Статья

Статья

Исследование плазмы

1996. Т. 34. № 3. С. 385–391

Полищук В.П., Ярцев И.М.

Вакуумные дуги на испаряющихся горячих анодах

Приведены экспериментальные и теоретические данные об области существования и основных характеристиках стационарных вакуумных дуг на горячих испаряющихся анодах из различных металлов ($mathrm{Mg}$, $mathrm{Cu}$, $mathrm{Cr}$, $mathrm{La}$, $mathrm{Gd}$). Катодом дуги служила накаливаемая проволока из сплава $mathrm{W}$–$mathrm{Re}$. Качественный характер поведения дуг на различных анодах одинаковый, наиболее подробно исследована дуга на медном аноде при температуре $1500$–$1700$ K, ток дуги $1$–$10$ А. Температура анода изменялась с помощью электронно-лучевого подогревателя. Результаты расчета прианодного падения потенциала сопоставлены с экспериментальными данными. Показано, что исследованный разряд представляет интерес для плазменной технологии нанесения покрытий.