СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЛОКАЛИЗАЦИИ ИСТОЧНИКА ДЕФЕКТА ТОНКОСЛОЙНОЙ СИСТЕМЫ, ОСАЖДЕННОЙ НА ПОДЛОЖКУ

1. Способ локализации в линии осаждения (2), содержащей последовательность камер (15-i), источника дефекта в тонкослойной системе, осажденной на подложку (3) в указанных камерах, где каждый тонкий слой материала осаждается в одной или нескольких последовательных камерах (15-i) линии осаждения, и частицы мусора, остающиеся на поверхности тонкого слоя, осажденного в камере, действуют как маски при последующем осаждении тонких слоев и являются источником дефектов, причем указанный способ включает:
- стадию (E10, F10, G10, H10) получения по меньшей мере одного изображения, демонстрирующего указанный дефект, полученного по меньшей мере одной системой оптического контроля, находящейся на выходе линии осаждения;
- стадию (E20, F30, G20, H20) определения, исходя из указанного, по меньшей мере одного изображения, признака дефекта, причем этот признак содержит по меньшей мере одну репрезентативную характеристику дефекта; и
- стадию (E40, F50, G40, H40) идентификации по меньшей мере одной камеры линии осаждения, которая могла быть источником дефекта, исходя из признака дефекта и используя эталонные признаки, ассоциированные с камерами линии осаждения.
2. Способ по п. 1, причем осаждение тонких слоев на подложку (3) проводится в линии осаждения (2) посредством катодного напыления с поддержкой магнитного поля.
3. Способ по п. 1 или 2, причем подложка (3) является прозрачной подложкой из минерального стекла или из полимерного органического материала.
4. Способ по любому из пп. 1-3, причем стадия идентификации включает этап сравнения признака дефекта с совокупностью эталонных признаков, ассоциированных с камерами линии осаждения, причем указанная, по меньшей мере одна, камера, идентифицированная как способная быть источником дефекта, ассоциируется с признаком, соответствующим признаку дефекта.
5. Способ по любому из пп. 1-4, причем:
- указанное, по меньшей мере одно, изображение содержит полутоновое изображение (IMR), снятое в отражении, и признак дефекта содержит характеристику, связанную с коэффициентом отражения дефекта, который определен из изображения, полученного в отражении; и/или
- указанное, по меньшей мере одно, изображение содержит полутоновое изображение (IMT), сделанное в пропускании, и признак дефекта содержит характеристику, связанную с коэффициентом пропускания дефекта, который определен из изображения, полученного в пропускании.
6. Способ по п. 5, причем указанный коэффициент определяется с использованием способа последовательного размывания, примененного к дефекту, показанному в полутоновом изображении.
7. Способ по п. 5 или 6, дополнительно включающий:
- стадию определения градиента изменения коэффициента и
- стадию детектирования формы дефекта на основе определенного градиента изменения.
8. Способ по любому из пп. 5-7, включающий стадию обнаружения наличия светлого кольца по периметру дефекта, показанного на указанном, по меньшей мере одном, изображении, причем признак дефекта содержит характеристику, отражающую это присутствие.
9. Способ по любому из пп. 1-8, причем указанное, по меньшей мере одно, изображение содержит два полутоновых изображения, полученные указанной, по меньшей мере одной, оптической системой с использованием двух источников излучения, излучающих в двух по меньшей мере частично отличающихся диапазонах длин волн.
10. Способ по любому из пп. 1-4, причем:
- указанное, по меньшей мере одно, изображение содержит изображение, кодированное в основных цветах (RGB-изображение), снятое в отражении или в пропускании;
- кроме того, способ включает стадию преобразования (F10) RGB-изображения в цветовое пространство L*a*b*; и
- признак дефекта содержит компоненты a* и b* базовой поверхности дефекта, определенные из преобразованного изображения.
11. Способ по п. 10, причем признак дефекта включает дополнительно компонент дефекта L*, который определен из преобразованного изображения.
12. Способ по любому из пп. 1-4, причем указанное, по меньшей мере одно, изображение содержит гиперспектральное изображение, и признак дефекта содержит спектр, представляющий значения коэффициента отражения или коэффициента пропускания базовой поверхности дефекта как функцию длины волны.
