НОВЫЕ ФОТОСШИВАЕМЫЕ КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ ПРИМЕНЕНИЯ В КАЧЕСТВЕ ОСНОВЫ ПОД ЛАК

1. Фотосшиваемая косметическая композиция, содержащая в физиологически приемлемой среде:
a) по меньшей мере, одно фотосшиваемое соединение, содержащее, по меньшей мере, две (мет)акрилатные группы и, по меньшей мере, одну карбоксильную группу;
b) по меньшей мере, один образующий пленку полимер в количестве более или равном 30% вес. относительно веса сухого экстракта композиции;
c) по меньшей мере, один летучий растворитель в количестве более или равном 30% относительно суммарного веса композиции; и
d) по меньшей мере, один фотоинициатор.
2. Композиция по п. 1, в которой соединение а) имеет формулу (I):
,
в которой:
- R1 и R2, одинаковые или отличные, представляют собой атом водорода или метильную группу, или группу формулы (II):
,
где R5 представляет собой атом водорода или метильную группу;
- R3 и R4, одинаковые или отличные, представляют собой атом водорода или метильную группу;
- X представляет собой радикал любой из следующих формул (III), (IV), (V), (VI), (VII), (VIII), (IX) или (X):
,
где m, n и o, одинаковые или отличные, представляют собой целое 0-10;
,
где p, q, r и s, одинаковые или отличные, представляют собой целое 0-10;
,
где R6, R7 и R8, одинаковые или отличные, представляют собой атом водорода или гидроксильную группу.
3. Композиция по п. 2, в которой соединение а) имеет формулу (I-1):
,
где R1, R2, R3 и R4 имеют значение, как определено в пункте 2;
4. Композиция по п. 3, в которой R3 и R4 представляют собой метильные группы.
5. Композиция по пунктам 3 или 4, в которой R1 и R2, одинаковые или отличные, представляют собой группу формулы (II-1):
6. Композиция по любому из пп. 1-4, содержащая менее 5% вес. (мет)акрилатного мономера.
7. Композиция по любому из пп. 1-4, в которой образующий пленку полимер выбран из группы, состоящей из нитроцеллюлозы, ацетопропионата целлюлозы, ацетобутирата целлюлозы и (мет)акрилатных гомополимеров и сополимеров и их смесей.
8. Композиция по любому из пп. 1-4, содержащая, по меньшей мере, два образующих пленку полимера b).
9. Композиция по любому из пп. 1-4, в которой полимер b) представляет собой смесь нитроцеллюлозы и (мет)акрилатного сополимера.
10. Композиция по любому из пп. 1-4, в которой летучий растворитель представляет собой полярный летучий растворитель, выбранный из группы, состоящей из С3-С6 эфиров и кетонов и их смесей.
11. Композиция по любому из пп. 1-4, в которой фотоинициатор выбран из группы, состоящей из α-гидроксикетонов, α-аминокетонов, ароматических кетонов, предпочтительно в сочетании с соединением, являющимся донором водорода, ароматических α-дикетонов и ацилфосфиноксидов и их смесей.
12. Композиция по любому из пп. 1-4, дополнительно содержащая, по меньшей мере, одно фотосшиваемое уретановое (мет)акрилатное соединение.
13. Композиция по любому из пп. 1-4, дополнительно содержащая, по меньшей мере, один пластификатор.
14. Композиция по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что она является прозрачной.
15. Композиция по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что она содержит менее 10% вес. (мет)акрилатного мономера относительно суммарного веса указанной композиции.
16. Способ дизайна и/или ухода за ногтями и/или накладными ногтями, включающий следующие стадии:
A) нанесение на ногти или накладные ногти композиции по любому из пп. 1-15, тем самым нанося покрытие, состоящее, по меньшей мере, из одного слоя указанной фотосшиваемой композиции, и
B) воздействие на ногти или накладные ногти с покрытием, полученные на стадии А), УФ или видимым световым излучением.
17. Набор, содержащий:
- фотосшиваемую косметическую композицию по любому из пп. 1-15,
- абразивный материал, имеющий гранулометрию, более или равную 200 мкм, предпочтительно менее 300 мкм, предпочтительно 220 мкм - 280 мкм, и
- светодиодную лампу (LED) или УФ-лампу.
18. Способ дизайна и/или ухода за ногтями и/или накладными ногтями, включающий следующие стадии:
i) шлифовка/полировка поверхности ногтей или накладных ногтей абразивным материалом, имеющим гранулометрию, более или равную 200 мкм, предпочтительно менее 300 мкм, предпочтительно в диапазоне 220 мкм - 280 мкм,
ii) нанесение фотосшиваемой композиции по любому из пп. 1-15 на поверхность ногтей или накладных ногтей, отшлифованную на стадии i), тем самым нанося покрытие, состоящее, по меньшей мере, из одного слоя указанной фотосшиваемой композиции, и
iii) воздействие на ногти или накладные ногти с покрытием, полученные на стадии ii), светодиодной лампой или УФ-лампой, тем самым осуществляя фотосшивание фотосшиваемой композиции.