УСТРОЙСТВО ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОДОРОЖЕК НА ПОДЛОЖКЕ

Полезная модель относится к области машиностроения, а олее конкретно к устройствам для формирования нанодорожек на подложке.
Известно устройство для формирования нанодорожек на подложке, содержащее источник лазерного излучения, отражатель, подложкодержатель, закрепленный на пьезоприводе [«Введение в фотолитографию», Лаврищев В.П., М.: Энергия, 1977 г., 400 с.].
Недостатком аналога является низкая производительность нанесения нанодорожек на подложку.
Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату является устройство для формирования нанодорожек на подложке, содержащий источник лазерного излучения, отражатель, подложкодержатель, закрепленный на пьезоприводе [«Обращение волнового фронта», Б.Я.Зельдович, М. Наука, 1985 г., 247 с.].
Недостатком прототипа также является низкая производительность нанесения нанодорожек на подложку.
В основу полезной модели положена техническая задача, заключающаяся в повышении производительности устройства для нанесения нанодорожек на подложку.
Поставленная техническая задача решается тем, что в устройстве для формирования нанодорожек на подложке, содержащем источник лазерного излучения, отражатель, подложкодержатель, закрепленный на пьезоприводе, согласно предложенной полезной модели, отражатель выполнен в виде зеркала, состоящего из основы, выполненной из дифторида кальция, на поверхность которой нанесена пленка родия, источник лазерного излучения выполнен с возможностью формирования потока лазерного излучения в виде пучка лучей, расстояние 1 между которыми составляет (5÷10)·λ длины волны излучения λ, устройство дополнительно снабжено полупрозрачным зеркалом и устройством обращения волнового фронта, выполненным в виде закрытого полого цилиндра, наполненного газообразным метаном под давлением от 5 до 10 атмосфер.
Технический результат, достижение которого обуславливается реализацией всей заявляемой совокупностью признаков, состоит в том, что обеспечивается возможность повышения производительности нанесения нанодорожек на подложку.
Сущность полезной модели поясняется на фиг.1, где показано устройство для формирования нанодорожек на подложке.
Устройство для формирования нанодорожек на подложке (фиг.1) содержит источник лазерного излучения 2, отражатель 3, подложкодержатель 4, закрепленный на пьезоприводе 5, зеркало 7, устройство обращения 10 волнового фронта, выполненного в виде полого цилиндра 11, наполненного газообразным метаном 12 под давлением, и полупрозрачное зеркало 13.
2
Источник лазерного излучения 2 выполнен с возможностью формирования потока лазерного излучения в виде пучка лучей 6, расстояние 1 между которыми составляет (5÷10)·λ длины волны излучения λ. Получить такой поток лучей можно, например, используя в источнике сетчатую пластину. Зеркало 7 включает основу из дифторида кальция (CaF) 8, на которую нанесена пленка родия (Rh) 9.
Устройство для формирования нанодорожек на подложке (фиг.1) работает следующим образом.
2
Лазерное излучение от источника 2, падая на отражатель 3, попадает в среду с нерегулярными неоднородностями зеркала 7, где отражается от пленки родия 9 и основы из дифторида кальция (CaF) 8, образуя интерференционную картину. Затем оно проходит сквозь полупрозрачное зеркало 13. Расходящиеся неоднородные пучки лучей 6 попадают в полый цилиндр 11 с газообразным метаном 12, меняют направление на противоположное, т.е. происходит обращение волнового фронта лазерного излучения.
Лазерное излучение, проходя через среду с газообразным метаном 12 устройства обращения волнового фронта 10, становится идеально направленным в соответствии с эффектом Мандельштама-Бриллюэна. Тем самым искажения волнового фронта, появившиеся после прохождения отражателя 3, компенсируются при прохождении пучком лучей устройства обращения волнового фронта 10.
Подложкодержатель 4 закрепленный на пьезоприводе 5 обеспечивает возможность ориентации подложки 1 перпендикулярно падающему излучению от зеркала 13.
Использование эффекта обращения волнового фронта обеспечивает создание высоконаправленных пучков, компенсируя искажения по всей трассе прохождения пучка лучей 6.
Применение предлагаемого устройства для формирования нанодорожек на подложке позволяет обеспечить возможность повышения производительности устройства при нанесении нанодорожек на подложку.