МНОГОСЛОЙНЫЕ ПОКРЫТИЯ, ПРИГОДНЫЕ ДЛЯ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ В АЭРОКОСМИЧЕСКИХ ОБЛАСТЯХ

1. Способ нанесения и отверждения многослойного покрытия на подложке, включающий:
(a) нанесение на алюминиевую подложку грунтовочной композиции, содержащей:
(i) полиен,
(ii) политиол;
(b) коалесцирование композиции для получения поверх подложки, по существу, непрерывной пленки;
(c) воздействие на пленку излучения для отверждения пленки;
(d) нанесение на отвержденную пленку стадии (с) второй композиции;
(e) коалесцирование второй композиции для получения, по существу, непрерывной второй пленки;
(f) отверждение второй пленки.
2. Способ по п.1, в котором композицию стадии (а) наносят непосредственно на алюминиевую подложку.
3. Способ по п.1, в котором композицию стадии (а) наносят на алюминиевую подложку, которая была подвергнута предварительной обработке композицией, ингибирующей коррозию.
m
4. Способ по п.1, в котором полиен имеет структурную формулу А-(Х), где А представляет собой органический фрагмент, Х представляет собой олефинненасыщенный фрагмент, и m равен, по меньшей мере, 2.
2
5. Способ по п.4, в котором Х выбирают из -C(O)CR=CH, где R представляет собой водород или метил.
6. Способ по п.4, в котором А имеет группы, выбираемые из сложного эфира и уретана.
7. Способ по п.4, в котором А получают из полиизоцианата.
m
8. Способ по п.4, в котором А-(Х) представляет собой полиуретан(мет)акрилат.
m
9. Способ по п.4, в котором А-(Х) представляет собой (мет)акрилат сложного полиэфира.
m
10. Способ по п.4, в котором А-(Х) представляет собой смесь полиуретан(мет)акрилата и (мет)акрилата сложного полиэфира.
11. Способ по п.4, в котором m находится в диапазоне от 2 до 4.
n
12. Способ по п.1, в котором политиол имеет структурную формулу R-(SH), где R представляет собой органический фрагмент, а n составляет, по меньшей мере, 2.
13. Способ по п.12, в котором R содержит сложноэфирные группы.
14. Способ по п.12, в котором R получают из полиола.
15. Способ по п.12, в котором политиол представляет собой продукт реакции между тиолфункциональной органической кислотой и полиолом.
16. Способ по п.12, в котором n находится в диапазоне от 2 до 4.
17. Способ по п.1, в котором в грунтовочной композиции полиен присутствует в количествах в диапазоне от 80 до 98 мас.%, политиол присутствует в количествах в диапазоне от 2 до 20 мас.% при расчете на массу полиена и политиола.
18. Способ по п.1, в котором в грунтовочной композиции полиен присутствует в количествах в диапазоне от 90 до 95 мас.%, политиол присутствует в количествах в диапазоне от 5 до 10 мас.% при расчете на массу полиена и политиола.
19. Способ по п.1, в котором композиция, нанесенная на стадии (а), содержит, по меньшей мере, 5 мас.% ингибитора коррозии при расчете на массу твердого вещества композиции.
20. Способ по п.19, в котором ингибитором коррозии является хромат стронция.
21. Способ по п.1, в котором пленку, полученную на стадии (с), подвергают воздействию ультрафиолетового излучения, имеющего длину волн в интервале 200-400 нм.
22. Способ по п.19, в котором соотношение между уровнем излучения УФ-В и уровнем излучения УФ-А составляет 1:1 и менее.
23. Грунтовочная композиция, пригодная для применения на алюминиевых подложках, содержащая:
(a) полиен;
(b) полититол;
(c) ингибитор, который ингибирует коррозию алюминиевой подложки.
24. Грунтовочная композиция по п.23, в которой ингибитором коррозии является хромсодержащее соединение.
25. Грунтовочная композиция по п.24, в которой хромсодержащее соединение присутствует в количествах в диапазоне от 5 до 50 мас.% хрома при расчете на массу твердого вещества грунтовочной композиции.
26. Грунтовочная композиция по п.23, содержащая:
(а) полиуретан(мет)акрилат, имеющий, по меньшей мере, 2 (мет)акрилатные группы на одну молекулу;
(b) политиол;
(c) хромат стронция в количествах в диапазоне от 10 до 40 мас.% хрома при расчете на массу твердого вещества грунтовочной композиции.