СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОСТРУКТУР И ТВЕРДОФАЗНЫХ НАНОСТРУКТУРИРОВАННЫХ МАТЕРИАЛОВ С ЗАДАННЫМ ГЕОМЕТРИЧЕСКИМ РАСПРЕДЕЛЕНИЕМ

1. Способ формирования наноструктур и твердофазных наноструктурированных материалов с заданным геометрическим распределением, отличающийся тем, что наночастицы получают путем управляемого воздействия лазерного излучения на образец, на котором выполнена матрица с упорядоченной структурой, при этом наночастицы осаждают на холодной подложке в зависимости от топологических особенностей матриц.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве образца используют материал с наноструктурированной поверхностью.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что в качестве образца используют нанопористый материал (мезопористые материалы, нанопористый углерод).
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что подложку для напыления наночастиц делают из прозрачного для лазерного излучения с заданной длинной волны материала.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что используют непрозрачные подложки, в которых для прохождения лазерного излучения выполнено отверстие.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что выполняют монослои, используя одну и ту же подложку.
7. Способ по п.1, отличающийся тем, что матрицу выполняют на подложке, а осаждение частиц производят на образце.
8. Способ по п.1, отличающийся тем, что осаждение наночастиц производят в определенной стороне путем сдувания наночастиц с помощью газа.