УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПЛАЗМЕННО-ИММЕРСИОННОЙ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ПРИ НИЗКОМ ДАВЛЕНИИ

1. Устройство для ионной имплантации, содержащее:,
- корпус, соединенный с насосным устройством;
- отрицательно поляризованный держатель подложки, размещенный в указанном корпусе; и
- плазмоподающее устройство, выполненное в форме по существу цилиндрического тела, проходящего между начальным участком и конечным участком, при этом указанное устройство содержит главную камеру, снабженную ионизационной ячейкой;
причем главная камера снабжена газоподводящим отверстием; а
конечный участок главной камеры снабжен средствами уменьшения напора для создания перепада давления относительно указанного тела;
отличающееся тем, что
плазмоподающее устройство дополнительно содержит вспомогательную камеру, размещенную вне конечного участка, а
вспомогательная камера сообщается с корпусом на конечном участке.
2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что вспомогательная камера снабжена второй ионизационной ячейкой.
3. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что объем плазмоподающего устройства меньше, чем объем корпуса.
4. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что конечный участок выполнен в виде перегородки с множеством отверстий.
5. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что конечный участок содержит проем, площадь которого меньше площади любого другого участка указанного тела, размещенного между начальным участком и конечным участком.
6. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что первая ионизационная ячейка содержит катушку возбуждения и удерживающую катушку.
7. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что ось держателя подложки и ось плазмоподающего устройства являются отдельными осями.
8. Устройство по п. 7, отличающееся тем, что держатель подложки и плазмоподающее устройство отстоят друг от друга с возможностью регулировки.
9. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что конечный участок выполнен с возможностью удаления.
10. Устройство по п. 1 или 2, содержащее по меньшей мере одно дополнительное плазмоподающее устройство.
11. Устройство по п. 1 или 2, содержащее:
- источник напряжения с заземленным положительным полюсом;
- конденсатор, соединенный параллельно с источником напряжения; и
- переключатель, соединенный между отрицательным полюсом источника напряжения и поворотной площадкой держателя подложки.
12. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что поворотная площадка держателя подложки выполненна с возможностью перемещенная путем вращения вокруг своей оси.
13. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что поворотная площадка держателя подложки выполнена в форме диска, а расстояние между поворотной площадкой держателя подложки и плазмоподающим устройством превышает диаметр держателя подложки.
14. Устройство по п. 1 или 2, отличающееся тем, что средства уменьшения напора электрически изолированы.