УСТРОЙСТВО ДЛЯ ДОЗИРОВАНИЯ БЕСПЕННОЙ УВЛАЖНЯЮЩЕЙ КОМПОЗИЦИИ

1. Устройство для дозирования композиции, содержащее: первое отделение и беспенную увлажняющую композицию, которая содержится в указанной первом отделении, при этом указанная беспенная увлажняющая композиция содержит:
а. по меньшей мере, приблизительно 80% воды, по массе беспенной увлажняющей композиции;
b. количество загустителя, достаточное для получения вязкости беспенной увлажняющей композиции, по меньшей мере, 10000 сПз, и наибольшее 200000 сПз, измеренной при 25°С;
с. менее чем приблизительно 1% гидрофобных компонентов, по массе беспенной увлажняющей композиции; и
d. менее чем приблизительно 1% поверхностно-активного вещества, по массе беспенной увлажняющей композиции.
2. Устройство для дозирования композиции по п.1, отличающееся тем, что указанная беспенная увлажняющая композиция имеет значение мутности менее приблизительно 320 NTU.
3. Устройство для дозирования композиции по п.1, отличающееся тем, что указанная беспенная увлажняющая композиция содержит менее чем приблизительно 5% смазывающего полимера.
4. Устройство для дозирования композиции по п.1, отличающееся тем, что указанная беспенная увлажняющая композиция содержит, по меньшей мере, приблизительно 90% воды.
5. Устройство для дозирования композиции по п.1, отличающееся тем, что указанная беспенная увлажняющая композиция свободна от одного или более пенообразующих поверхностно-активных веществ.
6. Устройство для дозирования композиции по п.1, отличающееся тем, что указанная беспенная увлажняющая композиция содержит менее чем приблизительно 5% спирта.
7. Устройство для дозирования композиции по п.1, отличающееся тем, что загуститель выбран из группы, состоящей из: карбопола, пумулена и их смеси.
8. Устройство для дозирования композиции по п.1, отличающееся тем, что загуститель присутствует на уровне от приблизительно 1% до приблизительно 5%.
9. Устройство для дозирования композиции по п.1, отличающееся тем, что дополнительно содержит ручку, соединенную с головкой для удаления волос, при этом ручка дополнительно содержит полость для размещения указанной беспенной увлажняющей композиции, расположенную внутри ручки, и привод, адаптированный для перемещения беспенной увлажняющей композиции из полости в элемент, дозирующий жидкость, и, причем указанный элемент, дозирующий жидкость, содержит удлиненную эластомерную контактную область, формирующую, по меньшей мере, одно дозирующее отверстие, которое, в общем, перпендикулярно поперечной средней линии ручки.
10. Устройство для дозирования композиции по п.9, отличающееся тем, что указанная удлиненная эластомерная контактная область формирует односторонний клапан.
11. Устройство для дозирования композиции по п.10, отличающееся тем, что указанный односторонний клапан выбран из откидного клапана, щелевого клапана, клапана «утиный нос» и их комбинации.
12. Устройство для дозирования композиции по п.9, отличающееся тем, что указанная полость формирует первое отделение, содержащее указанную беспенную увлажняющую композицию, и при этом указанная полость формирует второе отделение для второй композиции.
13. Устройство для дозирования композиции по п.12, отличающееся тем, что указанная вторая композиция по уходу за кожей выбрана из группы, состоящей из средства после бритья, лосьона, бальзама, отдушки или их смеси.
14. Способ удаления волос с кожи, содержащий стадии, на которых:
а. обеспечивают устройство для дозирования композиции, содержащее беспенную увлажняющую композицию, содержащую:
i. по меньшей мере, приблизительно 80% воды, по массе беспенной увлажняющей композиции;
ii. количество загустителя, достаточное для получения вязкости беспенной увлажняющей композиции, по меньшей мере, 10000 сПз, и наибольшее 200000 сПз, измеренной при 25°С;
iii. менее, чем приблизительно 1% гидрофобных компонентов, по массе беспенной увлажняющей композиции; и
iv. менее, чем приблизительно 1% поверхностно-активного вещества, по массе беспенной увлажняющей композиции;
b. приводят в действие указанное устройство для дозирования композиции с дозированием указанной композиции;
с. вводят в контакт указанную композицию с частью кожи, подлежащей обработке, с образованием подготовленной поверхности; и
d. вводят в контакт указанную подготовленную поверхность с устройством для дозирования композиции с образованием обработанной поверхности.
15. Способ по п.14, отличающийся тем, что дополнительно содержит стадию, на которой увлажняют указанную часть кожи, подлежащую обработке, либо перед стадией с), либо после стадии d).
16. Способ по п.14, отличающийся тем, что на указанной стадии b) указанную композицию дозируют непосредственно на кожу.
17. Способ по п.14, отличающийся тем, что дополнительно содержит стадию, на которой оставляют указанную обработанную поверхность высыхать без контакта с водой.
18. Способ по п.14, отличающийся тем, что дополнительно содержит стадию, на которой вводят в контакт указанную обработанную поверхность со второй композицией по уходу за кожей.
19. Способ по п.18, отличающийся тем, что указанную вторую композицию по уходу за кожей дозируют из того же устройства для дозирования композиции.
20. Устройство для дозирования композиции по п.1, отличающееся тем, что указанная композиция дополнительно содержит от приблизительно 0,01% до 5% агента против раздражения, содержащего пиритион, соль поливалентного металла пиритиона и их смесь.
21. Устройство для дозирования композиции по п.20, отличающееся тем, что указанный пиритион является пиритионом цинка и находится в виде пластинки, имеющей срединный диаметр частиц от приблизительно 0,5 до приблизительно 10 микрон, средний диаметр частиц от приблизительно 0,5 до приблизительно 10 микрон, и толщину от приблизительно 0,6 до приблизительно 15 микрон.
22. Устройство для дозирования композиции по п.21, отличающееся тем, что пиритион цинка находится в форме пластинчатых частиц, имеющих средний размер до приблизительно 20 мкм.
23. Устройство для дозирования композиции по п.21, отличающееся тем, что дополнительно содержит от 0,001% до 10% соли цинка.
24. Устройство для дозирования композиции по п.1, отличающееся тем, что композиция дополнительно содержит:
а. от приблизительно 2% до приблизительно 4% одного или более липофильных агентов кондиционирования кожи;
b. от приблизительно 0,25% до приблизительно 3% одного или более загущающих агентов;
с. от приблизительно 0,25% до приблизительно 3% одного или более эмульгаторов;
d. от приблизительно 0,25% до приблизительно 3% одного или более смазывающих веществ;
е. от приблизительно 0,25% до приблизительно 2,5% агента против раздражения, при этом указанный агент против раздражения содержит пиритион цинка, и
f. по существу, свободна от гелевой сетки.