УСТРОЙСТВО, ИМЕЮЩЕЕ ГЕНЕРИРУЮЩУЮ ЧЕРНУЮ МАСКУ, И СПОСОБ ЕЕ ИЗГОТОВЛЕНИЯ

1. Электронное устройство, содержащее
область отображения, содержащую оптические элементы отображения, и
фотогальваническую черную маску, осажденную в областях между оптическими элементами отображения области отображения, расположенную между подложкой и оптическими элементами отображения и содержащую
по меньшей мере один слой, выполненный с возможностью поглощения света, и
по меньшей мере один слой, выполненный с возможностью генерирования энергии.
2. Электронное устройство по п.1, в котором фотогальваническая черная маска занимает по меньшей мере десять процентов площади области отображения.
3. Электронное устройство по п.1, в котором фотогальваническая черная маска содержит
антиотражающий слой, осажденный поверх подложки,
первый электродный слой, осажденный поверх антиотражающего слоя,
полупроводниковый слой, осажденный поверх первого электродного слоя,
и второй электродный слой, осажденный поверх полупроводникового слоя.
4. Электронное устройство по п.3, в котором антиотражающий слой содержит по меньшей мере один слой материала.
5. Электронное устройство по п.3, в котором
фотогальваническая черная маска подвергнута структурированию таким образом, что через второй электродный слой и полупроводниковый слой сформировано отверстие, ведущее к первому электродному слою, а
поверх второго электродного слоя и полупроводниковых слоев расположен изолятор, который подвергнут структурированию таким образом, что через изолятор сформировано отверстие, ведущее ко второму первому электродному слою.
6. Электронное устройство по п.3, в котором
поверх второго электродного слоя расположен изолятор, а
фотогальваническая черная маска подвергнута структурированию таким образом, что через изолятор сформировано отверстие, ведущее ко второму электродному слою.
7. Электронное устройство по п.3, в котором фотогальваническая черная маска подвергнута структурированию с формированием дискретных секций.
8. Электронное устройство по п.7, в котором указанные электроды в секциях соединены последовательно или параллельно.
9. Способ изготовления фотогальванической черной маски, согласно которому
поверх подложки осаждают антиотражающий слой,
поверх антиотражающего слоя осаждают первый электрод,
поверх первого электродного слоя осаждают полупроводниковый слой,
поверх полупроводникового слоя осаждают второй электродный слой и
подвергают участок антиотражающего слоя, первого электродного слоя, полупроводникового слоя и второго электродного слоя структурированию.
10. Способ по п.9, в котором антиотражающий слой содержит по меньшей мере один слой материала.
11. Способ по п.9, согласно которому дополнительно осаждают сглаживающий слой поверх участка первого электродного слоя, полупроводникового слоя и второго электродного слоя.
12. Способ по п.9, в котором указанный первый электрод является прозрачным.
13. Способ по п.11, в котором сглаживающий слой выполнен диэлектрическим.
14. Способ по п.11, согласно которому сглаживающий слой выполнен прозрачным.
15. Способ по п.9, согласно которому дополнительно
подвергают второй электродный слой и полупроводниковый слой структурированию таким образом, что формируется отверстие, ведущее к первому электродному слою,
осаждают электрически изолированный сглаживающий слой поверх первого электродного слоя, второго электродного слоя и полупроводникового слоя и
подвергают сглаживающий слой структурированию таким образом, что формируется отверстие, ведущее через сглаживающий слой к первому электродному слою.
16. Способ по п.11, согласно которому дополнительно подвергают сглаживающий слой структурированию таким образом, что формируется отверстие, ведущее ко второму электродному слою.
17. Электронное устройство, содержащее
область отображения, содержащую элементы отображения,
средства поглощения света и
средства генерирования энергии,
причем средства поглощения света и средства генерирования энергии осаждены в областях между оптическими элементами отображения области отображения.