СИСТЕМА ДЛЯ МАГНИТНОГО ЭКРАНИРОВАНИЯ

1. Система для магнитного экранирования аппарата литографии пучками заряженных частиц, содержащая:
- первую камеру, имеющую стенки, содержащие магнитный экранирующий материал, заключающую в себе, по меньшей мере частично, аппарат литографии пучками заряженных частиц;
- вторую камеру, имеющую стенки, содержащие магнитный экранирующий материал, заключающую в себе первую камеру; и
- набор из двух катушек, расположенных во второй камере на противоположных сторонах от первой камеры, причем эти две катушки имеют общую ось,
дополнительно содержащая по меньшей мере один датчик магнитного поля для измерения магнитного поля в пределах второй камеры.
2. Система по п. 1, при этом первая камера снабжена отверстием для обеспечения возможности выходящему из аппарата литографии излучению воздействовать на обрабатываемую подложку, предусмотренную на подложкодержателе во второй камере, и при этом упомянутый по меньшей мере один датчик магнитного поля размещен между первой камерой и подложкодержателем.
3. Система по п. 1 или 2, при этом датчик магнитного поля размещен в непосредственной близости от отверстия в первой камере.
4. Система по п. 1 или 2, при этом вторая камера заключает в себе:
- первый набор из двух катушек, расположенных на противоположных сторонах от первой камеры, причем две катушки первого набора имеют общую ось в первом направлении;
- второй набор катушек, расположенных на противоположных сторонах от первой камеры, причем две катушки второго набора имеют общую ось во втором направлении, практически перпендикулярном первому направлению;
- третий набор катушек, расположенных на противоположных сторонах от первой камеры, причем две катушки третьего набора имеют общую ось в третьем направлении, практически перпендикулярном первому направлению и второму направлению.
5. Система по п. 1 или 2, при этом расстояние между катушкой и ближайшей стенкой второй камеры, измеренное вдоль направления, практически параллельного общей оси, меньше, чем такое расстояние между упомянутой катушкой и ближайшей стенкой первой камеры.
6. Система по п. 1 или 2, при этом катушки расположены в непосредственной близости от стенок второй камеры.
7. Система по п. 1 или 2, при этом все стенки первой камеры расположены ближе к аппарату литографии пучками заряженных частиц, чем к по меньшей мере одной стенке второй камеры.
8. Система по п. 6, при этом все стенки первой камеры расположены ближе к аппарату литографии пучками заряженных частиц, чем к какой-либо стенке второй камеры.
9. Система по п. 1 или 2, при этом магнитный экранирующий материал включает материал с большей относительной магнитной проницаемостью, чем примерно 300000.
10. Система по п. 1 или 2, при этом материал представляет собой мю-металл.
11. Система по п. 1 или 2, при этом первая камера снабжена размагничивающим приспособлением.
12. Система по п. 1 или 2, при этом вторая камера снабжена размагничивающим приспособлением.
13. Система по п. 11, при этом размагничивающее приспособление содержит одну или более размагничивающих катушек.
14. Система по п. 1 или 2, при этом первая камера имеет кубическую, цилиндрическую или коробчатую форму.
15. Система по п. 1 или 2, дополнительно содержащая по меньшей мере один дополнительный датчик магнитного поля для измерения магнитного поля в пределах первой камеры.
16. Система по п. 1 или 2, дополнительно содержащая систему управления для управления токами через катушки на основании информации, предоставляемой упомянутым по меньшей мере одним датчиком магнитного поля и/или упомянутым по меньшей мере одним дополнительным датчиком магнитного поля.
17. Система по п. 1 или 2, при этом установка литографии пучками заряженных частиц содержит:
- источник заряженных частиц для создания одного или более пучков заряженных частиц;
- подвижное устройство для поддержания мишени; и
- устройство формирования рисунка для обеспечения возможности переноса упомянутых одного или более пучков на поверхность мишени в соответствии с рисунком.
18. Система по п. 17, при этом первая камера заключает в себе источник заряженных частиц и устройство формирования рисунка, при этом подвижное устройство расположено вне первой камеры, и при этом первая камера снабжена отверстием на стороне, обращенной к подвижному устройству.
19. Способ компенсации магнитного поля в установке литографии пучками заряженных частиц, содержащей магнитное экранирование по п. 1 или 2, содержащий этапы:
- размещения подложкодержателя в положении ниже отверстия в первой камере;
- измерения магнитного поля во второй камере датчиком магнитного поля;
- регулировки компенсационных токов в катушках до тех пор, пока измеренное во всех направлениях магнитное поле не станет практически равным нулю во всех направлениях;
- поддержания компенсационных токов в катушках в течение экспозиции мишени.
20. Способ по п. 19, дополнительно содержащий этап дальнейшего измерения и компенсации магнитного поля в течение последующего движения опорного элемента.