СПОСОБ АВТОЭЛЕКТРОННОГО ВАКУУМНОГО ОХЛАЖДЕНИЯ И АВТОЭЛЕКТРОННОЕ ВАКУУМНОЕ ОХЛАЖДАЮЩЕЕ УСТРОЙСТВО С РЕГУЛИРУЕМЫМ ЗАЗОРОМ ДЛЯ ЕГО РЕАЛИЗАЦИИ

1. Способ охлаждения, характеризующийся использованием охлаждаемой пластины - источника горячих электронов, которую через изолятор соединяют с первым уровнем источника поля, который в свою очередь через изолятор соединяют с конечным уровнем источника поля, причем каждый из источников поля выполняют в виде электрического проводника с положительным потенциалом, а посредством пластины и источников поля образуют замкнутую объемную структуру с вакуумной камерой, причем на поверхности пластины, обращенной внутрь вакуумной камеры выполнены микроскопические выступы или иглы, с помощью которых облегчают эмиссию горячих электронов внутрь вакуумной камеры.
2. Способ охлаждения по п.1, отличающийся тем, что дополнительно используют контроллер, с помощью которого управляют силой поля (напряжением) на текущем (активном) одиночном уровне или активной группы уровней, управляют выборкой уровня на который требуется подать поле (напряжение), и выборкой уровня, с которого соответственно требуется снять поле (напряжение), коммутацией подачи поля (напряжения) на заданный уровень, производят расчет значения необходимого напряжения на уровнях по силе тока на активных уровнях непосредственно (по значениям тока) или косвенно (емкостно) за счет кратковременного отключения всех уровней для введения «тактов неактивности», в которые - контроллером проводят измерения текущего состояния зазора между уровнями и охлаждаемой пластиной.
3. Способ охлаждения по п.1 или 2, отличающийся тем, что между первым и конечным источниками поля через изоляторы размещают не менее одного дополнительного уровня источника поля так, чтобы каждый источник поля был изолирован от соседнего.
4. Устройство охлаждения, состоящее из охлаждаемой пластины - источника горячих электронов, имеющей микроскопические выступы или иглы, функцией которых является эмиссия горячих электронов, причем охлаждаемая пластина через изолятор соединена с первым уровнем источника поля, который через изолятор соединен с конечным уровнем источника поля, причем каждый из источников поля представляет собой электрический проводник с положительным потенциалом, а в целом пластина и источники поля образуют замкнутую объемную структуру с вакуумной камерой, причем микроскопические выступы или иглы пластины обращены внутрь вакуумной камеры.
5. Устройство охлаждения по п.4, отличающееся тем, что содержит контроллер, функцией которого является управление силой поля (напряжением) на текущем (активном) одиночном уровне или активной группы уровней, управление выборкой уровня, на который требуется подать поле (напряжение), и выборкой уровня, с которого соответственно требуется снять поле (напряжение), коммутацией подачи поля (напряжения) на заданный уровень, произведение расчета значения необходимого напряжения на уровнях по силе тока на активных уровнях непосредственно (по значениям тока) или косвенно (емкостно) за счет кратковременного отключения всех уровней для введения «тактов неактивности», в которые - контроллером проводятся измерения текущего состояния зазора между уровнями и охлаждаемой пластиной.
6. Устройство охлаждения по п.4 или 5, отличающееся тем, что между первым и конечным источниками поля через изоляторы размещено не менее одного дополнительного уровня источника поля таким образом, что каждый источник поля изолирован от соседнего.