РАСТВОР ДЛЯ ЛАЗЕРНО-ИНДУЦИРОВАННОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ ДИЭЛЕКТРИКОВ

1. Раствор для лазерно-индуцированной металлизации диэлектриков, включающий соль меди, восстановитель и поверхностно-активную добавку, отличающийся тем, что в качестве восстановителя применен низший алифатический спирт в концентрации водного раствора 0,05÷2 моль/л, а в качестве поверхностно-активной добавки используется полиоксиэтиленсорбитан (Твин 20÷80) в концентрации 0,01÷1 г/л.
2. Раствор по п.1, отличающийся тем, что в качестве низшего алифатического спирта использован метиловый спирт, в концентрации водного раствора 0,05÷2 моль/л.
3. Раствор по п.1. отличающийся тем, что в качестве низшего алифатического спирта использован этиловый спирт, в концентрации водного раствора 0,05÷2 моль/л.
4. Раствор по п.1, отличающийся тем, что в качестве низшего алифатического спирта использован н-пропиловый спирт, в концентрации водного раствора 0,05÷2 моль/л.
5. Раствор по п.1, отличающийся тем, что в качестве низшего алифатического спирта использован изопропиловый спирт, в концентрации водного раствора 0,05÷2 моль/л.
6. Раствор по п.1, отличающийся тем, что в качестве соли меди использован формиат меди(II) в концентрации водного раствора 0,02÷0,6 моль/л.
7. Раствор по п.1, отличающийся тем, что в качестве соли меди использован хлорид меди(II) в концентрации водного раствора 0,02÷0,04 моль/л.