СИСТЕМА ЭЛЕКТРОДОВ ДЛЯ УСТАНОВКИ ЭЛЕКТРОДИНАМИЧЕСКОЙ ФРАГМЕНТАЦИИ

1. Система электродов для установки электродинамической фрагментации, содержащая проходное отверстие (1) или проходной канал (2) для фрагментируемого материала (3) и одну или несколько пар электродов, посредством которых, за счет подачи на их электроды (4, 4a-4h, 5, 5a-5p) высоковольтных импульсов, внутри проходного отверстия (1) или проходного канала (2) могут генерироваться, соответственно, высоковольтные разряды для измельчения фрагментируемого материала (3), причем проходное отверстие (1) или проходной канал (2) выполнены таким образом и электроды (4, 4a-4h, 5, 5a-5p) пар электродов расположены в них таким образом, или проходное отверстие (1) или проходной канал (2) образованы посредством электродов (4, 4a-4h, 5, 5a-5p) пар электродов таким образом, что в зоне кратчайшей линии (L) соединения между электродами (4, 4a-4h, 5, 5a-5p) одной из пар электродов, в частности при прилегании, по меньшей мере, к одному из двух электродов (4, 4a-4h, 5, 5a-5р) пары электродов, через проходное отверстие (1) или проходной канал (2) может проходить сфера (K), диаметр которой больше, чем длина этой кратчайшей линии (L) соединения.
2. Система по п.1, в которой имеется несколько пар электродов, посредством которых, за счет подачи на их электроды (4, 4a-4h, 5, 5a-5р) высоковольтных импульсов, внутри проходного отверстия (1) или проходного канала (2) могут генерироваться соответственно высоковольтные разряды для измельчения фрагментируемого материала (3), причем проходное отверстие (1) или проходной канал (2) выполнены таким образом и электроды (4, 4a-4h, 5, 5a-5р) расположены в них таким образом, или проходное отверстие (1) или проходной канал (2) образованы посредством электродов (4, 4a-4h, 5, 5a-5р) таким образом, что у каждой пары электродов в зоне кратчайшей линии (L) соединения между электродами (4, 4a-4h, 5, 5a-5р) соответствующей пары электродов, в частности при прилегании, по меньшей мере, к одному соответственно из двух принадлежащих паре электродов, через проходное отверстие (1) или проходной канал (2) может проходить сфера (K), диаметр которой больше, чем длина этой соответствующей кратчайшей линии (L)соединения.
3. Система по п.1, в которой в направлении (S) прохождения соответственно с обеих сторон кратчайшей линии (L) соединения в зоне соответствующей кратчайшей линии (L) соединения, в частности, при прилегании, по меньшей мере, к одному из двух принадлежащих паре электродов (4, 4a-4h, 5, 5a-5p), через проходное отверстие (1) или проходной канал (2) может проходить сфера (K), диаметр которой больше, чем длина соответствующей кратчайшей линии (L) соединения.
4. Система по п.1, в которой диаметр сферы (K), которая в зоне соответствующей кратчайшей линии (L) соединения, в частности, при прилегании, по меньшей мере, к одному из двух принадлежащих паре электродов (4, 4a-4h, 5, 5a-5p), может проходить через проходное отверстие (1) или проходной канал (2) соответственно больше 1,2-кратной, в частности, 1,5-кратной длины этой кратчайшей линии (L) соединения.
5. Система по п.1, в которой проходное отверстие (1) или проходной канал (2) имеют округлую или многогранную, в частности, круглую основную форму или форму поперечного сечения, причем от внешних границ проходного отверстия (1) или проходного канала (2) в проходное отверстие (1) или в проходной канал (2) входят один или несколько, в частности, стержнеобразных или заостренных выступов (5a-5d) электродов, в частности, оставляя свободным центр проходного отверстия (1) или проходного канала (2).
6. Система по п.1, в которой проходное отверстие (1) или проходной канал (2) имеют кольцеобразную, в частности, круглую основную форму или форму поперечного сечения.
7. Система по п.6, в которой от внутренних границ и/или от внешних границ проходного отверстия (1) или проходного канала (2) в проходное отверстие (1) или в проходной канал (2) входят один или несколько, в частности, стержнеобразных или заостренных выступов (4a-4h; 5a-5р) электродов.
