УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВЫРАВНИВАНИЯ МАТЕРИАЛОВ В ПОРОШКОВОЙ ИЛИ ГРАНУЛИРОВАННОЙ ФОРМЕ

1. Устройство для выравнивания материалов в порошковой или гранулированной форме, содержащее опорную плоскость (2), предназначенную для приема по меньшей мере слоя (L) материала в порошковой или гранулированной форме, имеющего толщину (S), отличающееся тем, что:
содержит выравниватель (5, 6), расположенный над опорной плоскостью (2), причем опорная плоскость (2) и выравниватель (5, 6) выполнены с возможностью перемещения относительно друг друга в продольном направлении (X), при этом
выравниватель (5, 6) имеет первый элемент (5), расположенный на первой высоте (H1), которая меньше толщины (S) слоя (L), и предназначенный для взаимодействия с поверхностным слоем (L1) указанного слоя (L) и подъема указанного поверхностного слоя (L1) на высоту, которая больше толщины (S), без образования скопления материала, и при этом
выравниватель (5, 6) имеет второй элемент (6), размещенный ниже по ходу движения относительно первого элемента (5) и расположенный на второй высоте (Н2) с обеспечением взаимодействия с поверхностным слоем (L1).
2. Устройство по п. 1, в котором вторая высота (Н2) больше или равна первой высоте (H1).
3. Устройство по п. 1, в котором вторая высота (Н2) больше или равна толщине (S) слоя (L).
4. Устройство по п. 1, в котором выравниватель (5, 6) выполнен с возможностью перемещения по меньшей мере в направлении, перпендикулярном опорной плоскости (2).
5. Устройство по п. 1, в котором первый элемент (5) и второй элемент (6) выполнены с возможностью перемещения в горизонтальном и/или вертикальном направлении относительно друг друга.
6. Устройство по п. 1, в котором второй элемент (6) содержит нижний край (61), расположенный на второй высоте (Н2) над опорной плоскостью (2), при этом первый элемент (5) и указанный нижний край (61) лежат в горизонтальных плоскостях, причем первый элемент (5) и указанный нижний край (61) расположены под наклоном относительно продольного направления (X) в соответствующих горизонтально лежащих плоскостях, причем наклон не перпендикулярен продольному направлению (X).
7. Устройство по п. 1, в котором выравниватель (5, 6) содержит вибрационные средства.
8. Устройство по п. 1, в котором второй элемент (6) содержит барьерный элемент (60), нижний край (61) которого расположен на второй высоте (Н2) над опорной плоскостью (2).
9. Устройство по п. 8, в котором барьерный элемент (60) лежит в плоскости, наклон которой может быть отрегулирован относительно плоскости, перпендикулярной опорной плоскости (2).
10. Устройство по п. 1, в котором первый элемент (5) содержит проволочный элемент (51).
11. Устройство по п. 1, в котором опорная плоскость (2) выполнена с возможностью перемещения вдоль продольного направления (X), а выравниватель (5, 6) является неподвижным, или наоборот.
12. Способ распределения слоя материала в порошковой или гранулированной форме, включающий следующие этапы:
распределение слоя (L) материала в порошковой или гранулированной форме, имеющего толщину (S), на опорной плоскости (2),
расположение первого элемента (5) на первой высоте (H1), которая меньше толщины (S) указанного слоя (L),
расположение второго элемента (6) на второй высоте (Н2), которая больше или равна первой высоте (H1),
приведение в действие опорной плоскости (2) и первого и второго элементов (5, 6) с обеспечением относительного скользящего движения вдоль продольного направления (X),
поднимание поверхностного слоя (L1) заданной толщины с указанного слоя (L) посредством первого элемента (5),
выравнивание поверхностного слоя (L1) посредством второго элемента (6).
13. Способ по п. 12, в котором при поднимании поверхностного слоя (L1) перемещают продвигающийся слой (L) со скоростью, обеспечивающей отклонение кверху поверхностного слоя (L1) при вхождении указанного слоя (L1) в контакт с первым элементом (5), а выравнивание поверхностного слоя (L1) происходит до того, как этот слой (L1) снова ляжет на слой (L).
14. Способ по п. 12, в котором при поднимании поверхностного слоя (L1) перемещают первый и второй элементы (5, 6) со скоростью продвижения, обеспечивающей отклонение кверху поверхностного слоя (L1) при вхождении указанного слоя (L1) в контакт с первым элементом (5), а выравнивание поверхностного слоя (L1) происходит до того, как этот слой (L1) снова ляжет на слой (L).