УСТРОЙСТВО ДЛЯ ГЕНЕРИРОВАНИЯ ПАРА

1. Устройство для генерирования пара, содержащее:
поверхность (24) испарения,
нагреватель (26), расположенный рядом с поверхностью испарения, для нагревания поверхности испарения,
впуск (19) для воды, расположенный относительно поверхности испарения так, что вода подается на поверхность испарения из впуска для воды и образует пленку на поверхности испарения, так что пленка испаряется с поверхности испарения, и
участок (23) сбора накипи, расположенный так, что во время использования устройства накипь, отделившаяся от поверхности испарения, сваливается с поверхности испарения в участок сбора накипи,
причем устройство выполнено так, что регулирование потока воды через впуск (19) для воды и на поверхность (24) испарения осуществляется в зависимости от температуры поверхности (24) испарения, так что, по существу, вся вода, подаваемая на поверхность испарения, испаряется с поверхности испарения, не стекая с поверхности испарения в участок (23) сбора накипи.
2. Устройство по п. 1, в котором поверхность (24) испарения и участок (23) сбора накипи расположены так, что поверхность испарения наклонена к участку сбора накипи.
3. Устройство по п. 1, дополнительно содержащее корпус (14, 15, 34), в котором образована паровая камера (17), причем поверхность (24) испарения образована на элементе (22) испарения, который проходит в паровую камеру от одной стороны корпуса, и участок (23) сбора накипи образован в пределах паровой камеры рядом с элементом испарения.
4. Устройство по п. 1, в котором впуск (19) для воды выполнен с возможностью подачи воды в два или более участков поверхности (24) испарения.
5. Устройство по п. 4, в котором впуск (19) для воды выполнен с возможностью подачи воды попеременно в два или более участков поверхности (24) испарения.
6. Устройство по п. 1, в котором поверхность испарения имеет профиль, которому придана форма для получения заданной паропроизводительности.
7. Устройство по п. 6, в котором поверхность (24) испарения содержит криволинейный или куполообразный профиль.
8. Устройство по п. 7, в котором поверхность (24) испарения содержит один или несколько участков с углубленными элементами.
9. Устройство по п. 1, в котором поверхность (24) испарения содержит стенку с изменяющейся толщиной так, что, когда поверхность испарения подвергается нагреванию или охлаждению во время использования, термическое расширение будет вызывать нерегулярное изменение размера и формы поверхности испарения, чтобы отделять накипь от поверхности испарения.
10. Устройство по п. 1, дополнительно содержащее камеру (37) сбора накипи и канал, расположенный так, что, когда устройство поворачивается из рабочего положения, в котором вода подается на поверхность (24) испарения, в исходное положение, в котором вода не подается на поверхность испарения, накипь, отделившаяся от поверхности испарения, будет перемещаться вдоль канала из участка сбора накипи в камеру сбора накипи, которая выполнена с возможностью удерживания накипи.
11. Устройство по п. 10, в котором камера (37) сбора накипи выполнена с возможностью открытия, чтобы позволять пользователю удалять накипь из камеры сбора накипи.
12. Устройство для подачи пара на предмет, содержащее устройство для генерирования пара по любому предыдущему пункту.
13. Способ генерирования пара, включающий этапы, на которых предусматривают устройство, содержащее впуск (19) для воды, поверхность (24) испарения и нагреватель (26), расположенный рядом с поверхностью испарения, для нагревания поверхности испарения, причем впуск для воды расположен относительно поверхности испарения так, что вода подается на поверхность испарения из впуска и образует пленку на поверхности испарения, и так, что пленка испаряется с поверхности испарения, и так, что во время использования устройства накипь, отделившаяся от поверхности испарения, сваливается с поверхности испарения в участок сбора накипи, причем способ включает этап, на котором управляют потоком воды через впуск для воды на поверхность испарения в зависимости от температуры поверхности испарения, так что, по существу, вся вода, подаваемая на поверхность испарения, испаряется с поверхности испарения, не стекая с поверхности испарения в участок сбора накипи.