8. Система по п.5, в которой, в частности, стержнеобразные или заостренные выступы (4a-4h; 5a-5p) электродов входят в проходное отверстие (1) или в проходной канал (2) перпендикулярно предписанному направлению (S) прохождения или с наклоном в направлении, противоположном предписанному направлению (S) прохождения.
9. Система по п.7, в которой, в частности, стержнеобразные или заостренные выступы (4a-4h; 5a-5p) электродов входят в проходное отверстие (1) или в проходной канал (2) перпендикулярно предписанному направлению (S) прохождения или с наклоном в направлении, противоположном предписанному направлению (S) прохождения.
10. Система по п.7, в которой внутренние границы и/или внешние границы проходного отверстия (1) или проходного канала (2) образованы посредством корпуса (6, 7) изолятора, на котором располагаются отдельные выступы (4a-4h; 5a-5p) электродов.
11. Система по п.8, в которой внешние границы проходного отверстия (1) или проходного канала (2) образованы посредством корпуса (6, 7) изолятора, на котором располагаются отдельные выступы (4a-4h; 5a-5p) электродов.
12. Система по п.7, в которой от внутренних границ и от внешних границ проходного отверстия (1) или проходного канала (2) в проходное отверстие (1) или проходной канал (2) входят несколько стержнеобразных или заостренных выступов (4a-4d; 5a-5h) электродов, причем каждому из входящих в проходное отверстие (1) или в проходной канал (2) от внутренних границ выступу (4a-4d) электродов соответствуют, по меньшей мере, два из входящих в проходное отверстие (1) или в проходной канал (2) от внешних границ выступов (5a-5h) электродов.
13. Система по п.7, в которой от внутренних границ проходного отверстия (1) или проходного канала (2) в проходное отверстие (1) или в проходной канал (2) входят один или несколько, в частности, стержнеобразных или заостренных выступов (4a-4d) электродов, причем внешние границы проходного отверстия (1) или проходного канала (2) образованы посредством одного единственного, в частности, кольцеобразного электрода (5).
14. Система по п.7, в которой от внутренних границ проходного отверстия (1) или проходного канала (2) в проходное отверстие (1) или в проходной канал (2) входят несколько, в частности, стержнеобразных или заостренных выступов (4a-4h) электродов, части из которых или все они с наклоном в направлении, противоположном предписанному направлению (S) прохождения, входят в проходное отверстие (1) или в проходной канал (2), в частности, таким образом, что их свободные концы в аксиальном направлении выступают за пределы структуры, на которой располагаются эти выступы (4a-4h) электродов.
15. Система по п.6, в которой внутренние границы проходного отверстия (1) или проходного канала (2) образованы посредством одного единственного, в частности, дискообразного, стержнеобразного или сферического электрода (4).
16. Система по любому из пп.1-15, в которой система электродов имеет проходной канал (2) для фрагментируемого материала (3), в котором в различных аксиальных позициях относительно предписанного направления (S) прохождения от внешних границ и/или от внутренних границ проходного канала (2) в проходной канал (2) входят, в частности, стержнеобразные или заостренные выступы (4a-4d; 5a-5h) электродов.
17. Система по п.16, в которой расположенные в различных аксиальных позициях выступы (4a-4d; 5a-5h) электродов входят в проходной канал (2) в различных положениях по периферии внешних границ и/или внутренних границ.
18. Система по п.16, в которой часть или все расположенные в направлении (S) прохождения в первой аксиальной позиции, в частности, стержнеобразные или заостренные выступы (4a-4d; 5a-5h) электродов входят в проходной канал (2) с наклоном в направлении, противоположном предписанному направлению (S) прохождения.
19. Система по п.18, в которой, по меньшей мере, часть или все входящие в проходной канал (2) от внутренних границ проходного канала (2) и расположенные в первой аксиальной позиции, в частности, стержнеобразные или заостренные выступы (4a-4d) электродов входят в проходной канал (2) с наклоном в направлении, противоположном предписанному направлению (S) прохождения.
20. Система по п.18, в которой расположенные в направлении (S) прохождения на следующей за первой аксиальной позицией аксиальной позиции, в частности, стержнеобразные или заостренные выступы (4e-4h; 5i-5p) электродов входят в проходной канал (2) перпендикулярно предписанному направлению (S) прохождения или с наклоном в направлении предписанного направления (S) прохождения.
