ВЫСОКОЧИСТЫЙ ГРАНУЛИРОВАННЫЙ ДИОКСИД КРЕМНИЯ ДЛЯ ПРИМЕНЕНИЯ В ОБЛАСТЯХ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ КВАРЦЕВОГО СТЕКЛА

1. Высокочистый гранулированный диоксид кремния, отличающийся тем, что содержание в нем щелочных металлов составляет от 0,01 до 10,0 част./млн, содержание щелочноземельных металлов составляет от 0,01 до 10,0 част./млн, содержание бора составляет от 0,001 до 1,0 част./млн, содержание фосфора составляет от 0,001 до 1,0 част./млн, определяемый по сорбции азота объем пор составляет от 0,01 до 1,5 мл/г и максимальный размер пор составляет от 5 до 500 нм.
2. Высокочистый гранулированный диоксид кремния по п. 1, отличающийся тем, что максимальный размер пор составляет от 5 до 200 нм.
3. Высокочистый гранулированный диоксид кремния по п. 1 или 2, отличающийся тем, что определяемый по сорбции азота объем пор составляет от 0,01 до 1,0 мл/г.
4. Высокочистый гранулированный диоксид кремния по п. 1 или 2, отличающийся тем, что определяемый по сорбции азота объем пор составляет от 0,01 до 0,6 мл/г.
5. Высокочистый гранулированный диоксид кремния по п. 1 или 2, отличающийся тем, что содержание в нем углерода составляет от 0,01 до 40,0 част./млн.
6. Высокочистый гранулированный диоксид кремния по п. 1 или 2, отличающийся тем, что содержание в нем хлора составляет от 0,01 до 100,0 част./млн.
7. Высокочистый гранулированный диоксид кремния по п. 1 или 2, отличающийся тем, что размеры его частиц лежат в пределах от 0,1 до 2000 мкм
8. Высокочистый гранулированный диоксид кремния по п. 1 или 2, отличающийся тем, что размеры его частиц лежат в пределах от 10 до 1000 мкм.
9. Высокочистый гранулированный диоксид кремния по п. 1 или 2, отличающийся тем, что размеры его частиц лежат в пределах от 100 до 800 мкм.
10. Изделие, изготовленное с применением высокочистого гранулированного диоксида кремния по одному из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что содержание связанных с кремнием OH-групп составляет от 0,1 до 150 част./млн.
11. Изделие по п. 10, отличающееся тем, что содержание связанных с кремнием OH-групп составляет от 0,1 до 80 част./млн.
12. Изделие по п. 10, отличающееся тем, что содержание связанных с кремнием OH-групп составляет от 0,1 до 60 част./млн.
13. Применение высокочистого гранулированного диоксида кремния по одному из пп. 1-9 для изготовления стеклоизделий, прежде всего для областей использования кварцевого стекла, чувствительных к наличию в нем примесей.
14. Способ получения высокочистого гранулированного диоксида кремния, заключающийся в том, что к содержащей подкислитель начальной среде со значением pH менее 2,0 добавляют раствор силиката, имеющий вязкость в пределах от 0,1 до 10000 пуаз, при условии, что значение pH в процессе такого добавления всегда остается ниже 2,0, после чего полученный диоксид кремния по меньшей мере однократно обрабатывают кислой промывочной средой, значение pH которой составляет менее 2,0, а затем его в промытом до нейтральной реакции состоянии подвергают щелочной обработке и в завершение отделяют фракцию частиц размером от 200 до 1000 мкм и подвергают ее спеканию при температуре по меньшей мере 600°C.
15. Способ по п. 14, при осуществлении которого значение pH содержащей подкислитель начальной среды составляет менее 1,5.
16. Способ по п. 14, при осуществлении которого значение pH содержащей подкислитель начальной среды составляет менее 1,0.
17. Способ по п. 14, при осуществлении которого значение pH содержащей подкислитель начальной среды составляет менее 0,5.
18. Способ по одному из пп. 14-17, при осуществлении которого вязкость добавляемого раствора силиката составляет от 0,4 до 1000 пуаз.
19. Способ по одному из пп. 14-17, при осуществлении которого вязкость добавляемого раствора силиката составляет более 5 пуаз.
20. Способ по одному из пп. 14-17, при осуществлении которого вязкость добавляемого раствора силиката составляет менее 2 пуаз.
21. Способ по одному из пп. 14-17, при осуществлении которого значение pH в процессе добавления раствора силиката всегда составляет менее 1,5, а значение pH промывочной среды также составляет менее 1,5.
22. Способ по одному из пп. 14-17, при осуществлении которого значение pH в процессе добавления раствора силиката всегда составляет менее 1,0, а значение pH промывочной среды также составляет менее 1,0.
23. Способ по одному из пп. 14-17, при осуществлении которого значение pH в процессе добавления раствора силиката всегда составляет менее 0,5, а значение pH промывочной среды также составляет менее 0,5.
24. Способ по одному из пп. 14-17, при осуществлении которого диоксид кремния до щелочной обработки промывают до нейтральной реакции до тех пор, пока проводимость используемой для этого полностью обессоленной воды не станет ниже 100 мкСм, предпочтительно ниже 10 мкСм.
25. Способ по одному из пп. 14-17, при осуществлении которого щелочную обработку диоксида кремния проводят азотсодержащим основанием.
26. Способ по п. 25, при осуществлении которого в качестве азотсодержащего основания используют аммиак.
27. Способ по п. 25, при осуществлении которого используют азотсодержащее основание, которое представляет собой или содержит первичный амин и/или вторичный амин и/или третичный амин.
28. Способ по одному из пп. 14-17, 26, 27, при осуществлении которого щелочную обработку проводят при повышенной температуре и/или при повышенном давлении.
29. Способ по одному из пп. 14-17, 26, 27, при осуществлении которого диоксид кремния после щелочной обработки промывают полностью обессоленной водой, сушат и измельчают.
30. Способ по одному из пп. 14-17, 26, 27, при осуществлении которого отделяют фракцию частиц размером в пределах от 200 до 600 мкм.
31. Способ по одному из пп. 14-17, 26, 27, при осуществлении которого отделяют фракцию частиц размером в пределах от 200 до 400 мкм.
32. Способ по одному из пп. 14-17, 26, 27, при осуществлении которого отделяют фракцию частиц размером в пределах от 250 до 350 мкм.
33. Способ по одному из пп. 14-17, 26, 27, при осуществлении которого спекание отделенной фракции частиц проводят при температуре по меньшей мере 1000°C.
34. Способ по одному из пп. 14-17, 26, 27, при осуществлении которого спекание отделенной фракции частиц проводят при температуре по меньшей мере 1200°C.