ПРОТИВОЭЛЕКТРОД ДЛЯ ЭЛЕКТРОХРОМНЫХ УСТРОЙСТВ

1. Способ изготовления электрохромной стопы, включающий:
образование катодно окрашиваемого слоя, содержащего катодно окрашиваемый электрохромный материал; и
образование анодно окрашиваемого слоя, содержащего оксид никеля-вольфрама-тантала (NiWTaO).
2. Способ по п. 1, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 3:1.
3. Способ по п. 2, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 2,5:1.
4. Способ по п. 3, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,8:1 до 2,5:1.
5. Способ по п. 4, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 2:1 до 2,5:1.
6. Способ по п. 2, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 2:1 до 3:1.
7. Способ по п. 1, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,1:1 до 6:1.
8. Способ по п. 7, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,2:1 до 5:1.
9. Способ по п. 8, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,2:1 до 1:1.
10. Способ по п. 8, согласно которому NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 1:1 до 2:1.
11. Способ по п. 1, согласно которому образование анодно окрашиваемого слоя включает распыление одной или более мишеней для распыления с образованием NiWTaO.
12. Способ по п. 11, согласно которому по меньшей мере одна из указанных одной или более мишеней для распыления содержит элементарный металл, выбранный из группы, состоящей из никеля, вольфрама и тантала.
13. Способ по п. 11, согласно которому по меньшей мере одна из указанных одной или более мишеней для распыления содержит сплав, содержащий два или более металлов, выбранных из группы, состоящей из никеля, вольфрама и тантала.
14. Способ по п. 11, согласно которому по меньшей мере одна из указанных одной или более мишеней для распыления содержит оксид.
15. Способ по п. 1, согласно которому анодно окрашиваемый слой является по существу аморфным.
16. Способ по п. 1, согласно которому катодно окрашиваемый слой и анодно окрашиваемый слой выполняют в прямом физическом контакте друг с другом без отдельного слоя ионного проводника, нанесенного между ними.
17. Способ по п. 1, согласно которому анодно окрашиваемый слой содержит два или более подслоя, которые имеют разные составы и/или морфологии.
x
18. Способ по п. 1, согласно которому катодно окрашиваемый электрохромный материал содержит оксид вольфрама (WO).
19. Способ по п. 18, согласно которому x меньше, чем 3,0.
20. Способ по п. 19, согласно которому x составляет по меньшей мере примерно 2,7.
21. Способ по п. 1, согласно которому катодно окрашиваемый слой содержит двойной слой или градуированный слой, причем часть катодно окрашиваемого слоя является суперстехиометрической по отношению к кислороду.
22. Электрохромная стопа, содержащая:
катодно окрашиваемый слой, содержащий катодно окрашиваемый материал; и
анодно окрашиваемый слой, содержащий оксид никеля-вольфрама-тантала (NiWTaO).
23. Электрохромная стопа по п. 22, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 3:1.
24. Электрохромная стопа по п. 23, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 2,5:1.
25. Электрохромная стопа по п. 24, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,8:1 до 2,5:1.
26. Электрохромная стопа по п. 25, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 2:1 до 2,5:1.
27. Электрохромная стопа по п. 23, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 2:1 до 3:1.
28. Электрохромная стопа по п. 22, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,1:1 до 6:1.
29. Электрохромная стопа по п. 28, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,2:1 до 5:1.
30. Электрохромная стопа по п. 29, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,2:1 до 1:1.
31. Электрохромная стопа по п. 29, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 1:1 до 2:1.
32. Электрохромная стопа по п. 22, в которой анодно окрашиваемый слой является по существу аморфным.
33. Электрохромная стопа по п. 22, в которой анодно окрашиваемый слой содержит аморфную матрицу первого материала, имеющую области второго материала, рассеянного по всей аморфной матрице.
34. Электрохромная стопа по п. 22, в которой катодно окрашиваемый слой находится в прямом физическом контакте с анодно окрашиваемым слоем.
35. Электрохромная стопа по п. 22, в которой анодно окрашиваемый слой содержит два или более подслоя, имеющих различные составы и/или морфологии.
x
36. Электрохромная стопа по п. 22, в которой катодно окрашиваемый материал содержит оксид вольфрама (WO).
37. Электрохромная стопа по п. 36, в которой x меньше, чем 3,0.
38. Электрохромная стопа по п.37, в которой x составляет по меньшей мере примерно 2,7.
39. Электрохромная стопа по п. 22, в которой катодно окрашиваемый слой содержит двойной слой или градуированный слой, причем часть катодно окрашиваемого слоя является суперстехиометрической по отношению к кислороду.
