УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВЫДАВЛИВАНИЯ РЕЛЬЕФА

1. Устройство для выдавливания рельефа, включающее:
кремниевый эталон, который включает совокупность элементов нанорельефа; и
покрытие из слоя, препятствующего прилипанию, нанесенное на кремниевый эталон, где слой, препятствующий прилипанию, включает молекулу, содержащую циклосилоксан, имеющий по меньшей мере одну функциональную группу силана.
1-6
1-12
2. Устройство для выдавливания рельефа по п. 1, в котором молекула представляет собой циклосилоксан, циклотетрасилоксан, циклопентасилоксан или циклогексасилоксан, и в котором молекула замещена по меньшей мере одной незамещенной Салкильной группой и по меньшей мере одной Салкильной группой, замещенной алкоксисилановой группой.
1-6
1-12
3. Устройство для выдавливания рельефа по п. 1 или 2, в котором молекула замещена четырьмя незамещенными Салкильными группами и четырьмя Салкильными группами, каждая из которых замещена триалкоксисилановой группой.
1-6
4. Устройство для выдавливания рельефа по п. 2 или 3, в котором незамещенные Салкильные группы представляют собой метильные группы.
1-12
5. Устройство для выдавливания рельефа по любому из пп. 2-4, в котором каждая из Салкильных групп, замещенных алкоксисилановой группой, представляет собой этильную или пропильную группу.
1-12
6. Устройство для выдавливания рельефа по п. 5, в котором каждая из Салкильных групп, замещенных алкоксисилановой группой, представляет собой этильную группу.
7. Устройство для выдавливания рельефа по любому из пп. 2-6, в котором алкоксисилановая или триалкоксисилановая группа представляет собой триметоксисилан или триэтоксисилан.
8. Устройство для выдавливания рельефа по п. 7, в котором алкоксисилановая или триалкоксисилановая группа представляет собой триэтоксисилан.
9. Устройство для выдавливания рельефа по пункту 1, в котором циклосилоксан выбран из группы, состоящей из циклотетрасилоксана и циклогексасилоксана.
10. Устройство для выдавливания рельефа по п. 9, в котором функциональная группа силана представляет собой алкилалкоксисилан.
11. Устройство для выдавливания рельефа по п. 10, в котором алкилалкоксисилан представляет собой этилтриэтоксисилан.
12. Устройство для выдавливания рельефа по любому из предшествующих пунктов, в котором молекула представляет собой:
13. Устройство для выдавливания рельефа по любому из предшествующих пунктов, в котором слой, препятствующий прилипанию, включает смесь молекулы в чистой форме и олигомера молекулы.
14. Устройство для выдавливания рельефа по любому из предшествующих пунктов, дополнительно включающее рабочий штамп на основе кремния в контакте со слоем, препятствующим прилипанию, находящимся на кремниевом эталоне.
15. Устройство для выдавливания рельефа по п. 14, в котором рабочий штамп на основе кремния включает полимеризованные кремнийсодержащие акрилатные мономеры.
16. Устройство для выдавливания рельефа по п. 14 или 15, дополнительно включающее объединительную панель в контакте с рабочим штампом.
17. Устройство для выдавливания рельефа по любому из предшествующих пунктов, в котором молекула не включает фтор.
18. Способ, включающий:
образование эталонного шаблона посредством:
осаждения композиции на кремниевый эталон, который включает совокупность элементов нанорельефа, где композиция включает растворитель и молекулу, содержащую циклосилоксан, имеющий по меньшей мере одну функциональную группу силана; и
отверждения композиции, приводящего к образованию препятствующего прилипанию слоя на кремниевом эталоне, где слой, препятствующий прилипанию, включает указанную молекулу;
осаждения материала рабочего штампа на основе кремния на слой эталонного шаблона, препятствующий прилипанию;
отверждения материала рабочего штампа на основе кремния, что приводит к образованию рабочего штампа, включающего негативную копию совокупности элементов нанорельефа; и
отсоединения рабочего штампа от эталонного шаблона.
