ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ МОДУЛЬ СО СТАБИЛИЗИРОВАННЫМ ПОЛИМЕРОМ

1. Фотоэлектрический модуль, включающий:
базовую подложку;
фотоэлектрическое устройство, расположенное в контакте с указанной базовой подложкой и содержащее металлический компонент;
поли(винилбутиральный) слой, расположенный в контакте с указанным фотоэлектрическим устройством и включающий 1Н-бензотриазол или соль 1Н-бензотриазола; и
защитную подложку, расположенную в контакте с указанным поли(винилбутиральным) слоем.
2. Модуль по п.1, отличающийся тем, что указанное фотоэлектрическое устройство является тонкопленочным фотоэлектрическим устройством.
3. Модуль по п.2, отличающийся тем, что указанный поли(винилбутиральный) слой включает от 0,001 до 5 весовых процентов 1Н-бензотриазола.
4. Модуль по п.2, отличающийся тем, что указанный поли(винилбутиральный) слой включает от 0,1 до 0,4 весовых процентов 1Н-бензотриазола.
5. Модуль по п.2, отличающийся тем, что указанный поли(винилбутиральный) слой включает от 1 до 5 весовых процентов 1Н-бензотриазола.
6. Модуль по п.2, отличающийся тем, что указанный поли(винилбутиральный) слой дополнительно включает фенольный антиоксидант.
7. Модуль по п.2, отличающийся тем, что указанным металлом является висмут, медь, кадмий, свинец, олово, цинк, серебро, золото, индий, палладий, платина, алюминий, сурьма, хром, железо, никель, родий, тантал, титан или ванадий.
8. Модуль по п.2, отличающийся тем, что указанным металлом является серебро.
9. Модуль по п.2, отличающийся тем, что указанный металлический компонент используется в качестве проводящего слоя.
10. Полимерный промежуточный слой, включающий поли(винилбутиральный) лист, включающий от 0,001 до 5 весовых процентов 1Н-бензотриазола.
11. Промежуточный слой по п.10, отличающийся тем, что указанный поли(винилбутиральный) лист включает от 0,1 до 0,4 весовых процентов 1Н-бензотриазола.
12. Промежуточный слой по п.10, отличающийся тем, что указанный поли(винилбутиральный) лист включает от 1 до 5 весовых процентов 1Н-бензотриазола.
13. Промежуточный слой по п.10, отличающийся тем, что указанный поли(винилбутиральный) лист дополнительно включает фенольный антиоксидант.
14. Многослойный ламинат, включающий
первую подложку;
металлический компонент, расположенный в контакте с указанной первой подложкой;
поли(винилбутиральный) слой, расположенный в контакте с указанным металлическим компонентом и включающий 1Н-бензотриазол или соль 1Н-бензотриазола; и
вторую подложку, расположенную в контакте с указанным поли(винилбутиральным) слоем.
15. Многослойный ламинат по п.14, отличающийся тем, что указанный поли(винилбутиральный) лист включает от 0,1 до 0,4 весовых процентов 1Н-бензотриазола.
16. Многослойный ламинат по п.14, отличающийся тем, что указанный поли(винилбутиральный) лист включает от 1 до 5 весовых процентов 1Н-бензотриазола.
17. Многослойный ламинат по п.14, отличающийся тем, что указанный поли(винилбутиральный) лист включает от 0,001 до 5 весовых процентов 1Н-бензотриазола.
18. Многослойный ламинат по п.14, отличающийся тем, что указанный поли(винилбутиральный) лист дополнительно включает фенольный антиоксидант.
19. Способ получения фотоэлектрического модуля, включающий:
создание базовой подложки;
формование фотоэлектрического устройства на указанной базовой подложке, содержащего металлический компонент;
размещение поли(винилбутирального) слоя в контакте с указанным фотоэлектрическим устройством, при этом указанный поли(винилбутиральный) слой включает 1Н-бензотриазол или соль 1Н-бензотриазола;
размещение защитной подложки в контакте с указанным поли(винилбутиральным) слоем; и
ламинирование указанной базовой подложки, указанного фотоэлектрического устройства, указанного поли(винилбутирального) слоя и указанной защитной подложки для получения указанного модуля.