МОЮЩИЕ КОМПОЗИЦИИ

1. Моющая композиция, содержащая вариант исходной липазы, при этом вариант обладает липазной активностью, его последовательность по меньшей мере на 60%, но менее чем на 100% идентична SEQ ID NO: 2, и он содержит замены в положениях, соответствующих T231R+N233R и по меньшей мере одной или нескольким (например, некоторому количеству) из D96E, D111A, D254S, G163K, P256T, G91T и G38A в SEQ ID NO: 2.
2. Композиция по п.1, дополнительно содержащая замены в положениях, соответствующих D27R и/или N33Q в SEQ ID NO: 2.
3. Композиция по любому из пп.1-2, дополнительно содержащая один или несколько ферментов, выбранных из гемицеллюлаз, пероксидаз, протеаз, целлюлаз, ксиланаз, липаз, фосфолипаз, эстераз, кутиназ, пектиназ, маннаназ, пектатлиаз, кератиназ, редуктаз, оксидаз, фенолоксидаз, липоксигеназ, лигниназ, пуллуланаз, танназ, пентозаназ, маланаз, ß-глюканаз, арабинозидаз, гиалуронидазы, хондроитиназы, лакказы, хлорофиллаз, амилаз или их смесей.
4. Композиция по любому из пп.1-3, где указанный вариант характеризуется повышенной стабильностью по сравнению с исходной липазой.
5. Композиция по п.4, где стабильность представляет собой стабильность в условиях хранения, стабильность в присутствии поверхностно-активных веществ; стабильность в присутствии протеазы, стабильность в присутствии протеазы и поверхностно-активных веществ; стабильность в присутствии компонентов моющего средства; химическую стабильность, стабильность к окислению, pH-стабильность и/или термостабильность.
6. Композиция по любому из пп.1-5, где вариант выбран из группы, состоящей из
a) полипептида, последовательность которого по меньшей мере на 60%, по меньшей мере на 65%, по меньшей мере на 70%, по меньшей мере на 75%, по меньшей мере на 80%, по меньшей мере на 85%, по меньшей мере на 90%, по меньшей мере на 95% идентична, по меньшей мере на 96%, по меньшей мере на 97%, по меньшей мере на 98% или по меньшей мере на 99%, но менее чем на 100% идентична SEQ ID NO: 2;
b) полипептида, кодируемого полинуклеотидом, который гибридизируется в условиях низкой жесткости, условиях средней жесткости, условиях умеренно высокой жесткости, условиях высокой жесткости или условиях очень высокой жесткости с (i) кодирующей полипептид последовательностью SEQ ID NO: 1 или (ii) последовательностью полной длины, комплементарной (i);
c) полипептида, кодируемого полинуклеотидом, последовательность которого по меньшей мере на 60%, по меньшей мере на 65%, по меньшей мере на 70%, по меньшей мере на 75%, по меньшей мере на 80%, по меньшей мере на 85%, по меньшей мере на 90%, по меньшей мере на 95%, по меньшей мере на 96%, по меньшей мере на 97%, по меньшей мере на 98%, по меньшей мере на 99%, но менее чем на 100% идентична SEQ ID NO: 1; и
d) фрагмента полипептида SEQ ID NO: 2.
7. Композиция по любому из пп.1-6, дополнительно содержащая по меньшей мере одно поверхностно-активное вещество, по меньшей мере одну систему поверхностно-активных веществ, по меньшей мере одно мыло или любые их смеси.
8. Композиция по любому из пп.1-7, где композиция представляет собой очищающую композицию для стирки белья, очищающую композицию для мытья посуды, очищающую композицию для твердых поверхностей и/или очищающую композицию для личной гигиены.
9. Композиция по любому из пп.1-8, где композиция составлена в виде обычной, плотной или концентрированной жидкости; геля; пасты; бруска мыла; обычного или уплотненного порошка; гранулированного твердого вещества; гомогенной или многослойной таблетки с двумя или большим числом слоев (в одинаковой или разных фазах); пакета, имеющего одну или несколько камер; формы с разовой дозой, состоящей из одной или нескольких камер; или любой их комбинации.
10. Способ получения композиции по любому из пп.1-9, включающий добавление варианта исходной липазы, при этом вариант обладает липазной активностью, его последовательность по меньшей мере на 60%, но менее чем на 100% идентична SEQ ID NO: 2, и он содержит замены в положениях, соответствующих T231R+N233R и по меньшей мере одной или нескольким (например, некоторому количеству) из D96E, D111A, D254S, G163K, P256T, G91T и G38A в SEQ ID NO: 2.
