ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНЫЙ СЛОЙ И СБОРКА СЛОЕВ

1. Устройство (10) очистки текучей среды, содержащее:
камеру (11) УФ-излучения, имеющую вход (12) текучей среды и выход (13) текучей среды, и
устройство (14) управления течением, скомпонованное в упомянутом входе (12) текучей среды или выходе (13) текучей среды, в котором упомянутое устройство (14) управления течением включает в себя фоточувствительный слой (20), который содержит первый домен (21), содержащий первый материал, содержащий молекулы, имеющие фоточувствительный фрагмент, в котором упомянутый первый домен (21) упомянутого фоточувствительного слоя (20) способен претерпевать обратимое геометрическое изменение, когда упомянутый фоточувствительный фрагмент подвергается фотоактивирующему освещению.
2. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором упомянутый первый материал содержит первую молекулярно-упорядоченную фазу.
3. Устройство очистки текучей среды по п.1 или 2, в котором упомянутое геометрическое изменение обеспечивает топографическое изменение упомянутого фоточувствительного слоя (20).
4. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором упомянутый первый домен (21) способен претерпевать обратимое геометрическое изменение, когда упомянутый фоточувствительный фрагмент не находится под действием фотоактивирующего освещения.
5. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором упомянутая первая молекулярно-упорядоченная фаза представляет собой нематическую фазу.
6. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором упомянутый фоточувствительный фрагмент представляет собой фрагмент, способный к фотоизомеризации.
7. Устройство очистки текучей среды по п.1, дополнительно содержащее второй домен (22), содержащий второй материал, который способен претерпевать обратимое геометрическое изменение, когда подвергается фотоактивирующему освещению.
8. Устройство очистки текучей среды по п.7, в котором упомянутый второй домен (22) содержит второй материал, который имеет вторую молекулярно-упорядоченную фазу, отличную от упомянутой первой молекулярно-упорядоченной фазы, содержащий молекулы, имеющие фоточувствительный фрагмент, в котором упомянутый второй домен (22) способен претерпевать геометрическое изменение, когда упомянутый фоточувствительный фрагмент упомянутого второго домена (22) подвергается фотоактивирующему освещению, в котором геометрическое изменение отличается от геометрического изменения упомянутого первого домена (21).
9. Устройство очистки текучей среды по п.1, в котором устройство (14) управления течением включает в себя фоточувствительную сборку (40) слоев, содержащую фоточувствительный слой и слой, пропускающий текучую среду, в котором фоточувствительный слой скомпонован в контакте с упомянутым пропускающим слоем, в котором под фотоактивирующим освещением упомянутый фоточувствительный слой способен к топографическому изменению, допускающему открытие по меньшей мере одного пути текучей среды, проходящего в обход упомянутого фоточувствительного слоя и упомянутого пропускающего слоя, допускающего течение, или увеличенное течение, текучей среды через упомянутую фоточувствительную сборку слоев.
10. Фоточувствительная сборка (40) слоев, содержащая
- слой (42), пропускающий текучую среду, и
- фоточувствительный слой (41) по любому из пп.1-9, скомпонованный в контакте с упомянутым пропускающим слоем (42),
в которой под фотоактивирующим освещением упомянутый фоточувствительный слой (41) способен к топографическому изменению, допускающему открытие по меньшей мере одного пути (45) текучей среды, проходящего в обход упомянутого фоточувствительного слоя (41) и упомянутого пропускающего слоя (42), допускающего течение, или увеличенное течение, текучей среды через упомянутую фоточувствительную сборку (40) слоев.
11. Способ для получения фоточувствительного слоя (41) по любому из пп.1-9, содержащий этапы, на которых:
- обеспечивают подложку (51),
- наносят композицию на упомянутую подложку, формируя слой (52) на подложке, при этом упомянутая композиция содержит мономеры, являющиеся и чувствительными к УФ-излучению, и способными к формированию молекулярно-упорядоченной фазы, и/или мономеры, являющиеся чувствительными к УФ-излучению, и мономеры, способные к формированию молекулярно-упорядоченной фазы, и фотоинициатор,
- избирательно полимеризуют первый домен (21) упомянутого слоя посредством фотополимеризации;
- перекомпоновывают упомянутые мономеры во втором домене (22) фоточувствительного слоя посредством нагрева, приложения электрического поля или внешнего магнитного поля; и
- допускают упомянутый второй домен (22) к полимеризации посредством фотополимеризации.
12. Способ для получения фоточувствительного слоя по любому из пп.1-10, содержащий этапы, на которых:
- обеспечивают прерывистый слой (61) на подложке (62),
- наносят композицию (63), содержащую мономер, являющийся фоточувствительным, и необязательно фотоинициатор, на по меньшей мере одну область упомянутой подложки, не покрытую упомянутым прерывистым слоем, формируя таким образом, упомянутый первый домен (21), и
- полимеризуют/допускают мономеры первого домена (21) к полимеризации, необязательно посредством фотополимеризации.