РЕАКТОР ДЛЯ ПРОКСИМАЛЬНОГО И ПЕРПЕНДИКУЛЯРНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ ЭЛЕКТРОМАГНИТНЫХ ВОЛН НА ТОНКОМ СЛОЕ ЖИДКОСТИ

1. Трубчатый реактор (1, 1') для облучения EMW (электромагнитных волн) имеет по существу цилиндрическую форму, состоящую из:
пары концентрических трубок (2, 4), проходящих в продольном направлении (L) и включающих наружную трубу (2), определяемую внутренней стенкой наружной трубы (2) и внешней стенкой наружной трубы (2), и внутреннюю трубу (4), определяемую внутренней стенкой внутренней трубы и внешней стенкой внутренней трубы, указанной наружной и внутренней трубами, изготовленными из прозрачного материала для EMW, например кварца, открытые на обоих концах и образующие зазор (6), определяемый внутренней стенкой наружной трубы (2) и наружной стенкой внутренней трубы (4), причем зазор подходит для прохождения материала, подлежащего обработке, например, в твердой, жидкой, газообразной и/или порошкообразной форме;
пары противоположных источников излучения EMW, состоящих из внешнего источника (10) и внутреннего источника, причем внешний и внутренний источники, содержащие каждый по крайней мере один EMW излучатель, внешний источник (10), окружающий наружную стенку наружной трубы (2) с поверхностью излучения EMW внешнего источника, обращенной внутрь реактора, внутренний источник (8), окружающий внутреннюю стенку внутренней трубки с поверхностью излучения EMW внутреннего источника, обращенной к внешней стороне реактора, при этом источники излучения излучают EMW с длинами волн, содержащимися между ультрафиолетовыми (УФ) и инфракрасными (ИК) лучами, чтобы излучать перпендикулярно, относительно продольного направления (L) развития реактора, подлежащего обработке материала, протекающего в зазоре (6).
2. Пластинчатый реактор (20, 20') для облучения EMW (электромагнитных волн), включающий: пару плоских пластин (12, 14) прямоугольной формы и проходящих в продольном направлении (L), указанных плоских пластины (12, 14), изготовленных из прозрачного материала для EMW, например кварца, и расположенных без контакта друг над другом с помощью пары профилей (16, 18), подходящих для зацепления с продольными краями плоских пластин (12, 14), указанных плоских пластин (12, 14) и указанных профилей (16, 18), ограничивающих внешнюю часть реактора и внутреннюю часть реактора, причем внутренняя часть образует зазор, открытый с обоих концов и пригодный для прохождения тонкой пленки материала, подлежащего обработке, например, в твердом, жидком, газообразном и/или порошкообразном виде; пару противоположных источников излучения EMW, причем указанные источники покрывают поверхность пары плоских пластин (12, 14), образующих внешнюю часть реактора и излучающих EMW к внутренней части реактора таким образом, чтобы излучать перпендикулярно продольному направлению (L) развития реактора, зазор, где проходит обрабатываемый материал, с длинами волн между ультрафиолетовым (УФ) и инфракрасным (ИК) лучами.
3. Реактор по любому из предшествующих пунктов, состоящий из пары отражателей, при этом первый отражатель указанной пары покрывает первый источник излучения из пары источников излучений, а второй отражатель указанной пары отражателей покрывает второй источник излучений, причем первый и второй отражатели подходят для отражения EMW в направлении зазора.
4. Реактор по п. 3 содержит пару отражателей, изготовленных из материала, имеющего коэффициент отражения EMW в диапазоне от 0,5 до 1.
5. Реактор по п. 3 или 4 содержит пару отражателей, изготовленных из материала, теплопроводность которого составляет менее 5 Вт/м-К, рассчитанная при 20°С.
6. Реактор в соответствии с любыми предыдущими пунктами, в котором источники излучений излучают EMW с различными длинами волн.
7. Реактор в соответствии с любым из предыдущих пунктов, в котором расстояние между подлежащим обработке материалом и любым из двух источников излучений составляет от 50 микрометров до 30 миллиметров.
8. Реактор в соответствии с любым из предыдущих пунктов, в котором концентрические трубки (2, 4) или плоские пластины (12, 14) имеют толщину не более 1 миллиметра.
9. Реактор в соответствии с любым из предыдущих пунктов, в котором каждый источник излучений EMW включает в себя множество эммитеров EMW, расположенных таким образом, чтобы образовать эмиссионный слой.
10. Устройство для дезинфекции (30) жидкостей, изготовленных внутри переносного корпуса (26), состоящего из трубчатого реактора (1, 1') и/или пластинчатого реактора (20, 20') по любому из предшествующих пунктов, и подходящие источники электроэнергии для эксплуатации указанных реакторов (1, 1', 20, 20',).