УПРАВЛЕНИЕ ТЕМПЕРАТУРОЙ НА ОСНОВЕ ВИХРЕВОЙ ТРУБКИ ДЛЯ УСТРОЙСТВ УПРАВЛЕНИЯ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИМ ПРОЦЕССОМ

1. Устройство, содержащее:
корпус;
устройство управления технологическим процессом, расположенное в корпусе; и
вихревую трубку, соединенную с корпусом, для регулирования рабочей температуры устройства управления технологическим процессом, при этом вихревая трубка имеет впускное отверстие для текучей среды, предназначенное для приема текучей среды, первое выпускное отверстие для текучей среды и второе выпускное отверстие для текучей среды,
причем температура первой части текучей среды в первом выпускном отверстии для текучей среды больше, чем температура второй части текучей среды во втором выпускном отверстии для текучей среды и температура текучей среды во впускном отверстии для текучей среды, при этом первое выпускное отверстие для текучей среды предназначено для выпуска первой части текучей среды для регулирования рабочей температуры устройства управления технологическим процессом.
2. Устройство по п. 1, в котором вихревая трубка расположена в корпусе.
3. Устройство по любому из предыдущих пунктов, в котором вихревая трубка соединена с внешней стороной корпуса.
4. Устройство по предыдущим пунктам, дополнительно содержащее слой изоляции, соединенный с корпусом.
5. Устройство по предыдущим пунктам, в котором слой изоляции содержит покрытие, нанесённое на корпус.
6. Устройство по предыдущим пунктам, в котором слой изоляции содержит съемную крышку для по меньшей мере частичного закрытия наружной стороны корпуса.
7. Устройство по предыдущим пунктам, в котором вторая часть текучей среды во втором выпускном отверстии для текучей среды выпущена в окружающую среду снаружи корпуса через вентиляционное отверстие.
8. Устройство по предыдущим пунктам, дополнительно содержащее источник текучей среды для подачи текучей среды к впускному отверстию для текучей среды вихревой трубки.
9. Устройство по предыдущим пунктам, в котором источником текучей среды является текучая среда, отведенная от подачи текучей среды для устройства управления технологическим процессом.
10. Устройство по предыдущим пунктам, дополнительно содержащее контроллер для измерения температуры внутреннего пространства корпуса и/или рабочей температуры устройства управления технологическим процессом.
11. Устройство по предыдущим пунктам, в котором контроллер выполнен с возможностью регулирования потока текучей среды во впускном отверстии вихревой трубки для поддержания по существу постоянной температуры внутреннего пространства корпуса и/или устройства управления технологическим процессом.
12. Способ, включающий:
измерение температуры устройства управления технологическим процессом, расположенного в корпусе, и/или внутреннего пространства корпуса;
подвод текучей среды к корпусу через вихревую трубку и
регулировку, на основании указанной температуры, потока текучей среды через вихревую трубку для поддержания по существу постоянной температуры устройства или внутреннего пространства корпуса.
13. Способ по п. 12, дополнительно включающий отведение части текучей среды от подачи текучей среды для устройства управления технологическим процессом к впускному отверстию для текучей среды вихревой трубки.
14. Способ по предыдущим пунктам, дополнительно включающий направление первой части текучей среды в первом выпускном отверстии для текучей среды вихревой трубки к корпусу для нагрева устройства и/или внутреннего пространства корпуса.
15. Способ по предыдущим пунктам, дополнительно включающий деление потока первой части текучей среды из первого выпускного отверстия для текучей среды вихревой трубки на первый поток и второй поток, причем первый и второй потоки предназначены для нагрева соответственно первого компонента и второго компонента устройства управления технологическим процессом.
16. Способ по предыдущим пунктам, дополнительно включающий направление второй части текучей среды во втором выпускном отверстии для текучей среды вихревой трубки к окружающей среде снаружи корпуса.
17. Способ по предыдущим пунктам, в котором регулирование потока включает регулировку по меньшей мере одного из давления текучей среды во впускном отверстии для текучей среды вихревой трубки или оттока первой части текучей среды в первом выпускном отверстии для текучей среды.
18. Устройство, содержащее:
средство для размещения по меньшей мере части устройства управления технологическим процессом;
средство для управления температурой средства для размещения, причем средство для управления температурой имеет впускное отверстие для текучей среды; и
средство для подвода к средству для управления температурой текучей среды во впускном отверстии текучей среды для нагрева устройства управления технологическим процессом.
19. Устройство по п. 18, в котором средство для управления температурой дополнительно содержит первое выпускное отверстие для текучей среды и второе выпускное отверстие для текучей среды, причем первое выпускное отверстие для текучей среды предназначено для обеспечения первого оттока текучей среды, имеющего температуру больше, чем второй отток текучей среды во втором выпускном отверстии для текучей среды, при этом первый отток текучей среды предназначен для нагрева устройства управления технологическим процессом.
20. Устройство по предыдущим пунктам, дополнительно содержащее средство для регулировки средства управления температурой.