ПОДРЕЛЬСОВАЯ НАШПАЛЬНАЯ ПРОКЛАДКА-АМОРТИЗАТОР

Полезная модель относится к области железнодорожного строительства, а именно к подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора и может быть использована для рельсовых скреплений железнодорожного пути, оснащенного как деревянными, так и железобетонными шпалами на железнодорожных путях с высокой грузонапряженностью перевозок с обеспечением увеличенного ресурса работоспособности.
Известна подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор, выполненная из эластичного материала и содержащая на своей обращенной к рельсу опорной поверхности рифления в виде продольных и/или поперечных канавок, причем прокладка-амортизатор выполнена из резиновой смеси на основе каучука, содержащей активный технический углерод в качестве порошкового наполнителя, а также модификатор и активатор вулканизации, (см. патент на полезную модель №81734, МПК E01B 9/68, 2009 г.)
Однако известная подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор при своем использовании имеет в соответствии с требованиями норм безопасности на железнодорожном транспорте «НБ ЖТ ЦП 149-2003» следующие недостатки:
- обладает недостаточной прочностью при разрыве (13,8 МПа) при относительном удлинении 280%,
8
- обладает недостаточным удельным объемным сопротивлением электрическому току (8×10 ом.см),
- обладает недостаточной степенью виброгашения в низкочастотной области вибраций 6-30 Гц,
- обладает недостаточной жесткостью при сжатии в интервале вертикальных нагрузок от 20 до 90 кН (48 МН/м),
- обладает недостаточной влагостойкостью и маслостойкостью при нижнем пределе температуры эксплуатации не менее минус 60°,
- обладает недостаточной морозостойкостью по эластическому восстановлению после сжатия при температуре минус 60° (32%),
- имеет недостаточный уровень сопротивления продольному перемещению рельса,
- обладает недостаточной степенью поглощения звука.
В основу полезной модели положена задача создания подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора.
8
Техническим результатом при использовании предложенной подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора является повышение прочности при разрыве с одновременным повышением относительного удлинения, повышение удельного объемного сопротивления электрическому току (8·10 ом·см), повышение степени виброгашения в низкочастотной области вибраций 6-30 Гц, повышение жесткости при сжатии в интервале вертикальных нагрузок от 20 до 90 кН, повышение влагостойкости маслостойкости при нижнем пределе температуры эксплуатации не менее минус 60°, повышение морозостойкости по эластическому восстановлению после сжатия при температуре минус 60° (32%), повышение уровня сопротивления продольному перемещению рельса, а также повышение степени поглощения звука.
+
+
2
2
4
10
2
Технический результат достигается тем, что предложена подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор, выполненная из эластичного материала и содержащая на своей обращенной к рельсу опорной поверхности рифления в виде продольных и/или поперечных канавок, причем прокладка-амортизатор выполнена из резиновой смеси на основе каучука, содержащей активный технический углерод в качестве порошкового наполнителя, а также модификатор и активатор вулканизации, при этом в качестве каучука резиновой смеси содержит изопреновый, бутадиен-стирольный, бутадиеновый каучук или их смеси, в качестве порошкового наполнителя дополнительно содержит высокодисперсный диоксид кремния с размером частиц от 10 нм до 150 нм, при этом размер частиц технического углерода выбран от 30 нм до 200 нм, в качестве наномодификатора резиновая смесь содержит модифицированную Na монтмориллонитовую глину (органоглину) с размерами частиц 25-750 нм, содержащую не менее 70 мас.% слоистого модифицированного Na силиката с химической формулой (Al, Mg)(OH){SiO}HO, серную вулканизующую систему, а в качестве активатора вулканизации содержит смесь диоксида цинка со стеариновой кислотой, или с олеиновой кислотой или со смесью синтетических жирных кислот (СЖК), при следующем соотношении компонентов резиновой смеси, мас. части:
изопреновый, бутадиен-стирольный,
бутадиеновый каучук или их смесь
100,
активные высокодисперсные технический
углерод, диоксид кремния или их смесь,
50-70,
наномодификатор
2-20,
серная вулканизующая система
4-8,
активатор вулканизации
2.7-6,5,
при этом смесь каучуков в резиновой основе прокладки-амортизатора содержит два или три вида каучуков, причем содержание одного вида каучука в смеси из двух каучуков выбрано от 5 до 55 мас. частей, а содержание каучуков в их смеси из трех каучуков выбрано от 10 до 70 мас. частей одного вида каучука и от 10 до 70 мас. частей второго вида каучука. При этом содержание в резиновой основе прокладки-амортизатора высокодисперсного технического углерода в его смеси с высокодисперсным диоксидом кремния выбрано от 5 до 95 мас. частей. При этом резиновая основа в качестве активатора вулканизации содержит смесь диоксида цинка в количестве 2-5 мас. частей со стеариновой кислотой в количестве 0,7-1,5 мас. частей, или с олеиновой кислотой в количестве 0,7-1,5 мас. частей или с синтетической жирной кислотой (НЖК) в количестве 0,7-1,5 мас. частей.
