НАПАЙНОЙ АНОД РЕНТГЕНОВСКОЙ ТРУБКИ

1. Способ (100) создания паяного соединения (58) между анодной пластиной (52) и куском графита (56) рентгеновской трубки (38), при этом упомянутый способ (100) содержит:
- получение (102) анодной пластины (52) и куска графита (56);
- размещение (104, 106, 108) барьерного слоя (66), имеющего толщину около 2/1000 дюйма, и слоя (62) припоя, имеющего толщину в диапазоне от 4/1000 до 6/1000 дюйма, между анодной пластиной (52) и куском графита (56), барьерного слоя (66) между куском графита (56) и слоем (62) припоя, и
- нагрев (110) барьерного слоя (66) со слоем (62) припоя для создания между анодной пластиной (52) и куском графита (56) паяного соединения (58).
2. Способ (100) по п. 1, в котором анодная пластина (52) и/или кусок графита (56) являются кольцевыми по форме.
3. Способ (100) по п. 1, в котором анодная пластина (52) включает в себя подложку (53) из молибденового сплава, такого как сплав титана, циркония и молибдена (TZM).
4. Способ (100) по п. 3, в котором анодная пластина (52) дополнительно включает в себя фокусную дорожку (54), встроенную в подложку (53), при этом фокусная дорожка (54) образована из материала, который при ударении в него электронным лучом (46) генерирует рентгеновские лучи (84), такого как вольфрам.
5. Способ (100) по п. 1, в котором размещение (104, 106, 108) включает в себя
- нанесение (104) барьерного слоя (66) на кусок графита (56); нанесение (106) слоя (62) припоя на барьерный слой (66) и позиционирование (108) анодной пластины (52) на слое (62) припоя.
6. Способ (100) по п. 5, в котором барьерный слой (66) наносится на кусок графита (56), используя одно из физического осаждения из паровой фазы (PVD), химического осаждения из паровой фазы (СVD) или электролитического покрытия.
7. Способ (100) по п. 1, в котором барьерный слой (66) и слой (62) припоя размещены между соответствующими поверхностями анодной пластины (52) и куска графита (56) для их припайки один к другому.
8. Способ (100) по п. 1, в котором барьерный слой (66) является материалом с точкой плавления выше температуры плавления слоя (62) припоя, который, будучи припаян, не образует хрупкого карбида.
9. Способ (100) по п. 1, в котором барьерный слой (66) является одним из ниобия (Nb) и тантала (Та).
10. Способ (100) по п. 1, в котором слой (62) припоя является титаном (Ti).
11. Способ (100) по п. 1, в котором барьерный слой (66) и слой (62) припоя нагревают до температуры плавления слоя (62) припоя, такой как около 1600°С.
12. Способ (100) по п. 1, в котором паяное соединение (58) включает в себя слой (62) припоя, слой (64) твердого раствора материала припоя и барьерного материала, барьерный слой (66) и слой (68) химического соединения, содержащего барьерный материал и углерод.
13. Узел (40) анода рентгеновской трубки (38), содержащий
- анодную пластину (52);
- кусок графита (56) и
- паяное соединение (58) между анодной пластиной (52) и куском графита (56); при этом паяное соединение (58) включает в себя барьерный слой (66), имеющий толщину около 2/1000 дюйма, и слой (62) припоя, имеющий толщину в диапазоне от 4/1000 до 6/1000 дюйма, между анодной пластиной (52) и куском графита (56), барьерный слой (66) между куском графита (56) и материалом (62) припоя.
14. Узел (40) анода по п. 13, в котором паяное соединение (58) включает в себя слой (62) припоя, слой (64) твердого раствора материала припоя и барьерного материала, барьерный слой (66) и слой (68) химического соединения, содержащий барьерный материал и углерод.
15. Узел (40) анода по п. 13, в котором слой (62) припоя является титаном (Ti), а барьерный слой (66) является материалом с точкой плавления выше температуры плавления слоя (62) припоя, который, будучи припаян, не образует хрупкого карбида, таким как ниобий (Nb) и тантал (Та).