, предпочтительно, по меньшей мере, 100 Å, более предпочтительно, по меньшей мере, 125 Å, наиболее предпочтительно, по меньшей мере, 128 Å; и/или, самое большее, 250 Å; предпочтительно, самое большее, 225 Å, более предпочтительно, самое большее, 200 Å; наиболее предпочтительно, самое большее, 191 Å.
Поверх второго металлического слоя 458 может быть осажден необязательный второй грунтовочный слой 460. Необязательный второй грунтовочный слой 460 может соответствовать представленному выше описанию изобретения в отношении необязательного первого грунтовочного слоя 448. В одном примере необязательный второй грунтовочный слой 460 может представлять собой титан. Любой из грунтовочных слоев может быть напыленным в нереакционно-способной атмосфере, такой как низкокислородная или бескислородная атмосфера. После этого изделие с нанесенным покрытием могло бы быть подвергнуто дополнительной переработке, такой как осаждение дополнительных оксидных слоев в кислородсодержащей атмосфере. Во время данного дополнительного осаждения грунтовка будет окисляться.
Поверх второго металлического слоя 458 (например, поверх необязательного второго грунтовочного слоя 460) может быть осажден третий диэлектрический слой 462. Третий диэлектрический слой 462 также может включать одну или несколько содержащих оксид металла или оксид металлического сплава пленок, таких как соответствующие пленки, обсуждавшиеся выше в отношении первого и второго диэлектрических слоев 440, 450. Третий диэлектрический слой 462 может включать первую пленку 464, например, пленку из оксида цинка, вторую пленку 466, например, пленку из станната цинка, осажденную поверх первой пленки 464. Поверх второй пленки может быть осаждена необязательная третья пленка 468, например, второй слой оксида цинка.
Поверх третьего диэлектрического слоя 462 осаждают третий металлический слой 470. Третий металлический слой 470 также может представлять собой любой из материалов, обсуждавшихся выше в отношении первого металлического слоя 446. В одном неограничивающем примере третий металлический слой 470 содержит, серебро, медь или серебро и медь. Третий металлический слой 470 является непрерывным слоем. В альтернативном варианте, третий металлический слой 470 может быть прерывистым слоем. Третий металлический слой 470 может быть более тонким, чем второй металлический слой 458. Третий металлический слой может иметь толщину, составляющую, по меньшей мере, толщину, составляющую менее, чем 250 Å, предпочтительно менее, чем 200 Å, более предпочтительно менее, чем 125 Å, наиболее предпочтительно менее, чем 100 Å; и/или более, чем 50 Å; предпочтительно более, чем 60 Å; более предпочтительно более, чем 65 Å; наиболее предпочтительно более, чем 70 Å. В одном варианте осуществления первый металлический слой 446 имеет толщину в диапазоне от 97 Å до 105 Å. В еще одном варианте осуществления первый металлический слой 446 имеет толщину в диапазоне от 70 Å до 125 Å.
Поверх третьего металлического слоя 470 располагают необязательный третий грунтовочный слой 472. Необязательный третий грунтовочный слой 472 может соответствовать представленному выше описанию изобретения в отношении необязательных первого или второго грунтовочных слоев 448 или 460.
Поверх третьего металлического слоя 470 (например, поверх необязательного третьего грунтовочного слоя 472) располагают четвертый диэлектрический слой 474. Четвертый диэлектрический слой 474 может включать один или несколько содержащих оксид металла или оксид металлического сплава слоев, таких как соответствующие слои, обсуждавшиеся выше в отношении первого, второго или третьего диэлектрических слоев 440, 450, 462. В одном неограничивающем примере четвертый диэлектрический слой 474 является многослойным слоем, включающим первую пленку 476, осажденную поверх третьего металлического слоя 470 или третьего грунтовочного слоя 472, и вторую пленку 478, осажденную поверх первой пленки 476. Поверх второй пленки может быть осаждена необязательная третья пленка 479.
Поверх четвертого диэлектрического слоя 474 располагают четвертый металлический слой 492. Четвертый металлический слой 492 может содержать отражающий металл, такой как нижеследующее, но не ограничивающийся только этим: металлические золото, медь, палладий, алюминий, серебро или их смеси, сплавы или комбинации. В одном варианте осуществления отражающий металл представляет собой серебро, медь или комбинацию из серебра и меди. В одном варианте осуществления четвертый металлический слой 492 содержит серебро и медь. Четвертый металлический слой 492 может быть непрерывным слоем или прерывистым слоем. Четвертый металлический слой 492 может иметь толщину, большую, чем толщина первого металлического слоя 446. Четвертый металлический слой 492 также может иметь толщину, большую, чем толщина третьего металлического слоя 470. Четвертый металлический слой может иметь толщину, составляющую, по меньшей мере, 100 Å, предпочтительно, по меньшей мере, 150 Å, более предпочтительно, по меньшей мере, 175 Å, наиболее предпочтительно, по меньшей мере, 181 Å; и/или, самое большее, 300 Å; предпочтительно, самое большее, 275 Å, более предпочтительно 250 Å; наиболее предпочтительно, самое большее, 240 Å.
Поверх четвертого металлического слоя 492 может быть осажден необязательный четвертый грунтовочный слой 540. Четвертый грунтовочный слой 540 может соответствовать представленному выше описанию изобретения в отношении необязательного первого грунтовочного слоя 448, второго грунтовочного слоя 460 или третьего грунтовочного слоя 472. В одном примере необязательный четвертый грунтовочный слой 540 может представлять собой титан.
