СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ПЛЕНОК ФОТОННЫХ КРИСТАЛЛОВ (ФК) НА ПОДЛОЖКАХ

2
1. Способ формирования пленок фотонных кристаллов (ФК) на подложках, расположенных вертикально в суспензии, содержащей монодисперсные микросферы коллоидных частиц, отличающийся тем, что в качестве монодисперсных микросфер используют коллоидные частицы из полистирола, полиметилметакрилата или SiO, осаждают их из суспензии на проводящие подложки при повышенной температуре и одновременном подведении к подложкам контролируемой разности потенциалов с помощью потенциостата.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве проводящих подложек используют ITO (indium tin oxid), стекло с напыленной пленкой золота и др.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что процесс ведут при разности потенциалов 1В, что способствует более равномерному осаждению микросфер на поверхности электрода.