СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ ПРОЗРАЧНОЙ БАРЬЕРНОЙ МНОГОСЛОЙНОЙ СИСТЕМЫ

1. Способ получения прозрачной барьерной многослойной системы, в котором по меньшей мере в одной вакуумной камере на прозрачную полимерную пленку осаждаются по меньшей мере два прозрачных барьерных слоя и один размещенный между обоими барьерными слоями прозрачный промежуточный слой, отличающийся тем, что для осаждения барьерных слоев испаряют алюминий, и одновременно в вакуумную камеру вводят по меньшей мере один первый реакционный газ, и что в качестве промежуточного слоя осаждают кремнийсодержащий слой с помощью PECVD-процесса.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что барьерный слой и второй слой многократно осаждают по очереди.
3. Способ по п. 1 или 2, отличающийся тем, что в качестве первого реакционного газа используют кислород и/или азот.
4. Способ по одному из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что осаждение барьерного слоя выполняют в вакуумной камере в присутствии плазмы.
5. Способ по п. 4, отличающийся тем, что в качестве плазмы используют плазму полого катода или микроволновую плазму.
6. Способ по п. 1, отличающийся тем, что для PECVD-процесса применяют магнетронную плазму или плазму полого катода.
7. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в качестве исходного материала для PECVD-процесса в вакуумную камеру вводят кремнийсодержащий прекурсор.
8. Способ по п. 7, отличающийся тем, что в качестве прекурсора используют HMDS, HMDSN или TEOS.
9. Способ по п. 1, отличающийся тем, что во время PECVD-процесса в вакуумную камеру дополнительно вводят еще один второй реакционный газ.
10. Способ по п. 9, отличающийся тем, что в качестве второго реакционного газа используют кислород и/или азот.