13. Способ по п. 12, причем каждый эталонный признак, ассоциированный с камерой линии осаждения, содержит совокупность спектров, соответствующих разным толщинам слоя, осажденного в указанной камере.
14. Способ по любому из пп. 1-13, причем эталонные признаки, ассоциированные с камерами линии осаждения, определяют экспериментально (E00, F00, G00) путем постукивания по каждой камере, чтобы образовать в каждой камере частицы мусора в результате постукивания.
15. Способ по любому из пп. 1-3, причем стадия идентификации (H40) включает применение (H30) метода машинного обучения к признаку дефекта, и причем указанный метод обучения основан на модели (H00), обучаемой с использованием эталонных признаков, ассоциированных с камерами линии осаждения.
16. Способ по п. 1 или 15, причем признак дефекта, определенный из указанного, по меньшей мере одного, изображения, содержит по меньшей мере одну характеристику интенсивности свечения дефекта и/или характеристику, относящуюся к форме дефекта.
17. Способ по п. 16, причем указанная, по меньшей мере одна, характеристика интенсивности свечения дефекта включает:
- характеристики, отражающие радиальный профиль интенсивности свечения дефекта, и/или
- характеристики, отражающие крутизну радиального профиля интенсивности свечения дефекта, и/или
- характеристику, отражающую среднюю интенсивность свечения дефекта, и/или
- характеристику, отражающую интенсивность свечения в центре дефекта.
18. Способ по п. 16 или 17, причем указанная, по меньшей мере одна, характеристика, относящаяся к форме дефекта, содержит:
- характеристику, отражающую площадь дефекта, и/или
- характеристику, отражающую отношение периметра дефекта к площади дефекта, и/или
- характеристику, отражающую коэффициент формы дефекта.
19. Способ по любому из пп. 1-18, причем тонкослойная система образует интерференционную систему.
20. Способ по любому из пп. 1-19, причем эталонные признаки, ассоциированные с камерами линии осаждения, зависят от параметризации линии осаждения во время осаждения тонких слоев на подложку.
21. Машиночитаемый носитель записи, на котором хранится компьютерная программа, содержащая инструкции для исполнения стадий способа локализации по любому из пп. 1-20, когда указанная программа выполняется компьютером.
22. Устройство (6) локализации источника дефекта тонкослойной системы, осажденной на подложку (3) в совокупности камер, следующих друг за другом в линии осаждения (2), где каждый тонкий слой материала осаждается в одной или более последовательных камерах (15-i) линии осаждения, и частицы мусора, остающиеся на поверхности тонкого слоя, осажденного в камере, действуют как маски при последующем осаждении тонких слоев и являются источником дефектов, причем указанное устройство содержит:
- модуль (6A) получения по меньшей мере одного изображения, показывающего указанный дефект, полученного по меньшей мере одной системой оптического контроля, размещенной на выходе линии осаждения;
- модуль (6B) определения, исходя из указанного, по меньшей мере одного, изображения, признака дефекта, причем этот признак включает по меньшей мере одну репрезентативную характеристику дефекта; и
- модуль (6C) идентификации по меньшей мере одной камеры линии осаждения, ответственной за возникновение дефекта, исходя из признака дефекта и используя эталонные признаки, ассоциированные с камерами линии осаждения.
23. Система (1) осаждения тонкослойной системы на подложку, содержащая:
- линию осаждения (2), содержащую последовательность камер (15-i), способных осаждать тонкослойную систему на подложку (3), где каждый тонкий слой материала осаждается в одной или более последовательных камерах (15-i) линии осаждения, и частицы мусора, остающиеся на поверхности тонкого слоя, осажденного в камере, действуют как маски при последующем осаждении тонких слоев и являются источником дефектов;
- по меньшей мере одну систему оптического контроля (4), размещенную на выходе линии осаждения и способную выдавать по меньшей мере одно изображение, показывающее дефект тонкослойной системы, осажденной на подложку; и
- устройство локализации (6) по п. 22, способное идентифицировать среди последовательности камер линии осаждения по меньшей мере одну камеру, которая может быть источником дефекта.