СИСТЕМА МИКРОСКОПИИ С ОСЛАБЛЕНИЕМ СТИМУЛИРОВАННОГО ИЗЛУЧЕНИЯ

1. Система (10) оптической микроскопии для ослабления стимулированного излучения (STED) исследуемого объекта (О), причем данная система содержит:
средство (7) генерации излучения, выполненное с возможностью испускать первый (1) и второй (2) лучи, причем первый луч является лучом возбуждения, а второй луч является лучом ослабления по отношению к первому лучу;
оптический элемент (6) для фокусировки первого и второго лучей на объекте, причем этот оптический элемент расположен относительно средства генерации излучения для определения общего оптического пути (ОР) для обоих первого и второго лучей, и
элемент (5) изменения фазы, введенный в упомянутый общий оптический путь (ОР),
при этом элемент изменения фазы оптически сконфигурирован таким образом, чтобы оставлять по существу неизменным волновой фронт первого луча и изменять волновой фронт второго луча (2'), чтобы создавать представляющую интерес неослабленную область (ROI) на объекте,
при этом элемент (5) изменения фазы выполнен с возможностью изменять волновой фронт второго луча (2) за счет того, что имеет поверхность с множеством областей, содержащих первую и вторую области (31, 32, 33), причем первая область имеет выступающую высоту, которая выше высоты второй области, и
при этом множество областей поверхности элемента (5) изменения фазы изготовлены в одном оптическом материале.
2. Система по п.1, в которой элемент (5) изменения фазы выполнен с возможностью оставлять волновой фронт первого луча (1) по существу неизменным посредством изменения фазы первого луча на 2π по модулю.
3. Система по п.1, в которой по меньшей мере упомянутые оптический элемент (6) и элемент (5) изменения фазы расположены в эндоскопе, катетере, игле или биопсийной игле для формирования медицинских изображения.
4. Система по п.1, в которой элемент (5) изменения фазы имеет азимутальную конфигурацию (31, 32, 33), при которой каждая область из упомянутого множества областей расположена внутри интервала азимутальных углов.
5. Система по п.4, в которой множество областей на поверхности элемента (5) изменения фазы имеет последовательно увеличивающиеся высоты.
6. Система по п.4, в которой высоты на поверхности элемента (5) изменения фазы имеют такое распределение по высоте, что измененная фаза второго луча как функция азимутального угла Ф(φ) приблизительно равна этому азимутальному углу:
7. Система по п.4, в которой амплитуда U в световом пятне второго луча в фокальной плоскости фокусирующего оптического элемента является приблизительно нулевой в центральном положении оптического пути (r=0), при требовании, чтобы элемент (5) изменения фазы приблизительно удовлетворял следующему равенству:
k
w
k
k
k
где  обозначает номер сектора, Ф - фазу сектора,  - размер сектора, который равен конечному углу минус начальный угол сектора .
8. Система по п.4, в которой амплитуда U в световом пятне второго луча в фокальной плоскости фокусирующего оптического элемента имеет приблизительно круговую симметрию относительно общего оптического пути, при требовании, чтобы элемент (5) изменения фазы приблизительно удовлетворял следующим равенствам:
k
w
k
k
k
где  обозначает номер сектора, Ф - фазу сектора,  - размер сектора, который равен конечному углу минус начальный угол сектора .
9. Система по п.1, в которой первая и вторая области элемента (5) изменения фазы являются вращательно симметричными относительно общего оптического пути.
10. Оптический подблок (100), выполненный с возможностью формировать оптические изображения исследуемого объекта с использованием ослабления стимулированного излучения (STED) в связанной с ним системе оптической микроскопии, при этом система оптической микроскопии содержит средство (7) генерации излучения, выполненное с возможностью испускать первый (1) и второй (2) лучи, причем первый луч является лучом возбуждения, а второй луч является лучом ослабления по отношению к первому лучу, причем этот оптический подблок содержит:
оптическое волноводное средство (110) для проведения первого и второго лучей через подблок;
оптический элемент (6) для фокусировки первого и второго лучей на объекте, причем этот оптический элемент расположен относительно средства генерации излучения для определения общего оптического пути для обоих первого и второго лучей, и
элемент (5) изменения фазы, введенный в упомянутый общий оптический путь,
при этом элемент изменения фазы оптически сконфигурирован таким образом, чтобы оставлять по существу неизменным волновой фронт первого луча (1) и изменять волновой фронт второго луча (2'), чтобы создавать представляющую интерес неослабленную область на объекте,
при этом элемент (5) изменения фазы выполнен с возможностью изменять волновой фронт второго луча (2) за счет того, что имеет поверхность с множеством областей, содержащих первую и вторую области (31, 32, 33), причем первая область имеет выступающую высоту, которая выше высоты второй области, и
при этом множество областей поверхности элемента (5) изменения фазы изготовлены в одном оптическом материале.
11. Оптический подблок (100), выполненный с возможностью формировать оптические изображения исследуемого объекта с использованием ослабления стимулированного излучения (STED) в связанной с ним системе оптической микроскопии по п.10, при этом этот оптический подблок образует часть эндоскопа, катетера, иглы или биопсийной иглы для формирования медицинских изображения.
12. Способ проведения оптической микроскопии с ослаблением стимулированного излучения (STED) объекта, при этом данный способ включает в себя:
испускание излучения, образующего первый (1) и второй (2) лучи, причем первый луч является лучом возбуждения, а второй луч является лучом ослабления по отношению к первому лучу,
фокусировку первого и второго лучей на объекте с использованием оптического элемента (6), причем этот оптический элемент определяет общий оптический путь (ОР) для обоих первого и второго лучей, и
введение в упомянутый общий оптический путь элемента (5) изменения фазы,
при этом элемент изменения фазы оптически сконфигурирован таким образом, чтобы оставлять по существу неизменным волновой фронт первого луча и изменять волновой фронт второго луча, чтобы создавать представляющую интерес неослабленную область на объекте,
при этом элемент (5) изменения фазы выполнен с возможностью изменять волновой фронт второго луча (2) за счет того, что имеет поверхность с множеством областей, содержащих первую и вторую области (31, 32, 33), причем первая область имеет выступающую высоту, которая выше высоты второй области, и
при этом множество областей поверхности элемента (5) изменения фазы изготовлены в одном оптическом материале.