ТРЕХСЛОЙНАЯ ЗАЩИТНАЯ В ОТНОШЕНИИ УФ-ИЗЛУЧЕНИЯ ПЛЕНКА ДЛЯ ДЕКОРАТИВНЫХ ПЛИТ ИЗ СЛОИСТЫХ МАТЕРИАЛОВ, ФОРМУЕМЫХ ПРИ ПОВЫШЕННОМ ДАВЛЕНИИ (HPL)

1. Защитная в отношении УФ-излучения пленка, подходящая для нанесения слоями на плиты из слоистых материалов, формуемых при повышенном давлении (HPL), отличающаяся тем, что данная защитная пленка имеет снаружи во внутрь следующие слои, связанные друг с другом: слой A, содержащий фторполимер, слой B на основе PMMA, содержащий по меньшей мере один УФ-стабилизатор и/или поглотитель УФ-излучения, и слой C, содержащий по меньшей мере один усилитель адгезии и по меньшей мере один поли(мет)акрилат, где слой C можно наносить слоями на пропитанную смолой бумагу для получения HPL, а слои B и/или C содержат по меньшей мере один модификатор ударной прочности.
2. Защитная пленка по п. 1, отличающаяся тем, что толщина слоя A составляет от 1 мкм до 25 мкм, толщина слоя B составляет от 15 мкм до 125 мкм, а толщина слоя C составляет от 1 мкм до 25 мкм.
3. Защитная пленка по п. 1 или 2, отличающаяся тем, что слои B и C соответственно содержат по меньшей мере один УФ-стабилизатор и/или поглотитель УФ-излучения.
4. Защитная пленка по любому из пп. 1-3, отличающаяся тем, что два слоя B и C соответственно содержат материал на основе PMMA-матрицы и содержат модификаторы ударной прочности, и при этом модификаторы ударной прочности представляют собой частицы типа ядро-оболочка или ядро-оболочка-оболочка.
5. Защитная пленка по п.4, отличающаяся тем, что материал на основе PMMA-матрицы в слое B и поли(мет)акрилат в слое C представляют собой соответственно полимер, полученный посредством полимеризации композиции, включающей 80-100% по весу метилметакрилата и 0-20% по весу одного или более других этиленненасыщенных мономеров, способных к свободнорадикальной полимеризации, предпочтительно алкилакрилатов.
6. Защитная пленка по любому из пп. 1-5, отличающаяся тем, что слои B и необязательно C содержат для стабилизации от воздействия УФ-излучения HALS-соединения, а также триазины и/или бензотриазолы.
7. Защитная пленка по любому из пп. 1-6, отличающаяся тем, что фторполимер в слое A представляет собой PVDF, PVF, PETFE или PFEVE.
8. Защитная пленка по п. 7, отличающаяся тем, что фторполимер представляет собой главным образом аморфный PVDF со значением мутности меньше 5 или микрокристаллический PVDF со значением мутности меньше 5.
9. Защитная пленка по любому из пп. 1-8, отличающаяся тем, что слой A содержит исключительно PVDF и необязательные добавки.
10. Защитная пленка по любому из пп. 1-9, отличающаяся тем, что слой C содержит от 5 до 99% по весу, предпочтительно от 10 до 40% по весу усилителя адгезии.
11. Защитная пленка по любому из пп. 1-10, отличающаяся тем, что усилитель адгезии в слое C представляет собой сополимер, содержащий по меньшей мере один (мет)акрилат и один ангидрид и/или одну двухосновную кислоту, предпочтительно сополимер MMA, стирола и малеинового ангидрида.
12. Защитная пленка по любому из пп. 1-11, отличающаяся тем, что после процедуры прессования слой A имеет структуру на наружной стороне.
13. Способ получения защитной пленки по любому из пп. 1-12, отличающийся тем, что защитную пленку получают при помощи соэкструзии с применением адаптера, или многоканальной соэкструзии, или комбинации двух способов.
14. Применение защитной пленки по любому из пп. 1-11 для получения HPL, MPL или CPL.
15. Применение по п. 14, где защитная пленка напрессовывается непосредственно на пропитанный меламиновой смолой слой бумаги.
16. Применение по п. 14 или 15, где защитная пленка напрессовывается на пропитанную меламиновой смолой бумагу в прессе под давлением ≥5 МПа при температуре ≥120°C при времени цикла от 30 до 100 мин.
17. Применение по п. 16, где в прессе на стороне, противоположной слою A, находится структурированная поверхность.