СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ПРОТЯЖЕННЫХ МАССИВОВ НАНОСТРУКТУР, ОДНОРОДНЫХ ТОНКИХ ПЛЕНОК И НАНОПОРОШКОВ

1. Способ формирования протяженных массивов наноструктур, однородных тонких пленок и нанопорошков путем воздействия на образец лазерного излучения через зазор между подложкой и образцом, осаждение наночастиц на подложке, отличающийся тем, что селекцию наночастиц производят, варьируя параметрами лазерного излучения.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что однородный слой наночастиц получают путем изменения расстояния между подложкой и образцом.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что наночастицы получают в атмосфере воздуха.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве образца используют материал с наноструктурированной поверхностью.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве образца используют нанопористый материал (мезопористые материалы, нанопористый углерод).
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют непрозрачные подложки, в которых для прохождения лазерного излучения выполнено отверстие.
7. Способ по п.1, отличающийся тем, что осаждают молекулярные слои, используя одну и ту же подложку.