СМЕСИТЕЛЬНЫЕ СИСТЕМЫ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯ В ПУНКТАХ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ И СООТВЕТСТВУЮЩИЕ СПОСОБЫ

1. Смесительная система для поддержания ванны химического раствора при желаемых концентрациях, содержащая:
смесительный блок, выполненный с возможностью приема и смешивания, по меньшей мере, двух химических соединений и доставления раствора, включающего смесь соединений с выбранными концентрациями, в, по меньшей мере, один резервуар, который поддерживает выбранный объем ванны химического раствора; и
контроллер, выполненный с возможностью поддержания, по меньшей мере, одного соединения в пределах выбранного диапазона концентрации в ванне химического раствора, при этом контроллер выполнен с возможностью управления, по меньшей мере, одним из:
работой смесительного блока для поддержания концентрации, по меньшей мере, одного соединения в пределах выбранного диапазона концентрации в растворе, доставленном в резервуар; и
изменением скорости потока раствора, поступающего в резервуар и выходящего из резервуара, когда концентрация, по меньшей мере, одного соединения в ванне химического раствора выходит за пределы целевого диапазона.
2. Система по п.1, в которой смесительный блок непрерывно доставляет раствор в резервуар в ходе работы системы.
3. Система по п.1, в которой контроллер выполнен с возможностью увеличивать скорость потока раствора из смесительного блока в резервуар и способствовать увеличению скорости потока ванны химического раствора из резервуара для поддержания выбранного объема ванны раствора в резервуаре, когда концентрация, по меньшей мере, одного соединения в ванне химического раствора выходит за пределы целевого диапазона.
4. Система по п.3, в которой контроллер выполнен с возможностью управления манипулированием дренажным клапаном, соединенным с резервуаром, чтобы увеличить скорость потока ванны химического раствора из резервуара и поддерживать выбранный объем ванны химического раствора в резервуаре в ходе увеличения скорости потока раствора из смесительного блока в резервуар.
5. Система по п.3, также содержащая концентрационный датчик, сообщающийся с контроллером, при этом концентрационный датчик измеряет концентрацию, по меньшей мере, одного соединения ванны химического раствора, чтобы передать показание контроллеру, когда концентрация, по меньшей мере, одного соединения в ванне химического раствора выходит за пределы целевого диапазона.
6. Система по п.3, в которой контроллер выполнен с возможностью подавать раствор из смесительного блока в резервуар, содержащий, по меньшей мере, одно соединение в пределах выбранного диапазона концентрации в растворе, при первой скорости потока, когда концентрация, по меньшей мере, одного соединения в ванне химического раствора находится в пределах целевого диапазона, и контроллер выполнен с возможностью подавать раствор из смесительного блока в резервуар, содержащий, по меньшей мере, одно соединение в пределах выбранного диапазона концентрации в растворе, при второй скорости потока, которая больше, чем первая скорость потока, когда концентрация, по меньшей мере, одного соединения в ванне химического раствора находится за пределами целевого диапазона.
7. Система по п.6, также содержащая:
первый источник питания, который доставляет пероксид водорода к смесительному блоку; и
второй источник питания, который доставляет гидроксид аммония к смесительному блоку;
причем контроллер выполнен с возможностью контролировать доставку пероксида водорода и гидроксида аммония с выбранными концентрациями и при изменяющихся скоростях потока к смесительному блоку так, что смесительный блок подает раствор в резервуар при первой и второй скоростях потока, поддерживая в то же время пероксид водорода в пределах первого концентрационного диапазона и гидроксид аммония - в пределах второго концентрационного диапазона в растворе, доставленном в резервуар.
8. Система по п.7, в которой первая скорость потока равна не более, чем примерно 10 л/мин, и вторая скорость потока равна не более, чем примерно 20 л/мин.
9. Система по п.7, в которой контроллер выполнен с возможностью управления смесительным блоком и скоростями потока раствора в резервуар и ванны химического раствора из резервуара так, что пероксид водорода поддерживают в диапазоне примерно 1% первой целевой концентрации в ванне химического раствора, и гидроксид аммония поддерживают в диапазоне примерно 1% целевой концентрации в ванне химического раствора.
10. Система по п.9, в которой первая целевая концентрация пероксида водорода в ванне химического раствора равна примерно 5,5% по массе ванны химического раствора, и вторая целевая концентрация гидроксида аммония в ванне химического раствора равна примерно 1% по массе ванны химического раствора.
11. Система по п.7, дополнительно содержащая:
третий питающий источник, который доставляет третье соединение в ванну химического раствора, причем третье соединение разлагает, по меньшей мере, одно из соединений: пероксид водорода и гидроксид аммония.
12. Система по п.1, в которой смесительный блок выполнен с возможностью подавать смесь соединений с выбранными концентрациями к множеству резервуаров.
