СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ДИФРАКЦИОННЫХ ОПТИЧЕСКИХ ЭЛЕМЕНТОВ

-3
4
1. Способ изготовления дифракционных оптических элементов на субстрате, включающий нанесение фоторезистного слоя на субстрат, операции сушки, экспонирования, проявления пленок, их термозадубливание и реактивное или плазмохимическое травление субстрата смесью газов через маскирующий слой термозадубленного фоторезиста, отличающийся тем, что в качестве фоторезиста используют термостойкую светочувствительную композицию поли(о-гидроксиамида) на основе 3,3'-дигидрокси-4,4'-диаминодифенилметана и изофталоилхлорида со светочувствительными производными 1,2-нафтохинондиазида, нанесение фоторезиста осуществляют на субстрат, нагретый до 80-90°С, сушку фоторезистного слоя проводят при 90±10°С в течение 30-40 мин, термозадубливание проводят в вакууме ((2-4)·10 мм рт.ст.) при плавном повышении температуры от 200 до 370°С в течение 10-15 мин с последующей выдержкой при 370°С в течение 30 мин, а ионное и реактивное плазмохимическое травление осуществляют смесью газов: SiCl+Ar, фреон 12 + кислород.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что соотношение газов в смеси фреон 12: кислород - 75%:25%.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве субстрата используют GaAs, InP, стекло (марка К8).
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что плазмохимическое травление осуществляют при температуре субстрата 280-320°С.