СПОСОБ СЕЛЕКТИВНОЙ ОЧИСТКИ ДЕТОНАЦИОННОГО НАНОАЛМАЗА

1. Способ селективной очистки детонационного наноалмаза, включающий термодесорбцию при температуре от 20°С и до 1000°С, отличающийся тем, что очистку образца детонационного алмаза осуществляют в вакууме последовательно при температуре 20-200-320-480-580-680-760-860°С, при нагреве до 200°С образец освобождается от воды, до 320°С - от углеводородов, до 480°С - от сероводорода, до 580°С - десорбция диоксида серы, до 680°С - идет десорбция углекислого газа, до 760°С - десорбция азота, при нагреве до 860°С - молекулярного водорода соответственно.
2. Способ селективной очистки детонационного наноалмаза по п.1, отличающийся тем, что в исходный алмазосодержащий порошок добавляют порошковый алюминий в количестве не менее 5 мас.%.