СПОСОБ ПОВЕРХНОСТНОЙ ОБРАБОТКИ СТРУКТУР КОМПОЗИЦИОННОГО МАТЕРИАЛА ПУЧКАМИ ПЛАЗМЫ ПРИ АТМОСФЕРНОМ ДАВЛЕНИИ

1. Способ поверхностной обработки предварительно определенных площадей структуры композиционного материала, по меньшей мере, одним плазменным пучком при атмосферном давлении, полученным с помощью генератора плазмы, снабженного эмиссионной форсункой, для того, чтобы облегчить адгезионное связывание с другой структурой, причем плазменный пучок, испущенный через форсунку, включает активный газ, при этом активный газ спроецирован на структуру композиционного материала с расстояния в диапазоне от 0,2 до 10 см, причем плазменный пучок спроецирован на структуру композиционного материала под углом падения в диапазоне от 75 до 105°, отличающийся тем, что плазменный пучок спроецирован на структуру композиционного материала, так что угол контактирования, образованный со структурой композиционного материала, составляет менее чем 90°, результатом чего является то, что структура композиционного материала смачивает поверхность другой структуры, причем угол контактирования представляет собой важный индикатор, поскольку существенное условие для того, чтобы адгезионное связывание структуры композиционного материала с другой структурой было эффективным, заключается в обеспечении тесного контакта между структурой композиционного материала и другой структурой.
2. Способ поверхностной обработки предварительно определенных площадей структуры композиционного материала по п.1, отличающийся тем, что плазменный пучок включает, по меньшей мере, один активный газ.
3. Способ поверхностной обработки предварительно определенных площадей структуры композиционного материала по п.2, отличающийся тем, что структура композиционного материала включает углеродное волокно и эпоксидную смолу, и активный газ представляет собой воздух.
4. Способ поверхностной обработки предварительно определенных площадей структуры композиционного материала по п.2, отличающийся тем, что структура композиционного материала включает углеродное волокно и бисмалеинимидную смолу, и активный газ представляет собой воздух.
5. Способ поверхностной обработки предварительно определенных площадей структуры композиционного материала по любому из пп.3 или 4, отличающийся тем, что плазменный пучок, испущенный форсункой, спроецирован с расстояния в диапазоне от 0,5 до 3 см.
6. Способ поверхностной обработки предварительно определенных площадей структуры композиционного материала по любому из пп.3 или 4, отличающийся тем, что скорость обработки находится в диапазоне от 0,8 до 2 м/мин.
7. Способ поверхностной обработки предварительно определенных площадей структуры композиционного материала по любому из пп.3 или 4, отличающийся тем, что плазменный пучок спроецирован с мощностью в диапазоне от 2000 до 3000 Вт.
8. Способ поверхностной обработки предварительно определенных площадей структуры композиционного материала по п.2, отличающийся тем, что структура композиционного материала включает стекловолокно и эпоксидную смолу, и активный газ представляет собой воздух.
9. Способ поверхностной обработки предварительно определенных площадей структуры композиционного материала по п.1, отличающийся тем, что плазменный пучок спроецирован на неподвижную структуру композиционного материала с помощью подвижного генератора плазмы.
10. Способ поверхностной обработки предварительно определенных площадей структуры композиционного материала по п.1, отличающийся тем, что плазменный пучок спроецирован с помощью фиксированного генератора плазмы на подвижную структуру композиционного материала.
11. Способ поверхностной обработки предварительно определенных площадей структуры композиционного материала по п.9 или 10, отличающийся тем, что он использует автоматические средства для контроля относительных смещений между генератором плазмы и структурой композиционного материала и угол падения между плазменным пучком и структурой композиционного материала в разных частях структуры.