СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ НЕПРИЛИПАЮЩЕГО ПОКРЫТИЯ НА ОСНОВЕ КАРБИДА КРЕМНИЯ

1. Способ получения пористого неприлипающего покрытия, образованного из частиц карбида кремния, по меньшей мере частично покрытых нанометровым слоем диоксида кремния, на поверхности грани (граней) материала, включающий по меньшей мере следующие стадии:
(1) получение жидкой среды, содержащей по меньшей мере одну дисперсию частиц карбида кремния,
(2) осаждение указанной среды на поверхность грани (граней) обрабатываемого материала в количестве, достаточном для получения при сушке нанесенной композиции пленки, образованной по меньшей мере из частиц карбида кремния, и
(3) подвергание материала, обработанного согласно стадии (2), термической обработке в окислительной атмосфере и в условиях, достаточных для осуществления образования слоя оксида кремния на поверхности частиц карбида кремния и получения указанного пористого неприлипающего покрытия, образованного из карбида кремния.
2. Способ по п.1, где стадию (2) могут повторять один или несколько раз перед осуществлением стадии (3).
3. Способ по любому из пп.1 и 2, где все стадии (2) и (3) могут повторять по меньшей мере один раз после стадии (3).
4. Способ по п.1, где композиция со стадии (1) также содержит по меньшей мере одно органическое связующее вещество.
5. Способ по п.4, где связующее вещество выбирают из поливинилового спирта, полиэтиленгликоля и карбоксиметилцеллюлозы.
6. Способ по п.1, в котором жидкая среда, включенная на стадии (1), основана на воде.
7. Способ по любому из пп.1 и 2, где жидкая среда со стадии (1) содержит от 0 до 20 мас.% по меньшей мере одного связующего вещества с 20% - 60 мас.% карбида кремния.
8. Способ по любому из пп.1 и 2, где стадию (3) осуществляют при температуре ниже 1095°С.
9. Способ по любому из пп.1 и 2, где сушку на стадии (2) осуществляют при температуре в диапазоне от 25 до 80°С и, в частности от 30 до 50°С.
10. Способ по любому из пп.1 и 2, где стадию (3) могут осуществлять в окислительной атмосфере в течение от 1 до 5 ч при температуре в диапазоне от 500°С до 1050°С и, в частности от 800 до 1050°С.
11. Способ по любому из пп.1 и 2, где осаждение на стадии (2) осуществляют с помощью кисти и/или распылителя.
12. Способ по любому из пп.1 и 2, где пористый слой, образованный из частиц карбида кремния, может обладать толщиной в диапазоне от 5 мкм до 1 мм и, в частности от 10 мкм до 200 мкм.
13. Способ по любому из пп.1 и 2, где слой диоксида кремния, образованный на поверхности частиц карбида кремния, может обладать толщиной в диапазоне от 2 до 100 нм и, в частности от 10 до 30 нм.
14. Способ по любому из пп.1 и 2, где указанный материал выбирают из диоксида кремния, карбида кремния и графита.
15. Материал, обладающий покрытием, образованным, как описано в любом из пп.1-14.
16. Материал по п.15, отличающийся тем, что он представляет собой тигель.