СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НАНОРАЗМЕРНЫХ ЧАСТИЦ, НАНОСТРУКТУИРОВАНИЯ, УПРОЧНЕНИЯ ПОВЕРХНОСТИ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО РЕАЛИЗАЦИИ

1. Способ получения наноразмерных частиц, наноструктуирования и упрочнения, заключающийся в лазерной абляции вещества в конденсированную среду путем облучения обрабатываемого вещества через слой диэлектрика, отличающийся тем, что, осуществляют непрерывный контроль термодинамических параметров зоны облучения, и управляют абляцией с поверхности облучаемого вещества путем контроля сброса давления от высокоэнергетического до метастабильного состояния, осуществляемого подбором толщины слоя диэлектрика и его физических свойств, таким образом, чтобы акустическая волна, отраженная от внешней поверхности диэлектрика, производила разгрузку высокоэнергетического состояния, при этом, приповерхностный слой нагретого материала попадает в область метастабильного состояния вещества, при котором происходит вынос паров обрабатываемого вещества в слой диэлектрика, и в нем образуется раствор наночастиц.
2. Устройство для получения наноразмерных частиц, наноструктуирования и упрочнения, содержащее: лазер, гомогенизатор, испарительную камеру с мишенью из обрабатываемого вещества и полупрозрачное зеркало, отличающееся тем, что на пути зеркально отраженного от мишени лазерного излучения, установлен фильтр второй гармоники и фотоприемник; на пути теплового излучения по нормали к мишени установлена линза и оптоволокно связанное со вторым фотоприемником, оба фотоприемника и пьезоэлемент подключены к многоканальному высокоскоростному запоминающему регистратору, под углом к лазерному пучку расположено полупрозрачное зеркало, в отраженном излучении которого установлен фотоприемник синхронизации, подключенный к синхронизирующему входу скоростного регистратора.
3. Устройство по п.2, отличающееся тем, что его испарительная камера состоит из коркорпуса, в котором находится пьезоэлемент с электродами, на котором расположена мишень обрабатываемого материала закрытая прозрачным диэлектриком.