ТОНКИЕ ТЕКСТУРИРОВАННЫЕ ПЛЕНКИ С ПОЛНОСТЬЮ РАВНОМЕРНЫМ ПОКРЫТИЕМ НЕГЛАДКОЙ ПОВЕРХНОСТИ, ПОЛУЧЕННЫМ В ПРОЦЕССЕ АДДИТИВНОГО НАСЛАИВАНИЯ

1. Текстурированная тонкая пленка, содержащая:
субстрат, содержащий негладкую поверхность, характеризующуюся рельефом, причем указанный рельеф имеет заданное число пиков и впадин;
причем текстурированная тонкая пленка непрерывно проходит вдоль всей негладкой поверхности, причем указанная текстурированная тонкая пленка получена из жидкого сырья, содержащего твердые частицы и подаваемого через устройство для аддитивного наслаивания, причем указанные частицы имеют эффективный диаметр не более приблизительно 5 мкм;
при этом указанное текстурированное тонкое покрытие имеет минимальную толщину и максимальную толщину не более приблизительно 25 мкм, так что отношение минимальной толщины к максимальной толщине находится в диапазоне от приблизительно 0,6 до приблизительно 1,0, таким образом, создается текстура пленки, которая по существу соответствует рельефу негладкой поверхности.
2. Текстурированная тонкая пленка по п. 1, в которой негладкая поверхность выбрана из группы, состоящей из рабочих валков, валков для тиснения, гравированных валков, валков для травления, валков для накатывания, фрикционных валков, каландровых валков, укатывающих валков, валков для гофрирования, дозирующих валков, тянущих валков, прядильных валков и валков для ломки окалины.
3. Текстурированная тонкая пленка по п. 1, причем указанная пленка имеет толщину в диапазоне от 5 до 25 мкм.
4. Текстурированная тонкая пленка по п. 1, в которой эффективный диаметр твердых частиц находится в диапазоне от 0,1 до 5,0 мкм.
5. Текстурированная тонкая пленка по п. 1, дополнительно имеющая шероховатость поверхности (Ra) менее 1,5 мкм.
300
6. Текстурированная тонкая пленка по п. 1, дополнительно имеющая микротвердость (HV) в диапазоне от 900 до 1400.
7. Текстурированная тонкая пленка по п. 1, причем указанная пленка содержит композицию, выбранную из группы, состоящей из WC-CoCr, WC-Co, WC-Ni и CrC-NiCr.
8. Текстурированная тонкая пленка по п. 1, в которой указанный рельеф имеет профиль сложной формы, определяемый как по существу волнообразный.
9. Текстурированная тонкая пленка по п. 1, в которой указанный волнообразный рельеф является по существу синусоидальным или по существу квадратным.
10. Текстурированная тонкая пленка по п. 1, в которой структурная целостность нижележащего рельефа сохраняется в достаточной степени.
11. Текстурированная тонкая пленка по п. 1, которая по существу не изменяет или не разлагает нижележащий рельеф.
12. Текстурированная тонкая пленка, содержащая:
субстрат, содержащий негладкую поверхность, характеризующуюся рельефом, причем указанный рельеф характеризуется профилем сложной формы, определяемым заданным числом пиков и впадин;
причем текстурированная тонкая пленка непрерывно проходит вдоль всей негладкой поверхности с образованием (i) пиков с покрытием, каждый из которых соответствует указанному сложному профилю указанных соответствующих пиков негладкой поверхности, и (ii) впадин с покрытием, каждая из которых подтверждает сложный профиль указанных соответствующих впадин негладкой поверхности;
при этом указанная текстурированная тонкая пленка получена на основе твердых частиц жидкого сырья, подаваемых с помощью устройства для аддитивного наслаивания;
при этом указанная текстурированная тонкая пленка имеет минимальную толщину и максимальную толщину не более приблизительно 25 мкм, так что отношение минимальной толщины к максимальной толщине находится в диапазоне от приблизительно 0,6 до приблизительно 1,0.
13. Текстурированная тонкая пленка по п. 12, в которой указанные твердые частицы имеют эффективный диаметр не более приблизительно 5 мкм.
14. Текстурированная тонкая пленка по п. 12, в которой указанные твердые частицы являются наноразмерными для создания монослойной пленки.
15. Способ создания субстрата с полным покрытием вдоль наружной поверхности субстрата без существенного изменения или разложения профиля текстуры наружной поверхности субстрата, причем указанный способ включает следующие этапы:
обеспечение субстрата, имеющего наружную поверхность, причем указанная наружная поверхность имеет рельеф, характеризующийся как негладкий, что определяется профилем текстуры;
обеспечение устройства для аддитивного наслаивания, причем указанное устройство для аддитивного наслаивания содержит камеру для сжигания и сопло;
генерацию потока горячего выходящего газа;
подачу жидкого сырья, содержащего твердые частицы, в поток горячего выходящего газа, причем указанные твердые частицы имеют размер в диапазоне от 0,1 до 5 мкм;
создание выходящего потока расплавленных твердых частиц; и
направление выходящего потока расплавленных твердых частиц на негладкий профиль текстуры с получением текстурированной пленки, которая по существу соответствует рельефу негладкой поверхности.
16. Способ по п. 15, дополнительно включающий:
направление указанного выходящего потока расплавленных твердых частиц на субстрат таким образом, чтобы он проходил вдоль субстрата непрерывным образом.
17. Способ по п. 15, дополнительно включающий накопление выходящего потока твердых частиц на субстрате до толщины не более 25 мкм.
18. Способ по п. 15, в котором субстрат выбран из группы, состоящей из рабочих валков, валков для тиснения, гравированных валков, валков для травления, валков для накатывания, фрикционных валков, каландровых валков, укатывающих валков, валков для гофрирования, дозирующих валков, тянущих валков, прядильных валков, валков для ломки окалины.
19. Способ по п. 15, дополнительно включающий направление выходящего потока расплавленных твердых частиц порошка на негладкий текстурный профиль под углом по отношению к детали.