СЛОИСТАЯ СТРУКТУРА С ЗАЩИТНЫМ СЛОЕМ И ОБЛУЧЕННЫМ ФОТОПОЛИМЕРНЫМ СЛОЕМ, СПОСОБ ЕЕ ПОЛУЧЕНИЯ, А ТАКЖЕ ПРИМЕНЕНИЕ ЭТОЙ СЛОИСТОЙ СТРУКТУРЫ

1. Слоистая структура с защитным слоем и облученным фотополимерным слоем, причем защитный слой может быть получен в результате взаимодействия по меньшей мере одной радиационно-отверждаемой смолы I), одной содержащей изоцианатные функциональные группы смолы II) и системы фотоинициаторов III), и в радиационно-отверждаемой смоле I) содержится ≤5 мас.% соединений со среднемассовой молекулярной массой < 500 и ≥75 мас.% соединений со среднемассовой молекулярной массой > 1000, в со держащей изоцианатные функциональные группы смоле II) содержится ≤ 5 мас.% соединений со среднемассовой молекулярной массой < 500, и в защитном слое содержится по меньшей мере до 80 мас.% радиационно-отверждаемой смолы I) и максимально до 15 мас.% содержащей изоцианатные функциональные группы смолы II).
2. Слоистая структура по п.1, отличающаяся тем, что фотополимерный слой содержит сшитые матричные полимеры А), которые могут получаться в результате взаимодействия по меньшей мере одного полиизоцианатного компонента а) и реакционноспособного в отношении изоцианатов компонента b), сшитые записывающие мономеры В), фотоинициатор С) и катализатор D).
3. Слоистая структура по п.1, отличающаяся тем, что радиационно-отверждаемая смола I) включает по меньшей мере одно содержащее сложные полиэфиры, простые полиэфиры, поликарбонаты и/или полиуретаны связующее вещество с группами, способными к радикальной полимеризации, причем в случае способных к радикальной полимеризации речь предпочтительно идет об акрильных, метакрильных, аллильных, винильных, малеинильных и/или фумарильных группах, особенно предпочтительно об акрильных и/или метакрильных группах и наиболее предпочтительно об акрильных группах.
4. Слоистая структура по п.1, отличающаяся тем, что радиационно-отверждаемая смола I) содержит по меньшей мере одно соединение из группы простых полиэфиракрилатов, сложных полиэфиракрилатов, алифатических уретанакрилатов, ароматических уретанакрилатов и эпоксиакрилатов и предпочтительно по меньшей мере один алифатический уретанакрилат и/или по меньшей мере один ароматический уретанакрилат.
5. Слоистая структура по п.1, отличающаяся тем, что в радиационно-отверждаемой смоле I) содержится ≤ 4 мас.% соединений со среднемассовой молекулярной массой < 500 и ≥ 77 мас.% соединений со среднемассовой молекулярной массой > 1000, а предпочтительно ≤ 3,5 мас.% соединений со среднемассовой молекулярной массой < 500 и ≥ 79 мас.% соединений со среднемассовой молекулярной массой > 1000.
6. Слоистая структура по п.1, отличающаяся тем, что смола с изоцианатными функциональными группами II) включает по меньшей мере одно алифатическое, арилалифатическое, или ароматическое изоцианатсодержащее связующее средство.
7. Слоистая структура по п.6, отличающаяся тем, что изоцианатсодержащее связующее средство представляет собой форполимер с изоцианатными функциональными группами, который предпочтительно может получаться в результате взаимодействия мультифункционального спирта с избытком диизоцианата.
8. Слоистая структура по п.1, отличающаяся тем, что смола с изоцианатными функциональными группами II) дополнительно содержит (мет)акрилатные группы.
9. Слоистая структура по п.1, отличающаяся тем, что в смоле с изоцианатными функциональными группами II) содержится ≤ 4 мас.% и особенно предпочтительной 3 масс. соединений со среднемассовой молекулярной массой < 500.
10. Слоистая структура по п.1, отличающаяся тем, что в защитном слое содержится ≥ 3 мас.% и ≤ 15 мас.% предпочтительно ≥ 5 мас.% и ≤ 15 мас.% и особенно предпочтительно ≥ 8 мас.% и ≤ 12 мас.% смолы с изоцианатными функциональными группами II).
11. Слоистая структура по одному из пп.1-10, отличающаяся тем, что система фотоинициаторов III) включает по меньшей мере одно соединение из группы 2-гидроксифенилкетонов, особенно 1-гидроксициклогексилфенилкетон, бензилкеталей, особенно бензил-диметилкеталь, ацилфосфиноксидов, особенно бис(2,4,6-триметилбензоил)фенилфосфиноксид, диацилфосфиноксидов, бензофенона и его производных.
12. Слоистая структура по п.2, отличающаяся тем, что записывающие мономеры В) представляют собой фотохимически сшитые акрилаты.
13. Слоистая структура по п.2, отличающаяся тем, что фотополимерный слой содержит добавки общей формулы (VII)
,
6
7
8
7
8
6
7
8
6
7
в которой m≥1, и m≤8, a R, R и R являются линейными, разветвленными, циклическими или гетероциклическими незамещенными или при необходимости также замещенными гетероатомами органическими остатками, и/или R, R независимо друг от друга являются атомами водорода, причем предпочтительно по меньшей мере один из остатков R, R, R является замещенным по меньшей мере одним атомом фтора, и особенно предпочтительно R является органическим остатком по меньшей мере с одним атомом фтора, особенно предпочтительно R представляет собой линейный, разветвленный, циклический или гетероциклический, незамещенный или также при необходимости замещенный гетероатомами, такими как, например, фтор, органический остаток.
14. Слоистая структура по п.2, отличающаяся тем, что в фотополимерном слое находится облученная голограмма.
15. Способ получения слоистой структуры по одному из пп.1-14, отличающийся тем, что на облученный фотополимерный слой наносится смесь, включающая по меньшей мере радиационно-отверждаемую смолу I), смолу с изоцианатными функциональными группами II) и систему фотоинициаторов III), и подвергается отверждению.
16. Применение слоистой структуры по одному из пп.1-14 в этикетке, в удостоверении, в банкноте, в печатном изделии, в оптической конструкции, в электронном дисплее, предпочтительно включающем по меньшей мере одну голограмму, которая была облучена внутри фотополимерного слоя.