СПОСОБ И СИСТЕМА ДЛЯ УДАЛЕНИЯ И/ИЛИ ИЗБЕГАНИЯ ЗАГРЯЗНЕНИЯ В СИСТЕМАХ С ПУЧКАМИ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ

1. Способ предотвращения или удаления загрязнения пропускающей заряженные частицы апертуры в системе с пучками заряженных частиц, расположенной в вакуумной камере, причем система с пучками заряженных частиц содержит оптическую колонну для заряженных частиц для проецирования пучка заряженных частиц на мишень, причем упомянутая оптическая колонна для заряженных частиц содержит оптический элемент для заряженных частиц для воздействия на пучок заряженных частиц,
причем упомянутый оптический элемент для заряженных частиц содержит упомянутую пропускающую заряженные частицы апертуру для пропускания упомянутого пучка заряженных частиц и/или воздействия на него и продувочное отверстие, обеспечивающее путь потока от первой стороны до второй стороны упомянутого оптического элемента для заряженных частиц;
причем способ включает следующие этапы:
введение очищающего агента в направлении упомянутого оптического элемента для заряженных частиц, в то время как пучок заряженных частиц присутствует в упомянутом оптическом элементе для заряженных частиц или вблизи него; и
поддержание вакуума в упомянутой вакуумной камере,
причем этап поддержания вакуума включает обеспечение возможности течения или движения веществ по меньшей мере через упомянутый оптический элемент для заряженных частиц сквозь упомянутое продувочное отверстие в вакуумный насос, соединенный с упомянутой вакуумной камерой.
2. Способ по п.1, причем упомянутый оптический элемент для заряженных частиц ограничивает или по меньшей мере частично блокирует упомянутый пучок заряженных частиц и/или причем упомянутая пропускающая заряженные частицы апертура действует в качестве ограничивающей ток апертуры.
3. Система (201, 301) с пучками заряженных частиц, содержащая
генератор (16, 216) пучка заряженных частиц для генерирования пучка (20) заряженных частиц;
оптическую колонну (206, 306) для заряженных частиц, расположенную в вакуумной камере, причем упомянутая оптическая колонна для заряженных частиц предназначена для проецирования упомянутого пучка заряженных частиц на мишень (12), и причем упомянутая оптическая колонна для заряженных частиц содержит оптический элемент (226) для заряженных частиц для воздействия на упомянутый пучок заряженных частиц;
источник (62) для обеспечения очищающего агента (100);
канал (64), соединенный с упомянутым источником и расположенный для введения упомянутого очищающего агента в направлении упомянутого оптического элемента для заряженных частиц;
причем упомянутый оптический элемент для заряженных частиц содержит
пропускающую заряженные частицы апертуру (46) для пропускания упомянутого пучка заряженных частиц и/или воздействия на него, и
продувочное отверстие (60, 60a, 60b) для обеспечения пути потока (F3) между первой стороной и второй стороной упомянутого оптического элемента для заряженных частиц,
причем продувочное отверстие имеет большее поперечное сечение, чем поперечное сечение пропускающей заряженные частицы апертуры.
4. Система по п.3, причем упомянутый оптический элемент для заряженных частиц предназначен для ограничения или меньшей мере частичного блокирования упомянутого пучка заряженных частиц и/или упомянутая пропускающая заряженные частицы апертура действует как ограничивающая ток апертура.
5. Система по п.3 или 4, причем оптический элемент для заряженных частиц содержит множество упомянутых продувочных отверстий и множество упомянутых пропускающих заряженные частицы апертур, причем упомянутые продувочные отверстия расположены рядом с упомянутыми пропускающими заряженные частицы апертурами.
6. Система по любому из пп.3-5, причем упомянутые продувочные отверстия расположены с шагом (p), который равен или больше, чем размер упомянутых продувочных отверстий, причем упомянутый шаг, в частности, превышает в 1-3 раза размер упомянутых продувочных отверстий.7. Система по любому из пп.3-6, выполненная так, что предотвращается достижение упомянутой мишени заряженными частицами, проходящими через упомянутое продувочное отверстие.
8. Система по любому из пп.3-7, причем упомянутый оптический элемент для заряженных частиц содержит ограничивающий пучок элемент (226), содержащий
множество упомянутых пропускающих заряженные частицы апертур (46) для прохождения пучков заряженных частиц и внеапертурную область для блокировки прохождения заряженных частиц, и
множество продувочных отверстий (60, 60a, 60b) для обеспечения пути потока (F3) через упомянутый ограничивающий пучок элемент.
