СИСТЕМА И ПОЛИМЕР ДЛЯ БЫСТРОГО МАКЕТИРОВАНИЯ

1. Система для макетирования, включающая:
(а) устройство для получения трехмерного объекта из светочувствительного материала, причем указанное устройство включает:
систему (ES) экспонирования с источником излучения,
устройство (CU) управления,
где указанная система (ES) экспонирования включает:
по меньшей мере один пространственный модулятор (SLM) света с многочисленными индивидуально регулируемыми модуляторами (LM) света,
входную оптику (IO), оптически связанную с указанным по меньшей мере одним пространственным модулятором (SLM) света,
выходную оптику (OO), оптически связанную с указанным по меньшей мере одним пространственным модулятором (SLM) света,
причем указанные входная оптика (IO) и выходная оптика (OO) облегчают пропускание света, испускаемого указанным источником излучения, через указанные индивидуально регулируемые модуляторы (LM) света указанного пространственного модулятора (SLM) света к облучаемой области (IA),
причем указанный пространственный модулятор (SLM) света обеспечивает возможность создания картинки из света, пропущенного через указанную входную оптику (IO), согласно управляющим сигналам, выдаваемым указанным устройством (CU) управления,
причем указанная выходная оптика (OO) позволяет фокусировать картинку из света от указанного по меньшей мере одного пространственного модулятора (SLM) света на облучаемой области (IA); и
(b) полимерную композицию, включающую:
(A) по меньшей мере один акрилатный компонент,
(B) по меньшей мере один метакрилатный компонент,
(C) фотоинициатор.
2. Система по п.1, в которой устройство включает сканирующую линейку, на которой смонтирована система (ES) экспонирования, и/или в которой расстояние d между выходной оптикой (OO) и облучаемой областью (IA) составляет между 0,5 и 20 мм, и/или в которой источник излучения генерирует некогерентный свет.
3. Система по п.1, в которой полимерная композиция включает:
(A) 15-40% по весу по меньшей мере двух различных акрилатных компонентов,
(B) 50-80% по весу по меньшей мере двух различных метакрилатных компонентов,
(C) 0,1-7% по весу фотоинициатора
в расчете на общий вес полимерной композиции.
4. Система по п.1, в которой акрилатный компонент представляет собой алифатический или циклоалифатический акрилат, предпочтительно циклоалифатический диакрилат, или любую их смесь.
5. Система по п.4, в которой акрилатный компонент представляет собой акрилат полиэтиленгликоля, предпочтительно диакрилат полиэтиленгликоля.
6. Система по п.1, в которой метакрилатный компонент представляет собой алифатический уретановый метакрилат.
7. Система по п.6, в которой метакрилатный компонент представляет собой этоксилированный метакрилат бисфенола, предпочтительно этоксилированный диметакрилат бисфенола.
8. Система по п.1, в которой полимерная композиция дополнительно включает один или более полифункциональных тиолов, предпочтительно в количестве 0,1-10% по весу, более предпочтительно в количестве 1-8% по весу, в расчете на общий вес композиции.
9. Система по п.1, в которой полимерная композиция дополнительно включает стабилизатор, предпочтительно N-нитрозогидроксиламинный комплекс со структурой:
,
+
где R представляет углеводородный ароматический остаток, и S представляет соль.
10. Система по п.9, в которой N-нитрозогидроксиламинный комплекс представляет собой комплекс соли алюминия.
11. Полимерная композиция для макетирования, включающая:
(A) 5-60% по весу по меньшей мере одного акрилатного компонента, предпочтительно диакрилата полиэтиленгликоля или циклоалифатического диакрилата, или любой их смеси,
(B) 20-50% по весу по меньшей мере одного алифатического уретанового метакрилатного компонента,
(C) 0,5-5% по весу фотоинициатора,
(D) полифункциональный тиол
в расчете на общий вес композиции.
12. Полимерная композиция по п.11, включающая по меньшей мере:
(А1) 5-15% по весу одного или более диакрилатов полиэтиленгликоля,
(А2) 5-15% по весу одного или более алифатических или циклоалифатических диакрилатов,
(B1) 20-50% по весу одного или более алифатических уретановых метакрилатов,
(B2) 20-50% по весу одного или более этоксилированных метакрилатов бисфенола,
(C) 0,5-5% по весу фотоинициатора,
(D) 0,1-10% по весу одного или более полифункциональных тиолов,
(Е) от 0,01 до 0,5% по весу одного или более стабилизаторов
в расчете на общий вес композиции.
13. Способ получения трехмерного объекта (OB) с помощью системы по любому из пп.1-10 и/или с использованием полимера по любому из пп.11-12, включающий стадии, в которых:
a) формируют первый слой из жидкого светочувствительного материала;
b) экспонируют указанный первый слой ультрафиолетовым излучением, чтобы провести отверждение указанного первого слоя согласно предварительно заданной картинке;
c) наносят второй слой из жидкого светочувствительного материала на первый отвержденный слой;
d) экспонируют указанный второй слой ультрафиолетовым излучением, чтобы провести отверждение указанного второго слоя согласно предварительно заданной картинке;
e) повторяют стадии a)-d) до формирования предварительно заданного трехмерного объекта (OB).
14. Отвержденное изделие, полученное способом по п.13.
15. Система по любому из пп.1-10,
в которой устройство для получения трехмерного объекта из светочувствительного материала включает по меньшей мере одно сменяемое защитное окошко (PW) между указанной выходной оптикой (OO) и указанной облучаемой областью (IA).
16. Система по п.15,
в которой устройство для получения трехмерного объекта из светочувствительного материала включает по меньшей мере одну систему (LBa, LBb, HSa, HSb) детектирования для предотвращения столкновения между облучаемой областью (IA) и выходной оптикой (OO).