ВАКУУМНАЯ ЭЛЕКТРОННО-ПЛАЗМЕННАЯ УСТАНОВКА

Вакуумная электронно-плазменная установка для обработки мелкодисперсных материалов, содержащая вакуумную камеру, в которой соосно и последовательно установлены катодный узел плазмотрона, выполненный в виде катододержателя с полым катодом, центральной трубки ввода обрабатываемого материала и штуцера подачи плазмообразующего газа, и анод, отличающаяся тем, что, с целью улучшения качества обрабатываемого материала, анод выполнен в виде водоохлаждаемого кольца, а установка снабжена по меньшей мере тремя дополнительными катодными узлами, расположенными под анодом и направленными рабочими торцами к оси плазмотрона.