СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ

Способ нанесения покрытий в вакууме, включающий возбуждение дугового разряда в парах наносимого материала, приложение к подложке отрицательного потенциала и осаждение материала покрытия, отличающийся тем, что, с целью повышения производительности, осаждение материала покрытия осуществляют до толщины 1-2 мкм, после чего к подложке прикладывают положительный потенциал U, определяемый из выражения 0<U≤40 В и проводят дальнейшее осаждение покрытия до требуемой толщины.