СПОСОБ ПОДГОТОВКИ И ОБРАБОТКИ СТАЛЬНОЙ ПОДЛОЖКИ

1. Способ подготовки и предварительной обработки подложки, включающий в себя:
(a) контактирование по меньшей мере части подложки с кондиционирующей композицией, содержащей источник свободного фторида; и
(b) нанесение композиции предварительной обработки, содержащей металл группы IIIB и/или группы IVB, на по меньшей мере часть подложки, контактировавшую с указанной кондиционирующей композицией.
2. Способ по п. 1, в котором указанная кондиционирующая композиция составлена для восполнения указанной композиции предварительной обработки.
3. Способ по п. 1, в котором указанная кондиционирующая композиция совместима с указанной композицией предварительной обработки.
4. Способ по п. 1, в котором указанная кондиционирующая композиция по существу свободна от окислителей.
5. Способ по п. 1, дополнительно включающий в себя:
(c) нанесение композиции покрытия на по меньшей мере часть подложки, контактировавшую с указанной композицией предварительной обработки.
6. Способ по п. 1, в котором указанная кондиционирующая композиция имеет рН ниже 7.
7. Способ по п. 1, в котором свободный фторид в указанной кондиционирующей композиции составляет от 10 до 5000 ч/млн в расчете на общую массу кондиционирующей композиции.
8. Способ по п. 1, в котором свободный фторид в указанной кондиционирующей композиции составляет от 100 до 2000 ч/млн в расчете на общую массу кондиционирующей композиции.
9. Способ по п. 1, в котором указанный источник свободного фторида включает гексафторциркониевую кислоту, гексафтортитановую кислоту, их соли, бифторид аммония, или их сочетания.
10. Способ по п. 1, в котором указанная кондиционирующая композиция дополнительно содержит металл группы IIIB и/или группы IVB.
11. Способ по п. 1, в котором указанная композиция предварительной обработки содержит вещество на основе циркония.
12. Способ по п. 1, в котором указанная композиция предварительной обработки дополнительно содержит источник свободного фторида.
13. Способ по п. 12, в котором указанный источник свободного фторида содержит бифторид аммония.
14. Способ по п. 5, в котором указанная композиция покрытия является электроосаждаемой.
15. Способ по п. 5, в котором указанная композиция покрытия является порошковым покрытием.
16. Способ по п. 5, в котором указанная композиция покрытия является жидкой.
17. Подложка с нанесенным покрытием, содержащая:
первый слой, содержащий кондиционирующую композицию, содержащую источник свободного фторида;
второй слой, содержащий композицию предварительной обработки, содержащую металл группы IIIB и/или группы IV, осажденный на по меньшей мере часть указанного первого слоя; и
нанесенную композицию покрытия, осажденную на по меньшей мере часть указанного второго слоя.
18. Подложка с нанесенным покрытием по п. 17, в которой указанная кондиционирующая композиция по существу свободна от окислителей.
19. Подложка с нанесенным покрытием по п. 17, в которой указанный источник свободного фторида включает гексафторциркониевую кислоту, гексафтортитановую кислоту, их соли, бифторид аммония, или их сочетания.
20. Подложка с нанесенным покрытием по п. 17, в которой указанная кондиционирующая композиция дополнительно содержит металл группы IIIB и/или группы IVB.
2
21. Подложка с нанесенным покрытием по п. 17, в которой указанный второй слой имеет степень покрытия (общую массу пленки) по меньшей мере 10 мг/м на подложке.
22. Подложка с нанесенным покрытием по п. 17, в которой указанная композиция покрытия является электроосаждаемой.
23. Подложка с нанесенным покрытием по п. 17, в которой указанная композиция покрытия нанесена в виде порошка.
24. Подложка с нанесенным покрытием по п. 17, в которой указанная композиция покрытия нанесена в виде жидкости.