Поверх четвертого металлического слоя 492 (например, поверх необязательного четвертого грунтовочного слоя 540) располагают пятый диэлектрический слой 550. Пятый диэлектрический слой 550 может быть образован из одного или нескольких слоев, содержащих оксид металла или оксид металлического сплава, таких как слои, обсуждавшиеся выше в отношении первого, второго, третьего или четвертого диэлектрических слоев 440, 450. 462, 474. В одном неограничивающем примере пятый диэлектрический слой 550 является многопленочным слоем, включающим первую пленку 502, осажденную поверх четвертого грунтовочного слоя 540 или четвертого металлического слоя 492, и вторую пленку 504, осажденную поверх первой пленки 502.
В еще одном неограничивающем примере пятый диэлектрический слой 550 включает первую пленку 502 и вторую пленку 504. Первая пленка содержит оксид цинка. Вторая пленка содержит нитрид кремния.
В еще одном неограничивающем примере пятый диэлектрический слой 550 включает первую пленку 502, вторую пленку 504 и третью пленку (не показано). Первая пленка 502 содержит оксид цинка или станнат цинка. Вторая пленка 504 содержит станнат цинка, диоксид кремния или оксинитрид кремния. Третья пленка содержит нитрид кремния. Диоксид кремния, оксинитриды кремния и нитрид кремния могут содержать алюминий, такой как оксид алюминия или нитрид алюминия, в количествах, доходящих вплоть до 5 массовых процентов, вплоть до 10 массовых процентов, вплоть до 15 массовых процентов или вплоть до 20 массовых процентов. В одном варианте осуществления вторая пленка 504 и третья пленка представляют собой градиентный слой с переходом от диоксида кремния или оксинитридов кремния к нитриду кремния.
Поверх пятого диэлектрического слоя 550 может быть расположено необязательное облицовочное покрытие (overcoat) 480. Облицовочное покрытие 480 может способствовать предохранению лежащих ниже слоев покрытия от механического и химического воздействия. Облицовочное покрытие 480 может представлять собой, например, слой оксида металла или нитрида металла. Например, облицовочное покрытие может представлять собой диоксид титана или смесь из диоксида титана и оксида алюминия. Другие материалы, подходящие для использования в облицовочном покрытии, включают другие оксиды, такие как диоксид кремния, оксид алюминия или смесь из диоксида кремния и оксида алюминия.
В одном неограничивающем варианте осуществления прозрачная конструкция характеризуется пропусканием видимого света, составляющим более, чем 20 %, таким образом, как более, чем 30 %, таким образом, как более, чем 34 %. Прозрачная конструкция характеризуется коэффициентом теплопритока от солнечной радиации (SHGC), составляющим менее, чем 0,3, таким образом, как менее, чем 0,27, таким образом, как менее, чем 0,25, таким образом, как в точности или менее, чем 0,22, таким образом, как менее, чем 0,20, таким образом, как менее, чем 0,19; и/или, по меньшей мере, 0,10; по меньшей мере, 0,12; по меньшей мере, 0,15; или, по меньшей мере, 0,17. Прозрачная конструкция характеризуется коэффициентом усиления света к солнечному свету (LSG) (соотношением между пропусканием видимого света и коэффициентом теплопритока от солнечной радиации), составляющим, по меньшей мере, 1,7, по меньшей мере, 1,75, по меньшей мере, 1,8 или, по меньшей мере, 1,85; и/или, самое большее, 2,25; самое большее, 2,15; самое большее, 2,10; или, самое большее, 2,06.
Любой один из первого металлического слоя 446, второго металлического слоя 458, третьего металлического слоя 470 и четвертого металлического слоя 492 может представлять собой прерывистый слой. В одном варианте осуществления только второй металлический слой или только третий металлический слой являются прерывистым слоем. В еще одном варианте осуществления только третий металлический слой является прерывистым слоем. В еще одном варианте осуществления только второй металлический слой является прерывистым слоем.
Изделие с нанесенным покрытием может характеризоваться общей толщиной всех металлических слоев (например, общей толщиной, являющейся объединенной толщиной первого, второго, третьего и четвертого металлических слоев). Данная общая толщина может находиться в диапазоне от 200 Å до 750 Å, предпочтительно от 225 Å до 650 Å, более предпочтительно от 250 Å до 600 Å, наиболее предпочтительно от 252 Å до 582 Å. Изделие с нанесенным покрытием может характеризоваться общей толщиной всех металлических слоев, которые являются непрерывными слоями (то есть, за исключением толщины прерывистого слоя (слоев)). Общая толщина всех непрерывных слоев может находиться в диапазоне от 150 Å до 750 Å, предпочтительно от 200 Å до 650 Å, более предпочтительно от 225 Å до 575 Å, наиболее предпочтительно от 237 Å до 563 Å.
Изделие с нанесенным покрытием может включать одиночный прерывистый металлический слой, где все другие металлические слои являются непрерывными металлическими слоями.
Грунтовка, такая как любая из грунтовок, описанных выше, может быть расположена поверх и при непосредственном контакте с любым из металлических слоев. Грунтовка может представлять собой смесь из титана и алюминия.
Изобретение, кроме того, относится к способу изготовления изделия с нанесенным покрытием. Способ включает получение подложки. Поверх, по меньшей мере, части подложки наносят первый диэлектрический слой. Поверх, по меньшей мере, части первого диэлектрического слоя наносят первый металлический слой. Поверх, по меньшей мере, части первого металлического слоя наносят второй диэлектрический слой. Поверх, по меньшей мере, части второго диэлектрического слоя наносят второй металлический слой. Поверх, по меньшей мере, части второго металлического слоя наносят третий диэлектрический слой. Поверх, по меньшей мере, части третьего диэлектрического слоя наносят третий металлический слой. Поверх, по меньшей мере, части четвертого металлического слоя наносят четвертый диэлектрический слой. Поверх, по меньшей мере, части четвертого металлического слоя наносят пятый диэлектрический слой. Первый металлический слой, второй металлический слой, третий металлический слой или четвертый металлический слой являются прерывистым слоем. Поверх пятого диэлектрического слоя может быть нанесено необязательное защитное облицовочное покрытие. Необязательно поверх первого металлического слоя, второго металлического слоя, третьего металлического слоя и/или четвертого металлического слоя может быть нанесена грунтовка. В еще одном варианте осуществления либо второй, либо третий металлические слои являются прерывистым слоем.
