УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРИМЕНЕНИЯ В ЖИДКОСТНОМ КАПЕЛЬНОМ АППАРАТЕ

1. Устройство для использования в жидкостном капельном аппарате, содержащее:
- вибрационный элемент (201)
- апертурную пластину (205) и
- вибрационную платформу (203),
при этом вибрационная платформа расположена между вибрационным элементом и апертурной пластиной для передачи вибраций от вибрационного элемента к апертурной пластине, и при этом вибрационная платформа (203) построена таким образом, что апертурная пластина (205) расположена внутри полости (202), образованной в вибрационной платформе.
2. Устройство по п. 1, в котором вибрационный элемент (201) содержит кольцевое пьезоэлектрическое устройство, при этом во время работы это кольцевое пьезоэлектрическое устройство при его активизации является радиально расширяемым и сжимаемым.
3. Устройство по п. 1, в котором вибрационная платформа (203) содержит
- первый кольцевой участок (203а) для подсоединения к вибрационному элементу (201),
- второй кольцевой участок (203b) для подсоединения к апертурной пластине (205) и
- боковую стенку (203с),
при этом первый кольцевой участок (203а) лежит в первой плоскости, а второй кольцевой участок (203b) лежит во второй плоскости, причем, вторая плоскость является разделенной с первой плоскостью и является по существу параллельной ей, и является разделенной с третей плоскостью, соответствующей плоскости, в которой лежит вибрационный элемент (201), и является по существу параллельной ей, и при этом между первым кольцевым участком (203а) и вторым кольцевым участком (203b) находится связующая их боковая стенка (203с), определяя полость.
4. Устройство по п. 3, в котором боковая стенка (203с) вибрационной платформы (203) наклонена под углом по отношению к первой и ко второй плоскостям этой вибрационной платформы и сконфигурирована таким образом, что любое расширение вибрационного элемента (201) во время работы во внешнем радиальном направлении приводит к тому, что боковая стенка (203с) вибрационной платформы (203) становится менее ортогональной по отношению к первой и ко второй плоскостям вибрационного элемента, тем самым вынуждая апертурную пластину (205) во время работы двигаться в направлении, соответствующем направлению спрея.
5. Устройство по любому из пп. 3 и 4, в котором первый кольцевой участок (203а) вибрационной платформы неподвижно соединен с кольцевым участком вибрационного элемента (201), а второй кольцевой участок (203b) вибрационной платформы неподвижно соединен с апертурной пластиной (205).
6. Устройство по любому из пп. 3-5, в котором вибрационная платформа (203) сконфигурирована таким образом, что боковая стенка (203с) вибрационной платформы (203) проходит через отверстие в вибрационном элементе (201).
7. Устройство по п. 5 или 6, в котором апертурная пластина (205) расположена внутри полости (202) таким образом, что эта апертурная пластина подсоединена к той стороне второго кольцевого участка (203b), которая является внутренней, направленной в сторону полости (202).
8. Устройство по любому из предшествующих пунктов, в котором вибрационная платформа (203) построена таким образом, что апертурная пластина (205) расположена внутри полости, содержащей коническую структуру, образованную вибрационной платформой (203).
9. Устройство по любому из пп. 1-7, в котором вибрационная платформа (203) образована из инвертированной конструкции таким образом, что апертурная пластина (205) расположена внутри конической структуры, образованной вибрационной платформой (203).
10. Устройство по любому из пп. 3-9, в котором первый кольцевой участок (203а) вибрационного элемента неподвижно прикреплен к кольцевому пьезоэлектрическому устройству (201) со стороны, соответствующей направлению тока текучей субстанции во время работы, и в котором боковая стенка (203с) и второй кольцевой участок (203b) вибрационного элемента выступает по крайней мере в отверстие кольцевого пьезоэлектрического устройства (201) в направлении, противоположном направлению тока.
11. Устройство по любому из предшествующих пунктов, в котором вибрационная платформа (203) содержит место соединения, в котором во время изготовления не возникло никаких напряжений, для обеспечения вибрационной платформе во время работы дополнительного движения в ответ на перемещение вибрационного элемента в радиальном направлении.
12. Устройство по любому из пп. 1- 10, в котором вибрационная платформа (203) содержит по меньшей мере одно гибкое место соединения (203d, 203e, 203f).
13. Устройство по любому из пп. 3-12, в котором вибрационная платформа (203) построена таким образом, что одно или более пересечений между первым кольцевым участком (203а), вторым кольцевым участком (203b) и боковой стенкой (203с) являются криволинейными.