СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПАРАМЕТРОВ ТОНКОЙ ПЛЕНКИ В ПРОЦЕССЕ ОСАЖДЕНИЯ В ВАКУУМЕ

Способ определения параметров тонкой пленки в процессе осаждения в вакууме на поверхности подложки, имеющей две зоны с различными показателями преломления, включающий облучение пленки оптическим излучением и измерение интенсивностей отраженного и прошедшего излучения для каждой зоны подложки, по которым определяют параметры тонкой пленки, отличающийся тем, что пленку облучают сплошным спектром излучения с постоянной интенсивностью, отраженное и прошедшее излучение раскладывают в спектр и измеряют значения их интенсивностей в заданном спектральном диапазоне длин волн, по которым определяют спектральные характеристики оптических постоянных пленки и толщину.