УСТРОЙСТВО ЛЕЧЕНИЯ КОЖИ, ОБЕСПЕЧИВАЮЩЕЕ ОПТИЧЕСКУЮ СВЯЗЬ С КОЖНОЙ ТКАНЬЮ

1. Устройство (200) лечения кожи для лечения светом кожной ткани (300), где устройство (200) лечения кожи содержит
источник (10) света, сконструированный для излучения лечебного света (15),
оптическую систему (20, 22), выполненную для фокусировки лечебного света (15) вдоль оптической оси (ОА, OAn) в позиции (320, 322) фокуса внутри кожной ткани (300), и
наконечник (30, 32), содержащий поверхность (34) контакта с кожей, имеющую отверстие (A1, An) на расстоянии от оптической системы (20, 22), чтобы позволить фокусировать лечебный свет (15) через отверстие (A1, An) в кожную ткань (300), причем наконечник (30, 32) и отверстие (A1, An) выполнены с возможностью формирования в поперечном сечении отверстия (A1, An) вдоль оптической оси (ОА, OAn) и вдоль направления поперечного сечения, в котором отверстие (A1, An) имеет размер (d1, dn) по ширине, максимально изогнутое выпячивание (330, 332) кожной ткани (300) свободно выступает через отверстие (A1, An) в направлении оптической системы (20, 22), когда наконечник (30, 32) нажимает на поверхность (310) кожи конкретного типа кожи с давлением, превышающим заданное давление, выше которого для конкретного типа кожи свободно выступающее изогнутое выпячивание (330, 332) остается постоянным, поверхность кожи упомянутого максимально изогнутого выпячивания (330, 332) имеет радиус кривизны (RC, RCn) на пересечении с оптической осью (ОА, OAn),
причем оптическая система (20, 22) выполнена с возможностью формирования сфокусированного пучка лечебного света (15), имеющего в упомянутом поперечном сечении отверстия (A1, An) на упомянутом пересечении, волновой фронт (WF) с радиусом кривизны в диапазоне между 75% и 125% от упомянутого радиуса кривизны (RC, RCn) поверхности кожи упомянутого максимально изогнутого выпячивания.
2. Устройство (200) лечения кожи по п. 1, в котором упомянутый размер (d1, dn) по ширине отверстия (A1, An) составляет менее 2 миллиметров.
3. Устройство (200) лечения кожи по п. 2, в котором заданное давление равно 1,43 Ньютона на квадратный сантиметр.
4. Устройство (200) лечения кожи по п. 1, в котором радиус кривизны волнового фронта (WF) находится в диапазоне между 95% и 105% от упомянутого радиуса кривизны (RC, RCn) поверхности кожи максимально изогнутого выпячивания.
5. Устройство (200) лечения кожи по п. 1, в котором наконечник (30, 32) съемным образом присоединяется к устройству (200) лечения кожи и может заменяться дополнительным наконечником, имеющим дополнительное отверстие, отличное от отверстия (A1, An).
6. Устройство (200) лечения кожи по п. 1 или 2, в котором размер отверстия (A1, An) в направлении, поперечном к направлению поперечного сечения отверстия (A1, An), больше 2 миллиметров.
7. Устройство (200) лечения кожи по п. 1, в котором оптическая система (22) выполнена с возможностью формирования множества пространственно разнесенных позиций (322) фокусировки внутри кожной ткани (300), и в котором наконечник (32) содержит множество отверстий, каждое из которых связано с одним из упомянутого множества положений фокусировки и каждое из которых выполнено с возможностью формирования максимально изогнутого выпячивания (332) кожной ткани, причем оптическая система (22) выполнена с возможностью формирования множества сфокусированных пучков лечебного света, каждый из которых имеет в упомянутом поперечном сечении соответствующего отверстия (A1, An) на упомянутом пересечении волновой фронт (WF) с радиусом кривизны в диапазоне между 75% и 125% от упомянутого радиуса кривизны (RCn) поверхности кожи упомянутого максимально изогнутого выпячивания.
8. Устройство (200) лечения кожи по п. 1, в котором наконечник (30, 32) присоединяется к устройству (200) лечения кожи через упругий элемент (40).
9. Устройство (200) лечения кожи по п. 1, в котором устройство (200) лечения кожи содержит датчик (50) давления для измерения давления, с которым наконечник (30, 32) при использовании нажимает на поверхность кожи, и схему (240) управления, выполненную с возможностью управления источником света для излучения лечебного света, только когда давление, измеренное датчиком (50) давления, превышает заданное давление.
10. Устройство (200) лечения кожи по п. 1, в котором устройство (200) лечения кожи дополнительно содержит датчик (400) кривизны для считывания положения и/или кривизны максимально изогнутого выпячивания на пересечении с оптической осью (ОА, OAn).
11. Устройство (200) лечения кожи по п. 10, в котором датчик (400) кривизны выбирается из списка, содержащего оптический датчик, емкостной датчик, датчик (400) отраженного света.
12. Устройство (200) лечения кожи по п. 10 или 11, в котором оптическая система (20, 22) выполнена с возможностью адаптации расположения позиции (320, 322) фокуса внутри кожной ткани (300) в ответ на сигнал от датчика (400) кривизны.
13. Устройство (200) лечения кожи по п. 10, 11 или 12, в котором датчик (400) кривизны выполнен с возможностью фокусировки отраженного лечебного света (415, 415A), который отражается от поверхности (310) кожи максимально изогнутого выпячивания (330) на детектор (420).
14. Устройство (200) лечения кожи по п. 1, в котором отверстие (A1, An) имеет круглую, эллиптическую, квадратную, прямоугольную или многоугольную форму.
15. Устройство (200) лечения кожи по п. 1, в котором отверстие (A1, An) содержит расположенный по длине окружности край, имеющий радиус кривизны (R1) в диапазоне между 25 микронами и 200 микронами, предпочтительно, между 50 микронами и 150 микронами.
16. Устройство (200) лечения кожи по п. 1, в котором лечебный свет (15) имеет длину волны в диапазоне между 350 нанометрами и 10 микронами, предпочтительно, в диапазоне между 400 нанометрами и 3 микронами.