АВТОМАТИЧЕСКАЯ ОЧИСТКА ТОНКОПЛАСТИНЧАТОГО ОТСТОЙНИКА

1. Система (20) очистки тонкопластинчатого отстойника (1), содержащая
по меньшей мере один узел (30) для механической очистки;
средства (34, 35, 36, 40) для приостановки узла (30) для механической очистки;
причем средства для приостановки содержат средства (36, 40) для замещения для понижения и повышения по меньшей мере одного узла (30) для механической очистки ламеллярной пластины (18), расположенной ниже системы (20) очистки,
отличающаяся тем, что содержит
раму (24), поддерживающую по меньшей мере один узел (30) для очистки;
колеса (26, 26’), присоединенные к раме и выполненные с возможностью перемещения на рельсах (19), причем указанные колеса содержат приводные колеса (26’),
датчик (37), предпочтительно индуктивный, выполненный с возможностью определения углового положения приводных колес (26’),
при этом датчик (37) соединен с системой контроля и управления, причем указанная система контроля и управления приспособлена для контроля: вращения колес (26’), перемещения системы (20) очистки между различными положениями очистки и инициирования понижения и повышения по меньшей мере одного узла (30) для механической очистки.
2. Система (20) очистки по п. 1, в которой колеса (26, 26’) приспособлены для перемещения на рельсах.
3. Система (20) очистки по п. 2, в которой приводные колеса (26’) сконструированы как зубчатые колеса, выполненные с возможностью перемещения на рельсах (19), снабженных углублениями или вырезами (19a) через равные промежутки, предпочтительно при промежутках, соответствующих взаимному расстоянию между двумя смежными ламеллярными пластинами (18).
4. Система (20) очистки по любому из пп. 1-3, в которой периферийное расстояние между двумя смежными выступами (26a’) приводных колес (26’) соответствует взаимному расстоянию между двумя смежными ламеллярными пластинами (18).
5. Система (20) очистки по любому из пп. 1-4, содержащая неприводные колеса (26), выполненные с возможностью перемещения на плоской поверхности (19b) рельса.
6. Система (20) очистки по любому из пп. 1-5, в которой по меньшей мере один узел (30) для очистки содержит один из следующих элементов: перегородку, ткань и щетку, предпочтительно трубу, снабженную материалом щетки на ее внешней поверхности.
7. Система (20) очистки по любому из пп. 1-6, содержащая два узла (30) для механической очистки, предпочтительно расположенных при взаимном расстоянии в продольном направлении, которое соответствует кратному числу взаимного расстояния между двумя смежными ламеллярными пластинами, и предпочтительно адаптировано, чтобы быть уменьшенным и увеличенным совместно.
8. Система (20) очистки по любому из пп. 1-7, в которой датчик (37) выполнен с возможностью определения числа предварительно заданных угловых положений приводных колес (26’) в соответствии с числом выступов (26a’) на приводных колесах (26’), причем указанные предварительно заданные положения соответствуют положениям операции очистки.
9. Система (20) очистки по любому из пп. 1-8, содержащая блокирующие средства, выполненные с возможностью запирания выпускных отверстий для чистой воды из резервуара (10), смежного с ламеллярной пластиной (18), расположенного ниже системы очистки (20).
10. Система (20) очистки по любому из пп. 1-9, содержащая две пары поперечных колес (42), выполненных с возможностью перемещения системы в направлении, поперечном направлению первых колес (26, 26’).
11. Система (20) очистки по п. 10, в которой каждая пара поперечных колес смонтирована на регулируемом держателе (44), выполненном с возможностью регулирования уровня поперечных колес между первым, верхним положением, причем первые колеса (26, 26’) сцепляются с рельсами, и вторым, более низким положением, где первые колеса (26, 26’) отделены от рельсов.
12. Способ очистки ламеллярных пластин тонкопластинчатого отстойника (1) посредством системы (20) очистки по любому из пп. 1-11, отличающийся тем, что включает следующие стадии:
a) обеспечение системы (20) очистки на рельсах (19) выше ламеллярной пластины (18), подлежащей очистке;
b) понижение узла (30) для механической очистки системы очистки (20) при приведении в контактирование с ламеллярной пластиной (18), подлежащей очистке;
c) повышение узла (30) для механической очистки до позиции выше ламеллярной пластины (18);
d) смещение узла (30) для механической очистки посредством системы очистки (20) на рельсах (19) посредством приводных колес (26’) и посредством системы контроля и управления, выполненной с возможностью контроля вращения приводных колес (26’), к другой ламеллярной пластине (18) подлежащей очистке; и
e) повторение стадий b)-d) до тех пор, пока последняя ламеллярная пластина не будет очищена.
13. Способ очистки ламеллярных пластин тонкопластинчатого отстойника (1) по п. 12 посредством системы (20) очистки по п. 10 или 11, включающий дополнительные стадии перемещения системы (20) очистки посредством поперечных колес (42) от рельсов первого ряда ламеллярных пластин (18) ко второму ряду ламеллярных пластин и затем повторения стадий b)-d) до тех пор, пока последняя ламеллярная пластина второго ряда ламеллярных пластин не будет очищена.