ТВЕРДОТЕЛЬНОЕ УСТРОЙСТВО ЗАХВАТА ИЗОБРАЖЕНИЙ И СПОСОБ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТВЕРДОТЕЛЬНОГО УСТРОЙСТВА ЗАХВАТА ИЗОБРАЖЕНИЙ

1. Способ для изготовления твердотельного устройства захвата изображений, которое включает в себя:
- подложку, включающую в себя блок фотоэлектрического преобразования, и
- волновод, скомпонованный на подложке, причем волновод соответствует блоку фотоэлектрического преобразования и включает в себя сердечник и оболочку, при этом способ содержит:
- первый этап и второй этап,
- причем на первом этапе и втором этапе элемент, который должен быть сформирован в сердечник, формируют в отверстии в оболочке посредством высокоплотного плазмохимического осаждения из паровой фазы, и
- причем после первого этапа на втором этапе элемент, который должен быть сформирован в сердечник, формируют посредством высокоплотного плазмохимического осаждения из паровой фазы при условиях, в которых соотношение радиочастотной мощности на стороне задней поверхности подложки к радиочастотной мощности на стороне лицевой поверхности подложки превышает соотношение на первом этапе.
2. Способ по п.1,
- в котором элемент, который должен быть сформирован в сердечник, содержит нитрид кремния, и
- на первом этапе и втором этапе подают газовую смесь, которая содержит кремнийсодержащий газ, азот, азотсодержащий газ и инертный газ.
3. Способ по п.1, в котором элемент, сформированный на первом этапе, имеет толщину 10-50 нм.
4. Способ по п.1, дополнительно содержащий:
- третий этап, на котором формируют элемент, который должен быть сформирован в сердечник в отверстии,
- при этом третий этап выполняют между первым этапом и вторым этапом при условии, в котором соотношение радиочастотной мощности на стороне задней поверхности подложки к радиочастотной мощности на стороне лицевой поверхности подложки при высокоплотном плазмохимическом осаждении из паровой фазы устанавливают равным значению, которое является промежуточным между значением соотношения на первом этапе и значением соотношения на втором этапе.
5. Способ по п.1, дополнительно содержащий:
- после второго этапа осуществляют этап травления, на котором частично удаляют элемент, который должен быть сформирован в сердечник.
6. Способ по п.1,
- в котором элемент, сформированный на втором этапе, содержит нитрид кремния, содержащий соединения Si-H и соединения N-H, и
- в котором нитрид кремния имеет соотношение соединений N-H к соединениям Si-H, т.е. соединения N-H/соединения Si-H, равное 1,0-10.
7. Способ по п.1, в котором на втором этапе скорость осаждения от нижней поверхности отверстия в направлении, перпендикулярном основной поверхности подложки, в 1,5-10 раз превышает скорость осаждения от боковой поверхности отверстия в направлении, параллельном основной поверхности подложки.
8. Способ по п.1,
- в котором отверстие имеет нижнюю поверхность с шириной L1, верхнюю поверхность с шириной L2 и боковую поверхность с углом наклона α к основной поверхности подложки, причем верхняя поверхность имеет высоту больше нижней поверхности равную H, и
- в котором отверстие удовлетворяет L1<L2, H/L2≤2 и 72,8°<α<90°.
9. Способ по п.2,
- в котором на втором этапе инертный газ содержит, по меньшей мере, гелий, и
- в котором давление в камере устройства для формирования элемента, который должен быть сформирован в сердечник, находится в диапазоне 3-10 мторр.
10. Способ по п.1,
- в котором первый этап выполняют посредством плоскопараллельного плазмохимического осаждения из паровой фазы, и
- в котором второй этап выполняют посредством высокоплотного плазмохимического осаждения из паровой фазы.
11. Твердотельное устройство захвата изображений, содержащее:
- подложку, включающую в себя блок фотоэлектрического преобразования, и
- волновод, скомпонованный на подложке, причем волновод соответствует блоку фотоэлектрического преобразования и включает в себя сердечник и оболочку,
- при этом сердечник содержит нитрид кремния, содержащий соединения Si-H и соединения N-H, и
- причем нитрид кремния имеет соотношение соединений N-H к соединениям Si-H, т.е. соединения N-H/соединения Si-H, равное 1,0-10.
12. Твердотельное устройство захвата изображений по п.11, в котором нитрид кремния сердечника простирается к верхней части оболочки.
13. Способ для изготовления твердотельного устройства захвата изображений, которое включает в себя:
- подложку, включающую в себя блок фотоэлектрического преобразования, и
- волновод, скомпонованный на подложке, причем волновод соответствует блоку фотоэлектрического преобразования и включает в себя сердечник и оболочку, при этом способ содержит:
- этап, на котором заполняют отверстие в оболочке с сердечником посредством высокоплотного плазмохимического осаждения из паровой фазы,
- при этом при высокоплотном плазмохимическом осаждении из паровой фазы скорость осаждения от нижней поверхности отверстия в направлении, перпендикулярном основной поверхности подложки, в 1,5-10 раз превышает скорость осаждения от боковой поверхности отверстия в направлении, параллельном основной поверхности подложки.
14. Твердотельное устройство захвата изображений, содержащее:
- подложку, включающую в себя блок фотоэлектрического преобразования, и
- волновод, скомпонованный на подложке, причем волновод соответствует блоку фотоэлектрического преобразования и включает в себя сердечник и оболочку,
- при этом сердечник имеет нижнюю поверхность с шириной L1, верхнюю поверхность с шириной L2 и боковую поверхность с углом наклона α к основной поверхности подложки, причем верхняя поверхность имеет высоту больше нижней поверхности равную H, и
- при этом сердечник удовлетворяет L1<L2, H/L2≤2 и 72,8°<α<90°.
15. Способ для изготовления твердотельного устройства захвата изображений, которое включает в себя:
- подложку, включающую в себя блок фотоэлектрического преобразования, и
- волновод, скомпонованный на подложке, причем волновод соответствует блоку фотоэлектрического преобразования и включает в себя сердечник и оболочку, при этом способ содержит:
- первый этап и второй этап,
- причем на первом этапе и втором этапе элемент, который должен быть сформирован в сердечник, формируют в отверстии в оболочке посредством высокоплотного плазмохимического осаждения из паровой фазы, и
- причем на втором этапе элемент, который должен быть сформирован в сердечник, формируют при условиях, в которых соотношение эффекта напыления к эффекту осаждения является высоким по сравнению с первым этапом.