Еще один вариант осуществления изобретения представляет собой способ изготовления архитектурной прозрачной конструкции. Способ включает получение первой прослойки, имеющей поверхность номер 1 и поверхность номер 2, получение второй прослойки, имеющей поверхность номер 3 и поверхность номер 4. Либо поверхность номер 2 первой прослойки, либо поверхность номер 3 второй прослойки имеют покрытие, описанное в настоящем документе. Первую прослойку и вторую прослойку собирают таким образом, чтобы поверхность номер 2 была обращена к поверхности номер три, и чтобы имелось свободное пространство между поверхностью номер 2 и поверхностью номер 3. Свободное пространство заполняют газом. Газ может представлять собой воздух или аргон.
В одном варианте осуществления прерывистый металлический слой является третьим металлическим слоем. В таком варианте осуществления покрытие может характеризоваться толщиной для каждого слоя, как описано в таблице 1, или для каждой пленки, как описано в таблице 2. В данном варианте осуществления третий диэлектрический слой имеет толщину большую, чем толщина первого диэлектрического слоя, второго диэлектрического слоя, четвертого диэлектрического слоя и/или пятого диэлектрического слоя. Третий диэлектрический слой также включает третью пленку.
Таблица 1: Толщина слоя, когда прерывистый металлический слой является третьим металлическим слоем
Слой
Диапазон (Å)
Предпочтительно (Å)
Более предпочтительно (Å)
Наиболее предпочтительно (Å)
1-ый диэлектрический
250 - 600
300 - 525
325 - 475
353 - 446
1-ый металлический
50 - 300
60 - 150
70 - 125
70 - 99 или 78 - 121
1-ый грунтовочный
5 - 50
15 - 45
20 - 40
25 - 36
2-ой диэлектрический
300 - 1100
400 - 1000
475 - 900
504 - 824
2-ой металлический
50 - 300
70 - 250
75 - 200
79 - 191
2-ой грунтовочный
5 - 50
15 - 45
20 - 40
25 - 36
3-ий диэлектрический
75 - 750
100 - 600
150 - 450
199 - 412
3-ий металлический
5 - 30
10 - 25
12 - 22
15 - 19
3-ий грунтовочный
5 - 50
15 - 45
17 - 40
20 - 36
4-ый диэлектрический
175 - 800
250 - 700
300 - 650
334 - 603
4-ый металлический
50 - 300
60 - 275
75 - 250
80 - 240
4-ый грунтовочный
5 - 50
15 - 45
20 - 40
25 - 36
5-ый диэлектрический
125 - 550
175 - 450
225 - 400
260 - 340
Облицовочное покрытие
25 - 75
30 - 60
35 - 55
40 - 50
Таблица 2: Толщина пленки, когдапрерывистый металлический слой является третьим металлическим слоем
Слой
Диапазон (Å)
Предпочтительно (Å)
Более предпочтительно (Å)
Наиболее предпочтительно (Å)
1-ый диэлектрический: 1-ая пленка
200 - 400
225 - 375
250 - 350
262 - 337
1-ый диэлектрический: 2-ая пленка
50 - 200
75 - 150
90 - 125
91 - 109
1-ый металлический
50 - 300
60 - 150
70 - 125
70 - 99 или 78 - 121
1-ый грунтовочный
5 - 50
15 - 45
20 - 40
25 - 36
2-ой диэлектрический: 1-ая пленка
25 - 150
50 - 125
50 - 100
63 - 90
2-ой диэлектрический: 2-ая пленка
250 - 800
300 - 750
350 - 700
360 - 680
2-ой диэлектрический: 3-ья пленка
25 - 150
50 - 125
75 - 100
81 - 95
2-ой металлический
50 - 300
70 - 250
75 - 200
79 - 191
2-ой грунтовочный
5 - 50
15 - 45
20 - 40
25 - 36
3-ий диэлектрический: 1-ая пленка
25 - 200
50 - 150
75 - 125
97 - 105
3-ий диэлектрический: 2-ая пленка
50 - 550
50 - 450
75 - 325
100 - 315
3-ий металлический
5 - 30
10 - 25
12 - 22
15 - 19
3-ий грунтовочный
5 - 50
15 - 45
17 - 40
20 - 36
4-ый диэлектрический: 1-ая пленка
150 - 650
200 - 550
225 - 525
246 - 500
4-ый диэлектрический: 2-ая пленка
25 - 150
50 - 150
75 - 125
88 - 103
4-ый металлический
50 - 300
60 - 275
75 - 250
80 - 240
4-ый грунтовочный
5 - 50
15 - 45
20 - 40
25 - 36
5-ый диэлектрический: 1-ая пленка
25 - 150
50 - 150
75 - 125
90 - 107
5-ый диэлектрический: 2-ая пленка
100 - 400
125 - 300
150 - 275
170 - 250
Облицовочное покрытие
25 - 75
30 - 60
35 - 55
40 - 50
В другом варианте осуществления прерывистый металлический слой является вторым металлическим слоем. В таком варианте осуществления покрытие может характеризоваться толщиной для каждого слоя, как описано в таблице 3, или для каждой пленки в соответствии с таблицей 4. В данном варианте осуществления четвертый диэлектрический слой имеет толщину, большую, чем толщина первого диэлектрического слоя, второго диэлектрического слоя, третьего диэлектрического слоя и/или пятого диэлектрического слоя. Четвертый диэлектрический слой также включает третью пленку.
