СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СОЛНЕЧНОГО ЭЛЕМЕНТА С ПРОСВЕТЛЯЮЩИМ ПОКРЫТИЕМ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ ПРИ СЖИГАНИИ (CCVD) И СООТВЕТСТВУЮЩЕЕ ИЗДЕЛИЕ

1. Способ изготовления солнечного элемента, содержащий:
обеспечение фотоэлектрического слоя и по меньшей мере стеклянной подложки на обращенной к падающему свету стороне фотоэлектрического слоя;
обеспечение просветляющего покрытия, предусматриваемого на стеклянной подложке, причем это просветляющее покрытие включает в себя по меньшей мере один слой и расположено на обращенной к падающему свету стороне стеклянной подложки; и
при этом для формирования по меньшей мере части просветляющего покрытия, которое предусмотрено на обращенной к падающему свету стороне стеклянной подложки солнечного элемента, используют пламенный пиролиз.
2
2. Способ по п.1, при котором для формирования просветляющего покрытия используют пламенный пиролиз при приблизительно атмосферном давлении, причем просветляющее покрытие содержит SiO.
3. Способ по п.1, при котором пламенный пиролиз содержит принудительную подачу силана, жидкого и/или газообразного, в по меньшей мере одну горелку и/или пламя для того, чтобы вызвать осаждение слоя, содержащего оксид кремния, на стеклянную подложку в качестве по меньшей мере части просветляющего покрытия.
4. Способ по п.3, при котором силан содержит TEOS и/или HDMSO.
2
5. Способ по п.1, при котором пламенный пиролиз используют для формирования на стеклянной подложке слоя, содержащего SiO.
2
6. Способ по п.5, при котором на стеклянной подложке между стеклянной подложкой и слоем, содержащим SiO, предусматривают другой слой.
7. Способ по п.1, при котором просветляющее покрытие включает в себя градиентный слой, предусмотренный непосредственно на стеклянной подложке и контактирующий с ней, причем этот градиентный слой включает в себя смесь оксида кремния и оксида титана, причем в дальней части градиентного слоя, более удаленной от стеклянной подложки, имеется больше оксида титана, чем в ближней части градиентного слоя, более близкой к стеклянной подложке; и при этом просветляющее покрытие дополнительно содержит слой, содержащий оксид кремния, расположенный поверх градиентного слоя, причем по меньшей мере этот слой, содержащий оксид кремния, осаждают посредством этом пламенного пиролиза.
8. Способ по п.7, при котором ближняя часть градиентного слоя имеет меньшее значение показателя преломления, чем у дальней части градиентного слоя.
9. Способ по п.7, при котором ближняя часть градиентного слоя выполнена преимущественно из оксида кремния.
10. Способ по п.7, при котором ближняя часть градиентного слоя имеет значение показателя преломления от примерно 1,46 до 1,9.
2
2
11. Способ по п.7, при котором ближняя часть градиентного слоя имеет значение показателя преломления от примерно 1,46 до 1,7, при этом оксидом титана является TiO, а оксидом кремния является SiO.
12. Способ по п.7, при котором дальняя часть градиентного слоя имеет значение показателя преломления от примерно 2,0 до 2,55.
13. Способ по п.7, при котором дальняя часть градиентного слоя имеет значение показателя преломления от примерно 2,3 до 2,55.
14. Способ по п.7, при котором дальняя часть градиентного слоя выполнена преимущественно из оксида титана.
15. Способ по п.7, при котором слой, содержащий оксид кремния, имеет приблизительно четвертьволновую толщину.
16. Способ по п.7, при котором слой, содержащий оксид кремния, составляет от примерно 80 до 140 нм в толщину.
17. Способ по п.7, при котором ближняя часть градиентного слоя выполнена из примерно 40-100% оксида кремния, а дальняя часть градиентного слоя выполнена из примерно 50-100% оксида титана.
18. Способ по п.7, при котором ближняя часть градиентного слоя выполнена из примерно 70-100% оксида кремния, а дальняя часть градиентного слоя выполнена из примерно 70-100% оксида титана.
19. Способ по п.1, при котором просветляющее покрытия содержит градиентный слой, включающий в себя смесь оксида кремния и оксида металла (М), причем в дальней части градиентного слоя, более удаленной от стеклянной подложки, имеется больше оксида металла (М), чем в ближней части градиентного слоя, более близкой к стеклянной подложке, и при этом М является одним или более из группы Ti, Zr и Al; и при этом просветляющее покрытие дополнительно содержит слой, содержащий оксид кремния, расположенный поверх градиентного слоя.
20. Способ по п.1, при котором стеклянная подложка содержит:
Ингредиент
мас.%
SiO<sub>2</sub>
67-75
Na<sub>2</sub>O
10-20
Ca<sub>2</sub>O
5-15
всего железа (в расчете на Fe<sub>2</sub>O<sub>3</sub>)
0,001-0,06
оксид церия
0-0,30,
при этом стеклянная подложка сама по себе имеет коэффициент пропускания видимого света по меньшей мере 90%, цветовое значение а* на пропускание от -1,0 до +1,0 и цветовое значение b* на пропускание от 0 до +1,5.
21. Солнечный элемент, содержащий:
фотоэлектрический слой и по меньшей мере стеклянную подложку на обращенной к падающему свету стороне фотоэлектрического слоя;
просветляющее покрытие, обеспеченное на стеклянной подложке по меньшей мере частично пламенным пиролизом, причем это просветляющее покрытие включает в себя по меньшей мере один слой и расположено на обращенной к падающему свету стороне стеклянной подложки; и
при этом стеклянная подложка содержит:
Ингредиент
мас.%
SiO<sub>2</sub>
67-75
Na<sub>2</sub>O
10-20
Ca<sub>2</sub>O
5-15
всего железа (в расчете на Fe<sub>2</sub>O<sub>3</sub>)
0,001-0,06
оксид церия
0-0,30,
при этом стеклянная подложка сама по себе имеет коэффициент пропускания видимого света по меньшей мере 90%, цветовое значение а* на пропускание от -1,0 до +1,0 и цветовое значение b* на пропускание от 0 до +1,5.