Среди признаков, характеризующих предложенную подрельсовую нашпальную прокладку-амортизатор, существенными являются:
- содержание в качестве каучука резиновой смеси изопренового, бутадиен-стирольного, бутадиенового каучука или их смеси,
- дополнительное содержание в качестве порошкового наполнителя высоко дисперсного диоксида кремния с размером частиц от 10 нм до 150 нм,
- выбор размера частиц технического углерода от 30 нм до 200 нм,
+
+
2
2
4
10
2
- содержание в качестве наномодификатора резиновой смеси модифицированной Na монтмориллонитовой глины (органоглины) с размерами частиц 25-750 нм, содержащей не менее 70 мас.% слоистого модифицированного Na силиката с химической формулой (Al, Mg)(OH){SiO}HO,
- использование серной вулканизующей системы,
- содержание в резиновой основе в качестве активаторов вулканизации смеси диоксида цинка со стеариновой кислотой, или с олеиновой кислотой или с синтетической жирной кислотой (НЖК),
- выбор следующего соотношения компонентов резиновой смеси, мас. части:
изопреновый, бутадиен-стирольный,
бутадиеновый каучук или их смеси
100,
активные высокодисперсные технический
углерод, диоксид кремния или их смесь,
50-70,
наномодификатор
2-20,
серная вулканизующая система
4-8,
активаторы вулканизации
2.7-6,5,
- выбор содержания в смеси каучуков резиновой основы прокладки-амортизатора двух или трех видов каучуков, причем содержание одного вида каучука в смеси из двух каучуков выбрано от 5 до 55 мас. частей, а содержание каучуков в их смеси из трех каучуков выбрано от 10 до 70 мас. частей одного вида каучука и от 10 до 70 мас. частей второго вида каучука,
- выбор содержания в резиновой основе прокладки-амортизатора высокодисперсного технического углерода в его смеси с высокодисперсным диоксидом кремния от 25 до 120 мас. частей
- содержание в резиновой основе в качестве активатора вулканизации смеси диоксида цинка в количестве 2-5 мас. частей со стеариновой кислотой в количестве 0,7-1,5 мас. частей, или с олеиновой кислотой в количестве 0,7-1,5 мас. частей или с синтетической жирной кислотой (НЖК) в количестве 0,7-1,5 мас. частей.
9
Экспериментальные исследования предложенной подрельсовой нашпальной прокладки - амортизатора, выполненной из материала «Эластотех-Н-пр.» показали ее высокую эффективность. Было установлено, что предложенная подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор обладает повышенной прочностью при разрыве (22,2 МПа) при одновременном повышении относительного удлинения (700%), повышенным удельным объемным сопротивлением электрическому току (20×10 ом·см), повышенной на 18-21% степенью виброгашения в низкочастотной области вибраций 6-30 Гц, повышенной жесткостью (56-58 МН/м) при сжатии в интервале вертикальных нагрузок от 20 до 90 кН, повышенной на 16-17% влагостойкостью и маслостойкостью при нижнем пределе температуры эксплуатации не менее минус 60°, повышенной морозостойкостью по эластическому восстановлению после сжатия при температуре минус 60° (9%), повышенным уровнем сопротивления продольному перемещению рельса, а также повышенной степенью поглощения звука.