9. Система по п.8, дополнительно содержащая проекционную линзу (29), содержащую множество апертур проекционной линзы (58) для фокусировки упомянутых пучков (8) заряженных частиц, причем упомянутая проекционная линза расположена ниже по ходу от упомянутого ограничивающего пучок элемента, и причем упомянутая проекционная линза и упомянутый ограничивающий пучок элемент расположены так, что любые заряженные частицы, проходящие через одно или более упомянутых продувочных отверстий, блокируются внеапертурной областью упомянутой проекционной линзы.
10. Система по п.9, причем упомянутые продувочные отверстия имеют поперечное сечение в диапазоне от половины поперечного сечения упомянутых апертур проекционных линз до удвоенного поперечного сечения упомянутых апертур проекционной линзы.
11. Система по п.9 или 10, причем упомянутая проекционная линза дополнительно содержит множество вспомогательных апертур (70), расположенных вокруг группы упомянутых апертур проекционной линзы, причем упомянутые продувочные отверстия расположены так, что любые заряженные частицы, проходящие через упомянутые продувочные отверстия, блокируются областью, расположенной латерально вне упомянутых вспомогательных апертур.
12. Система по любому из пп.3-11, дополнительно содержащая
второй апертурный элемент (23), содержащий множество апертур (66) для формирования множества пучков (8) заряженных частиц из упомянутого пучка (20) заряженных частиц, причем упомянутый второй апертурный элемент расположен между упомянутым генератором пучка заряженных частиц и упомянутым оптическим элементом для заряженных частиц, и
ограничительный элемент (76), предусмотренный между упомянутым генератором пучка заряженных частиц и упомянутым вторым апертурным элементом, причем упомянутый ограничительный элемент предназначен для предотвращения или по меньшей мере уменьшения потока упомянутого очищающего агента и/или его продуктов в упомянутый генератор пучка заряженных частиц.
13. Система по п.12, дополнительно содержащая
модуль генератора пучка, причем упомянутый генератор пучка заряженных частиц расположен в упомянутом модуле генератора пучка;
модуль (225) модуляции, причем упомянутый второй апертурный элемент расположен в упомянутом модуле модуляции;
причем упомянутый ограничительный элемент подвижно соединен с упомянутым модулем генератора пучка и предназначен для соединения встык с упомянутым модулем модуляции посредством силы тяжести и/или усилия пружины.
14. Система по п.13, причем упомянутый ограничительный элемент (76) соединен с первой стенкой (82) упомянутого модуля генератора пучка, упомянутый ограничительный элемент по меньшей мере частично окружает периметр отверстия (80) в упомянутой первой стенке для прохождения упомянутого пучка заряженных частиц, причем упомянутый ограничительный элемент содержит элемент (76), имеющий по меньшей мере частично форму кольца, в частности, керамического кольца, причем упомянутый элемент, имеющий по меньшей мере частично форму кольца, подвижно расположен относительно упомянутой первой стенки в направлении упомянутого модуля модуляции или в сторону от него.
15. Система по п.14, дополнительно содержащая сдерживающий элемент (78) для сдерживания движения упомянутого ограничительного элемента относительно упомянутой первой стенки, причем упомянутый ограничительный элемент снабжен одним или более выступами (77) и упомянутый сдерживающий элемент (78) выполнен с возможностью взаимодействия с упомянутыми выступами для сдерживания движения упомянутого ограничительного элемента.
16. Система по любому из пп.12-15, дополнительно содержащая
модулирующий элемент (24), расположенный ниже по ходу от упомянутого второго апертурного элемента (23), причем упомянутый модулирующий элемент содержит второе множество апертур (46) для прохождения упомянутых пучков заряженных частиц и дефлекторы, связанные с упомянутым вторым множеством апертур, причем упомянутые дефлекторы выполнены с возможностью избирательного отклонения или неотклонения упомянутых пучков заряженных частиц, и
упомянутый оптический элемент для заряженных частиц содержит ограничивающий пучок элемент (226), содержащий третье множество апертур (46) для прохождения пучков (8) заряженных частиц и область блокировки для блокирования пучков заряженных частиц, причем упомянутый ограничивающий пучок элемент расположен ниже по ходу от упомянутого модулирующего элемента,
причем упомянутый модулирующий элемент и упомянутый ограничивающий пучок элемент выполнены с возможностью совместного функционирования для того, чтобы позволить проходить или блокировать упомянутые избирательно отклоняемые пучки заряженных частиц,
причем упомянутый канал (64) предназначен для направления упомянутого очищающего агента в направлении упомянутого ограничивающего пучок элемента.
