СТЕРЕОЛИТОГРАФИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО, ИМЕЮЩЕЕ БЛОК ОБНАРУЖЕНИЯ ДЛЯ ОПТИЧЕСКОЙ РЕГУЛИРОВКИ И ИЗМЕНЕНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЯ

1. Стереолитографическое устройство (1) для генерирования трехмерного объекта (2) из фотоотверждаемого вещества (3), содержащее:
оптический блок (4) для проецирования изображения на фотоотверждаемое вещество (3) для отверждения фотоотверждаемого вещества (3), осажденного в фокусном слое (5);
блок (6) управления для управления оптическим блоком (4), отличающееся тем, что дополнительно содержит:
блок (7) обнаружения, который содержит: средство (8) обнаружения, которое размещено с возможностью перемещения на участке (9) обнаружения для обнаружения в процессе генерирования или на протяжении паузы в генерировании по меньшей мере части изображения, проецируемого оптическим блоком (4) и для вывода сигнала, указывающего обнаруженное изображение, на блок (6) управления; и первое приводное средство (10) для перемещения средства (8) обнаружения в участок (9) обнаружения или из него, и при этом
оптический блок (4) дополнительно содержит: второе приводное средство (11), которое связано с оптическим блоком (4) для перемещения фокусного слоя (5) в участок (9) обнаружения или из него, причем
блок (6) управления дополнительно выполнен с возможностью управления первым приводным блоком (10) и вторым приводным средством (11), и регулировки оптического блока (4) и/или изменения изображения, подлежащего проекции, на основании сигнала, указывающего обнаруженное изображение.
2. Стереолитографическое устройство (1) по п. 1, отличающееся тем, что первое приводное средство (10) дополнительно выполнено с возможностью перемещения средства (8) обнаружения в участок (9) обнаружения или из него в направлении (X), перпендикулярном оптической оси (O).
3. Стереолитографическое устройство (1) по п. 1 или 2, отличающееся тем, что второе приводное средство (11) выполнено с возможностью перемещения фокального слоя (5) в участок (9) обнаружения или из него вдоль оптической оси (O).
4. Стереолитографическое устройство (1) по любому из пп. 1-3, отличающееся тем, что блок (7) обнаружения является съемным.
5. Стереолитографическое устройство (1) по любому из пп. 1-4, отличающееся тем, что средство (8) обнаружения содержит один или более датчиков (8a-8e).
6. Стереолитографическое устройство (1) по п. 5, отличающееся тем, что один или более датчиков (8a-8g), каждый из которых содержит активную зону (80) датчика, например, CMOS-камеру, и/или один или более датчиков (8a-8g) пригодны для обнаружения длины волны экспозиции оптическим блоком (4).
7. Стереолитографическое устройство (1) по п. 5 или 6, отличающееся тем, что средство (8) обнаружения содержит кронштейн (12) для поддержки датчиков (8a-8e) в матрице, причем первое приводное средство (10) связано с кронштейном (12) и дополнительно выполнено с возможностью перемещения кронштейна (12) в участок (9) обнаружения или из него, причем кронштейн (12) располагается параллельно поверхности фотоотверждаемого вещества (3), которая обращена к оптическому блоку (4).
8. Стереолитографическое устройство (1) по любому из пп. 1-7, отличающееся тем, что второе приводное средство (11) дополнительно выполнено с возможностью независимого вращения оптического блока (4) относительно трех взаимно перпендикулярных направлений (X, Y, Z) причем одно из упомянутых направлений (Z) перпендикулярно поверхности фотоотверждаемого вещества (3), обращенной к оптическому блоку (4), и блок (6) управления дополнительно выполнен с возможностью регулировки оптического блока (4) для устранения наклона оптической оси (O) путем управления вторым приводным средством (11).
9. Стереолитографическое устройство (1) по любому из пп. 1-8, отличающееся тем, что первое приводное средство (10) выполнено с возможностью перемещения средства (8) обнаружения из участка, подлежащего активной экспозиции оптическим блоком (4) на участке (9) обнаружения, и средство (8) обнаружения выполнено с возможностью обнаружения по меньшей мере рассеянного излучения, обусловленного изображением, проецируемым оптическим блоком (4) в активно экспонируемый участок и для вывода сигнала, указывающего обнаруженное рассеянное излучение.
