СПОСОБ ПАССИВИРОВАНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПОВЕРХНОСТЕЙ ВОДНЫМИ КОМПОЗИЦИЯМИ, СОДЕРЖАЩИМИ ПОВЕРХНОСТНО-АКТИВНЫЕ ВЕЩЕСТВА

1. Способ пассивирования металлической поверхности, при котором металлическая поверхность приводится в контакт с водной композицией, содержащей следующие компоненты:
a) по меньшей мере один водорастворимый, имеющий кислотные группы полимер (X), причем этот полимер (X) содержит по меньшей мере 0,6 моль кислотных групп/100 г полимера;
b) по меньшей мере одно поверхностно-активное вещество общей формулы (Т1)
,
причем
a
R представляет собой разветвленный или линейный алкильный остаток с числом атомов углерода от 8 до 18,
x является целым числом от 2 до 12,
y является целым числом от 1 до 10,
b
R является атомом водорода или разветвленным или линейным алкильным остатком с числом атомов углерода от 1 до 4,
c
R является атомом водорода или разветвленным или линейным алкильным остатком с числом атомов углерода от 1 до 4,
b
c
при условии, что по меньшей мере один из остатков R или R не является атомом водорода;
c) необязательно по меньшей мере одно сопутствующее поверхностно-активное вещество (Т2);
d) по меньшей мере один растворитель (L), содержащий по меньшей мере 80 мас.% воды;
e) необязательно по меньшей мере один дополнительный компонент (К);
причем величина pH композиции находится в интервале от 0,5 до 5.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что используется композиция, содержащая:
a) от 10 до 40 мас.%
по меньшей мере одного водорастворимого, имеющего кислотные
группы полимера (X), причем этот
полимер (X) содержит по меньшей мере
0,6 моль кислотных групп/100 г
полимера;
b) от 0,1 до 1 мас.%
по меньшей мере одного поверхностно-
активного вещества общей формулы (Т1)
причем
a
R представляет собой разветвленный или линейный алкильный остаток с числом атомов углерода от 8 до 18,
x является целым числом от 5 до 8,
y является целым числом от 1 до 4,
b
R является атомом водорода или разветвленным или линейным алкильным остатком с числом атомов углерода от 1 до 4,
c
R является атомом водорода или разветвленным или линейным алкильным остатком с числом атомов углерода от 1 до 4,
b
c
при условии, что по меньшей мере один из остатков R или R не является атомом водорода;
c) от 0 до 2 мас.%
по меньшей мере одного сопутствующего
поверхностно-активного вещества (Т2);
d) от 20 до 89 мас.%
по меньшей мере одного растворителя
(L), содержащего по меньшей мере 80%
масс. воды;
e) от 0 до 30 мас.%
по меньшей мере одного дополнительного
компонента (К).
3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что водная композиция содержит по меньшей мере одно поверхностно-активное вещество общей формулы (T1), причем
a
R представляет собой разветвленный или линейный алкильный остаток с числом атомов углерода от 10 до 14,
x является целым числом от 5 до 8,
y является целым числом от 1 до 4,
b
R выбирается из метила и этила,
a
R является атомом водорода.
4. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что водная композиция содержит от 0,1 до 2 мас.%, по меньшей мере одного сопутствующего поверхностно-активного вещества (Т2), выбираемого из группы, состоящей из алкилсульфатов с 8-20 атомами углерода в алкиле, алкиларилсульфатов с 8-20 атомами углерода в алкиле, алкилсульфонатов с 8-20 атомами углерода в алкиле, алкиларилсульфонатов с 8-20 атомами углерода в алкиле и этоксилированных спиртов, включающих линейный или разветвленный, насыщенный или ненасыщенный алкильный остаток с 8-20 атомами углерода и включающих от 2 до 14 этиленоксидных единиц.
5. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что водорастворимый полимер (X) представляет собой сополимер, который образован из следующих мономеров:
М1: от 30 до 90 мас.%
метакриловой кислоты и/или акриловой
кислоты;
М2: от 10 до 70 мас.%
по меньшей мере одного
дополнительного отличающегося от (М1)
моноэтиленового ненасыщенного
мономера, который содержит одну или
несколько кислотных групп;
при необходимости М3:
от 0 до 40 мас.%
по меньшей мере одного сложного эфира
метакриловой кислоты и/или сложного
эфира акриловой кислоты, содержащего
OH-группы;
при необходимости М4:
0 до 30 мас.%
по меньшей мере одного дополнительного
отличающегося от (М1), (М2) или (М3)
этиленового ненасыщенного мономера.
6. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что водорастворимый полимер (X) представляет собой сополимер, который образован из следующих мономеров:
М1: от 20 до 60 мас.%
акриловой кислоты;
М2: от 20 до 60 мас.%
винилфосфоновой кислоты;
М3: от 1 до 40 мас.%
гидроксиэтилакрилата.
7. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что в случае металлической поверхности речь идет о поверхности, состоящей в основном из одного или нескольких металлов, выбираемых из группы, состоящей из цинка (Zn), алюминия (Al) и магния (Mg).
2
8. Способ по п.п.1 или 2, отличающийся тем, что водная композиция наносится на металлическую поверхность в форме мокрой пленки, причем эта водная композиция наносится на металлическую поверхность с массой нанесенного слоя в интервале от 0,3 до 2 г/м(в пересчете на сумму твердых веществ этой водной композиции).
9. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что металлическая поверхность состоит в основном из одного или нескольких металлов, выбираемых из группы цинка (Zn), алюминия (Al) и магния (Mg).
10. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что речь идет о непрерывном способе пассивирования оцинкованных стальных полос в установке для нанесения покрытий на ленту вслед за оцинковкой.
11. Композиция для пассивирования металлической поверхности, содержащая
a) от 10 до 40 мас.%
по меньшей мере одного
водорастворимого, имеющего кислотные
группы полимера (X),
причем этот полимер (X) содержит
по меньшей мере 0,6 моль кислотных
групп/100 г полимера;
b) от 0,1 до 1 мас.%
по меньшей мере одного поверхностно-
активного вещества общей формулы (Т1)
,
причем
a
R представляет собой разветвленный или линейный алкильный остаток с числом атомов углерода от 8 до 18,
x является целым числом от 2 до 12,
y является целым числом от 1 до 10,
b
R является атомом водорода или разветвленным или линейным алкильным остатком с числом атомов углерода от 1 до 4,
c
R является атомом водорода или разветвленным или линейным алкильным остатком с числом атомов углерода от 1 до 4,
b
c
при условии, что по меньшей мере один из остатков R или R не является атомом водорода;
c) от 0 до 2 мас.%
по меньшей мере одного сопутствующего
поверхностно-активного вещества (Т2);
d) от 20 до 89 мас.%
по меньшей мере одного растворителя
(L), содержащего по меньшей мере
80 мас.% воды;
e) от 0 до 30 мас.%
по меньшей мере одного дополнительного
компонента (К).
12. Композиция по п.11, отличающаяся тем, что в этой композиции содержится от 0,1 до 2 мас.% по меньшей мере одного сопутствующего поверхностно-активного вещества (Т2), выбираемого из группы, состоящей из алкилсульфатов с 8-20 атомами углерода в алкиле, алкиларилсульфатов с 8-20 атомами углерода в алкиле, алкилсульфонатов с 8-20 атомами углерода в алкиле, алкиларилсульфонатов с 8-20 атомами углерода в алкиле и этоксилированных спиртов, включающих линейный или разветвленный, насыщенный или ненасыщенный алкильный остаток с 8-20 атомами углерода и включающих от 2 до 14, предпочтительно от 4 до 10 этиленоксидных единиц.