Статья

Статья

Исследования плазмы

1971. Т. 9. № 6. С. 1139–1150

Храпак А.Г., Якубов И.Т.

Электропроводность неидеальной низкотемпературной плазмы и ее металлизация

При сильном сжатии плазмы от газовых плотностей до плотностей, порядка металлических электропроводность возрастает на несколько порядков. На первом этапе этого процесса неидеальная невырожденная плазма обладает свойствами, характерными для некоторых полупроводников. Ее электропроводность вычислена по формуле Кубо с учетом взаимодействия заряженных частиц с нейтральными, которое является сильным. При еще больших плотностях на втором этапе металлизации плазма, по-видимому, становится гетерогенной системой. Это позволяет объяснить некоторые аномальные зависимости, наблюдаемые, в частности, в плазме паров ртути.

УДК: 533.9.01

Ссылка на статью:

Храпак А.Г., Якубов И.Т.

Электропроводность неидеальной низкотемпературной плазмы и ее металлизация, ТВТ, 1971. Т. 9. № 6. С. 1139

High Temp. 1971, v.9, №6, pp. 0-0