СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПРОВЕДЕНИЯ ХИМИЧЕСКИХ ПРОЦЕССОВ

1. Способ проведения химических процессов, в котором исходные материалы нагревают, причем в резервуаре или реакторе получают жидкую ванну легкоплавких металлов или металлических сплавов, отличающийся тем, что исходные материалы как твердые материалы дозировано вводят прямо в жидкую ванну в нижней части резервуара или реактора.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что исходный материал дозировано вводят в резервуар или реактор как твердое вещество.
3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что легкоплавкий металл или легкоплавкий металлический сплав нагревают в резервуаре или реакторе нагревательным устройством.
4. Способ по п.3, отличающийся тем, что легкоплавкий металл или легкоплавкий металлический сплав нагревают до температуры от 50 до 1000°C.
5. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что плотность исходного материала меньше, чем плотность легкоплавкого металла или легкоплавкого металлического сплава.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что автоматическое течение исходного материала через жидкую ванну замедляют заграждающими стенками, спиральными направляющими трубами или решетками.
7. Устройство проведения химических процессов с резервуаром или реактором для вмещения жидкой ванны легкоплавкого металла или легкоплавкого металлического сплава, отличающееся тем, что резервуар или реактор в своей нижней части оборудован подающим устройством для дозированной подачи исходных материалов как твердых материалом прямо в жидкую ванну.
8. Устройство по п.7, отличающееся тем, что подающее устройство выполнено для дозированной подачи твердого исходного материала.
9. Устройство по п.7 или 8, отличающееся тем, что резервуар или реактор выполнен с нагревательным элементом в нижней части.
10. Устройство по п.7 или 8, отличающееся тем, что стенки резервуара или реактора выполнены с цилиндрическим нагревательным элементом.
11. Устройство по п.10, отличающееся тем, что резервуар или реактор снабжен цилиндрическим индукционным нагревателем.
12. Устройство по п.10, отличающееся тем, что цилиндрический обогреватель рассчитан для достижения градиентов температуры по высоте резервуара или реактора.
13. Устройство по п.11, отличающееся тем, что цилиндрический обогреватель рассчитан для достижения градиентов температуры по высоте резервуара или реактора.
14. Устройство по п.7 или 8, отличающееся тем, что реактор оборудован замедляющими заграждениями, решетками или сетками или спиральными направляющими трубами.
15. Устройство по п.11, отличающееся тем, что реактор оборудован замедляющими заграждениями, решетками или сетками или спиральными направляющими трубами.