НАНЕСЕНИЕ НА ПОДЛОЖКИ ЛЕГИРОВАННОГО СЛОЯ ПОСРЕДСТВОМ КАТОДНОГО РАСПЫЛЕНИЯ

1. Способ нанесения на подложку (3), имеющую ширину и длину, сплава, состоящего по меньшей мере, из одного первого и одного второго материала в качестве компонентов сплава, и с переменным соотношением компонентов сплава посредством магнетронного катодного распыления, с
(а) магнетронным распылительным катодом с
(а1) мишенью (1), содержащей компоненты сплава, и
(а2) расположенной за мишенью (1), если смотреть со стороны подложки (3), магнитной системой (2) для создания, по меньшей мере, одного участка (5) эрозии на поверхности мишени (1),
при этом
(b) поверхность мишени (1) имеет, по меньшей мере, один первый участок (11) из первого материала и один второй участок (12) из второго материала,
(с) первый участок (11) и второй участок (12) примыкают друг к другу и образуют общую разделительную линию (4) на поверхности мишени (1), и
(d) участок (5) эрозии позиционирован в пределах разделительной линии (4), так что первая часть (5-1) участка (5) эрозии находится на первом участке (11) мишени и вторая часть (5-2) участка (5) эрозии на втором участке (12) мишени,
отличающийся
(е) изменением соотношения компонентов сплава за счет
(е1) смещения участка (5) эрозии, по существу, поперек разделительной линии (4) и/или
(е2) регулирования острого угла α между разделительной линией (4) и продольным направлением участка эрозии в одной плоскости параллельно поверхности мишени (1) и/или
(е3) регулирования угла β между поверхностью магнитной системы и обращенной к подложке (3) поверхностью мишени (1).
2. Способ по п. 1, в котором предусматривают этап изменения относительного положения между магнитной системой (2) и поверхностью подложки (3) посредством смещения подложки (3) и/или магнитной системы (2) параллельно поверхности подложки, предпочтительно посредством смещения во взаимно перпендикулярных направлениях.
3. Способ по п. 1, в котором используют вытянутый по длине магнетронный распылительный катод, который простирается по ширине подложки (2), причем осуществляют ориентацию магнитной системы (2) в своем продольном направлении параллельно или под острым углом α относительно разделительной линии (4) в плоскости, параллельной поверхности мишени (1).
4. Способ по п. 1, в котором осуществляют отклонение магнитной системы (2) вокруг оси относительно поверхности мишени на угол β.
5. Способ по любому из пп. 1-4, в котором пропорциональное соотношение компонентов сплава на подложке (3) изменяют в зависимости от положения магнетронного распылительного катода.
6. Устройство для нанесения на подложку (3) сплава, состоящего по меньшей мере, из одного первого и одного второго материала, в качестве компонентов сплава, и с переменным пропорциональным соотношением компонентов сплава посредством магнетронного катодного распыления, с
(а) магнетронным распылительным катодом с
(а1) мишенью (1) и
(а2) расположенной за мишенью (1), если смотреть со стороны подложки (3), магнитной системой для создания участка(5) эрозии на поверхности мишени (1),
отличающееся тем, что
(b) поверхность мишени (1) имеет, по меньшей мере, один первый участок (11) из первого материала и один второй участок из второго материала, при этом первый участок (11) и второй участок (12) примыкают друг к другу и образуют общую разделительную линию (4) на поверхности мишени (1), и
(с) магнитная система (2)
(с1) выполнена с возможностью смещения в направлении параллельно поверхности мишени и перпендикулярно разделительной линии мишени (1) или под углом α относительно разделительной линии (4) и/или
(с2) выполнена с возможностью отклонения вокруг оси относительно поверхности мишени на угол β или поверхность мишени выполнена с возможностью отклонения вокруг оси относительно магнитной системы (2) на угол β, и/или
(с3) выполнена с возможностью регулировки относительно разделительной линии (4) под углом α.
7. Устройство по п. 6, в котором магнетронный распылительный катод выполнен как длинный катод.
8. Устройство по п. 6 или 7, в котором магнитная система (2) содержит постоянные магниты или электромагниты.
9. Мишень для нанесения на подложку (3) сплава, состоящего по меньшей мере, из одного первого и одного второго материала, в качестве компонентов сплава, с переменным соотношением компонентов сплава посредством магнетронного катодного распыления, с созданием участка (5) эрозии на поверхности мишени, при этом поверхность мишени (1) имеет, по меньшей мере, один первый участок (11) из первого материала и один второй участок (12) из второго материала, при этом первый участок (11) и второй участок (12) примыкают друг к другу и образуют общую разделительную линию (4) на поверхности мишени (1), при этом участок (5) эрозии расположен параллельно или под острым углом α относительно разделительной линии (4).
10. Мишень по п. 9, в которой поверхность мишени(1) прямоугольная.
11. Мишень по п. 9, в которой участки (11, 12) поверхности мишени (1) расположены трапецеидально, чтобы на поверхности мишени (1) образовать полосы из различных материалов, разделительная линия (4) которых расположена под углом α относительно продольной стороны мишени.
12. Мишень по п. 11, в которой поверхность мишени (1) содержит три участка (11, 12), при этом один участок (11) образован из первого материала, и два других участка (12), примыкающие к первому участку (11), из второго материала.
13. Мишень по п. 12, в которой поверхность мишени (1) содержит четыре участка (11, 12), при этом два участка (11) образованы из первого материала и два других участка (12) - из второго материала, и участки из различных материалов расположены попеременно.
14. Мишень по любому из пп. 9-13, при этом мишень (1) состоит из нескольких отдельных зон, поверхности которых образуют участки поверхности мишени, и при этом, по меньшей мере, одна из отдельных зон состоит из первого материала и, по меньшей мере, еще одна из отдельных зон - из второго материала.