Таблица 3: Толщина слоя, когда прерывистый металлический слой является вторым металлическим слоем
Слой
Диапазон (Å)
Предпочтительно (Å)
Более предпочтительно (Å)
Наиболее предпочтительно (Å)
1-ый диэлектрический
250 - 600
300 - 525
325 - 475
353 - 446
1-ый металлический
50 - 250
75 - 200
100 - 175
125 - 150
1-ый грунтовочный
5 - 50
15 - 45
20 - 40
25 - 36
2-ой диэлектрический
225 - 775
300 - 650
350 - 525
400 - 450
2-ой металлический
5 - 30
10 - 25
12 - 22
15 - 19
2-ой грунтовочный
5 - 50
15 - 45
17 - 40
20 - 36
3-ий диэлектрический
175 - 600
225 - 500
260 - 425
300 - 350
3-ий металлический
50 - 300
70 - 250
75 - 200
79 - 191
3-ий грунтовочный
5 - 50
15 - 45
20 - 40
25 - 36
4-ый диэлектрический
350 - 1125
475 - 975
615 - 875
690 - 785
4-ый металлический
50 - 300
60 - 275
75 - 250
80 - 240
4-ый грунтовочный
5 - 50
15 - 45
20 - 40
25 - 36
5-ый диэлектрический
125 - 550
175 - 450
225 - 400
260 - 340
Облицовочное покрытие
25 - 75
30 - 60
35 - 55
40 - 50
Таблица 4: Толщина пленки, когда прерывистый металлический слой является вторым металлическим слоем
Слой
Диапазон (Å)
Предпочтительно (Å)
Более предпочтительно (Å)
Наиболее предпочтительно (Å)
1-ый диэлектрический: 1-ая пленка
200 - 400
225 - 375
250 - 350
262 - 337
1-ый диэлектрический: 2-ая пленка
50 - 200
75 - 150
90 - 125
91 - 109
1-ый металлический
50 - 250
75 - 200
100 - 175
125 - 150
1-ый грунтовочный
5 - 50
15 - 45
20 - 40
25 - 36
2-ой диэлектрический: 1-ая пленка
25 - 175
50 - 150
50 - 125
75 - 100
2-ой диэлектрический: 2-ая пленка
200 - 600
250 - 500
300 - 400
325 - 350
2-ой металлический
5 - 30
10 - 25
12 - 22
15 - 19
2-ой грунтовочный
5 - 50
15 - 45
17 - 40
20 - 36
3-ий диэлектрический: 1-ая пленка
150 - 400
175 - 350
200 - 300
225 - 250
3-ий диэлектрический: 2-ая пленка
25 - 200
50 - 150
60 - 125
75 - 100
3-ий металлический
50 - 300
70 - 250
75 - 200
79 - 191
3-ий грунтовочный
5 - 50
15 - 45
20 - 40
25 - 36
4-ый диэлектрический: 1-ая пленка
25 - 175
50 - 150
75 - 125
90 - 110
4-ый диэлектрический: 2-ая пленка
300 - 800
400 - 700
500 - 650
550 - 600
4-ый диэлектрический: 3-ья пленка
25 - 150
25 - 125
40 - 100
50 - 75
4-ый металлический
50 - 300
60 - 275
75 - 250
80 - 240
4-ый грунтовочный
5 - 50
15 - 45
20 - 40
25 - 36
5-ый диэлектрический: 1-ая пленка
25 - 150
50 - 150
75 - 125
90 - 107
5-ый диэлектрический: 2-ая пленка
100 - 400
125 - 300
150 - 275
170 - 250
Облицовочное покрытие
25 - 75
30 - 60
35 - 55
40 - 50
Следующие далее примеры иллюстрируют различные варианты осуществления изобретения. Однако необходимо понимать, что изобретение не ограничивается данными конкретными вариантами осуществления.
ПРИМЕРЫ
Примеры 1 - 4 получали в результате нанесения на стекло пакетов покрытий, описанных в таблице 5.
Таблица 5: Примеры 1 - 4
Пример 1
Пример 2
Пример 3
Пример 4
Материал
Толщина (Å)
Толщина (Å)
Толщина (Å)
Толщина (Å)
Стекло
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
312
301
262
307
ZnO
109
109
91
109
Ag
78
81
121
78
Ti
35
35
35
35
ZnO
63
63
71
63 е
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
524
551
463
490
ZnO
81
85
95
84
Ag
182
191
128
154
Ti
35
36
36
36
ZnO
99
97
105
99
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
296
315
292
200
Ag
18,8
17,1
15,75
17
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
296
300
246
340
ZnO
103
102
88
103
Ag
188
197
240
181
Ti
28
28
28
28
ZnO
90
90
107
90
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
172
170
205
170
TiO<sub>2</sub>
44
44
44
44
В примере 1 значение LTA (пропускание видимого света) составляло 34,0, значение SHGC составляло 0,183, а значение LSG составляло 1,86. В примере 2 значение LTA составляло 34,3, значение SHGC составляло 0,178, а значение LSG составляло 1,93. В примере 3 значение LTA составляло 37,3, значение SHGC составляло 0,182, а значение LSG составляло 2,05. В примере 4 значение LTA составляло 40,1, значение SHGC составляло 0,22, а значение LSG составляло 1,82.
Примеры 5 - 7 получали в результате нанесения на стекло пакетов покрытий, описанных в таблице 6.