40. Комплексная система для нанесения покрытий при изготовлении электрохромной стопы, содержащая:
множество установок для нанесения покрытий, выровненных последовательно, соединенных между собой и выполненных с возможностью работы для пропускания подложки от одной установки к следующей без открытия подложки воздействию внешней среды, причем указанное множество установок для нанесения покрытий содержит
(i) первую установку для нанесения покрытий, содержащую один или более источников материалов для нанесения катодно окрашиваемого слоя;
(ii) вторую установку для нанесения покрытий, содержащую один или более источников материалов для нанесения анодно окрашиваемого слоя, содержащего оксид никеля-вольфрама-тантала (NiWTaO); и
контроллер, содержащий программные инструкции для пропускания подложки через указанное множество установок таким образом, чтобы обеспечить нанесение на подложку (i) катодно окрашиваемого слоя и (ii) анодно окрашиваемого слоя с образованием стопы, содержащей по меньшей мере катодно окрашиваемый слой и анодно окрашиваемый слой.
41. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 3:1.
42. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 41, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 2,5:1.
43. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 42, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,8:1 до 2,5:1.
44. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 43, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 2:1 до 2,5:1.
45. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 41, в которой NiWTaO имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 2:1 до 3:1.
46. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,1:1 до 6:1.
47. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 46, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,2:1 до 5:1.
48. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 47, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,2:1 до 1:1.
49. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 48, в которой NiWTaO имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 1:1 до 2:1.
50. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой по меньшей мере один из указанных одного или более источников материалов для нанесения анодно окрашиваемого слоя содержит элементарный металл, выбранный из группы, состоящей из: никеля, вольфрама и тантала.
51. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой по меньшей мере один из указанных одного или более источников материалов для нанесения анодно окрашиваемого слоя содержит сплав, содержащий два или более металлов, выбранных из группы, состоящей из: никеля, вольфрама и тантала.
52. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой по меньшей мере один из указанных одного или более источников материалов для нанесения анодно окрашиваемого слоя содержит оксид.
53. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, которая выполнена с возможностью нанесения анодно окрашиваемого слоя в виде по существу аморфного материала.
54. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, которая выполнена с возможностью нанесения катодно окрашиваемого слоя и анодно окрашиваемого слоя в прямом физическом контакте друг с другом.
55. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой контроллер содержит программные инструкции для нанесения анодно окрашиваемого слоя в виде двух или более подслоев, имеющих различные составы и/или морфологии.
x
56. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой катодно окрашиваемый слой содержит оксид вольфрама (WO).
57. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 56, в которой x меньше, чем 3,0.
58. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 57, в которой x составляет по меньшей мере примерно 2,7.
59. Комплексная система для нанесения покрытий по п. 40, в которой катодно окрашиваемый слой содержит двойной слой или градуированный слой, причем часть катодно окрашиваемого слоя является суперстехиометрической по отношению к кислороду.
60. Композиция веществ, содержащая:
(a) никель;
(b) вольфрам;
(c) тантал и
(d) кислород, причем
композиция имеет атомное отношение Ni:(W+Ta), которое составляет примерно от 1,5:1 до 3:1, и
композиция имеет атомное отношение W:Ta, которое составляет примерно от 0,1:1 до 6:1.
61. Композиция по п. 60, в которой атомное отношение Ni:(W+Ta) составляет примерно от 1,5:1 до 3:1.
62. Композиция по п. 61, в которой атомное отношение Ni:(W+Ta) составляет примерно от 1,5:1 до 2,5:1.
63. Композиция по п. 62, в которой атомное отношение Ni:(W+Ta) составляет примерно от 1,8:1 до 2,5:1.
64. Композиция по п. 63, в которой атомное отношение Ni:(W+Ta) составляет примерно от 2:1 до 2,5:1.
65. Композиция по п. 61, в которой атомное отношение Ni:(W+Ta) составляет примерно от 2:1 до 3:1.
66. Композиция по п. 60, в которой атомное отношение W:Ta составляет примерно от 0,1:1 до 6:1.
67. Композиция по п. 66, в которой атомное отношение W:Ta составляет примерно от 0,2:1 до 5:1.
68. Композиция по п. 67, в которой атомное отношение W:Ta составляет примерно от 0,2:1 до 1:1.
69. Композиция по п. 68, в которой атомное отношение W:Ta составляет примерно от 1:1 до 2:1.
70. Композиция по п. 60, выполненная в слое, имеющем толщину примерно между 50-650 нм.
71. Композиция по п. 60, которая образована посредством распыления одной или более мишеней для распыления.
72. Композиция по п. 60, которая становится окрашенной в ответ на приложенный анодный потенциал.
73. Композиция по п. 60, которая является аморфной.
74. Композиция по п. 60, которая выполнена в виде аморфной матрицы с распределенными в ней нанокристаллами.
75. Композиция по п. 74, в которой нанокристаллы имеют средний диаметр примерно 50 нм или менее.
76. Композиция по п. 75, в которой нанокристаллы имеют средний диаметр примерно между 1-10 нм.