ПОКРЫТИЯ ИЗ ДИОКСИДА ТИТАНА И СПОСОБЫ ФОРМИРОВАНИЯ ПОКРЫТИЙ ИЗ ДИОКСИДА ТИТАНА С УМЕНЬШЕННЫМ РАЗМЕРОМ КРИСТАЛЛОВ

1. Способ формирования на подложке покрытия из диоксида титана, содержащего кристаллы с уменьшенным размером кристаллитов, содержащий:
приготовление золь-гель композиции диоксида титана;
покрытие подложки золь-гель композицией; и
нагревание покрытой подложки при температуре, достаточной для образования покрытия из диоксида титана, содержащего кристаллы с уменьшенным размером кристаллитов.
2. Способ по п.1, при этом упомянутую покрытую подложку нагревают при температуре по меньшей мере 575°С.
3. Способ по п.2, при этом упомянутую покрытую подложку нагревают при температуре по меньшей мере примерно 600°С.
4. Способ по п.1, при этом покрытую подложку нагревают при температуре, достаточной для образования покрытия из диоксида титана, имеющего угол смачивания водой менее примерно 10°.
5. Способ по п.1, при этом покрытие из диоксида титана содержит кристаллы с размером кристаллитов менее примерно 35 нм.
6. Способ по п.5, при этом покрытие из диоксида титана содержит кристаллы с размером кристаллитов менее примерно 25 нм.
7. Способ по п.1, при этом подложка содержит стеклянную подложку.
8. Способ по п.7, при этом стеклянную подложку выбирают из стекла прозрачного и с низким содержанием железа.
9. Способ улучшения по меньшей мере одного из антимикробных свойств, свойств самоочищения и гидрофильности покрытия из диоксида титана, содержащий:
приготовление золь-гель композиции диоксида титана;
покрытие подложки золь-гель композицией; и
нагревание покрытой подложки для образования покрытия из диоксида титана, содержащего кристаллы с уменьшенным размером кристаллитов.
10. Способ по п.9, при этом покрытую подложку нагревают при температуре по меньшей мере примерно 575°С.
11. Способ по п.10, при этом покрытую подложку нагревают при температуре по меньшей мере примерно 600°С.
12. Способ по п.9, при этом упомянутые кристаллы имеют размер кристаллитов менее примерно 35 нм.
13. Способ по п.12, при этом упомянутые кристаллы имеют размер кристаллитов менее примерно 25 нм.
14. Способ по п.9, при этом покрытие из диоксида титана имеет угол смачивания водой менее примерно 10°.
15. Подложка, содержащая покрытие из диоксида титана, содержащее кристаллы с уменьшенным размером кристаллитов, при этом покрытие из диоксида титана содержит кристаллы с размером кристаллитов менее примерно 35 нм.
16. Подложка, содержащая покрытие из диоксида титана, содержащее кристаллы с уменьшенным размером кристаллитов, по п.15, при этом покрытие из диоксида титана содержит кристаллы с размером кристаллитов менее примерно 25 нм.
17. Подложка, содержащая покрытие из диоксида титана, содержащее кристаллы с уменьшенным размером кристаллитов, по п.15, при этом покрытие из диоксида титана имеет угол смачивания водой менее примерно 10°.
18. Подложка, содержащая покрытие из диоксида титана, содержащее кристаллы с уменьшенным размером кристаллитов, по п.15, при этом подложка содержит стеклянную подложку.
19. Подложка по п.18, при этом стеклянная подложка выбрана из стекла прозрачного и с низким содержанием железа.
20. Покрытие из диоксида титана, имеющее по меньшей мере одно из улучшенных антимикробных свойств, улучшенных свойств самоочищения и улучшенной гидрофильности, при этом упомянутое покрытие из диоксида титана изготовлено путем:
приготовления золь-гель композиции диоксида титана;
покрытия подложки золь-гель композицией; и
нагревания покрытой подложки для образования покрытия из диоксида титана, содержащего кристаллы с уменьшенным размером кристаллитов.