ЛАЗЕРНЫЙ ИСТОЧНИК, В ЧАСТНОСТИ, ДЛЯ ПРОМЫШЛЕННЫХ ПРОЦЕССОВ

1. Лазерный источник, в частности, для использования в промышленных процессах, содержащий
блок (2) генерации лазерного луча, включающий в себя множество лазерных диодов (201, 202) для генерации множества лазерных лучей,
блок (6) оптического усиления, включающий в себя множество усилительных модулей (60), конфигурированных для накачки лазерными лучами, испускаемыми диодами (201, 202), и для испускания лазерных лучей, имеющих более высокое качество луча и меньшее значение мощности относительно лазерных лучей, испускаемых диодами (201, 202), и
оптический блок (4) переключения и направления лазерного луча, расположенный между блоком (2) генерации и блоком (6) оптического усиления для переключения и направления лазерных лучей, испускаемых диодами (201, 202), причем оптический блок (4) переключения и направления включает в себя:
множество входов (40) для приема лазерных лучей, испускаемых диодами (201, 202),
первую оптическую линию (44) для направления единого лазерного луча, получаемого из лазерных лучей, испускаемых диодами (201, 202), к первому выходу (U1) лазерного источника (1),
множество вторых оптических линий (45) для направления лазерных лучей, испускаемых диодами (201, 202), к усилительным модулям (60) блока (6) оптического усиления, причем усилительные модули (60) имеют соответствующие выходы, присоединенные к оптическим линиям (64), которые все сходятся ко второму выходу (U2) лазерного источника (1), и
селектор (43) оптического пути для направления лазерных лучей, испускаемых диодами (201, 202), выборочно по направлению к:
первой оптической линии (44), так чтобы генерировать излучение единого лазерного луча со сравнительно большой мощностью и сравнительно низким качеством на первом выходе (U1) лазерного источника (1),
или по направлению к вторым оптическим линиям (45) и через усилительные модули (60) до второго выхода (U2) лазерного источника (1), так чтобы генерировать излучение единого лазерного луча с относительно меньшей мощностью и относительно более высоким качеством на втором выходе (U2) лазерного источника (1),
причем диоды (201, 202) также выполнены с возможностью испускания лазерных лучей, имеющих отличные друг от друга длины волн,
причем селектор (43) имеет первое рабочее положение, в котором он направляет лазерные лучи, испускаемые диодами (201, 202), ко вторым оптическим линиям (45), и второе рабочее положение, в котором лазерные лучи, испускаемые диодами (201, 202), сходятся в единый луч, при условии, что лучи, испускаемые диодами, по меньшей мере, частично перекрывают друг друга.
2. Лазерный источник по п. 1, в котором селектор (43) содержит ряд зеркал (431, 432), выровненных вдоль направления первой оптической линии (44) и выполненных с возможностью совместного перемещения между первым положением, в котором они перехватывают лазерные лучи, испускаемые диодами (201, 202), и вторым положением, в котором указанные зеркала не перехватывают указанные лазерные лучи, так что в указанном втором положении указанные лазерные лучи могут проходить ко вторым оптическим линиям (45) и к усилительным модулям (60), и
в котором в указанном первом положении перехвата первое из зеркал (431) отражает один из указанных лазерных лучей в направлении первой оптической линии (44) и через другие зеркала (432), и в котором каждое из оставшихся зеркал (432) расположено с возможностью отражения лазерного луча, испускаемого соответствующим диодом и имеющего соответствующую длину волны, и при этом выполнено с возможностью пропускания лазерных лучей с другими длинами волны, направляемых через него посредством других зеркал (431) указанного ряда зеркал.
3. Лазерный источник по п. 1, в котором селектор (43) содержит дифракционную решетку, выполненную с возможностью перемещения между первым положением, в котором сходятся лазерные лучи, испускаемые диодами (201, 202), и вторым положением, в котором указанная дифракционная решетка не перехватывает указанные лазерные лучи, так что в указанном втором положении указанные лазерные лучи могут проходить ко вторым оптическим линиям (45) и к усилительным модулям (60), и
в котором в первом положении перехвата указанные лазерные лучи дифрагируют в направлении первой оптической линии (44).
