СОСТАВ ПОКРЫТИЯ, СОДЕРЖАЩИЙ ФОТОКАТАЛИЗАТОР ПОКРЫТИЙ АПАТИТОМ И СИСТЕМА НАГРЕВА ИЗЛУЧЕНИЕМ, СОДЕРЖАЩАЯ ТАКОЙ ЖЕ ФОТОКАТАЛИЗАТОР

1. Композиция фотокаталитического покрытия, содержащая от 5 до 20 мас.% фотокатализатора с нанесенным гидроксиапатитом, от 5 до 15 мас.% связующего на основе диоксида кремния, от 1 до 5% (мас.) акриловой эмульсии, от 0,1 до 1 мас.% загустителя и от 54 до 85 мас.% воды.
2. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что фотокатализатор с нанесенным гидроксиапатитом имеет степень покрытия от 5 до 36%.
3. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что средний диаметр частиц фотокатализатора с нанесенным гидроксиапатитом составляет от 1 до 250 нм.
4. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что фотокатализатор выбран из диоксида титана, оксида цинка, оксида циркония, оксида олова, триоксида ванадия и сочетаний указанных соединений.
5. Композиция по п.1, отличающаяся тем, что загуститель представляет собой ксантановую камедь.
6. Композиция по любому из пп.1-5, отличающаяся тем, что композицию фотокаталитического покрытия применяют для производства системы радиационного нагрева.
7. Система радиационного нагрева, содержащая композицию фотокаталитического покрытия по любому из пп.1-5.
8. Система по п.7, отличающаяся тем, что указанная система содержит подложку 2, нагревательный слой 1 и теплоизлучающий слой 3.
9. Система по п.8, отличающаяся тем, что подложка 2 представляет собой пластину из нержавеющей стали (SUS) или алюминия.
10. Система по п.8, отличающаяся тем, что нагревательный слой 1 выполнен из по меньшей мере нихромовой проволоки, покрытой силиконом, тефлоном или стеклонитью.
2
2
2
2
3
2
3
2
2
11. Система по п.8, отличающаяся тем, что теплоизлучающий слой 3 получен путем нанесения на подложку 2 смеси излучающего неорганического материала, от 20 до 25 мас.% алкоксисиланового адгезива и от 10 до 15 мас.% спиртового растворителя и удаления растворителя сушкой, причем излучающий неорганический материал состоит из 6-12 мас.% ТiO, 20-30 мас.% SiO, 5-10 мас.% ZrO, 5-10 мас.% AlО, 5-10 мас.% FeO, 5-10 мас.% MnO и 1-5 мас.% NaO.
12. Система по п.8, отличающаяся тем, что указанная система дополнительно содержит теплоизоляционный слой 4 на внешней поверхности, противоположной поверхности теплоизлучающего слоя 3.
13. Система по п.12, отличающаяся тем, что теплоизоляционный слой 4 состоит из стекловолокна и толщина указанного слоя составляет от 15 до 25 мм.
14. Система по п.8, отличающаяся тем, что указанная система дополнительно содержит неравномерный поверхностный слой 5 на поверхности теплоизлучающего слоя 3.
2
2
15. Система по п.14, отличающаяся тем, что неравномерный поверхностный слой 5 получен путем нанесения пересыщенного водного раствора смеси SiO и CaO на поверхность теплоизлучающего слоя 3 и удаления воды сушкой.
2
2
16. Система по п.14 или 15, отличающаяся тем, что неравномерный поверхностный слой 5 получен путем нанесения пересыщенного водного раствора смеси SiO и CaO в массовом соотношении 1:4 на поверхность теплоизлучающего слоя 3 и удаления воды сушкой.
17. Система по п.8, отличающаяся тем, что указанная система дополнительно содержит слой 6 фотокаталитического покрытия.
18. Система по п.17, отличающаяся тем, что толщина слоя 6 фотокаталитического покрытия составляет от 30 до 300 мкм.
19. Способ получения системы радиационного нагрева по п.8, включающий этапы нанесения композиции фотокаталитического покрытия по любому из пп.1-5 на теплоизлучающий слой 3 и отверждения поверхности теплоизлучающего слоя 3 в интервале температур от 18 до 150°С.
20. Способ получения системы радиационного нагрева по п.17, включающий этапы нанесения композиции фотокаталитического покрытия по любому из пп.1-5 на неравномерный поверхностный слой 5 и отверждения поверхности неравномерного поверхностного слоя 5 в интервале температур от 18 до 150°С.