КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ХИМИКО-МЕХАНИЧЕСКОЙ ПОЛИРОВКИ (СМР), СОДЕРЖАЩАЯ НЕИОННОЕ ПОВЕРХНОСТНО-АКТИВНОЕ ВЕЩЕСТВО И АРОМАТИЧЕСКОЕ СОЕДИНЕНИЕ, СОДЕРЖАЩЕЕ ПО МЕНЬШЕЙ МЕРЕ ОДНУ КИСЛОТНУЮ ГРУППУ

1. Композиция для химико-механической полировки, содержащая
(A) неорганические частицы, органические частицы или их смесь или композит, где частицы находятся в форме кокона,
(B) неионное поверхностно-активное вещество,
(C) ароматическое соединение, содержащее на ароматическое кольцо по меньшей мере одну кислотную группу (Y) и по меньшей мере одну другую функциональную группу (Z), которая отлична от кислотной группы (Y), и
(М) водную среду.
2. Композиция по п. 1, где ароматическое соединение (С) содержит по меньшей мере одно бензольное кольцо и содержит на бензольное кольцо по меньшей мере одну группу карбоновой кислоты (-СООН) или ее депротонированную форму и по меньшей мере одну другую функциональную группу (Z), которая отлична от кислотной группы (Y).
3. Композиция по п. 1, где ароматическое соединение (С) представляет собой бензолкарбоновую кислоту, содержащую меньшей мере две группы карбоновой кислоты (-СООН), или ее соли, и по меньшей мере одну другую функциональную группу (Z), которая отлична от кислотной группы (-СООН).
3
3
4. Композиция по п. 1, где другая функциональная группа (Z) представляет собой сложноэфирную (-COOR), гидроксильную, алкокси, алкильную, арильную, алкиларильную, арилалкильную, нитро, амино, тио или галогеновую составляющую и отлична от кислотной группы (Y), где R представляет собой алкил, арил, алкиларил или арилалкил.
5. Композиция по п. 1, дополнительно содержащая (Е) окисляющий агент.
6. Композиция по п. 1, дополнительно содержащая (D) спирт.
7. Композиция по п. 1, дополнительно содержащая (F) ингибитор коррозии.
8. Композиция по п. 1, где частицы (А) представляют собой частицы диоксида кремния в форме кокона.
9. Композиция по п. 1, где неионное поверхностно-активное вещество (В) представляет собой амфифильное неионное поверхностно-активное вещество, содержащее полиоксиалкиленовую группу.
10. Композиция по любому одному из пп. 1-9, где значение рН композиции находится в интервале от 8 до 12.
11. Композиция для химико-механической полировки, содержащая
(A) частицы диоксида кремния в форме кокона,
(B) амфифильное неионное поверхностно-активное вещество, содержащее полиоксиалкиленовую групп,
(C) бензолкарбоновую кислоту, содержащую меньшей мере одну группу карбоновой кислоты (-СООН), которая непосредственно ковалентно связана с бензольным кольцом, и по меньшей мере одну другую функциональную группу (Z), которая отлична от кислотной группы (-СООН), где функциональная группа (Z) представляет собой гидроксильную группу, или ее соль,
(D) спирт, имеющий по меньшей мере две гидроксильные группы, которые являются не диссоциирующими в водной среде,
(E) окисляющий агент,
(F) ингибитор коррозии и
(М) водную среду.
12. Способ получения полупроводниковых устройств, включающий химико-механическую полировку подложки в присутствии композиции по любому одному из пп. 1-11.
13. Применение композиции по любому одному из пп. 1-11 для химико-механической полировки подложки, применяемой в полупроводниковой промышленности.
14. Применение по п. 13, где подложка содержит
(i) медь и/или
(ii) тантал, нитрид тантала, титан, нитрид титана, рутений, кобальт или их сплавы.