СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ НА ПОЛИМЕРНУЮ ПОДЛОЖКУ

1. Способ нанесения покрытия, по меньшей мере, с одним металлическим слоем на полимерную подложку, в особенности на полимерную пленку для гибких печатных плат, причем перед нанесением первого слоя на поверхность полимерной подложки осуществляют предварительную обработку поверхности без нанесения покрытия, отличающийся тем, что предварительная обработка без нанесения покрытия включает в себя два этапа:
очищение поверхности полимерной подложки (2) инертной низкоэнергетической плазмой (14); и
активирование полимерной подложки (2) посредством реактивного высокоэнергетического ионного излучения (17).
2
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что плазма (14) имеет низкую плотность мощности, предпочтительно от 0,05 до 1 Вт/см.
3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что в качестве инертной плазмы (14) используют ионизированный инертный газ.
4. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что плазму (14) генерируют тлеющим разрядом (13), приводимым в действие потенциалом от 0,1 до 1 кВ.
2
2
2
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что ионное излучение (17) имеет высокую плотность мощности, предпочтительно от 1 до 10 Вт/см, более предпочтительно от 1 до 5 Вт/см, особенно предпочтительно от 1 до 3 Вт/см.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что ионное излучение (17) генерируют ионным источником (16), приводимым в действие потенциалом, большим или равным 1 кВ, в частности от 1 до 3 кВ.
7. Способ по п.6, отличающийся тем, что в качестве технологического газа для ионного источника (16) используют аргон.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что реакционную атмосферу ионного излучения (17) генерируют введением активного газа, содержащего кислород и/или азот.
9. Способ по п.6, отличающийся тем, что ионный источник (16) генерирует ленточный пучок (17) ионов, фокусирующийся таким образом, что пучок (17) ионов ударяет поверхность полимерной подложки (2) по одной линии.
10. Способ по п.9, отличающийся тем, что линейную проекцию пучка (17) ионов на поверхность полимерной подложки (2) осуществляют перпендикулярно направлению (10) перемещения полимерной подложки (2).
11. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве полимерной подложки (2) используют пленку (2), изготовленную из полиэфира (полиэтилентерефталата, ПЭТ), полиэтилена (ПЭ), полипропилена (ПП) и/или полиамида (ПА), предпочтительно полиимида.
12. Способ по п.11, отличающийся тем, что пленка (2) имеет толщину предпочтительно от 12,5 до 50 мкм.
13. Способ по п.1, отличающийся тем, что после предварительной обработки первый слой наносят напылением на поверхность полимерной подложки (2) в качестве улучшающего адгезию слоя, причем в качестве материалов слоя используют предпочтительно хром (Сr), никель (Ni), нихром (NiCr) или хром-титан (CrTi).
14. Способ по п.13, отличающийся тем, что толщина улучшающего адгезию слоя предпочтительно составляет от 2 до 40 нм.
15. Способ по любому из пп.13 или 14, отличающийся тем, что после напыления улучшающего адгезию слоя напыляют металлический слой, предпочтительно из меди или медного сплава.
16. Способ по п.15, отличающийся тем, что толщина металлического слоя предпочтительно составляет от 150 до 300 мкм.
17. Машина для нанесения покрытия, по меньшей мере, с одним металлическим слоем, на полимерную пленку, в особенности для гибких печатных плат, причем машина содержит узел предварительной обработки для предварительной обработки без нанесения покрытия поверхности полимерной пленки, расположенный перед первой секцией нанесения покрытия в направлении перемещения полимерной пленки в машине для нанесения покрытий, отличающаяся тем, что узел (4) предварительной обработки имеет первую секцию (5) обработки для очищения поверхности полимерной пленки (2) инертной низкоэнергетической плазмой (14) и вторую секцию (6) обработки, расположенную после секции (5) в направлении (10) перемещения, для активирования поверхности полимерной пленки (2) реактивным высокоэнергетическим пучком (17) ионов.
18. Машина для нанесения покрытия по п.17, отличающаяся тем, что секция (5) первичной обработки имеет устройство (13) тлеющего разряда, генерирующее плазму (14), в частности, магнетрон с катодом (15) накаливания.
19. Машина для нанесения покрытия по п.17, отличающаяся тем, что устройство (13) тлеющего разряда может приводиться в действие потенциалом от 0,1 до 1 кВ.
20. Машина для нанесения покрытия по п.17, отличающаяся тем, что вторая секция (6) обработки содержит ионный источник (16) для генерирования ионного пучка (17), в котором имеется плазменный генератор (18) с магнетроном.
21. Машина для нанесения покрытия по п.19, отличающаяся тем, что плазменный генератор (18) может приводиться в действие потенциалом от 1 до 3 кВ.
22. Машина для нанесения покрытия по п.20 или 21, отличающаяся тем, что ионный источник (16) является линейным ионным источником (16), через который ленточный пучок (17) ионов может быть сфокусирован по одной линии на поверхности полимерной пленки (2).
23. Машина для нанесения покрытия по п.19, отличающаяся тем, что линейный ионный источник (16) расположен перпендикулярно направлению (10) перемещения полимерной пленки (2).
24. Машина для нанесения покрытия по п.17, отличающаяся тем, что первая секция (7) нанесения покрытия содержит распылительную установку (19) для напыления улучшающего адгезию слоя, предпочтительно изготовленного из хрома (Сr), никеля (Mi), нихрома (NiCr) или хром-титана (CrTi).
25. Машина для нанесения покрытия по п.24, отличающаяся тем, что вторая секция (8) нанесения покрытия, расположенная за секцией (7) в направлении (10) перемещения, содержит распылительную установку (21) для напыления металлического слоя, предпочтительно из меди или медного сплава.