СТАЛЬНОЙ ПЛОСКИЙ ПРОКАТ И СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СТАЛЬНОГО ТОНКОГО ПРОКАТА

1. Стальной плоский прокат с базовым слоем из стали и нанесенной на базовый слой системой защиты от коррозии, содержащей металлическое покрытие толщиной менее 3,5 мкм из первого металлического слоя, нанесенного на базовый слой, и из второго металлического слоя, нанесенного на первый металлический слой, причем второй металлический слой образует сплав с первым металлическим слоем, и содержащей плазменный полимерный слой, нанесенный на металлическое покрытие.
2. Стальной плоский прокат по п.1, характеризующийся тем, что плазменный полимерный слой толщиной максимум 2500 мкм.
3. Стальной плоский прокат по п.2, характеризующийся тем, что плазменный полимерный слой толщиной 100-1000 нм.
4. Стальной плоский прокат по п.3, характеризующийся тем, что плазменный полимерный слой толщиной 200-500 нм.
5. Стальной плоский прокат по одному из пп.1-4, характеризующийся тем, что первый металлический слой является покрытием из цинка Zn, алюминия Al, цинка-никеля Zn-Ni, цинка-железа Zn-Fe или цинка-алюминия Zn-Al.
6. Стальной плоский прокат по одному из пп.1-4, характеризующийся тем, что второй металлический слой является цинковым сплавом.
7. Стальной плоский прокат по одному из пп.1-4, характеризующийся тем, что второй металлический слой образован из, по меньшей мере, одного из элементов из группы магний Mg, алюминий Al, титан Ti, хром Cr, марганец Mn, никель Ni или их сплавов.
8. Стальной плоский прокат по одному из пп.1-4, характеризующийся тем, что толщина второго слоя составляет 100-2000 нм.
9. Стальной плоский прокат по п.8, характеризующийся тем, что толщина второго слоя составляет 200-1000 нм.
10. Стальной плоский прокат по одному из пп.1-4, характеризующийся тем, что плазменный полимерный слой образован из органосиланных соединений, углеводородных соединений, органометаллических соединений или их смесей.
11. Способ изготовления стального плоского проката, покрытого системой защиты от коррозии, при котором на стальную подложку, образующую базовый слой стального плоского проката, наносится первый металлический слой, а на первый металлический слой наносится второй металлический слой, сплавляющийся в ходе тепловой обработки с первым металлическим слоем, причем общая толщина металлического покрытия, образованного из первого и второго металлических слоев, составляет менее 3,5 мкм, при котором на покрытие, образованное из первого и второго металлических слоев, наносится плазменный полимерный слой.
12. Способ по п.11, характеризующийся тем, что плазменный полимерный слой выполнен с толщиной максимум 2500 мкм.
13. Способ по п.12, характеризующийся тем, что плазменный полимерный слой выполнен с толщиной 100-1000 нм.
14. Способ по п.13, характеризующийся тем, что плазменный полимерный слой выполнен с толщиной 200-500 нм.
15. Способ по одному из пп.11-14, характеризующийся тем, что первый слой является цинковым слоем, который наносят на базовый слой посредством электролитического цинкования, горячего цинкования или вакуумным напылением после испарения.
16. Способ по одному из пп.11-14, характеризующийся тем, что первый слой образуют из алюминия Al, сочетания цинк-никель Zn-Ni, цинк-железо Zn-Fe или цинк-алюминий Zn-Al.
17. Способ по одному из пп.11-14, характеризующийся тем, что второй металлический слой является магнийсодержащим слоем.
18. Способ по одному из пп.11-14, характеризующийся тем, что второй металлический слой образуют из алюминия Al, титана Ti, хрома Cr, марганца Mn, никеля Ni или их сплавов.
19. Способ по одному из пп.11-14, характеризующийся тем, что второй металлический слой осаждают на первый слой посредством термического напыления после испарения.
20. Способ по одному из пп.11-14, характеризующийся тем, что плазменный полимерный слой наносят посредством тлеющего разряда в полом катоде.
21. Способ по п.20, характеризующийся тем, что скорость осаждения при тлеющем разряде в полом катоде составляет 10-1000 нм/с.
22. Способ по п.21, характеризующийся тем, что скорость осаждения при тлеющем разряде в полом катоде составляет 20-750 нм/с.
23. Способ по п.22, характеризующийся тем, что скорость осаждения при тлеющем разряде в полом катоде составляет 50-500 нм/с.
24. Способ по п.23, характеризующийся тем, что скорость осаждения при тлеющем разряде в полом катоде составляет 50-360 нм/с.
25. Способ по одному из пп.11-14, характеризующийся тем, что температура тепловой обработки составляет менее 500°C.
26. Способ по одному из пп.11-14, характеризующийся тем, что тепловая обработка проводится перед нанесением плазменного полимерного слоя.
27. Способ по одному из пп.11-14, характеризующийся тем, что тепловую обработку проводят после нанесения плазменного полимерного слоя.