21. Система по п.17, в которой выступы (4a-4h; 5a-5p) электродов входят в проходной канал (2) таким образом, что проходной канал (2) оказывается непроходимым для цилиндрического корпуса (Z) с полусферическими концами, имеющего диаметр, соответствующий диаметру наибольшей сферы, которая может пройти проходной канал (2), и высоту более 1,1-кратного, в частности, более 1,3-кратного значения этого диаметра.
22. Система по любому из пп.5-13, в которой выступы (4a-4h; 5a-5p) электродов в предписанном направлении (S) прохождения равномерно распределены по периферии внешних границ и/или внутренних границ проходного отверстия (1) или проходного канала (2).
23. Система по любому из пп.1-13, в которой на предписанной стороне выхода проходного отверстия (1) или проходного канала (2) расположено блокировочное устройство (10), которое в отношении своей геометрии выполнено таким образом, а относительно проходного отверстия (1) или проходного канала (2) расположено таким образом, что цилиндрический корпус (Z) с полусферическими концами, имеющий диаметр, соответствующий диаметру наибольшей сферы (K), которая может пройти проходное отверстие (1) или проходной канал (2), и высоту более 1,1-кратного, в частности, 1,3-кратного значения этого диаметра, за счет наличия блокировочного устройства не может пройти проходное отверстие (1) или проходной канал (2), в то время как наибольшая сфера (K), которая может пройти проходное отверстие (1) или проходной канал (2), может быть отведена от проходного отверстия (1) или от проходного канала (2).
24. Система по п.23, в которой блокировочное устройство выполнено в виде поворотного устройства (10) для выходящего фрагментированного материала (11a, 11b), в частности, в виде перегородки для изменения направления движения.
25. Установка для фрагментации, включающая в себя систему электродов по одному из предыдущих пунктов и генератор высоковольтных импульсов для подачи на электроды (4a-4h; 5a-5p) системы электродов высоковольтных импульсов.
26. Установка по п.25, в которой система электродов ориентирована таким образом, что проходное отверстие (1) или проходной канал (2) имеют вертикальное направление (S) прохождения.
27. Установка по пп.25 или 26, в которой система электродов имеет проходное отверстие (1) или проходной канал (2) с кольцеобразной, в частности, круглой основной формой или формой поперечного сечения, причем генератор высоковольтных импульсов расположен под проходным отверстием (1) или под проходным каналом (2) и непосредственно снизу подает на образованные на внутренних границах проходного отверстия (1) или проходного канала (2) электроды (4a-4h; 5a-5p) высоковольтные импульсы.
28. Установка по п.27, в которой внешние границы проходного отверстия (1) или проходного канала (2), или расположенные на этих внешних границах электроды (5; 5a-5p) приложены к потенциалу Земли.
29. Применение установки для фрагментации по любому из пп.25-28 для фрагментации материала с низкой электропроводностью, в частности, кремния, бетона или шлака.
30. Способ фрагментации материала посредством высоковольтных разрядов до размера кусков меньше или равных заданной величине, который включает в себя следующие этапы:
a) подготовка системы электродов по любому из пп.1-22 с проходным отверстием (1) или проходным каналом (2), которое или который выполнены таким образом, что куски материала (11а, 11b) с размером заданной величины могут проходить через проходное отверстие (1) или проходной канал (2), а куски материала (3) с размером больше заданной величины удерживаются системой электродов;
b) подача на систему электродов со стороны проходного отверстия (1) или проходного канала (2) предназначенного для фрагментации материала (3) с размером кусков больше заданной величины;
c) генерирование высоковольтных разрядов в проходном отверстии (1) или в проходном канале (2) посредством подачи на электроды (4, 4a-4h, 5, 5a-5p) системы электродов высоковольтных импульсов для фрагментации материала (3) до размера, меньше или равного заданной величине; и
d) проведение фрагментированных до меньшего или равного заданной величине размера кусков материала (11а, 11b) через проходное отверстие (1) или проходной канал (2) системы электродов.
31. Способ по п.30, в котором загрузку системы электродов фрагментируемым материалом (3) и проведение фрагментированных кусков материала (11а, 11b) через проходное отверстие (1) или проходной канал (2) осуществляют посредством подачи самотеком.
32. Способ по п.30 или 31, в котором проходное отверстие (1) или проходной канал (2) системы электродов во время генерирования высоковольтных разрядов заполнены рабочей жидкостью (12) и, в частности, рабочую жидкость (12) пропускают через проходное отверстие (1) или проходной канал (2) в направлении (S) прохождения материала.