ИСПОЛЬЗОВАНИЕ ПОЛНОФОРМАТНОГО МАТРИЧНОГО ДАТЧИКА ИЗОБРАЖЕНИЯ ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ ТОЛЩИНЫ ПЛЕНКИ В РЕАЛЬНОМ ВРЕМЕНИ НА ОБОРУДОВАНИИ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПЛЕНКИ

1. Способ обеспечения анализа толщины пленки с помощью спектрофотометра, включающий:
конфигурирование источника света для испускания светового пучка на пленку, осажденную на поверхности подложки, причем источник света расположен рядом с поверхностью подложки; и
конфигурирование линейного датчика для приема света, отражающегося от осажденной пленки на поверхности подложки, через градиентную линзу и линейно перестраиваемый фильтр, причем линейный датчик расположен рядом с подложкой, градиентная линза помещена на оптическом пути световых пучков, отражающихся от поверхности подложки, и между поверхностью подложки и линейно перестраиваемым фильтром, а линейно перестраиваемый фильтр помещен на оптическом пути света, отражающегося от поверхности подложки, и между линейным датчиком и градиентной линзой; и
конфигурирование процессора для определения толщины пленки на основании спектральной отражательной способности указанной пленки, принятой от линейного датчика,
причем линейно перестраиваемый фильтр является оптическим фильтром, имеющим покрытие для полосового пропускания, а свойство покрытия для полосового пропускания изменяется по длине линейно перестраиваемого фильтра таким образом, чтобы сдвигать центральную длину волны линейного перестраиваемого фильтра линейно по его длине.
2. Способ по п. 1, дополнительно включающий обеспечение зазора между линейно перестраиваемым фильтром и линейным датчиком.
3. Способ по п. 1, в котором линейный датчик является полноформатным матричным датчиком изображений.
4. Способ по п. 1, в котором линейный датчик является микросхемой датчика изображения.
5. Способ по п. 1, дополнительно включающий:
конфигурирование процессора для выполнения инструкций, содержащих:
сравнение толщины пленки на основании спектральной отражательной способности с заранее определенным значением толщины и
регулировку по меньшей мере одного параметра осаждения для задания отрегулированного параметра осаждения, если разность между толщиной пленки и заранее определенным значением толщины больше, чем заранее определенный допуск.
6. Способ по п. 1, в котором указанная пленка содержит первую пленку, а указанный способ дополнительно включает:
конфигурирование второго источника света для испускания светового пучка на вторую пленку, расположенную на первой пленке;
конфигурирование второго линейного датчика в отличном местоположении, чем первый линейный датчик, для приема света, отражающегося от второй пленки, расположенной на первой пленке, через вторую градиентную линзу и второй линейно перестраиваемый фильтр, причем второй линейный датчик расположен рядом с подложкой, вторая градиентная линза помещена на оптическом пути света, отражающегося от поверхности первой пленки, и между поверхностью первой пленки и вторым линейно перестраиваемым фильтром, а второй линейно перестраиваемый фильтр помещен на оптическом пути световых пучков, отражающихся от поверхности первой пленки, и между вторым линейным датчиком и второй градиентной линзой; и
конфигурирование процессора для определения толщины второй пленки на основании спектральной отражательной способности второй пленки, принятой от второго линейного датчика,
причем второй линейно перестраиваемый фильтр является оптическим фильтром, имеющим покрытие для полосового пропускания, а свойство покрытия для полосового пропускания изменяется по длине второго линейно перестраиваемого фильтра таким образом, чтобы сдвигать центральную длину волны этого второго линейного перестраиваемого фильтра линейно по его длине.
7. Способ по п. 6, дополнительно включающий:
конфигурирование процессора для выполнения инструкций, содержащих:
сравнение толщины второй пленки на основании спектральной отражательной способности с заранее определенным значением толщины; и
регулировку по меньшей мере одного параметра осаждения, если разность между толщиной второй пленки и заранее определенным значением толщины больше, чем заранее определенный допуск.
8. Способ изготовления фоторецептора, включающий:
перемещение подложки со скоростью подачи подложки через систему для осаждения пленки, содержащую по меньшей мере одну станцию для осаждения пленки;
активацию указанной по меньшей мере одной станции для осаждения пленки для осаждения жидкости на подложку, причем количество указанной жидкости задано скоростью осаждения и объемом осаждения;
формирование первого слоя на подложке из указанной жидкости;
обеспечение света на встроенный спектрофотометр и получение спектроскопических ответных данных, представляющих по меньшей мере одно из числа подложки и первого слоя, причем указанный свет отражен по меньшей мере от одного из числа поверхности первого слоя и поверхности подложки или пропущен через по меньшей одно из числа первого слоя и подложки, и
определение с использованием по меньшей мере одного электронного процессора и на основании указанных спектрофотометрических данных толщины по меньшей мере одного из числа подложки и первого слоя;
сравнение с использованием по меньшей мере одного электронного процессора измеренного значения толщины с заранее определенным значением толщины и
регулировку по меньшей мере одного из числа скорости подачи подложки, скорости осаждения и объема осаждения.
9. Система для получения данных о толщине осажденных пленок с использованием спектрофотометра во время сборки фоторецептора, содержащая:
спектрофотометр, выполненный с возможностью получения спектроскопических ответных измерений света, отраженного от поверхности или пропущенного через поверхность по меньшей мере одного из числа подложки и слоя, осажденного поверх этой подложки;
по меньшей мере один электронный процессор, соединенный с возможностью осуществления связи со спектрофотометром и выполненный с возможностью:
определения с использованием по меньшей мере одного электронного процессора и на основании указанных спектрофотометрических данных толщины по меньшей мере одного из числа подложки и слоя и
сравнения с использованием по меньшей мере одного электронного процессора измеренного значения толщины с заранее определенным значением толщины;
подающее устройство для подложки для обеспечения подложки со скоростью подачи подложки и
станцию для осаждения слоя, соединенную с возможностью осуществления связи с указанным по меньшей мере одним электронным процессором, причем станция для осаждения слоя выполнена с возможностью осаждения указанного слоя поверх подложки по меньшей мере с одним из скорости осаждения и объема осаждения.
10. Система по п. 9, в которой указанный по меньшей мере один электронный процессор дополнительно выполнен с возможностью управления станцией для осаждения слоя для регулировки по меньшей мере одного из числа скорости осаждения и объема осаждения.