СПОСОБ ДИЗАЙНА НОГТЕЙ С ПОМОЩЬЮ ФОТОСШИВАЕМЫХ КОМПОЗИЦИЙ ЛАКА

1. Способ дизайна и/или ухода за ногтями и/или накладными ногтями, включающий следующие стадии:
a) нанесение на ногти или накладные ногти фотосшиваемой косметической композиции С1, при этом наносимый покрывающий слой, состоит из, по меньшей мере, одного слоя указанной композиции С1;
композиция С1, содержащая в физиологически приемлемой среде:
по меньшей мере, одно фотосшиваемое соединение, содержащее, по меньшей мере, две (мет)акрилатные функциональные группы и, по меньшей мере, одну функциональную группу карбоновой кислоты,
по меньшей мере, один легколетучий растворитель S в количестве, большем или равном 30% относительно общей массы композиция С1, и
по меньшей мере, один фотоинициатор,
b) воздействие на ноготь или накладной ноготь с покрывающим слоем, полученный на стадии а), УФ излучения или излучения видимого света, посредством чего осуществляется фотосшивание с получением сшитого слоя С'1;
c) нанесение на ноготь или накладной ноготь, покрытый сшитым слоем С'1, полученным на стадии b), фотосшиваемой косметической композиции С2, посредством чего наносится покрывающий слой, состоящий из, по меньшей мере, одного слоя указанной композиции С2;
композиция С2, содержащая в физиологически приемлемой среде:
по меньшей мере, одно фотосшиваемое уретанди(мет)акрилатное соединение при содержании по массе больше или равном 65% по отношению к общей массе сухого экстракта С2, и
по меньшей мере, один легколетучий растворитель S';
d) воздействие на ноготь или накладной ноготь с покрывающим слоем, полученный на стадии с), УФ излучения или излучения видимого света, посредством чего осуществляется фотосшивание, с получением сшитого слоя С'2.
2. Способ по п. 1, в котором фотосшиваемое соединение С1 имеет формулу (I):
в которой:
R1 и R2, одинаковые или различные, представляют собой атом водорода или метильную группу, или группу формулы (II):
где R5 представляет собой атом водорода или метильную группу;
R3 и R4, одинаковые или различные, представляют собой атом водорода или метильную группу;
X представляет собой радикал любой из следующих формул
(III), (IV), (V), (VI), (VII), (VIII), (IX) или (X):
где m, n и о одинаковые или различные, представляют собой целое число от 0 до 10;
где р, q, r и s, одинаковые или различные, представляют собой целое число от 0 до 10;
где R6, R7 и R8, одинаковые или различные, представляют собой атом водорода или гидроксильную группу.
3. Способ по п. 1 или 2, в котором фотосшиваемое соединение С1 имеет формулу (I-1):
где R1, R2, R3 и R4 имеют значения как определено в п. 2;
4. Способ по п. 3, в котором R3 и R4 представляют собой метильные группы.
5. Способ по п. 3, в котором R1 и R2, одинаковыми или различные, представляют собой группу формулы (II-1):
6. Способ по п. 1 или 2, в котором растворитель S представляет собой полярный легколетучий растворитель, выбранный из группы, состоящей из С3-С6 сложных эфиров и кетонов и их смесей.
7. Способ по п. 1 или 2, в котором содержание растворителя S составляет в пределах от 40 до 80% по массе относительно общей массы композиции С1.
8. Способ по п. 1 или 2, в котором фотоинициатор выбран из группы, состоящей из α-гидроксикетонов, α-аминокетонов, ароматических кетонов, предпочтительно, связанных с водород-донорным соединением, ароматических α-дикетонов, ацилфосфиновых оксидов и их смесей.
9. Способ по п. 1 или 2, в котором композиция С2 содержит два фотосшиваемых уретанди(мет)акрилатных соединения.
10. Способ по п. 1 или 2, в котором композиция С2 содержит, по меньшей мере, 70%, предпочтительно, по меньшей мере, 75%, и, предпочтительно, по меньшей мере, 80%, по массе фотосшиваемых уретанди(мет)акрилатных соединений по отношению к общей массе сухого экстракта С2.
11. Способ по п. 1 или 2, в котором композиция С2 дополнительно содержит, по меньшей мере, один пленкообразующий полимер.
12. Способ по п. 11, в котором пленкообразующий полимер выбран из группы, состоящей из нитроцеллюлозы, ацетопропионата целлюлозы, ацетобутирата целлюлозы, и (мет)акрилатных гомополимеров и сополимеров и их смесей.
13. Способ по п. 1 или 2, в котором растворитель S' представляет собой полярный легколетучий растворитель, выбранный из группы, состоящей из С3-С6 сложных эфиров и кетонов и их смесей.
14. Способ по п. 1 или 2, в котором композиция С2 дополнительно содержит, по меньшей мере, одно красящее вещество.
15. Способ по п. 1 или 2, в котором композиции C1 и С2 содержат меньше, чем 10% по массе (мет)акрилатного мономера.
16. Способ по п. 1 или 2, в котором композиции C1 и С2 содержат меньше, чем 5% по массе (мет)акрилатного мономера.
17. Набор, включающий:
фотосшиваемую косметическую композицию C1, как определено в любом из пп. 1-16,
фотосшиваемую косметическую композицию С2, как определено в любом из пп. 1-16,
абразивный материал, имеющий размер частиц больше, чем или равный 200 мкм, предпочтительно, меньше, чем 300 мкм, предпочтительно, от 220 до 280 мкм, и
светодиодную лампу или УФ-лампу.
18. Способ дизайна и/или ухода за ногтями и/или накладными ногтями, включающий следующие стадии:
i) шлифовку поверхности ногтя или накладного ногтя абразивным материалом с размером частиц больше или равным 200 мкм, предпочтительно, меньше, чем 300 мкм, предпочтительно, от 220 до 280 мкм,
ii) нанесение фотосшиваемой композиции C1, как определено в любом из пп. 1-16, на поверхность ногтя или накладного ногтя, который подвергали шлифовке на стадии i), посредством чего наносится покрывающий слой, состоящий, по меньшей мере, из одного слоя указанной фотосшиваемой композиции C1,
iii) воздействие на ноготь или накладной ноготь с покрывающим слоем, полученный на стадии ii), излучением светодиодной лампы или УФ-лампы, посредством чего осуществляется фотосшивание, с получением сшитого слоя С'1,
iv) нанесение на ноготь или накладной ноготь, покрытый сшитым слоем С'1, полученный на стадии iii), фотосшиваемой композиция С2, как определено в любом из пп. 1-16, посредством чего наносится покрывающий слой, состоящий, по меньшей мере, из одного слоя указанной фотосшиваемой композиции С2, и
v) воздействие на ноготь или накладной ноготь с покрывающим слоем, полученный на стадии iv), излучением светодиодной лампы или УФ-лампы, посредством чего осуществляется фотосшивание, с получением сшитого слоя С'2.