РЕАКТОР АТОМНО-СЛОЕВОГО ОСАЖДЕНИЯ ДЛЯ ОБРАБОТКИ ПАРТИИ ПОДЛОЖЕК И СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПАРТИИ ПОДЛОЖЕК

1. Способ, включающий:
обеспечение модуля реакционной камеры реактора атомно-слоевого осаждения для обработки партии подложек способом атомно-слоевого осаждения; и
загрузку партии подложек перед обработкой в модуль реакционной камеры по пути, отличающемуся от пути, по которому партию подложек разгружают после обработки.
2. Способ по п. 1, включающий:
предварительную обработку партии подложек в модуле предварительной обработки реактора атомно-слоевого осаждения;
обработку предварительно обработанной партии подложек способом атомно-слоевого осаждения в модуле реакционной камеры реактора; и
заключительную обработку обработанной партии подложек в модуле заключительной обработки реактора, причем модуль предварительной обработки, модуль реакционной камеры и модуль заключительной обработки расположены последовательно.
3. Способ по п. 2, отличающийся тем, что обработка способом атомно-слоевого осаждения включает осаждение материала на партию подложек посредством последовательных самонасыщающихся поверхностных реакций.
4. Способ по п. 2, отличающийся тем, что модуль предварительной обработки является модулем предварительного нагрева, а предварительная обработка включает предварительный нагрев партии подложек.
5. Способ по п. 2, отличающийся тем, что модуль заключительной обработки является охлаждающим модулем, а заключительная обработка включает охлаждение партии подложек.
6. Способ по п. 2, отличающийся тем, что он включает транспортировку партии подложек в одном направлении вдоль всей технологической линии, а технологическая линия включает модули предварительной обработки, реакционной камеры и заключительной обработки.
7. Способ по п. 2, отличающийся тем, что модуль предварительной обработки является первой загрузочной шлюзовой камерой, а способ включает предварительный нагрев партии подложек при повышенном давлении в первой загрузочной шлюзовой камере посредством передачи тепла.
8. Способ по п. 2, отличающийся тем, что модуль заключительной обработки является второй загрузочной шлюзовой камерой, а способ включает охлаждение партии подложек при повышенном давлении во второй загрузочной шлюзовой камере посредством передачи тепла.
9. Способ по любому из предыдущих пунктов, отличающийся тем, что он включает разделение партии подложек на подпартии подложек и одновременную обработку всех подпартий в модуле реакционной камеры, причем для каждой подпартии предусмотрены собственное впускное отверстие для потока газа и собственное выпускное отверстие для потока газа.
10. Способ по любому из пп. 1-8, отличающийся тем, что он включает осаждение оксида алюминия на структуру солнечного элемента.
11. Устройство, содержащее:
модуль реакционной камеры реактора атомно-слоевого осаждения, выполненный с возможностью обработки партии подложек способом атомно-слоевого осаждения; и
устройство для загрузки и разгрузки, обеспечивающее загрузку партии подложек перед обработкой в модуль реакционной камеры по пути, отличающемуся от пути, по которому партию подложек разгружают после обработки.
12. Устройство по п. 11, содержащее:
модуль предварительной обработки реактора атомно-слоевого осаждения, выполненный с возможностью предварительной обработки партии подложек;
модуль реакционной камеры реактора, выполненный с возможностью обработки предварительно обработанной партии подложек способом атомно-слоевого осаждения; и
модуль заключительной обработки реактора, выполненный с возможностью заключительной обработки обработанной партии подложек, причем модуль предварительной обработки, модуль реакционной камеры и модуль заключительной обработки расположены последовательно.
13. Устройство по п. 12, отличающееся тем, что обработка способом атомно-слоевого осаждения включает осаждение материала на партию подложек посредством последовательных самонасыщающихся поверхностных реакций.
14. Устройство по п. 12, отличающееся тем, что модуль предварительной обработки является модулем предварительного нагрева, выполненным с возможностью предварительного нагрева партии подложек.
15. Устройство по п. 12, отличающееся тем, что модуль заключительной обработки является охлаждающим модулем, выполненным с возможностью охлаждения партии подложек.
16. Устройство по п. 12, отличающееся тем, что устройство выполнено с возможностью транспортировки партии подложек в одном направлении вдоль всей технологической линии, а технологическая линия включает модули предварительной обработки, реакционной камеры и заключительной обработки.
17. Устройство по п. 12, отличающееся тем, что модуль предварительной обработки является первой загрузочной шлюзовой камерой, выполненной с возможностью предварительного нагрева партии подложек при повышенном давлении посредством передачи тепла.
18. Устройство по п. 12, отличающееся тем, что модуль заключительной обработки является второй загрузочной шлюзовой камерой, выполненной с возможностью охлаждения партии подложек при повышенном давлении посредством передачи тепла.
19. Устройство по любому из пп. 11-18, отличающееся тем, что модуль реакционной камеры содержит разделительные стенки или выполнен с возможностью принимать разделительные стенки, разделяющие партию подложек на подпартии подложек, причем для каждой подпартии предусмотрены собственное впускное отверстие для потока газа и собственное выпускное отверстие для потока газа.