Таблица 6: Примеры 5 - 7
Пример 5
Пример 6
Пример 7
Материал
Толщина (нм)
Толщина (нм)
Толщина (нм)
Стекло
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
30,7
33,7
31,7
ZnO
10,9
10,9
10,9
Ag
11,2
10,7
10,7
Ti
3,5
3,5
3,5
ZnO
6,3
6,3
6,3
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
42,0
36,0
68,0
ZnO
8,1
8,1
8,1
Ag
12,4
7,9
16,4
Ti
3,6
3,6
3,6
ZnO
9,9
9,9
9,9
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
20,0
10,0
20,0
Ag
1,5
1,9
1,7
Ti
2,0
3,0
3,5
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
34,0
50,0
35,0
ZnO
10,3
10,3
10,3
Ag
23,8
19,5
10,0
Ti
2,8
2,8
2,8
Пример 8 получали в результате нанесения на стекло пакета покрытий, описанного в таблице 7.
Таблица 7: Пример 8
Пример 8
Материал
Толщина (нм)
Стекло
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
31,7
ZnO
10,9
Ag
13,2
Ti
3,5
ZnO
9,0
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
33,0
Ag
1,7
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
24,0
ZnO
8,0
Ag
16,4
Ti
3,6
ZnO
9,9
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
57,0
ZnO
5,4
Ag
8,0
Ti
2,8
ZnO
9,0
Zn<sub>2</sub>SnO<sub>4</sub>
21,0
TiO<sub>2</sub>
4,4
Настоящее изобретение, кроме того, описывается в следующих далее пронумерованных пунктах.
Пункт 1: Изделие с нанесенным покрытием, включающее: подложку; первый диэлектрический слой, расположенный поверх, по меньшей мере, части подложки; первый металлический слой, расположенный поверх, по меньшей мере, части первого диэлектрического слоя; необязательный первый грунтовочный слой, расположенный поверх, по меньшей мере, части первого металлического слоя; второй диэлектрический слой, расположенный поверх, по меньшей мере, части первого грунтовочного слоя; второй металлический слой, расположенный поверх, по меньшей мере, части второго диэлектрического слоя; необязательный второй грунтовочный слой, расположенный поверх, по меньшей мере, части второго металлического слоя; третий диэлектрический слой, расположенный поверх, по меньшей мере, части второго грунтовочного слоя; третий металлический слой, расположенный поверх, по меньшей мере, части третьего диэлектрического слоя; необязательный третий грунтовочный слой, расположенный поверх, по меньшей мере, части третьего металлического слоя; четвертый диэлектрический слой, расположенный поверх, по меньшей мере, части третьего грунтовочного слоя; четвертый металлический слой, расположенный поверх, по меньшей мере, части четвертого диэлектрического слоя; и необязательный четвертый грунтовочный слой, расположенный поверх, по меньшей мере, части четвертого металлического слоя; пятый диэлектрический слой, расположенный поверх, по меньшей мере, части четвертого металлического слоя; где первый металлический слой, второй металлический слой, третий металлический слой или четвертый металлический слой являются прерывистым слоем.
Пункт 2: Изделие по пункту 1, где необязательную первую грунтовку, вторую грунтовку, необязательную третью грунтовку или необязательную четвертую грунтовку выбирают из титана, алюминиево-кремниевых сплавов, сплавов никеля, сплавов, содержащих никель и хром, сплавов кобальта, сплавов, содержащих кобальт и хром, меди, алюминия, кремния, никель-хромового сплава, циркония, их смесей и их сплавов.
Пункт 3: Изделие по пунктам 1 или 2, где необязательную первую грунтовку, необязательную вторую грунтовку, необязательную третью грунтовку или четвертую грунтовку осаждают в виде металла, а впоследствии окисляют.
Пункт 4: Изделие по любому из пунктов 1 - 3, где прерывистый слой содержит серебро или медь.
Пункт 5: Изделие по любому из пунктов 1 - 4, где прерывистый слой содержит серебро и медь.
Пункт 6: Изделие по любому из пунктов 1 - 5, где второй диэлектрический слой или третий диэлектрический слой включают слой оксида цинка и слой станната цинка, расположенный поверх слоя оксида цинка.
Пункт 7: Изделие по любому из пунктов 1 - 6, включающее, кроме того, защитное покрытие, расположенное поверх пятого диэлектрического слоя.
Пункт 8: Изделие по любому из пунктов 1 - 7, где первый диэлектрический слой содержит оксид, нитрид или оксинитриды титана, гафния, циркония, ниобия, цинка, висмута, свинца, индия, олова, алюминия, кремния или их смеси.
Пункт 9: Изделие по любому из пунктов 1 - 8, где второй диэлектрический слой содержит оксид, нитрид или оксинитрид титана, гафния, циркония, ниобия, цинка, висмута, свинца, индия, олова, алюминия, кремния или их смеси.
Пункт 10: Изделие по любому из пунктов 1 - 9, где третий диэлектрический слой содержит оксид, нитрид или оксинитрид титана, гафния, циркония, ниобия, цинка, висмута, свинца, индия, олова, алюминия, кремния или их смеси.
Пункт 11: Изделие по любому из пунктовй 1 - 10, где четвертый диэлектрический слой содержит оксид, нитрид или оксинитрид титана, гафния, циркония, ниобия, цинка, висмута, свинца, индия, олова, алюминия, кремния или их смеси.
Пункт 12: Изделие по любому из пунктов 1 - 11, где пятый диэлектрический слой содержит оксид, нитрид или оксинитрид титана, гафния, циркония, ниобия, цинка, висмута, свинца, индия, олова, кремния, алюминия или их смеси.
Пункт 13: Изделие по любому из пунктов 1 - 12, где первый диэлектрический слой, второй диэлектрический слой, третий диэлектрический слой и/или четвертый диэлектрический слой содержат оксид цинка.
