СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПРЕЦИЗИОННОГО ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКОГО РИСУНКА НА ЦИЛИНДРИЧЕСКУЮ ПОВЕРХНОСТЬ ОПТИЧЕСКОЙ ДЕТАЛИ И ПРИСПОСОБЛЕНИЕ ДЛЯ КОНТРАКТНОГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЯ ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

1. Способ нанесения прецизионного фотолитографического рисунка на цилиндрическую поверхность оптической детали, включающий нанесение хромового покрытия на подложку из оптического стекла вакуумным напылением, нанесение капельным способом слоя позитивного фоторезиста на рабочую поверхность вращающейся подложки, размещенной в центрифуге, сушку и термообработку до полной полимеризации слоя фоторезиста и контактное экспонирование изображения с фотошаблона путем совмещения и фиксации его с рабочей поверхностью полученной заготовки и последующую засветку слоя фоторезиста от источника ультрафиолетового излучения до полной полимеризации слоя фоторезиста, отличающийся тем, что подложки, имеющие заданный радиус кривизны устанавливают симметрично в оправе центрифуги путем совмещения рабочей поверхности каждой подложки с внутренней боковой поверхностью оправы и при экспонировании изображения на рабочую поверхность полученной заготовки оптической детали используют фотошаблон, изготовленный из гибкого полимерного материала, которому при изгибании придают форму заготовки, а засветку слоя фоторезиста осуществляют диафрагмированным световым потоком от экранированного источника ультрафиолетового излучения цилиндрической формы, который располагают соосно с рабочей поверхностью заготовки.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что фотошаблон изготавливают из полиэтилентерефталата.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что диафрагмирование светового потока осуществляют под углом 120° относительно центральной оси источника УФ-излучения.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что сушку и термообработку заготовки оптической детали проводят в термостате при температуре 90°С в течение 30 мин.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что засветку рабочей поверхности заготовки от источника ультрафиолетового излучения проводят в течение 30 мин при мощности источника 8 Вт.
6. Приспособление для контактного экспонирования изображения для осуществления способа по п.1, включающее средство для совмещения и фиксации фотошаблона с рабочей поверхностью заготовки оптической детали и источник УФ-излучения, расположенный над фотошаблоном для засветки фоторезистивного слоя заготовки, отличающийся тем, что средство для совмещения и фиксации фотошаблона с рабочей поверхностью заготовки оптической детали содержит металлический корпус, в верхней части которого выполнен ложемент для размещения на нем заготовки оптической детали с заданным радиусом кривизны, совмещенной и зафиксированной вместе с фотошаблоном из полимерного гибкого материала радиальным прижимом, в котором вдоль его продольной оси выполнено окно для засветки слоя фоторезиста, а в нижней боковой части радиальный прижим снабжен с обеих сторон бобышками с отверстиями для его закрепления с боковыми стенками корпуса, который в верхней части снабжен для фиксации заготовки оптической детали двумя съемными упорами, имеющими винтовые крепления с корпусом, а источник УФ-излучения имеет цилиндрическую форму, снабжен экраном, в котором выполнена по всей его длине диафрагма с апертурой 120° и расположен соосно с ложементом корпуса.
7. Приспособление по п.6, отличающийся тем, что источник УФ-излучения закреплен на штативе, установленном на корпусе.
8. Приспособление по п.6 или 7, отличающийся тем, что источник УФ-излучения имеет мощность 8 Вт.
9. Приспособление по п.6, отличающийся тем, что радиальный прижим выполнен из фторопласта.