10. Стереолитографическое устройство (1) по любому из пп. 1-9, отличающееся тем, что оптический блок (4) выполнен с возможностью проецировать, в процессе генерирования или на протяжении паузы в генерировании, на фотоотверждаемое вещество (3) относительно малое изображение, которое будет полностью заграждено средством (8) обнаружения для предотвращения отверждения фотоотверждаемого вещества (3) в ходе обнаружения, и при этом средство (8) обнаружения выполнено с возможностью обнаружения по меньшей мере части изображения и вывода сигнала, указывающего обнаруженное изображение, на блок (6) управления, и блок (6) управления дополнительно выполнен с возможностью регулировки оптического блока (4) или изменения изображения, подлежащего проекции, на основании сигнала, указывающего обнаруженное изображение.
11. Стереолитографическое устройство (1) по любому из пп. 1-10, отличающееся тем, что оптический блок (4) выполнен с возможностью проецировать калибровочное изображение (13) на фокусный слой (5), причем калибровочное изображение (13) содержит: одну или более строк (14) перемежающихся пикселей (15), подлежащих освещению для обеспечения возможности обнаружения интенсивности и резкости проецируемого калибровочного изображения (13), и при этом калибровочное изображение (13) содержит по меньшей мере левый и правый участок (130, 131) упомянутых пикселей (15), соответствующих противоположным концам фокального слоя (5) для обеспечения возможности обнаружения наклона в фокусном слое (5).
12. Стереолитографическое устройство (1) по любому из пп. 1-11, отличающееся тем, что средство (8) обнаружения выполнено с возможностью обнаружения по меньшей мере части изображения, проецируемого оптическим блоком (4), пока первое приводное средство (10) пошагово или непрерывно перемещает средство (8) обнаружения в направлении (X), перпендикулярном оптической оси (O) на участке (9) обнаружения, и для вывода сигнала, указывающего обнаруженное изображение, на блок (6) управления; и блок (6) управления дополнительно выполнен с возможностью определения компенсационной матрицы на основании обнаруженного изображения, и изменения изображения, подлежащего проецированию, на основании компенсационной матрицы.
13. Стереолитографическое устройство (1) по любому из пп. 1-12, отличающееся тем, что блок (6) управления дополнительно выполнен с возможностью регулировки масштаба увеличения, резкости изображения слоя и позиции фокусного слоя оптического блока (4) и компенсации оптического искажения на основании сигнала, указывающего обнаруженное изображение.
14. Стереолитографическое устройство (1) по любому из пп. 1-13, отличающееся тем, что
оптический блок (4) содержит два или более оптических подблоков (4a,4b) для независимого проецирования двух или более изображений, соответственно на фотоотверждаемое вещество (3) для отверждения фотоотверждаемого вещества (3), осажденного в фокусных слоях (5a, 5b),
причем средство (8) обнаружения выполнено с возможностью обнаружения в процессе генерирования или на протяжении паузы в генерировании по меньшей мере части каждого из двух или более изображений, проецируемых оптическими подблоками (4a, 4b) и вывода сигнала, указывающего обнаруженные изображения, на блок (6) управления, и
при этом второе приводное средство (11) содержит два вторых приводных подсредства (11a, 11b), каждое из которых связано с оптическими подблоками (4a, 4b) для перемещения фокусных слоев (5a, 5b) в участок (9) обнаружения или из него,
вторые приводные подсредства (11a, 11b)  взаимносвязаны для продвижения фокусных слоев (5a, 5b) в участок (9) обнаружения или из него одновременно,
при этом блок (6) управления дополнительно выполнен с возможностью регулировки оптических подблоков (4a, 4b) и/или изменения изображений, подлежащих проецированию, на основании сигнала, указывающего обнаруженные изображения, и получения одних и тех же свойств формирования изображения в фокусных слоях (5a, 5b), например, однородности, размера пикселя и пр.
15. Стереолитографическое устройство (1) по п. 14, отличающееся тем, что блок (6) управления дополнительно выполнен с возможностью регулировки двух или более оптических подблоков (4a, 4b) на основании сигнала, выводимого для проецирования соответствующих изображениях в фокальных слоях (5a, 5b), соседствующие без зазоров и нахлестов.