МИШЕНЬ ДЛЯ РАСПЫЛЕНИЯ, ИМЕЮЩАЯ УВЕЛИЧЕННУЮ ЭНЕРГЕТИЧЕСКУЮ СОВМЕСТИМОСТЬ

1. Источник покрытия в качестве обеспечения материалом для покрытия физическим осаждением из газовой фазы (PVD), включающий в себя:
a) пластину, удерживаемую в держателе, имеющую переднюю сторону пластины, заднюю сторону пластины, а также средство центрирования; передняя сторона пластины предназначена для преобразования материала покрытия с поверхности в газовую фазу во время процесса PVD, а средство центрирования выполнено с обеспечением центрирования пластины при различных температурах пластины;
b) охлаждающее устройство, предусмотренное на задней стороне пластины и снабженное закрытой охлаждающей пластиной, выполненной в виде подвижной диафрагмы; при этом для обеспечения хорошего термоконтакта между задней стороной пластины и диафрагмой к задней стороне пластины приклеена самоприклеивающаяся графитовая пленка,
причем на держателе и охлаждающем устройстве предусмотрены элементы байонетного крепления, обеспечивающие возможность прикрепления держателя с отцентрированной пластиной к охлаждающему устройству посредством байонетного крепления.
2. Источник покрытия по п. 1, отличающийся тем, что материал пластины имеет первый коэффициент теплового расширения α1, а материал держателя имеет второй коэффициент теплового расширения α2, где α1>α2.
3. Источник покрытия по п. 1 или 2, отличающийся тем, что в области края задней стороны пластины держатель имеет опорную поверхность для плоского основания пластины, а выше передней стороны пластины держатель имеет выемку так, что после того, как пластина вставлена в держатель, последний закрепляется посредством пружинящего стопорного кольца, которое защелкивается в выемке.
4. Источник покрытия по п. 1, в котором держатель выполнен из жесткой, термостабильной, немагнитной стали, предпочтительно стали 1,3974, которая куется и подвергается термообработке на твердый раствор при температуре 1020°C в течение одного часа.
5. Источник покрытия по п. 1, выполненный с возможностью снабжения средствами для присоединения к источнику напряжения, которые позволяют применить отрицательный потенциал к мишени относительно электрода, для обеспечения возможности использования мишени в качестве катода, а электрода в качестве анода.
6. Источник покрытия по п. 5, в котором анод размещен вокруг мишени и выполнен в виде анодного кольца.
7. Система физического осаждения из газовой фазы (PVD) по меньшей мере с одним источником покрытия по одному из пп. 1-6.