ЛИТОГРАФИЧЕСКАЯ СИСТЕМА И СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПОДЛОЖЕК В ТАКОЙ ЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ СИСТЕМЕ

1. Литографическая система (300), содержащая множество узлов литографической системы, каждый узел литографической системы содержит:
- вакуумную камеру;
- устройство (301) литографии, расположенное в вакуумной камере, для нанесения картины на подложку;
- систему (310) блокировки нагрузки для переноса подложек в и из вакуумной камеры и
- дверцу (330) для обеспечения входа в вакуумную камеру для целей обслуживания;
в которой система блокировки нагрузки и дверца каждого узла литографической системы обеспечены на одной стороне узла литографической системы и направлены к свободному пространству на стороне литографической системы.
2. Система по п.1, в которой узлы литографической системы расположены один за другим в два ряда.
3. Система по любому из предыдущих пунктов, в которой дверца с возможностью удаления соединена с вакуумной камерой.
4. Система по п.3, в которой дверца обеспечена одним или более элементами (345) переноса.
5. Система по п.1 или 2, в которой система блокировки нагрузки интегрирована в дверцу.
6. Система по п.1 или 2, в которой узел литографической системы содержит узел (410) хранения для временного хранения подложек.
7. Система по п.1 или 2, дополнительно содержащая систему (320) приготовления для приготовления подложек к нанесению картины в устройстве (301) литографии.
8. Система по п.1, в которой каждый узел литографической системы содержит систему приготовления.
9. Система по п.8, в которой узел литографической системы содержит робота (401, 501) для переноса подложек между системой приготовления и системой блокировки нагрузки.
10. Система по любому из п.п.7-9, в которой система приготовления содержит зажимной узел (360) для зажима подложки (405) на конструкции (403) поддержки подложки, чтобы сформировать зажим.
11. Система по п.1, дополнительно содержащая:
- систему (315) подачи подложек для обеспечения подачи подложек множеству узлов литографической системы и
- систему (350, 350') переноса подложек для переноса подложек между системой подачи подложек и множеством узлов литографической системы.
12. Система по п.11, в которой каждый узел литографической системы содержит систему приготовления и робота для переноса подложек между системой переноса подложек и системой приготовления.
13. Система по п.11, в которой система подачи подложек приспособлена, чтобы вмещать в себя узел (510) хранения подложек для временного хранения подложек.
14. Система по п.13, в которой узел хранения подложек является удаляемым узлом хранения подложек, таким как унифицированный контейнер с фронтальной загрузкой, FOUP.
15. Система по любому из п.п.11-14, в которой система подачи подложек является соединяемой с системой (600) транспортировки.
16. Система по любому из п.п.11-14, в которой система переноса подложек расположена над системами блокировки нагрузки узлов литографической системы.
17. Система по п.1 или 2, в которой устройство литографии является устройством литографии заряженных частиц.
18. Способ обработки подложки в узле литографической системы литографической системы по любому из предыдущих пунктов, узел литографической системы, дополнительно содержащий систему приготовления подложки и манипулирующего подложкой робота для переноса подложек между системой блокировки нагрузки и системой приготовления подложек, в котором способ состоит в том, что:
- предоставляют подложку, которая должна быть подвергнута обработке;
- переносят подложку посредством робота в систему приготовления подложек;
- зажимают подложку на конструкции поддержки подложки в системе приготовления подложек;
- переносят зажатую подложку посредством робота в систему блокировки нагрузки для подвергания обработке в устройстве литографии;
- подвергают зажатую подложку обработке в устройстве литографии;
- переносят подвергнутую обработке зажатую подложку посредством робота из системы блокировки нагрузки в систему приготовления подложек;
- отделяют подвергнутую обработке подложку от конструкции поддержки подложки в системе приготовления подложек; и
- переносят зажатую подвергнутую обработке подложку посредством робота в точку для удаления из узла литографической системы.
19. Способ по п.18, дополнительно содержащий, перед зажимом, выравнивание подложки относительно конструкции поддержки подложки в системе приготовления подложки.
20. Способ по п.18 или 19, в котором узел литографической системы дополнительно содержит узел хранения подложек для хранения одной или более подложек и в котором подложки, которые должны быть подвергнуты обработке, предоставляются узлу хранения подложек.
21. Способ по п.20, в котором узел хранения подложек дополнительно приспособлен для хранения одной или более подвергнутых обработке подложек и в котором перенос подвергнутой обработке подложки в точку для удаления содержит перенос подвергнутой обработке подложки посредством робота в узел хранения подложек.
22. Способ по п.18 или 19, в котором способ дополнительно содержит направление подложки в направлении предопределенной ориентации перед переносом в узел приготовления подложек.
23. Способ по п.18 или 19, в котором система приготовления подложек содержит первый узел приготовления подложек и второй узел приготовления подложек, первый и второй узлы приготовления подложек, приспособленные для зажима подложки, которая должна быть подвергнута обработке, на конструкции поддержки подложки, и отделения подвергнутой обработке подложки от конструкции поддержки подложки, в котором робот переносит подложки в и из первого и второго узлов приготовления чередующимся образом.
24. Способ по п.18, в котором литографическая система дополнительно содержит систему подачи подложек, содержащую ввод для приема подложек, которые должны быть подвергнуты обработке, и вывод для предоставления подвергнутых обработке подложек, и систему переноса подложек для переноса подложек между системой подачи подложек и узлами литографической системы; и в котором предоставление подложки, которая должна быть подвергнута обработке, содержит перенос подложки, которая должна быть подвергнута обработке, от ввода системы подачи подложек к узлу литографической системы посредством системы переноса подложек.
25. Способ по п.24, в котором способ дополнительно содержит удаление подвергнутой обработке подложки из литографической системы посредством переноса подвергнутой обработке подложки из узла литографической системы к выводу системы подачи подложек посредством системы переноса подложек.