СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СВЕРХПРОВОДЯЩЕГО ИЗДЕЛИЯ

2
1. Способ изготовления сверхпроводящего изделия, включающий формирование металлической основы с заданной геометрией, нанесение на ее наружную поверхность многослойного покрытия, состоящего из защитного слоя из хрома или молибдена, на который наносят сверхпроводящий слой из ниобия или станнида ниобия, а также теплопроводного медного слоя и стабилизирующего слоя, при этом один из слоев покрытия является опорным, и, по крайней мере, один из слоев наносят электрохимическим осаждением, удаление металлической основы и защитного слоя с раскрытием поверхности сверхпроводящего слоя и ее электролитическое полирование смесью серной и плавиковой кислот, отличающийся тем, что электрохимическим осаждением наносят все слои покрытия, на сверхпроводящий слой последовательно наносят стабилизирующий и теплопроводный слои, причем теплопроводный слой выполняют опорным, а в качестве материала стабилизирующего слоя используют тантал или его сплав с ниобием, защитный слой перед нанесением на него сверхпроводящего слоя подвергают механическому полированию, после электролитического полирования сверхпроводящего слоя изделие подвергают отжигу в вакууме, при этом электрохимическое осаждение сверхпроводящего слоя ведут из расплава солей галогенидов щелочных металлов и солей ниобия или ниобия и олова при температуре 750-850°С и катодной плотности тока 100-500 А/м, а отжиг в вакууме производят при температуре 500-900°С.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве материала защитного слоя дополнительно используют вольфрам.
3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что защитный и стабилизирующий слой наносят осаждением из расплавов солей, а теплопроводный слой - осаждением из водного электролита.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что механическое полирование защитного слоя ведут до обеспечения чистоты поверхности не более 0,1 мкм.
2
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что электролитическое полирование поверхности сверхпроводящего слоя ведут водным раствором смеси серной и плавиковой кислот с массовой концентрацией соответственно 86-89% и 1-2% при анодной плотности тока 3000-5000 А/м и температуре 20-50°С до обеспечения чистоты поверхности не более 0,05 мкм.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве материала металлической основы используют никель, кобальт, медь или сплав этих металлов.
7. Способ по п.1, отличающийся тем, что металлическую основу формируют штамповкой.