Пункт 14: Изделие по любому из пунктов 1 - 13, где первый диэлектрический слой, второй диэлектрический слой, третий диэлектрический слой и/или четвертый диэлектрический слой содержат станнат цинка.
Пункт 15: Изделие по любому из пунктов 1 - 14, где пятый диэлектрический слой содержит оксид цинка или станнат цинка.
Пункт 16: Изделие по любому из пунктов 1 - 15, где пятый диэлектрический слой содержит диоксид кремния, нитрид кремния, оксинитриды кремния или их смесь.
Пункт 17: Изделие по любому из пунктов 1 - 16, где первый диэлектрический слой включает первую пленку, содержащую станнат цинка и расположенную поверх подложки, и вторую пленку, содержащую оксид цинка и расположенную поверх первой пленки.
Пункт 18: Изделие по любому из пунктов 1 - 17, где второй диэлектрический слой включает первую пленку, содержащую оксид цинка, и вторую пленку, содержащую станнат цинка.
Пункт 19: Изделие по любому из пунктов 1 - 18, где третий диэлектрический слой включает первую пленку, содержащую оксид цинка, вторую пленку, содержащую станнат цинка, и необязательную третью пленку, содержащую оксид цинка.
Пункт 20: Изделие по любому из пунктов 1 - 19, где четвертый диэлектрический слой включает первую пленку из станната цинка и вторую пленку из оксида цинка.
Пункт 21: Изделие по любому из пунктов 1 - 20, где пятый диэлектрический слой включает первую пленку, содержащую оксид цинка или станнат цинка.
Пункт 22: Изделие по любому из пунктов 1 - 21, где пятый диэлектрический слой, кроме того, включает вторую пленку, содержащую диоксид кремния, оксинитрид кремния, нитрид кремния или их смесь.
Пункт 23: Изделие по пункту 22, где вторая пленка представляет собой градиентный слой с переходом от диоксида кремния к нитриду кремния.
Пункт 24: Изделие по пункту 22, где вторая пленка представляет собой градиентный слой с переходом от оксинитрида кремния к нитриду кремния.
Пункт 25: Изделие по любому из пунктов 1 - 24, где первая металлическая пленка содержит металлические золото, медь, палладий, алюминий, серебро или их смеси, сплавы или комбинации.
Пункт 26: Изделие по любому из пунктов 1 - 25, где вторая металлическая пленка содержит металлические золото, медь, палладий, алюминий, серебро или их смеси, сплавы или комбинации.
Пункт 27: Изделие по любому из пунктов 1 - 26, где третья металлическая пленка содержит металлические золото, медь, палладий, алюминий, серебро или их смеси, сплавы или комбинации.
Пункт 28: Изделие по любому из пунктов 1 - 27, где четвертая металлическая пленка содержит металлические золото, медь, палладий, алюминий, серебро или их смеси, сплавы или комбинации.
Пункт 29: Изделие по любому из пунктов 1 - 28, где первая металлическая пленка содержит медь, серебро или их смесь.
Пункт 30: Изделие по любому из пунктов 1 - 29, где вторая металлическая пленка содержит медь, серебро или их смесь.
Пункт 31: Изделие по любому из пунктов 1 - 30, где третья металлическая пленка содержит медь, серебро или их смесь.
Пункт 32: Изделие по любому из пунктов 1 - 31, где четвертая металлическая пленка содержит медь, серебро или их смесь.
Пункт 33: Изделие по любому из пунктов 1 - 34, где первая грунтовка, вторая грунтовка, третья грунтовка и/или четвертая грунтовка содержат титан, алюминий или их смесь, где грунтовку осаждают в виде металла и, по меньшей мере, частично окисляют в результате осаждения следующего слоя, расположенного поверх грунтовки.
Пункт 34: Изделие по любому из пунктов 1 - 33, где второй металлический слой или третий металлический слой являются прерывистым слоем.
Пункт 35: Изделие по пункту 34, где прерывистый слой имеет толщину, составляющую, самое большее, 36 Å; предпочтительно, самое большее, 26 Å; более предпочтительно, самое большее, 20 Å; наиболее предпочтительно, самое большее, 19 Å; и, по меньшей мере, 5 Å; предпочтительно, по меньшей мере, 7 Å; более предпочтительно, по меньшей мере, 10 Å; наиболее предпочтительно, по меньшей мере, 15 Å.
Пункт 36: Изделие по пунктам 34 или 35, где второй металлический слой является прерывистым слоем.
Пункт 37: Изделие по пунктам 34 или 35, где третий металлический слой является прерывистым слоем.
Пункт 38: Изделие по любому из пунктов 34, 35, 36 или 37, где, по меньшей мере, два из металлических слоев являются непрерывными металлическими слоями.
Пункт 39: Изделие по любому из пунктов 34, 35 или 36, где первый металлический слой и четвертый металлический слой являются непрерывными металлическими слоями, где первый металлический слой имеет толщину, составляющую менее, чем 250 Å, предпочтительно менее, чем 200 Å, более предпочтительно менее, чем 125 Å, наиболее предпочтительно менее, чем 100 Å; и/или более, чем 50 Å; предпочтительно более, чем 60 Å; более предпочтительно более, чем 65 Å; наиболее предпочтительно более, чем 70 Å; и где четвертый металлический слой имеет толщину, составляющую, по меньшей мере, 100 Å, предпочтительно, по меньшей мере, 150 Å, более предпочтительно, по меньшей мере, 175 Å, наиболее предпочтительно, по меньшей мере, 181 Å; и/или, самое большее, 300 Å; предпочтительно, самое большее, 275 Å, более предпочтительно 250 Å; наиболее предпочтительно, самое большее, 240 Å.
