БАРЬЕР ИЗ СПЛАВА ТИТАНА, НИКЕЛЯ И НИОБИЯ ДЛЯ НИЗКОЭМИССИОННЫХ ПОКРЫТИЙ

1. Способ получения низкоэмиссионного покрытия, включающий:
предоставление прозрачной основы;
формирование первого слоя на прозрачной основе, причем первый слой содержит серебро и способен действовать как слой, отражающий инфракрасное излучение;
формирование второго слоя на первом слое, причем второй слой способен действовать как барьерный слой, причем второй слой содержит титан, никель и ниобий, причем
содержание титана составляет от 5 до 15 мас.%,
содержание никеля составляет от 30 до 50 мас.%,
содержание ниобия составляет от 40 до 60 мас.%.
2. Способ по п. 1, в котором толщина второго слоя составляет от 0,3 до 7 нм.
3. Способ по п. 1, причем содержание титана составляет 10 мас.%.
4. Способ по п. 1, в котором содержание никеля составляет от 35 до 45 мас.%.
5. Способ по п. 1, в котором содержание ниобия составляет от 45 до 55 мас.%.
6. Способ по п. 1, в котором второй слой дополнительно содержит кислород.
7. Способ получения низкоэмиссионного покрытия, включающий:
предоставление прозрачной основы;
формирование металлоксидного слоя на прозрачной основе;
формирование первого слоя на металлоксидном слое;
причем первый слой содержит серебро и способен действовать как слой, отражающий инфракрасное излучение;
формирование второго слоя на первом слое, причем второй слой способен действовать как барьерный слой для первого слоя и содержит титан, никель и ниобий, причем
содержание титана составляет от 5 до 15 мас.%,
содержание никеля составляет от 30 до 50 мас.%,
содержание ниобия составляет от 40 до 60 мас.%.
8. Способ по п. 7, в котором толщина первого слоя составляет от 8 до 15 нм.
9. Способ по п. 7, в котором толщина второго слоя составляет от 0,3 до 7 нм.
10. Способ по п. 7, в котором содержание титана составляет 10 мас.%, содержание никеля составляет от 35 до 45 мас.%, и содержание ниобия составляет от 45 до 55 мас.%.
11. Способ по п. 7, в котором второй слой осаждают как слой металлического сплава или слой оксидного сплава.
12. Способ по п. 7, дополнительно включающий окисление второго слоя.
13. Способ по п. 7, в котором металлоксидный слой содержит оксид цинка, легированный оксид цинка, оксид олова или легированный оксид олова.
14. Способ по п. 7, причем металлоксидный слой содержит затравочный слой, причем затравочный слой имеет кристаллографическую ориентацию, которая способствует кристаллографической ориентации (111) первого слоя.
15. Низкоэмиссионная панель, содержащая:
прозрачную основу;
металлоксидный слой, находящийся на прозрачной основе;
первый слой, находящийся на металлоксидном слое, причем первый слой содержит серебро и способен действовать как слой, отражающий инфракрасное излучение;
второй слой, находящийся на первом слое, причем второй слой может действовать как барьерный слой и содержит титан, никель и ниобий,
причем содержание титана составляет от 5 до 15 мас.%,
причем содержание никеля составляет от 30 до 50 мас.%,
причем содержание ниобия составляет от 40 до 60 мас.%.
16. Панель по п. 15, в которой толщина первого слоя меньше 15 нм.
17. Панель по п. 15, в которой толщина второго слоя составляет от 0,3 до 7 нм.
18. Способ по п. 15, в котором содержание титана составляет 10 мас.%, содержание никеля от 35 до 45 мас.%, и содержание ниобия от 45 до 55 мас.%.
19. Панель по п. 15, в которой металлоксидный слой содержит
оксид цинка, легированный оксид цинка, оксид олова или легированный оксид олова.
20. Панель по п. 15, в которой второй слой дополнительно содержит кислород.