СИСТЕМА И СПОСОБ ДЛЯ ОБЕСПЕЧЕНИЯ ФОТОТЕРАПИИ СУБЪЕКТА

1. Маска для сна, выполненная с возможностью обеспечения фототерапии субъекта, при этом маска для сна содержит:
экран, выполненный с возможностью покрытия глаз субъекта, носящего маску для сна, таким образом, что экран обеспечивает перегородку между внешним излучением и глазами субъекта;
один или более источников излучения, выполненных с возможностью испускания излучения, которое обеспечивает фототерапию субъекта, причем один или более источников излучения, которые удерживаются на экране таким образом, что излучение, испускаемое одним или более источниками излучения, направляется на глаза субъекта; и
i
ii
один или более фильтров, расположенных в одной или более апертуре в экране, причем один или более фильтров выполнены с возможностью () блокирования внешнего излучения, которое, если бы попадало на глаза субъекта, создавало бы помеху фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым одним или более источниками излучения, и () пропускания через перегородку, сформированного экраном, внешнего излучения, которое не создает помехи фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым одним или более источниками излучения.
i
ii
2. Маска для сна по п.1, в которой один или более фильтров выполнены с возможностью () блокирования внешнего излучения с длинами волн, которые, если бы попадали на глаза субъекта, создавали бы помеху фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым одним или более источниками излучения, и () пропускания через перегородку, сформированную экраном, внешнего излучения с длинами волн, которые не создают помехи фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым одним или более источниками излучения.
3. Маска для сна по п.1, в которой один или более фильтров выполнены с возможностью пропускания через перегородку, сформированную экраном, внешнего излучения с длинами волн больше чем приблизительно 580 нм.
4. Маска для сна по п.1, дополнительно содержащая процессор, соединенный с одним или более источниками излучения и выполненные с возможностью управления одним или более источниками излучения в соответствии с предварительно заданным алгоритмом фототерапии.
5. Маска для сна по п.4, в которой процессор дополнительно выполнен с возможностью управления характеристиками пропускания одного или более фильтров в соответствии с предварительно заданным алгоритмом фототерапии.
6. Маска для сна по п.5, в которой процессор выполнен с возможностью управления характеристиками пропускания одного или более фильтров посредством изменения пропускания одного или более фильтров для излучения в предварительно заданном диапазоне длин волн.
7. Маска для сна по п.5, в которой процессор выполнен с возможностью управления характеристиками пропускания одного или более фильтров посредством изменения пропускания одного или более фильтров для излучения по всему спектру видимого света.
8. Маска, выполненная с возможностью обеспечения фототерапии субъекта, при этом маска содержит:
средство для покрытия глаз субъекта посредством обеспечения перегородки между внешним излучением и глазами субъекта;
средство для испускания излучения между глазами субъекта и перегородкой;
средство для блокирования на перегородке внешнего излучения, которое, если бы попадало на глаза субъекта, создало бы помеху фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым между глазами субъекта и перегородкой; и
средство для пропускания через перегородку внешнего излучения, которое не создает помехи фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым между глазами субъекта и перегородкой.
9. Маска по п.8, в которой средство для блокирования на перегородке внешнего излучения, которое, если бы попадало на глаза субъекта, создало бы помеху фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым между глазами субъекта и перегородкой, содержит средство для блокирования внешнего излучения с длинами волн, которое, если бы попадало на глаза субъекта, создавало бы помеху фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым между глазами субъекта и перегородкой, и при этом средство для пропускания через перегородку внешнего излучения с длинами волн, которое не создает помехи фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым между глазами субъекта и перегородкой, содержит средство для пропускания через перегородку внешнего излучения с длинами волн, которое не создает помехи фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым между глазами субъекта и перегородкой.
10. Маска по п.8, в которой внешнее излучение, которое, если бы попадало на глаза субъекта, создало бы помеху фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым между глазами субъекта и перегородкой, содержит внешнее излучение, содержащее длину волны, равную или выше приблизительно 580 нм, и при этом внешнее излучение, которое не создает помехи фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым между глазами субъекта и перегородкой, содержит внешнее излучение, содержащее длину волны, равную или ниже приблизительно 580 нм.
11. Маска по п.8, дополнительно содержащая средство для управления испусканием излучения между перегородкой и глазами субъекта в соответствии с предварительно заданным алгоритмом фототерапии.
12. Маска по п.11, дополнительно содержащая средство для управления характеристиками пропускания одного или более фильтров, расположенных в перегородке, в соответствии с предварительно заданным алгоритмом фототерапии, чтобы обеспечивать блокирование на перегородке внешнего излучения, которое, если бы попадало на глаза субъекта, создавало бы помеху фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым между глазами субъекта и перегородкой, и пропускание через перегородку внешнего излучения, которое не создает помехи фототерапии, обеспечиваемой для субъекта излучением, испускаемым между глазами субъекта и перегородкой.
13. Маска по п.12, в которой средство для управления характеристиками пропускания одного или более фильтров содержит средство для изменения пропускания одного или более фильтров для излучения в пределах предварительно заданного диапазона длин волн.
14. Маска по п.12, в которой средство для управления характеристиками пропускания одного или более фильтров содержит средство для изменения пропускания одного или более фильтров для излучения по всему спектру видимого света.