19. Способ по п. 18, в котором:
температура кипения растворителя составляет менее приблизительно 70°С; и
молекула присутствует в композиции в количестве, составляющем по меньшей мере приблизительно 5% масс.
20. Способ по п. 18, в котором растворитель представляет собой тетрагидрофуран или толуол.
21. Способ по любому из пп. 18-20, в котором как осаждение композиции, так и осаждение материала рабочего штампа на основе кремния включает нанесение покрытия центрифугированием.
22. Способ по любому из пп. 18-21, в котором материал рабочего штампа на основе кремния включает кремнийсодержащий акрилатный мономер.
23. Способ по любому из пп. 18-22, в котором молекула присутствует в композиции в количестве, составляющем от приблизительно 5% масс. до приблизительно 10% масс.
24. Способ по любому из пп. 18-23, в котором отсоединенный рабочий штамп по меньшей мере по существу не содержит молекулы.
25. Способ по любому из пп. 18-24, в котором молекула представляет собой:
26. Способ по любому из пп. 18-25, в котором молекула не включает фтор.
27. Способ по любому из пп. 18-26, в котором после отсоединения рабочего штампа получают отсоединенный эталонный шаблон, на который нанесен слой, препятствующий прилипанию, где способ дополнительно включает:
осаждение материала второго рабочего штампа на основе кремния на слой отсоединенного эталонного шаблона, препятствующий прилипанию;
отверждение материала второго рабочего штампа на основе кремния, приводящее к образованию второго рабочего штампа, включающего негативную копию совокупности элементов нанорельефа; и
отсоединение второго рабочего штампа от эталонного шаблона.
28. Способ по п. 27, дополнительно включающий очистку отсоединенного эталонного шаблона перед осаждением материала второго рабочего штампа на основе кремния.
29. Способ применения рабочего штампа, который был получен в результате:
образования эталонного шаблона посредством:
осаждения композиции на кремниевый эталон, который включает совокупность элементов нанорельефа, где композиция включает растворитель и молекулу, содержащую циклосилоксан, имеющий по меньшей мере одну функциональную группу силана; и
отверждения композиции, приводящего к образованию препятствующего прилипанию слоя на кремниевом эталоне, где слой, препятствующий прилипанию, включает указанную молекулу;
осаждения материала рабочего штампа на основе кремния на слой эталонного шаблона, препятствующий прилипанию;
отверждения материала рабочего штампа на основе кремния, что приводит к образованию рабочего штампа, включающего негативную копию совокупности элементов нанорельефа; и
отсоединения рабочего штампа от эталонного шаблона;
где способ применения рабочего штампа включает:
впечатывание рабочего штампа в полимер для импринт-литографии, находящийся на носителе; и
отверждение полимера, приводящее к образованию поверхности секвенирования, на которой имеется реплика совокупности элементов нанорельефа, определенная выше.
30. Способ по п. 29, в котором поверхность секвенирования по меньшей мере по существу не содержит молекулы.
31. Способ по п. 29 или 30, дополнительно включающий закрепление праймеров амплификации на промежуточной структуре, имеющейся в реплике совокупности элементов нанорельефа.
32. Способ по п. 31, в котором промежуточная структура представляет собой полимерное покрытие, включающее повторяющееся звено, имеющее формулу (I):
где
1
R представляет собой Н или необязательно замещенный алкил;
A
R выбран из группы, состоящей из азидогруппы, необязательно замещенной аминогруппы, необязательно замещенного алкенила, необязательно замещенного гидразона, необязательно замещенного гидразина, карбоксила, гидроксигруппы, необязательно замещенного тетразола, необязательно замещенного тетразина, нитрилоксида, нитрона и тиола;
5
R выбран из группы, состоящей из Н и необязательно замещенного алкила;
2
p
каждая из групп -(СН)- может быть необязательно замещенной;
р представляет собой целое число, составляющее от 1 до 50;
n представляет собой целое число, составляющее от 1 до 50000; и
m представляет собой целое число, составляющее от 1 до 100000.
33. Способ по любому из пунктов 29-32, в котором молекула представляет собой:
34. Способ по любому из пп. 29-32, в котором молекула не включает фтор.