4. Лазерный источник по п. 1, в котором каждый из усилительных модулей (60) имеет по меньшей мере одно активное оптическое волокно (61), содержащее активный материал, выполненный с возможностью усиления лазерного луча, входящего в указанный модуль (60).
5. Лазерный источник по п. 1, в котором диоды (201, 202) имеют выходы (22), присоединенные к соответствующим входам (40) оптического блока (4) переключения и направления посредством соответствующих входных оптических волокон (32).
6. Лазерный источник по п. 5, в котором оптический блок (4) переключения и направления содержит свободное пространство (S) для распространения лазерных лучей, испускаемых диодами (201, 202), в котором расположен селектор (43) оптического пути, причем входы (40) блока (4) переключения и направления образованы из оптических интерфейсов, принимающих соответствующие лазерные лучи от диодов (201, 202) и передающих их в свободное пространство (S), в котором расположен селектор (43) оптического пути.
7. Лазерный источник по п. 5 или 6, в котором оптический блок (4) переключения и направления содержит выходной оптический интерфейс (49), расположенный вдоль первой оптической линии (44), для приема единого лазерного луча, полученного из лазерных лучей, испускаемых диодами (201, 202), и для направления его в выходное оптическое волокно (481), присоединенное к первому выходу (U1) лазерного источника (1).
8. Лазерный источник по любому из пп. 5-7, в котором оптический блок (4) переключения и направления содержит множество выходных оптических интерфейсов (454), расположенных вдоль вторых оптических линий (45), для приема лазерных лучей, испускаемых диодами (201, 202) и распространяющихся через свободное пространство (S), и для направления их во множество выходных оптических волокон (5), присоединенных к усилительным модулям (60) блока (6) оптического усиления.
9. Лазерный источник по п. 8, в котором выходы усилительных модулей (60) присоединены к соответствующим оптическим волокнам (64), сходящимся в оптическом сумматоре (65), присоединенном ко второму выходу (U2) лазерного источника (1).
10. Промышленная установка, включающая в себя множество лазерных обрабатывающих устройств, или лазерных обрабатывающих модулей, или лазерных обрабатывающих станций, содержащих по меньшей мере одно из первого лазерного обрабатывающего устройства, модуля или станции, требующих использования лазерного луча, имеющего сравнительно большую мощность и сравнительно низкое качество, и по меньшей мере одно из второго лазерного обрабатывающего устройства, модуля или станции, требующих использования лазерного луча, имеющего сравнительно низкую мощность и сравнительно высокое качество, отличающаяся тем, что она содержит по меньшей мере один лазерный источник по любому из пп. 1-9, причем указанный по меньшей мере один лазерный источник имеет свои выходы, присоединенные, соответственно, к указанным первым и вторым лазерным обрабатывающим устройствам, модулям или станциям, причем указанная установка имеет электронный блок управления для управления селектором указанного по меньшей мере одного лазерного источника, запрограммированного для активации указанного первого выхода или указанного второго выхода лазерного источника на основе сигналов, поступающих от электронного блока, управляющего указанными лазерными обрабатывающими устройствами, модулями или станциями.
11. Способ управления множеством лазерных обрабатывающих модулей или станций, оборудованных в каждом случае лазерным источником для подачи лазерного луча на лазерное обрабатывающее оборудование, установленное на обрабатывающем модуле или обрабатывающей станции, отличающийся тем, что по меньшей мере один из указанных лазерных источников представляет собой лазерный источник с двумя выходами по любому из пп. 1-9, и тем, что первый выход указанного лазерного источника, имеющего два выхода, присоединен к одному выделенному модулю или к одной выделенной станции, причем способ содержит этап присоединения второго выхода указанного лазерного источника с двумя выходами к другому обрабатывающему модулю или к другой обрабатывающей станции при возникновении неполадки в лазерном источнике указанного дополнительного обрабатывающего модуля или указанной дополнительной обрабатывающей станции.