Устройство для генерирования плазмы коронного разряда и плазменный реактор

1. Ячейка (11) для генерирования плазмы коронного разряда, содержащая по существу иглообразный поляризованный электрод (12) и расположенный напротив него заземленный электрод (13), содержащий цилиндр (14), по существу центрированный на поляризованном электроде (12), и перпендикулярный поляризованному электроду (12) по существу плоский пористый слой (14), отличающаяся тем, что цилиндр (14) имеет низкий профиль, предпочтительно с высотой, незначительной по сравнению с его диаметром, при этом поляризованный электрод (12) не проникает в цилиндр (14).
2. Ячейка (11) по п. 1, в которой пористый слой (15) расположен относительно поляризованного электрода (12) на стороне, противоположной цилиндру (14).
3. Двойной элемент (10) для генерирования плазмы коронного разряда, содержащий первую ячейку (11) для генерирования плазмы коронного разряда по любому из пп. 1 или 2, содержащую первый поляризованный электрод (12) и расположенный напротив него первый заземленный электрод (13), вторую ячейку (21) для генерирования плазмы коронного разряда по любому из пп. 1 или 2, содержащую второй поляризованный электрод (22) и расположенный напротив него второй заземленный электрод (23), отличающийся тем, что первая ячейка (11) и вторая ячейка (21) расположены симметрично, предпочтительно валетом.
4. Двойной элемент (10) по п. 3, в котором первый поляризованный электрод (12) и второй поляризованный электрод (22) подключены к одному и тому же первому потенциалу (8), а первый заземленный электрод (13) и второй заземленный электрод (23) подключены к одному и тому же второму потенциалу (9), отличному от первого потенциала (8).
5. Двойной элемент (10) по п. 4, в котором первый потенциал (8) является негативным, а второй потенциал (9) является землей.
6. Двойной элемент (10) по любому из пп. 3-5, в котором первый поляризованный электрод (12) и второй поляризованный электрод (22) имеют по существу форму иглы и опираются на проводящую опору, соединенную с первым поляризованным электродом (12), вторым поляризованным электродом (22) и первым потенциалом (8).
7. Двойной элемент (10) по п. 6, в котором проводящая опора содержит печатную плату (36), содержащую по меньшей мере одну токоведущую дорожку (31), соединенную с первым эмиттерным электродом (12), вторым эмиттерным электродом (22) и первым потенциалом (8).
8. Двойной элемент (10) по п. 7, в котором поляризованный электрод (12, 22) расположен в металлизированном отверстии (33), пробитом в указанной по меньшей мере одной токоведущей дорожке (31).
9. Двойной элемент (10) по любому из пп. 7 или 8, в котором печатная плата (36) содержит отверстия (38), предпочтительно по всей поверхности, за исключением узкой полосы, образованной вокруг указанной по меньшей мере одной токоведущей дорожки(31).
10. Двойной элемент (10) по любому из пп. 3-9, в котором первый поляризованный электрод (12) и второй поляризованный электрод (22) выровнены в осевом направлении и предпочтительно выполнены как одно целое.
11. Двойной элемент (10) по любому из пп. 3-10, в котором по меньшей мере одна из первой ячейки (11) и второй ячейки (12) является ячейкой по любому из пп. 1 или 2.
12. Плазменный реактор (30), содержащий множество устройств для генерирования плазмы коронного разряда, расположенных бок о бок по существу в одной плоскости, отличающийся тем, что указанные устройства представляют собой ячейки (22) по любому из пп. 1 или 2, или указанные устройства представляют собой двойные элементы (10) по любому из пп. 3-11.
13. Плазменный реактор (30) по п. 12, в котором схема расположения является по существу квадратной решеткой.