МАШИНА ДЛЯ СТЕРЕОЛИТОГРАФИИ С УЛУЧШЕННЫМ ОПТИЧЕСКИМ БЛОКОМ

1. Машина (1) для стереолитографии, содержащая:
- контейнер (2) для жидкого вещества (14), отверждающегося под воздействием заранее установленного излучения (3а);
- источник (3) указанного заранее установленного излучения (3а);
- оптический блок (4), пригодный для селективного направления указанного излучения (3а) к любой точке базовой поверхности (5), размещенной внутри указанного контейнера (2);
- логический блок (6) управления, выполненный с возможностью управления указанным оптическим блоком (4) и/или указанным источником (3) излучения для облучения заранее заданной части указанной базовой поверхности (5) указанным излучением (3а),
отличающаяся тем, что указанный оптический блок (4) содержит микро-опто-электро-механическую систему (МОЭМС) (7), снабженную:
- зеркалом (8), связанным с опорной конструкцией (9) через шарнирные соединения (7b), выполненные с возможностью определять для указанного зеркала (8), по меньшей мере, две оси (X, Y) вращения, пересекающиеся друг с другом;
- привод (7а), пригодный для перемещения указанного зеркала (8) вокруг каждой из указанных двух осей (X, Y), независимо от перемещения вокруг другой из указанных двух осей (X, Y),
при этом указанное зеркало (8) расположено относительно указанного источника (3) излучения и указанного контейнера (2) так, чтобы обеспечить возможность направления указанного излучения (3а) к каждой точке указанной базовой поверхности (5) через соответствующую комбинацию поворотов вокруг указанных двух осей (X, Y).
2. Машина (1) для стереолитографии по п. 1, отличающаяся тем, что указанные две оси (X, Y) вращения взаимно перпендикулярны.
3. Машина (1) для стереолитографии по п. 1, отличающаяся тем, что указанные шарнирные соединения (7b) содержат раму (10), поддерживающую указанное зеркало (8) с возможностью вращения вокруг первой (X) из указанных осей вращения, причем указанная рама (10) связана с указанной опорной конструкцией (9) с возможностью вращения вокруг второй (Y) из указанных осей вращения.
4. Машина (1) для стереолитографии по п. 3, отличающаяся тем, что указанные шарнирные соединения (7b) содержат первые соединительные области (11), расположенные между указанным зеркалом (8) и указанной рамой (10), выполненные с возможностью гибкого поворота вокруг указанной первой оси (X) вращения, и вторые соединительные области (12), расположенные между указанной рамой (10) и указанной опорной конструкцией (9), выполненные с возможностью гибкого поворота вокруг второй оси (Y) вращения.
5. Машина (1) для стереолитографии по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что указанный привод (7а) выполнен с возможностью вращения указанного зеркала (8) вокруг любой из указанных двух осей (X, Y) так, чтобы организовать его угловое положение в ответ на управляющий сигнал, испускаемый указанным логическим блоком (6) управления и имеющий значение, представляющее указанное угловое положение.
6. Машина (1) для стереолитографии по п. 5, отличающаяся тем, что указанный логический блок (6) управления выполнен с возможностью перемещения указанного зеркала (8) так, что точка атаки указанного излучения (3а) на указанной базовой поверхности (5) образует непрерывную траекторию, покрывающую полностью указанную заранее заданную часть.
7. Машина (1) для стереолитографии по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что указанный привод (7а) выполнен с возможностью генерирования цикличного перемещения указанного зеркала (8) так, что указанное излучение (3а) может падать на всю базовую поверхность (5) в каждом цикле, причем указанный логический блок (6) управления выполнен с возможностью селективного изменения интенсивности указанного излучения от источника (3) так, что, когда указанное излучение (3а) падает внутрь указанной заранее заданной части, указанная интенсивность выше, чем когда указанное излучение (3а) падает вне указанной заранее заданной части.
8. Машина (1) для стереолитографии по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что указанная микрооптоэлектромеханическая система (7) принадлежит интегрированной схеме, снабженной контактами для электрического соединения с указанной машиной (1), содержащей соответствующие средства соединения, сконфигурированные для вмещения в них указанных контактов так, чтобы механически зафиксировать указанную интегрированную схему.
9. Машина (1) для стереолитографии по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что указанный источник (3) излучения является лазерным излучателем.
10. Машина (1) для стереолитографии по любому из пп. 1-4, отличающаяся тем, что указанный оптический блок (4) содержит, по меньшей мере, одну линзу (13), предназначенную для фокусировки указанного излучения (3а) на базовой поверхности (5).
11. Применение микрооптоэлектромеханической системы (МОЭМС) (7), снабженной зеркалом (8), выполненным с возможностью вращения вокруг, по меньшей мере, двух осей (X, Y) вращения, пересекающих друг друга и независимых друг от друга, в машине (1) для стереолитографии, содержащей контейнер (2) для жидкого вещества (14) и источник (3) излучения, для селективного направления указанного излучения к любой точке базовой поверхности (5), расположенной внутри указанного контейнера (2).