13. Система обработки полупроводников, содержащая:
средство для обработки полупроводников, содержащее резервуар, причем средство для обработки полупроводников выполнено с возможностью обработки полупроводникового компонента; и
смесительную систему, содержащую:
смесительный блок, выполненный с возможностью приема и смешивания, по меньшей мере, двух химических соединений и доставления раствора, включающего смесь соединений с выбранными концентрациями, в резервуар, причем резервуар удерживает выбранный объем ванны химического раствора; и
контроллер, выполненный с возможностью поддержания, по меньшей мере, одного соединения в пределах выбранного диапазона концентрации в ванне химического раствора, при этом контроллер управляет, по меньшей мере, одним из:
работой смесительного блока для поддержания концентрации, по меньшей мере, одного соединения в пределах выбранного диапазона концентрации в растворе, доставленном в резервуар; и
изменением скорости потока раствора, поступающего в резервуар и выходящего из резервуара, когда концентрация, по меньшей мере, одного соединения в ванне химического раствора выходит за пределы целевого диапазона.
14. Система по п.13, в которой смесительная система находится по существу в непосредственной близости к технологическому средству.
15. Способ подачи химического раствора в резервуар, включающий:
подачу, по меньшей мере, двух соединений в смесительный блок для образования смешанного раствора, по меньшей мере, двух соединений с выбранными концентрациями;
подачу смешанного раствора из смесительного блока в резервуар для образования ванны химического раствора в резервуаре, причем ванна химического раствора имеет выбранный объем; и
поддержание концентрации, по меньшей мере, одного соединения в ванне химического раствора в пределах выбранного диапазона концентрации посредством, по меньшей мере, одного из:
управления смесительным блоком для поддержания концентрации, по меньшей мере, одного соединения в пределах выбранного диапазона концентрации в растворе, доставленном в резервуар; и
изменения скорости потока раствора, поступающего в резервуар и выходящего из него, когда концентрация, по меньшей мере, одного соединения в ванне химического раствора выходит за пределы целевого диапазона.
16. Способ по п.15, при котором смесительный блок непрерывно доставляет раствор в резервуар во время работы системы.
17. Способ по п.16, при котором смесительным блоком управляют для увеличения скорости потока раствора из смесительного блока в резервуар, и скорость потока ванны химического раствора из резервуара увеличивают для поддержания выбранного объема ванны химического раствора в резервуаре, когда концентрация, по меньшей мере, одного соединения в ванне химического раствора выходит за пределы целевого диапазона.
18. Способ по п.17, при котором скорость потока ванны химического раствора из резервуара увеличивают за счет открытия дренажного клапана, соединенного с резервуаром.
19. Способ по п.17, дополнительно включающий:
измерение концентрации, по меньшей мере, одного соединения ванны химического раствора; и
автоматическое управление смесительным блоком и скоростью потока ванны химического раствора из резервуара, основанное на измеренной концентрации, по меньшей мере, одного соединения ванны химического раствора так, чтобы поддержать, по меньшей мере, одно соединение в ванне химического раствора в пределах выбранного диапазона концентрации.
20. Способ по п.17, при котором смесительный блок управляется, чтобы подавать раствор в резервуар, содержащий, по меньшей мере, одно соединение в пределах выбранного диапазона концентрации в растворе, при первой скорости потока, когда концентрация, по меньшей мере, одного соединения в ванне химического раствора находится в пределах целевого диапазона, и смесительный блок управляется, чтобы подавать раствор из смесительного блока в резервуар, содержащий, по меньшей мере, одно соединение в пределах выбранного диапазона концентрации в растворе, при второй скорости потока, которая больше, чем первая скорость потока, когда концентрация, по меньшей мере, одного соединения в ванне химического раствора находится за пределами целевого диапазона.
21. Способ по п.20, при котором подача, по меньшей мере, двух соединений в смесительный блок включает:
подачу в смесительный блок пероксида водорода; и
подачу в смесительный блок гидроксида аммония;
при этом доставка пероксида водорода и гидроксида аммония в смесительный блок и работа смесительного блока управляются таким образом, что раствор подают в резервуар с первой и второй скоростями потока, поддерживая в то же время пероксид водорода в пределах первого диапазона концентрации и гидроксид аммония - в пределах второго диапазона концентрации в растворе, доставленном в резервуар.
22. Способ по п.21, при котором первая скорость потока равна не более, чем примерно 10 л/мин, и вторая скорость потока равна не более, чем примерно 20 л/мин.
23. Способ по п.21, при котором смесительный блок и скорости потоков раствора в резервуар и ванны химического раствора из резервуара управляются так, что пероксид водорода поддерживают в пределах диапазона примерно 1% первой целевой концентрации в ванне химического раствора, и гидроксид аммония поддерживают в пределах диапазона примерно 1% второй целевой концентрации в ванне химического раствора.
24. Способ по п.21, при котором первая целевая концентрация пероксида водорода в ванне химического раствора равна примерно 5,5% по массе ванны химического раствора, и вторая целевая концентрация гидроксида аммония в ванне химического раствора равна примерно 1% по массе ванны химического раствора.
25. Способ по п.20, дополнительно включающий:
доставку третьего соединения в ванну химического раствора, где третье соединение разлагает, по меньшей мере, одно из соединений: пероксид водорода и гидроксид аммония.
26. Способ по п.15, при котором резервуар содержит средство обработки полупроводников.
27. Способ по п.26, при котором смесительный блок находится по существу в непосредственной близости к технологическому средству.