В таблице 1 представлены составы и компоненты материала «Эластотех-Н-пр.», использованного при изготовлении предложенной подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора, которые по результатам экспериментальных испытаний соответствуют требованиям норм безопасности на железнодорожном транспорте «НБ ЖТ ЦП 149-2003».
Сущность предложенного технического решения поясняется рисунком, где на фиг.1 показан общий вид предложенной подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора.
Технология изготовления предложенной подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора является традиционной и не требует применения специфического технологического оборудования.
Использование предложенной подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора является традиционным. Подрельсовая нашпальная прокладка-амортизатор устанавливается на опорную поверхность железнодородной шпалы под рельс и закрепляется в шпале любым известным способом.
Содержание компонентов эластичного материала подрельсовой нашпальной прокладки-амортизатора (таблица 1)
№ материала
Вид каучука основы резиновой смеси, 100 мас. частей
Содержание наномодификатора, мас. части
Серная вулканизующая система, мас. части
Порошковый наполнитель, мас. части
Активатор вулканизации, мас. части
1
ИЗПР
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
2
ИЗПР
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
3
ИЗПР
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
4
ИЗПР
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
5
ИЗПР
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
6
ИЗПР
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
7
ИЗПР
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
8
ИЗПР
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
9
ИЗПР
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
10
ИЗПР
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
11
ИЗПР
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
12
ИЗПР
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
13
ИЗПР
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
14
ИЗПР
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
15
ИЗПР
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
16
ИЗПР
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
17
ИЗПР
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
18
ИЗПР
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
19
БТДС
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
20
БТДС
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
21
БТДС
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
22
БТДС
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
23
БТДС
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
24
БТДС
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
25
БТДС
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
26
БТДС
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
27
БТДС
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
28
БТДС
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
29
БТДС
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
30
БТДС
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
31
БТДС
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
32
БТДС
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
33
БТДС
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
34
БТДС
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
35
БТДС
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
36
БТДС
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
37
БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
38
БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
39
БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
40
БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
41
БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
42
БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
43
БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
44
БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
45
БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
46
БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
47
БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
48
БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
49
БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
50
БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
51
БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
52
БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
53
БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
54
БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
55
ИЗПР+5 БТДС
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
56
ИЗПР+5 БТДС
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
57
ИЗПР+5 БТДС
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
58
ИЗПР+5 БТДС
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
59
ИЗПР+5 БТДС
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
60
ИЗПР+5 БТДС
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
61
ИЗПР+5 БТДС
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
62
ИЗПР+5 БТДС
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
63
ИЗПР+5 БТДС
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
64
ИЗПР+5 БТДС
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
65
ИЗПР+5 БТДС
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
66
ИЗПР+5 БТДС
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
67
ИЗПР+5 БТДС
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
68
ИЗПР+5 БТДС
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
69
ИЗПР+5 БТДС
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
70
ИЗПР+5 БТДС
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
71
ИЗПР+5 БТДС
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
72
ИЗПР+5 БТДС
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
73
ИЗПР+55 БТДС
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
74
ИЗПР+55 БТДС
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
75
ИЗПР+55 БТДС
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
76
ИЗПР+55 БТДС
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
77
ИЗПР+55 БТДС
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
78
ИЗПР+55 БТДС
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
79
ИЗПР+55 БТДС
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
80
ИЗПР+55 БТДС
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
81
ИЗПР+55 БТДС
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
82
ИЗПР+55 БТДС
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
83
ИЗПР+55 БТДС
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
84
ИЗПР+55 БТДС
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
85
ИЗПР+55 БТДС
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
86
ИЗПР+55 БТДС
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
87
ИЗПР+55 БТДС
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
88
ИЗПР+55 БТДС
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
89
ИЗПР+55 БТДС
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
90
ИЗПР+55 БТДС
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
91
ИЗПР+5 БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
92
ИЗПР+5 БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
93
ИЗПР+5 БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
94
ИЗПР+5 БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
95
ИЗПР+5 БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
96
ИЗПР+5 БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
97