Пункт 40: Изделие по любому из пунктов 34, 35 или 36, где три из металлических слоев являются непрерывными металлическими слоями.
Пункт 41: Изделие по пункту 40, где непрерывными металлическими слоями являются первый металлический слой, второй металлический слой и четвертый металлический слой, где первый металлический слой имеет толщину, составляющую менее, чем 250 Å, предпочтительно менее, чем 200 Å, более предпочтительно менее, чем 125 Å, наиболее предпочтительно менее, чем 100 Å; и/или более, чем 50 Å; предпочтительно более, чем 60 Å; более предпочтительно более, чем 65 Å; наиболее предпочтительно более, чем 70 Å; где четвертый металлический слой имеет толщину, составляющую, по меньшей мере, 100 Å, предпочтительно, по меньшей мере, 150 Å, более предпочтительно, по меньшей мере, 175 Å, наиболее предпочтительно, по меньшей мере, 181 Å; и/или, самое большее, 300 Å, предпочтительно, самое большее, 275 Å, более предпочтительно 250 Å; наиболее предпочтительно, самое большее, 240 Å; и где второй металлический слой имеет толщину, которая составляет, по меньшей мере, 70 Å, предпочтительно, по меньшей мере, 100 Å, более предпочтительно, по меньшей мере, 125 Å, наиболее предпочтительно, по меньшей мере, 128 Å; и/или, самое большее, 250 Å; предпочтительно, самое большее, 225 Å, более предпочтительно, самое большее, 200 Å; наиболее предпочтительно, самое большее, 191 Å.
Пункт 42: Изделие по пункту 40, где непрерывными металлическими слоями являются первый металлический слой, третий металлический слой и четвертый металлический слой, где первый металлический слой имеет толщину, составляющую менее, чем 250 Å, предпочтительно менее, чем 200 Å, более предпочтительно менее, чем 125 Å, наиболее предпочтительно менее, чем 100 Å; и/или более, чем 50 Å; предпочтительно более, чем 60 Å; более предпочтительно более, чем 65 Å; наиболее предпочтительно более, чем 70 Å; и где четвертый металлический слой имеет толщину, составляющую, по меньшей мере, 100 Å, предпочтительно, по меньшей мере, 150 Å, более предпочтительно, по меньшей мере, 175 Å, наиболее предпочтительно, по меньшей мере, 181 Å; и/или, самое большее, 300 Å, предпочтительно, самое большее, 275 Å, более предпочтительно 250 Å; наиболее предпочтительно, самое большее, 240 Å.
Пункт 43: Изделие по любому из пунктов 34 - 42, где непрерывный металлический слой имеет толщину в диапазоне от 50 Å до 300 Å, предпочтительно от 60 Å до 250 Å, более предпочтительно от 65 Å до 225 Å, наиболее предпочтительно от 71 Å до 205 Å.
Пункт 44: Изделие по любому из пунктов 1 - 43, где изделие характеризуется значением LTA в диапазоне между 30 и 45, предпочтительно между 32 и 43; более предпочтительно между 33 и 43; наиболее предпочтительно между 34 и 41.
Пункт 45: Изделие по любому из пунктов 1 - 44, где изделие характеризуется значением SHGC в диапазоне между 0,170 и 0,200, предпочтительно между 0,174 и 0,250; более предпочтительно между 0,175 и 0,230; наиболее предпочтительно между 0,178 и 0,220.
Пункт 46: Изделие по любому из пунктов 1 - 45, где изделие характеризуется значением LSG в диапазоне между 1,50 и 2,50; предпочтительно между 1,70 и 2,25; более предпочтительно между 1,75 и 2,15; наиболее предпочтительно между 1,82 и 2,05.
Пункт 47: Изделие с нанесенным покрытием, включающее: подложку; первую диэлектрическую пленку; вторую диэлектрическую пленку, расположенную поверх первой диэлектрической пленки; первую металлическую пленку, расположенную поверх второй диэлектрической пленки и содержащую серебро; третью диэлектрическую пленку, расположенную поверх первой металлической пленки; четвертую диэлектрическую пленку, расположенную поверх третьей диэлектрической пленки; второй металлический слой, расположенный поверх четвертой диэлектрической пленки, где вторая металлическая пленка содержит серебро; пятую диэлектрическую пленку, расположенную поверх второй металлической пленки; шестую диэлектрическую пленку, расположенную поверх пятой диэлектрической пленки; третий металлический слой, расположенный поверх шестой диэлектрической пленки, где третья металлическая пленка содержит серебро; седьмую диэлектрическую пленку, расположенную поверх третьей металлической пленки; восьмую диэлектрическую пленку, расположенную поверх седьмой диэлектрической пленки; четвертую металлическую пленку, расположенную поверх восьмой диэлектрической пленки, где четвертая металлическая пленка содержит серебро; и девятую диэлектрическую пленку, расположенную поверх четвертой металлической пленки; где первая металлическая пленка, вторая металлическая пленка, третья металлическая пленка или четвертая металлическая пленка являются прерывистой пленкой.
Пункт 48: Изделие с нанесенным покрытием по пункту 47, где первая диэлектрическая пленка содержит станнат цинка.
Пункт 49: Изделие с нанесенным покрытием по любому из пунктов 47 - 48, где множество грунтовок расположено поверх и при непосредственном контакте с каждой металлической пленкой.
Пункт 51: Изделие с нанесенным покрытием по любому из пунктов 47 - 50, где вторая металлическая пленка представляет собой прерывистый слой.
Пункт 52: Изделие с нанесенным покрытием по любому из пунктов 47 - 50, где третья металлическая пленка представляет собой прерывистый слой.
Пункт 53: Изделие с нанесенным покрытием по любому из пунктов 47 - 52, где, по меньшей мере, две из металлических пленок представляют собой непрерывные слои.
