СПОСОБ ЮСТИРОВКИ ДВУХЗЕРКАЛЬНЫХ ЦЕНТРИРОВАННЫХ ОПТИЧЕСКИХ СИСТЕМ

Способ юстировки двухзеркальных центрированных оптических систем путем формирования автоколлимационных изображений точечного источника света, расположенного на оптической оси системы, посредством введения соосно располагаемых вспомогательных оптических элементов, отличающийся тем, что формируются автоколлимационные изображения монохроматического точечного источника света посредством трех вспомогательных осевых синтезированных голограмм, выполненных соосно на общей подложке и расположенных между зеркальными элементами юстируемой двухзеркальной центрированной оптической системы, одна из синтезированных голограмм является отражательной и формирует автоколлимационное изображение монохроматического точечного источника света, установленного перед подложкой с синтезированными голограммами со стороны первого зеркального элемента юстируемой двухзеркальной центрированной оптической системы, вторая голограмма является пропускающей и формирует автоколлимационное изображение монохроматического точечного источника света совместно со вторым зеркальным элементом юстируемой двухзеркальной центрированной оптической системы, третья голограмма является отражательной и формирует автоколлимационное изображение монохроматического точечного источника света совместно с первым зеркальным элементом юстируемой двухзеркальной центрированной оптической системы, причем распределение радиусов ρ границ кольцевых зон в структурах этих голограмм определяется условиями:
для первой голограммы
для второй голограммы
для третьей голограммы
где m - номер кольцевой зоны в структуре синтезированной голограммы;
1,m
Δl - разность хода между осевым лучом и лучами, соответствующими границам зон в структуре первой голограммы, от монохроматического точечного источника света до подложки голограмм;
3,m
2,m
Δl и Δl - разность хода между осевым лучом и лучами, соответствующими границам зон в структурах третьей и второй голограмм, от монохроматического точечного источника света соответственно до первого и второго зеркальных элементов юстируемой двухзеркальной оптической системы;
5
6
y(x) и y(x) - функции, определяющие форму профиля отражающих поверхностей соответственно первого и второго зеркальных элементов юстируемой двухзеркальной оптической системы;
d - толщина подложки синтезированных голограмм;
n - показатель преломления материала подложки синтезированных голограмм;
1
a и d - расстояния от передней рабочей поверхности подложки синтезированных голограмм до монохроматического точечного источника света и до вершины отражающей поверхности первого зеркального элемента соответственно;
2
d - расстояние от задней поверхности подложки синтезированных голограмм до вершины отражающей поверхности второго зеркального элемента;
λ - длина волны излучения монохроматического источника света;
Q - скважность структуры синтезированных голограмм.