ИЗПР+5 БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
98
ИЗПР+5 БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
99
ИЗПР+5 БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
100
ИЗПР+5 БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
101
ИЗПР+5 БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
102
ИЗПР+5 БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
103
ИЗПР+5 БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
104
ИЗПР+5 БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
105
ИЗПР+5 БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
106
ИЗПР+5 БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
107
ИЗПР+5 БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
108
ИЗПР+5 БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
109
ИЗПР+55 БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
110
ИЗПР+55 БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
111
ИЗПР+55 БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
112
ИЗПР+55 БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
113
ИЗПР+55 БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
114
ИЗПР+55 БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
115
ИЗПР+55 БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
116
ИЗПР+55 БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
117
ИЗПР+55 БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
118
ИЗПР+55 БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
119
ИЗПР+55 БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
120
ИЗПР+55 БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
121
ИЗПР+55 БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДД+1,1 СК)
122
ИЗПР+55 БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
123
ИЗПР+55 БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
124
ИЗПР+55 БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
125
ИЗПР+55 БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
126
ИЗПР+55 БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
127
БТДС+5 БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
128
БТДС+5 БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
129
БТДС+5 БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
130
БТДС+5 БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
131
БТДС+5 БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
132
БТДС+5 БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
133
БТДС+5 БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
134
БТДС+5 БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
135
БТДС+5 БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
136
БТДС+5 БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
137
БТДС+5 БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
138
БТДС+5 БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
139
БТДС+5 БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
140
БТДС+5 БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
141
БТДС+5 БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
142
БТДС+5 БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
143
БТДС+5 БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
144
БТДС+5 БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
145
БТДС+55 БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
146
БТДС+55 БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
147
БТДС+55 БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
148
БТДС+55 БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
149
БТДС+55 БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
150
БТДС+55 БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
151
БТДС+55 БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
152
БТДС+55 БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
153
БТДС+55 БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
154
БТДС+55 БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
155
БТДС+55 БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
156
БТДС+55 БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
157
БТДС+55 БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
158
БТДС+55 БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
159
БТДС+55 БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
160
БТДС+55 БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
161
БТДС+55 БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
162
БТДС+55 БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
163
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
164
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
165
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
166
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
167
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
168
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
169
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
170
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
6,5 (5ДЦ+1,5 ОК)
171
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
172
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
173
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
174
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
175
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
176
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
177
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
178
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
179
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
180
ИЗПР+10 БТДС+70 БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
181
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
182
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
183
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
184
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
185
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
186
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
187
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
188
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
189
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
190
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
2
4
70 (ТУ 30 нм+50% ДК 150 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 СК)
191
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
10
6
70 (ТУ 400 нм+95% ДК 90 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 ОК)
192
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
20
8
70 (ТУ 750 нм+5% ДК 10 нм)
2,7 (2 ДЦ+0,7 НЖК)
193
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
2
4
50 (ТУ 30 нм+5% ДК 150 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 СК)
194
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
10
6
50 (ТУ 400 нм+50% ДК 90 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 ОК)
195
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
20
8
50 (ТУ 750 нм+95% ДК 10 нм)
4 (2,9 ДЦ+1,1 НЖК)
196
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
2
4
60 (ТУ 30 нм+95% ДК 150 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 СК)
197
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
10
6
60 (ТУ 400 нм+5% ДК 10 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 ОК)
198
ИЗПР+70 БТДС+10 БТДК
20
8
60 (ТУ 750 нм+50% ДК 90 нм)
6,5 (5 ДЦ+1,5 НЖК)
Сокращения: - мас. части - массовые части,
- ДК - диоксид кремния,
- ИЗПР - изопреновый каучук,
- ДЦ - диоксид цинка,
- БТДК - бутадиеновый каучук,
- СК - стеариновая кислота,
- БТДС - бутадиен-стирольный каучук,
- ОК - олеиновая кислота
- ТУ - технический углерод,
-- СЦ - стеарат цинка,
- НЖК - смесь синтетических жирных кислот.