11. Способ очищения объекта, включающий приведение жирного пятна, присутствующего на объекте, подлежащем очищению, в контакт с композицией по любому из пп.1-9.
12. Применение композиции по любому из пп.1-9 в гидролизе сложного эфира карбоновой кислоты.
13. Применение композиции по любому из пп.1-9 в гидролизе, синтезе или переэтерификации сложного эфира.
14. Применение композиции по любому из пп.1-9 для получения стабильного состава.
15. Вариант исходной липазы, где вариант обладает липазной активностью, его последовательность по меньшей мере на 60%, но менее чем на 100% идентична SEQ ID NO: 2, и он содержит замены в положениях, соответствующих T231R+N233R и по меньшей мере одной или нескольким (например, некоторому количеству) из D96E, D111A, D254S, G163K, P256T, G91T и G38A в SEQ ID NO: 2, выбранных из группы
a) D96E T231R N233R;
b) N33Q D96E T231R N233R;
c) N33Q D111A T231R N233R;
d) N33Q T231R N233R P256T;
e) N33Q G38A G91T G163K T231R N233R D254S;
f) N33Q G38A G91T D96E D111A G163K T231R N233R D254S P256T;
g) D27R N33Q G38A D96E D111A G163K T231R N233R D254S P256T;
h) D27R N33Q G38A G91T D96E D111A G163K T231R N233R P256T;
i) D27R N33Q G38A G91T D96E D111A G163K T231R N233R D254S;
j) D27R G38A G91T D96E D111A G163K T231R N233R D254S P256T;
k) D96E T231R N233R D254S;
l) T231R N233R D254S P256T;
m) G163K T231R N233R D254S;
n) D27R N33Q G38A G91T D96E G163K T231R N233R D254S P256T;
o) D27R G91T D96E D111A G163K T231R N233R D254S P256T;
p) D96E G163K T231R N233R D254S;
q) D27R G163K T231R N233R D254S;
r) D27R G38A G91T D96E D111A G163K T231R N233R D254S;
s) D27R G38A G91T D96E G163K T231R N233R D254S P256T;
t) D27R G38A D96E D111A G163K T231R N233R D254S P256T;
u) D27R D96E G163K T231R N233R D254S;
v) D27R D96E D111A G163K T231R N233R D254S P256T;
w) D27R G38A D96E G163K T231R N233R D254S P256T;
x) D111A G163K T231R N233R D254S P256T;
y) D111A T231R N233R;
z) D111A T231R N233R D254S P256T;
aa) D27R D96E D111A G163K T231R N233R;
bb) D27R D96E D111A T231R N233R;
cc) D27R G38A D96E D111A G163K T231R N233R D254S P256T;
dd) D27R N33Q G38A D96E D111A T231R N233R D254S P256T;
ee) D27R G38A D96E D111A G163K E210Q T231R N233R D254S P256T;
ff) D27R T231R N233R D254S P256T;
gg) D96E D111A G163K T231R N233R;
hh) D96E D111A G163K T231R N233R D254S P256T;
ii) D96E D111A G163K T231R N233R P256T;
jj) D96E D111A T231R N233R;
kk) D96E D111A T231R N233R D254S;
ll) D96E D111A T231R N233R D254S P256T;
mm) D96E D111A T231R N233R P256T;
nn) D96E G163K T231R N233R D254S P256T;
oo) D96E T231R N233R D254S P256T;
pp) D96E T231R N233R P256T;
qq) G38A D96E D111A T231R N233R;
rr) G91T D96E D111A G163K T231R N233R D254S P256T;
ss) G91T D96E D111A T231R N233R;
tt) G91T D96E T231R N233R;
uu) G91T T231R N233R D254S P256T;
vv) N33Q D96E D111A G163K T231R N233R D254S P256T;
ww) T231R N233R D254S P256T;
xx) T231R N233R P256T.
16. Вариант по п.15, где указанный вариант по сравнению с исходной липазой характеризуется повышенной стабильностью, выбранной из стабильности в условиях хранения, стабильности в присутствии протеазы, стабильности в присутствии поверхностно-активного вещества и протеазы, химической стабильности, стабильности к окислению, pH-стабильности и/или термостабильности.