ДИСПЛЕИ НА ОСНОВЕ МИКРОЭЛЕКТРОМЕХАНИЧЕСКИХ СИСТЕМ И СПОСОБЫ ИХ ИЗГОТОВЛЕНИЯ

1. Оптическое электромеханическое устройство, содержащее
проводящий оптический поглотитель, который сформирован над подложкой, на котором сформирован рельеф для формирования полосовых электродов, и который выполняет функцию главного проводника в этих полосовых электродах в оптически активных областях электромеханического устройства,
по меньшей мере одну поддерживающую структуру, которая сформирована над указанной подложкой, и
проводящий деформируемый слой, сформированный поверх указанной по меньшей мере одной поддерживающей структурой, расположенный на расстоянии от проводящего оптического поглотителя и выполненный с возможностью электростатического отклонения в направлении оптического поглотителя.
2. Электромеханическое устройство по п.1, в котором оптический поглотитель содержит молибден-хромовый сплав.
3. Электромеханическое устройство по п.2, в котором толщина оптического поглотителя составляет примерно 70-75 Å.
4. Электромеханическое устройство по п.1, в котором оптический поглотитель отражает примерно от 28,5 до 34,5% падающего видимого света.
5. Электромеханическое устройство по п.1, дополнительно содержащее поглощающий слой в виде черной маски, расположенный ниже по меньшей мере участка оптического поглотителя и содержащий тот же материал, что и оптический поглотитель.
6. Электромеханическое устройство по п.5, в котором между деформируемым слоем и оптическим поглотителем имеется временный слой, в состав которого входит тот же материал, что и в оптический поглотитель и поглотитель в виде черной маски.
7. Электромеханическое устройство по п.6, в котором используют временный слой, оптический поглотитель и поглотитель в виде черной маски, содержащие каждый слой молибдена.
8. Электромеханическое устройство по п.5, в котором по меньшей мере поглотитель в виде черной маски и оптический поглотитель формируют интерферометрическую черную маску, поглощающую часть падающего света.
9. Электромеханическое устройство по п.5, в котором поглотитель в виде черной маски расположен в оптически неактивных областях электромеханического устройства.
10. Электромеханическое устройство по п.1, в котором по меньшей мере часть поглощающего слоя в виде черной маски расположена ниже части указанной по меньшей мере одной поддерживающей структуры.
11. Электромеханическое устройство по п.1, в котором деформируемый слой содержит обращенный к оптическому поглотителю отражающий подслой, над которым расположен механический подслой, причем отражающий подслой содержит алюминий, а механический подслой содержит никель.
12. Электромеханическое устройство по п.11, в котором отражающий подслой содержит неодим-алюминиевый сплав.
13. Электромеханическое устройство по п.12, в котором неодим-алюминиевый сплав содержит примерно 2 ат.% неодима.
14. Электромеханическое устройство по п.11, в котором механический подслой содержит бор-никелевый сплав.
15. Электромеханическое устройство по п.14, в котором бор-никелевый сплав содержит примерно 0,5 ат.% бора.
16. Электромеханическое устройство по п.11, дополнительно содержащее проводящую шинную структуру, расположенную в оптически неактивной области электромеханического устройства и электрически связанную с указанным оптическим поглощающим слоем.
17. Электромеханическое устройство по п.16, в котором шинная структура содержит первый подслой, состоящий из того же материала, что и отражающий подслой деформируемого слоя, и второй подслой, состоящий из того же материала, что и механический подслой деформируемого слоя.
18. Электромеханическое устройство по п.1, дополнительно содержащее оптический диэлектрический слой, расположенный по меньшей мере над частью оптического поглощающего слоя, содержащего, в свою очередь, только проводящий материал, расположенный в оптически активных областях электромеханического устройства между оптическим диэлектрическим слоем и подложкой.
19. Электромеханическое устройство по п.1, в котором оптически активная область электромеханического устройства выполнена без использования смешанного оксида индия и олова.
20. Электромеханическое устройство по п.1, которое содержит дисплей, содержащий матрицу интерферометрических модуляторов.
21. Способ изготовления оптического электромеханического устройства, согласно которому
поверх подложки формируют проводящий оптический поглотитель,
формируют на нем рельеф для формирования полосовых электродов, причем оптический поглотитель в указанных полосовых электродах в оптически активных областях электромеханического устройства выполняет функцию главного проводника,
формируют над оптическим поглотителем временный слой,
формируют над подложкой по меньшей мере одну поддерживающую структуру, и
формируют над временным слоем и указанной по меньшей мере одной поддерживающей структурой проводящий деформируемый слой.
22. Способ по п.21, согласно которому дополнительно выполняют раскрепляющее травление для удаления временного слоя, формируя полость между деформируемым слоем и оптическим поглотителем.
23. Способ по п.21, согласно которому используют оптический поглотитель, содержащий молибден-хромовый сплав, в состав которого входит примерно 2 ат.% хрома.
24. Способ по п.21, согласно которому используют оптический поглотитель толщиной примерно 70-75 Å.
25. Способ по п.21, согласно которому оптический поглотитель отражает примерно от 28,5 до 34,5% падающего видимого света.
26. Способ по п.21, согласно которому дополнительно до нанесения оптического поглотителя формируют поглощающий слой в виде черной маски, причем указанный поглотитель в виде черной маски содержит тот же материал, что и оптический поглотитель.
27. Способ по п.26, согласно которому на поглощающем слое в виде черной маски дополнительно формируют рельеф для удаления этого слоя в оптически активных областях электромеханического устройства.
28. Способ по п.26, согласно которому используют временный слой, содержащий тот же материал, что и оптический поглотитель и поглотитель в виде черной маски.
29. Способ по п.28, согласно которому используют временный слой, оптический поглотитель и поглотитель в виде черной маски, содержащий каждый слой молибдена.
2
30. Способ по п.21, согласно которому дополнительно до формирования деформируемого слоя временный слой подвергают воздействию плазменной среды, содержащей NO.
2
31. Способ по п.30, согласно которому временный слой подвергают воздействию плазменной среды, содержащей NO, после формирования по меньшей мере одной поддерживающей структуры.
32. Способ по п.21, согласно которому дополнительно формируют шинную структуру, расположенную в оптически неактивной области электромеханического устройства и электрически связанную с оптическим поглотителем.
33. Способ по п.32, согласно которому при формировании шинной структуры
формируют первый шинный подслой;
воздействуют на первый шинный подслой вакуумом в течение некоторого времени и
после этого воздействия формируют над указанным первым слоем второй шинный подслой.
34. Способ по п.33, в котором первый шинный слой выполняют с содержанием неодим-алюминиевого сплава, содержащего примерно 2 ат.% неодима, а второй шинный слой выполняют с содержанием бор-никелевого сплава, содержащего примерно 0,5 ат.% бора.
35. Способ по п.21, согласно которому при формировании деформируемого слоя
над временным слоем формируют отражающий подслой, который содержит алюминий, а
над первым подслоем формируют механический подслой, который содержит никель.
36. Способ по п.35, согласно которому отражающий подслой выполняют с содержанием неодим-алюминиевого сплава, содержащего примерно 2% неодима.
37. Способ по п.35, согласно которому механический подслой выполняют с содержанием бор-никелевого сплава, содержащего примерно 0,5% бора.