ЛАЗЕРНЫЙ ПРИБОР

1. Лазерный прибор (1) с элементом (3) из активного материала лазера, который при возбуждении излучением (Х) накачки выдает лазерное излучение (Y), причем активный материал лазера представляет собой стекло, и причем
по меньшей мере один облицовочный элемент (5, 7) соединен с элементом (3) из активного материала лазера так, что обеспечивается возможность теплообмена за счет теплопроводности между облицовочным элементом (5, 7) и элементом (3) из активного материала лазера, и причем
материалы облицовочного элемента (5, 7) и элемента (3) из активного материала лазера различаются, так что коэффициент поглощения излучения (Х) накачки у облицовочного элемента (5, 7) является более низким, чем соответствующий коэффициент поглощения у элемента (3) из активного материала лазера, и причем лазерный прибор (1) выполнен так, что излучение (Х) накачки может пропускаться через облицовочный элемент (5) в элемент (3) из активного материала лазера, и/или что излучение (Х) накачки может пропускаться через элемент (3) из активного материала лазера в облицовочный элемент (7).
2. Лазерный прибор (1) по п. 1, причем разница показателей преломления материалов облицовочного элемента (5, 7) и элемента (3) из активного материала лазера составляет менее 0,1, предпочтительно менее 0,05, и более предпочтительно менее 0,002.
3. Лазерный прибор (1) по одному из предшествующих пунктов, причем облицовочный элемент (5, 7) имеет более высокую теплопроводность, чем воздух или чем защитный газ.
4. Лазерный прибор (1) по одному из предшествующих пунктов, причем облицовочный элемент (5, 7) имеет более высокую теплопроводность, чем элемент (3) из активного материала лазера.
5. Лазерный прибор (1) по одному из предшествующих пунктов, причем элемент (3) из активного материала лазера состоит из фосфатного стекла.
6. Лазерный прибор (1) по одному из предшествующих пунктов, причем элемент (3) из активного материала лазера легирован ионами одного или более из элементов эрбия, иттербия, неодима, хрома, церия и/или титана.
7. Лазерный прибор (1) по одному из предшествующих пунктов, причем облицовочный элемент (5, 7) не легирован испускающими лазерное излучение ионами или поглощающими излучение накачки ионами, или не содержит их.
8. Лазерный прибор (1) по одному из предшествующих пунктов, причем облицовочный элемент (5, 7) представляет собой стекло или кристалл.
9. Лазерный прибор (1) по одному из предшествующих пунктов, причем облицовочный элемент (5, 7) имеет фосфатный кронглас, тяжелый фосфатный кронглас или боросиликатный кронглас.
10. Лазерный прибор (1) по одному из предшествующих пунктов, причем облицовочный элемент (5, 7) включает ионы фтора, в частности, причем облицовочный элемент (5, 7) включает фторфосфатное стекло.
11. Лазерный прибор (1) по одному из предшествующих пунктов, причем облицовочный элемент (5, 7) имеет более высокий порог лазерного повреждения, чем элемент (3) из активного материала лазера.
12. Лазерный прибор (1) по одному из предшествующих пунктов, причем разность коэффициентов теплового расширения материалов облицовочного элемента (5, 7) и элемента (3) из активного материала лазера составляет менее 20%, предпочтительно менее 10%.
13. Лазерный прибор (1) по одному из предшествующих пунктов, причем облицовочный элемент (5, 7) соединен с элементом (3) из активного материала лазера плотным прижатием или посредством оптического связывания или анодного связывания.
14. Лазерный прибор (1) по одному из предшествующих пунктов, причем облицовочный элемент (5, 7) включает покрытие, в частности, противоотражательное покрытие.
15. Лазерный прибор (1) по одному из предшествующих пунктов, причем элемент (3) из активного материала лазера на стороне, которая является противоположной относительно облицовочного элемента (5, 7), имеет покрытие, в частности, покрытие, которое на соответствующей стороне, является по меньшей мере частично зеркальным для лазерного излучения (Y) или излучения (Х) накачки, или обоих.