Способ выращивания нитевидных нанокристаллов диоксида кремния

4
2
2
Способ выращивания нитевидных нанокристаллов диоксида кремния, включающий подготовку монокристаллической кремниевой пластины путем нанесения на ее поверхность мелкодисперсных частиц металла-катализатора с последующим помещением в ростовую печь, нагревом и осаждением кремния из газовой фазы, содержащей SiCl, Н и О, по схеме пар→жидкая капля→кристалл с последующим его окислением, отличающийся тем, что для реакции образования оксида , Me - металл, О - кислород, n и m - индексы, катализатор выбирают из ряда металлов, имеющих количественные значения логарифма упругости диссоциации  при температуре 1000 K более -36,1, причем частицы металла-катализатора выбирают с диаметрами менее 100 нм, а температуру процесса выращивания устанавливают в интервале 1000-1300 K.