Способ нанесения покрытий путем плазменного напыления и устройство для его осуществления

2
1. Способ ионно-плазменного напыления покрытий на изделия в вакууме, характеризующийся тем, что изделия размещают внутри плазменного устройства, содержащего мишень из распыляемого материала, и путем наложения сконфигурированного электрического и магнитного полей в условиях тлеющего плазменного разряда осуществляют сжатие плазменного потока и его локальную фокусировку в центре вершины мишени с образованием на ее поверхности локального плазменного пятна в пределах 1 мм.
2. Устройство для ионно-плазменного напыления покрытий на изделия, характеризующееся тем, что оно включает размещаемую внутри вакуумной камеры и заполняемую в процессе работы плазмообразующим газом плазменную ячейку, образованную между двумя паралелльно расположенными пластинами и содержащую расположенные соосно катод, мишень из распыляемого материала, анод и фокусирующие электроды, при этом катод выполнен в виде стержневого держателя мишени, напыляемые изделия закреплены в одном из фокусирующих электродов, а катод с мишенью установлены внутри полого цилиндрического магнита, имеющего осевую намагниченность.