Пункт 54: Изделие с нанесенным покрытием по любому из пунктов 47 - 52, где, по меньшей мере, три из металлических пленок представляют собой непрерывные слои.
Пункт 55: Изделие с нанесенным покрытием по любому из пунктов 47 - 54, включающее, кроме того, защитный слой, расположенный поверх девятой диэлектрической пленки.
Пункт 56: Изделие по любому из пунктов 47 - 55, где изделие характеризуется значением LTA в диапазоне между 30 и 45, предпочтительно между 32 и 43; более предпочтительно между 33 и 43; наиболее предпочтительно между 34 и 41.
Пункт 57: Изделие по любому из пунктов 47 - 56, где изделие характеризуется значением SHGC в диапазоне между 0,170 и 0,200, предпочтительно между 0,174 и 0,250; более предпочтительно между 0,175 и 0,230; наиболее предпочтительно между 0,178 и 0,220.
Пункт 58: Изделие по любому из пунктов 47 - 57, где изделие характеризуется значением LSG в диапазоне между 1,50 и 2,50; предпочтительно между 1,70 и 2,25; более предпочтительно между 1,75 и 2,15; наиболее предпочтительно между 1,82 и 2,05.
Пункт 59: Способ изготовления изделия с нанесенным покрытием, включающий получение подложки, нанесение поверх, по меньшей мере, части подложки первого диэлектрического слоя, нанесение поверх, по меньшей мере, части первого диэлектрического слоя первого металлического слоя, нанесение поверх, по меньшей мере, части первого металлического слоя второго диэлектрического слоя, нанесение поверх, по меньшей мере, части второго диэлектрического слоя второго металлического слоя, нанесение поверх, по меньшей мере, части второго металлического слоя третьего диэлектрического слоя, нанесение поверх, по меньшей мере, части третьего диэлектрического слоя третьего металлического слоя, нанесение поверх, по меньшей мере, части четвертого металлического слоя четвертого диэлектрического слоя, нанесение поверх, по меньшей мере, части четвертого металлического слоя пятого диэлектрического слоя; где первый металлический слой, второй металлический слой, третий металлический слой или четвертый металлический слой являются прерывистым слоем.
Пункт 60: Способ по пункту 59, включающий, кроме того, нанесение защитного покрытия, расположенного поверх, по меньшей мере, части пятого диэлектрического слоя.
Пункт 61: Способ по пунктам 59 или 60, включающий, кроме того, нанесение грунтовочного слоя, расположенного поверх, по меньшей мере, части первого металлического слоя, второго металлического слоя третьего металлического слоя и/или четвертого металлического слоя, где грунтовочный слой наносят в виде металла и впоследствии окисляют в результате нанесения следующего слоя.
Пункт 62: Способ по любому из пунктов 59 - 61, где, по меньшей мере, первый металлический слой является непрерывным металлическим слоем.
Пункт 63: Способ по любому из пунктов 59 - 62, где, по меньшей мере, четвертый металлический слой является непрерывным металлическим слоем.
Пункт 64: Способ по любому из пунктов 59 - 63, где третий металлический слой является прерывистым металлическим слоем.
Пункт 65: Способ по любому из пунктов 59 - 63, где второй металлический слой является прерывистым металлическим слоем.
Пункт 66: Архитектурная прозрачная конструкция, включающая первую прослойку, имеющую поверхность номер 1 и поверхность номер 2, и вторую прослойку, имеющую поверхность номер 3 и поверхность номер 4, и позицию покрытия, расположенную поверх, по меньшей мере, части поверхности номер 2 и поверхности номер 3, где покрытие включает покрытие, обеспеченное в любом из пунктов 1 - 58.
Пункт 67: Архитектурная прозрачная конструкция, в соответствии с пунктом 66 и включающая, кроме того, свободное пространство между поверхностью номер 2 и поверхностью номер 3, где свободное пространство заполняют газом.
Пункт 68: Архитектурная прозрачная конструкция, в соответствии с пунктом 67, где газ представляет собой аргон.
69: Архитектурная прозрачная конструкция, в соответствии с любым из пунктов 66 - 68, где поверхность номер 1 конфигурируют обращенной к внешнему пространству конструкции, где архитектурную прозрачную конструкцию устанавливают.
Позиция 70: Архитектурная прозрачная конструкция, в соответствии с любым из пунктов 66 - 69, где поверхность номер 4 конфигурируют обращенной к внутреннему пространству конструкции, где архитектурную прозрачную конструкцию необходимо установить.
Позиция 71: Способ изготовления архитектурной прозрачной конструкции, включающий получение первой прослойки, имеющей поверхность номер 1 и поверхность номер 2, и получение второй прослойки, имеющей поверхность номер 3 и поверхность номер 4, где либо поверхность номер 2 первой прослойки, либо поверхность номер 3 второй прослойки имеют покрытие в соответствии с любым из пунктов 1 - 58; сборку первой прослойки и второй прослойки таким образом, чтобы поверхность номер 2 была бы обращена к поверхности номер три, и чтобы имелось бы свободное пространство между поверхностью номер 2 и поверхностью номер 3, где свободное пространство заполняют газом.
Позиция 72: Способ по пункту 71, где газ представляет собой аргон.
Как это легко должны понимать специалисты в соответствующей области техники, без отклонения от концепций, раскрытых в предшествующем описании изобретения, могут быть проведены модифицирования. В соответствии с этим, конкретные варианты осуществления, подробно описанные в настоящем документе, представляют собой всего лишь иллюстрации и не накладывают ограничений на объем изобретения, которому должна быть принята полная ширина прилагающейся формулы изобретения и всех без исключения его эквивалентов.