Устройство оптического нагрева образца в установках магнетронного напыления

Устройство оптического нагрева образца в установках магнетронного напыления, содержащее средство для нагрева и регулирования температуры подложки, закрепленной на штативе, размещенном внутри вакуумной камеры установки магнетронного напыления, отличающееся тем, что средство для нагрева и регулирования температуры подложки, выполненной из полупроводника, керамики или стекла для получения тонких пленок карбидов и нитридов кремния, содержит укрепленный на штативе держатель, в котором установлено не менее двух ламп со встроенными отражателями, указанные лампы соединены с регулятором тока накаливания и регулирования температуры подложки и расположены с тыльной стороны подложки, которая размещена на сетке из тонких молибденовых нитей анода-подложкодержателя лицевой стороной к магнетрону.