СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НАПРАВЛЕННОГО ЭКСТРЕМАЛЬНОГО УЛЬТРАФИОЛЕТОВОГО (ЭУФ) ИЗЛУЧЕНИЯ ДЛЯ ПРОЕКЦИОННОЙ ЛИТОГРАФИИ ВЫСОКОГО РАЗРЕШЕНИЯ И ИСТОЧНИК НАПРАВЛЕННОГО ЭУФ ИЗЛУЧЕНИЯ ДЛЯ ЕГО РЕАЛИЗАЦИИ

1. Способ получения направленного экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) излучения для проекционной литографии высокого разрешения, основанный на использовании линейчатого излучения многозарядных ионов в заданном диапазоне ЭУФ, для создания и возбуждения которых применяют плазму ограниченного размера, нагрев электронов в которой осуществляют мощным электромагнитным излучением, а формирование направленного ЭУФ излучения производят с помощью рентгеновского зеркала нормального падения, в фокусе которого помещают упомянутую плазму ограниченного размера, отличающийся тем, что плазму предварительно формируют сторонним узконаправленным инжектором, после чего нагрев электронов плазмы производят в магнитном поле в условиях электронно-циклотронного резонанса мощным электромагнитным излучением миллиметрового или субмиллиметрового диапазона длин волн в непрерывном режиме, а для формирования плазмы ограниченного размера используют упомянутое магнитное поле и уменьшающее поперечные размеры плазмы отверстие на оси симметрии рентгеновского зеркала, при этом рабочую сторону рентгеновского зеркала изолируют от потоков плазмы, нейтральных капель материала катода и энергичных частиц.
2. Источник направленного экстремального ультрафиолетового (ЭУФ) излучения для проекционной литографии высокого разрешения на основе плазмы ограниченных размеров с многозарядными ионами, содержащий генератор электромагнитного излучения, обеспечивающий нагрев плазмы, образование и возбуждение упомянутых многозарядных ионов, линии излучения которых лежат в заданном диапазоне ЭУФ, и рентгеновское зеркало, рабочая сторона которого позволяет формировать направленное ЭУФ излучение в виде параллельного или сходящегося пучка, отличающийся тем, что в него введен инжектор узконаправленного потока плазмы в магнитную ловушку, на выходе которой установлено упомянутое рентгеновское зеркало, отверстие на оси симметрии которого уменьшает поперечный размер потока плазмы, при этом рентгеновское зеркало развернуто рабочей стороной от инжектора плазмы, за фокальной областью рентгеновского зеркала расположен компактный уловитель плазмы, а конфигурация магнитного поля, размеры уловителя плазмы и отверстия на оси рентгеновского зеркала подобраны таким образом, чтобы обеспечить изоляцию рабочей стороны рентгеновского зеркала от потоков заряженных и нейтральных частиц, генератор же электромагнитного излучения миллиметрового или субмиллиметрового диапазона длин волн для нагрева электронов плазмы снабжен вогнутыми зеркалами, направляющими электромагнитное излучение со стороны инжектора на поток плазмы в магнитной ловушке в область электронно-циклотронного резонанса.
3. Источник направленного ЭУФ излучения для проекционной литографии высокого разрешения по п.2, отличающийся тем, что на выходе магнитной ловушки перед рентгеновским зеркалом введена ограничивающая диафрагма, уменьшающая поперечный размер плазмы.
4. Источник направленного ЭУФ излучения для проекционной литографии высокого разрешения по п.3, отличающийся тем, что введена входная диафрагма, образующая совместно с ограничивающей диафрагмой многомодовый резонатор, использование которого обеспечивает многопроходовое поглощение электромагнитного излучения в области ЭЦР резонанса, улучшая согласование электромагнитного излучения с плазмой.
5. Источник направленного ЭУФ излучения для проекционной литографии высокого разрешения по п.3, отличающийся тем, что качестве ограничивающей диафрагмы и стенки резонатора использовано рентгеновское зеркало, обратная сторона которого служит стенкой резонатора, а отверстие на оси ограничивает поперечный размер плазмы.