НОВЫЕ УСТРОЙСТВА, КОНЦЕНТРИРУЮЩИЕ СОЛНЕЧНУЮ ЭНЕРГИЮ

1. Уф-защищенное многослойное устройство, концентрирующее солнечную энергию, характеризующееся тем, что устройство, если  смотреть со стороны источника света, содержит по меньшей мере следующие слои:
- полимерный слой-носитель (3),
- полимерная пленка (1), имеющая первую поверхность, на которой отштампованы оптические структуры, которые формируют одну или более линз Френеля, и имеющая вторую поверхность, которая связана с полимерным слоем (3), либо напрямую, либо через адгезивный слой (2),
где
слой-носитель (3) содержит по меньшей мере один УФ-абсорбер и по меньшей мере один УФ-стабилизатор,
и/или где
УФ-защищающий полимерный слой (5), содержащий по меньшей мере один УФ-абсорбер и по меньшей мере один УФ-стабилизатор, связан с обращенной к источнику света поверхностью слоя-носителя (3), либо напрямую, либо через адгезивный слой (4).
2. Уф-защищенное многослойное устройство, концентрирующее солнечную энергию, по п.1, отличающееся тем, что устройство содержит дополнительный полимерный поверхностный защитный слой (7), который связан с обращенной к источнику света поверхностью УФ-защитного слоя (5), либо напрямую, либо через адгезивный слой (6), или с обращенной к источнику света поверхностью слоя-носителя (3), либо напрямую, либо через адгезив, и который имеет свойства улучшения грязеотталкивания и/или стойкости к царапанию и/или прочности на истирание и/или противоотражательные свойства.
3. Уф-защищенное многослойное устройство, концентрирующее солнечную энергию, по п.1 или 2, отличающееся тем, что:
полимерная пленка (1) содержит заданный рисунок из квадратных или прямоугольных линз Френеля,
или
полимерная пленка (1) содержит матрицу отдельных квадратных линз Френеля, расположенных в виде сетки,
или
полимерная пленка (1) сконфигурирована в виде линейных линз Френеля, где узор распространяется по длине пленки.
4. Уф-защищенное многослойное устройство, концентрирующее солнечную энергию, по п.1 или 2, отличающееся тем, что адгезивный слой (2) представляет собой растворяющий цемент, предпочтительно композицию с высоким содержанием хлорированных растворителей.
5. Уф-защищенное многослойное устройство, концентрирующее солнечную энергию, по п.1 или 2, отличающееся тем, что:
полимерная пленка (1) состоит из полимеров, выбранных из группы, состоящей из поли(мет)акрилата, поликарбоната, циклических олефиновых полимеров, полистирола, поливинилидендифторида, полиуретанов или их смесей или их сополимеров,
и/или
слой-носитель (3) представляет собой поликарбонат, полистирол, сополимер стирола, сложный полиэфир, предпочтительно полиэтилентерефталат или PETG, фторполимеры, и/или пленку или лист на основе РММА, и/или двухслойную пленку или лист PMMA/PVDF, и/или пленку или лист из смеси PMMA/PVDF,
и/или
УФ-защищающий слой (5) состоит из прозрачной однослойной или многослойной (множество слоев) пластиковой фольги, включающей полиметил(мет)акрилат или полиметил(мет)акрилат и поливинилиденфторид, в каждом случае в по меньшей мере одном подслое, или полиметил(мет)акрилат и поливинилиденфторид в смеси в по меньшей мере одном подслое.
6. Уф-защищенное многослойное устройство, концентрирующее солнечную энергию, по п.1 или 2, отличающееся тем, что слой-носитель (3) и/или УФ-защищающий слой (5) содержит смесь УФ-абсорберов, состоящую по меньшей мере из одного триазина и по меньшей мере одного бензотриазола, и содержит по меньшей мере один УФ-стабилизатор, который представляет собой соединение HALS или смесь различных соединений HALS.
7. Уф-защищенное многослойное устройство, концентрирующее солнечную энергию, по п.6, отличающееся тем, что смесь УФ-стабилизаторов и УФ-абсорберов состоит из следующих количеств, причем каждое количество основывается на массе мономеров, применяемых для получения соответствующего слоя:
от 0,1 мас.% до 10 мас.%, предпочтительно от 0,5 мас.% до 4 мас.%, Уф-абсорберов бензотриазольного типа,
от 0,1 мас.% до 5 мас.%, предпочтительно от 0,5 мас.% до 3 мас.%, Уф-абсорберов триазинового типа, и
от 0,1 мас.% до 5 мас.%, предпочтительно от 0,2 мас.% до 2 мас.%, Уф-абсорберов типа HALS.
