Способ отжига эпитаксиальных подложек

2
2
Способ отжига эпитаксиальных подложек, включающий термообработку кремниевых подложек, в среде азота (N), отличающийся тем, что процесс проводят при расходе азота (N) - 200 л/ч, при рабочей температуре - 120±5°C в течение 15±5 минут, при этом разброс по толщине слоя фоторезиста составляет 4,0÷4,5%.