17. Способ предотвращения или удаления загрязнения пропускающей заряженные частицы апертуры в системе с пучками заряженных частиц по любому из предыдущих пунктов 3-16, включающий этапы:
введения очищающего агента в направлении упомянутого оптического элемента для заряженных частиц в то время, когда упомянутый генератор (16, 216) пучка генерирует упомянутый пучок заряженных частиц, и/или в то время, когда второй источник пучка заряженных частиц генерирует пучок заряженных частиц, который направляется к упомянутому оптическому элементу для заряженных частиц; и
поддержания вакуума в упомянутой вакуумной камере (2) во время введения упомянутого очищающего агента,
причем этап поддержания вакуума включает обеспечение течения или движения веществ по меньшей мере через упомянутый оптический элемент для заряженных частиц сквозь упомянутое продувочное отверстие (60, 60a, 60b) в вакуумный насос, соединенный с упомянутой вакуумной камерой.
18. Способ по п.17, включающий этап предотвращения достижения упомянутой мишени любыми заряженными частицами, проходящими через упомянутое по меньшей мере одно продувочное отверстие.
19. Способ по п.17 или 18, причем предотвращают достижение упомянутой мишени (12) упомянутыми заряженными частицами, проходящими через упомянутое продувочное отверстие, посредством блокировки этих заряженных частиц внеапертурными областями, содержащимися в дополнительном апертурном элементе, расположенном ниже по ходу от упомянутого оптического элемента для заряженных частиц, причем упомянутый дополнительный апертурный элемент содержит одну или более апертур для прохождения пучков заряженных частиц, прошедших через упомянутую пропускающую заряженные частицы апертуру.
20. Способ по любому из пп.17-19, дополнительно включающий следующие этапы:
размещение упомянутого генератора пучка заряженных частиц в модуле генератора пучка и упомянутого оптического элемента для заряженных частиц в модуле модуляции,
обеспечение ограничительного элемента, подвижно соединенного с упомянутым модулем генератора пучка и соединенного встык с упомянутым модулем модуляции посредством силы тяжести и/или усилия пружины.
21. Способ по любому из пп.17-20, включающий введение упомянутого очищающего агента в область упомянутой оптической колонны для заряженных частиц, где упомянутые заряженные частицы имеют энергию в пределах 1-10 кэВ, в частности, около 5 кэВ или ниже.
22. Способ по любому из пп.17-21, причем один или более пучков заряженных частиц присутствуют в оптическом элементе для заряженных частиц или вблизи него в то время, как упомянутый очищающий агент направляют к оптическому элементу для заряженных частиц.
23. Система с пучками заряженных частиц, содержащая
генератор пучка заряженных частиц для генерирования пучка заряженных частиц;
оптическую колонну для заряженных частиц, расположенную в вакуумной камере, причем оптическая колонна для заряженных частиц предназначена для проецирования пучка заряженных частиц на мишень, и причем оптическая колонна для заряженных частиц содержит оптический элемент для заряженных частиц, содержащий множество пропускающих заряженные частицы апертур;
источник для обеспечения очищающего агента;
канал, соединенный с источником, для введения очищающего агента в направлении оптического элемента для заряженных частиц;
второй апертурный элемент, содержащий множество апертур для формирования множества пучков заряженных частиц из пучка заряженных частиц, причем второй апертурный элемент расположен между генератором пучка заряженных частиц и оптическим элементом для заряженных частиц, и
ограничительный элемент, предусмотренный между генератором пучка заряженных частиц и вторым апертурным элементом, причем ограничительный элемент предотвращает или по меньшей мере сводит к минимуму течение или прохождение упомянутого очищающего агента и/или его продуктов в генератор пучка заряженных частиц.
24. Система по п.23, дополнительно содержащая
модуль (216) генератора пучка, причем упомянутый генератор пучка заряженных частиц расположен в упомянутом модуле генератора пучка;
модуль (225) модуляции, причем упомянутый второй апертурный элемент расположен в упомянутом модуле модуляции;
причем упомянутый ограничительный элемент подвижно соединен с упомянутым модулем генератора пучка и предназначен для соединения встык с упомянутым модулем модуляции посредством силы тяжести и/или усилия пружины.
25. Система по п.24, причем упомянутый ограничительный элемент (76) соединен с первой стенкой (82) упомянутого модуля генератора пучка, упомянутый ограничительный элемент по меньшей мере частично окружает периметр отверстия (80) в упомянутой первой стенке для прохождения упомянутого пучка заряженных частиц, причем упомянутый ограничительный элемент содержит элемент (76), имеющий по меньшей мере частично форму кольца, причем упомянутый элемент, имеющий по меньшей мере частично форму кольца, подвижно расположен относительно упомянутой первой стенки в направлении упомянутого модуля модуляции или в сторону от него.