8. Уф-защищенное многослойное устройство, концентрирующее солнечную энергию, по п.1 или 2, отличающееся тем, что
Уф-защищающий слой (5) состоит из поли(мет)акрилата и поливинилиденфторида в массовом отношении от 1:0,01 до 0,3:1, предпочтительно от 1:0,1 до 0,4:1, и содержит Уф-стабилизаторы и УФ-абсорберы,
или
тем, что Уф-защищающий слой (5) включает два подслоя, один из которых представляет собой подслой, состоящий из поли(мет)акрилата, и другой представляет собой подслой, состоящий из поливинилиденфторида.
9. Уф-защищенное многослойное устройство, концентрирующее солнечную энергию, по п.1 или 2, отличающееся тем, что
полимерная пленка (1) имеет толщину в интервале от 0,01 до 10 мм, предпочтительно от 0,025 до 2 мм, более предпочтительно от 0,025 до 1 мм, особенно предпочтительно от 0,05 до 0,75 мм, наиболее предпочтительно от 0,1 до 0,5 мм или от 5 до 0,9 мм,
и/или
слой-носитель (3) имеет толщину в интервале от 0,1 мм до 50 мм, предпочтительно в интервале от 0,5 до 25 мм, более предпочтительно в интервале от 1 до 20 мм, особенно предпочтительно в интервале от 2 до 20 мм и особенно предпочтительно в интервале от 2 до 10 мм и от 2 до 7 мм,
и/или
пленка полимерного УФ-защищающего слоя (5) имеет толщину в интервале от 10 до 250 мкм, более предпочтительно в интервале от 40 до 120 мкм и особенно предпочтительно в интервале от 50 до 90 мкм.
10. Уф-защищенное многослойное устройство, концентрирующее солнечную энергию, по п.1 или 2, отличающееся тем, что слой-носитель (3) содержит по меньшей мере один теплостабилизатор.
11. Способ получения УФ-защищенного многослойного устройства, концентрирующего солнечную энергию, по п.1 или 10, отличающийся тем, что он содержит следующие стадии:
совместная экструзия слоя носителя (3) и УФ-защищающего слоя (5) с последующим наслаиванием полимерной пленки (1) на заднюю сторону слоя-носителя (3) либо с формированием адгезивного слоя (2), либо без него,
или
ламинирование слоя-носителя (3) и УФ-защищающего слоя (5) посредством ламинирования способом экструзии с формированием адгезивного слоя (4) или без него с последующим наслаиванием полимерной пленки (1) на заднюю сторону слоя-носителя (3) либо с формированием адгезивного слоя (2), либо без него,
или
ламинирование слоя-носителя (3) и полимерной пленки (1), либо с формированием адгезивного слоя (2), либо без него с последующим наслаиванием УФ-защищающего слоя (5) на обращенную к источнику света сторону слоя-носителя (3), либо с формированием адгезивного слоя (4), либо без него,
или
ламинирование слоя-носителя (3), содержащего по меньшей мере один УФ-абсорбер и по меньшей мере один УФ- стабилизатор, и полимерной пленки (1), либо с формированием адгезивного слоя (2), либо без него.
12. Способ по п.11, отличающийся тем, что многослойный материал формируется между слоем-носителем (3) и полимерной пленкой (1) без адгезивного слоя, и что способ содержит следующие стадии:
- обеспечение пленки (1), имеющей первую поверхность с отштампованными оптическими структурами и противоположную вторую поверхность;
- направление указанной пленки (1) в зону защемления пары ламинирующих роликов;
- подача слоя-носителя (3) или УФ-защищенного слоя-носителя (3) или многослойного материала из слоя-носителя (3) и УФ-защитного слоя (5) или соэкструдата слоя-носителя (3) и УФ-защитного слоя (5) в указанную зону защемления, причем указанный слой-носитель (3) имеет поверхностную температуру поверхности, предназначенную для связывания с пленкой (1), эффективную для обеспечения термического связывания между указанным слоем-носителем (3) и указанной полимерной пленкой (1); и
- наслоение указанного слоя-носителя (3) на указанную вторую поверхность указанной полимерной пленки (1).
13. Устройство на основе солнечной энергии, отличающееся тем, что оно представляет собой CPV элемент, содержащий по меньшей мере одно устройство, концентрирующее солнечную энергию, по одному из пп.1-10 и по меньшей мере один солнечный элемент,
или
оно представляет собой CSP элемент, содержащий по меньшей мере одно устройство, концентрирующее солнечную энергию, по одному из пп.1-10 и по меньшей мере один теплопоглощающий элемент.
14. Применение УФ-защищенного многослойного устройства, концентрирующего солнечную энергию, по любому одному из пп.1-10, для получения устройства на основе солнечно-тепловой энергии, в частности CSP устройства, или для получения фотогальванического устройства, в частности CPV устройства.