ОСТЕКЛЕНИЕ С ВЫСОКОЙ ОТРАЖАТЕЛЬНОЙ СПОСОБНОСТЬЮ

1. Остекление, содержащее по меньшей мере один слой, нанесенный путем катодного распыления в вакууме, причем этот слой состоит из одного или более оксидов и содержит оксид титана в массовой долее не менее 40% и не более 95%, где толщина рассматриваемого слоя и толщина других присутствующих слоев, если имеются, также сформированных из оксидов металлов, выбирается таким образом, чтобы на листе толщиной 4 мм из прозрачного флоат-стекла этот слой или эти слои могли бы приводить к отражению по меньшей мере 15% и пропусканию света по меньшей мере 60%, где этот рассматриваемый слой или система рассматриваемых слоев дополнительно демонстрируют механическую и/или химическую устойчивость, сопоставимую с механической и/или химической устойчивостью слоев, полученных пиролизом, с получением продуктов, имеющих такой же вид оптических свойств.
2. Остекление по п.1, в котором слой на основе оксида титана также содержит один или более оксидов элементов из группы, состоящей из: Al, Zr, Hf, V, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Si.
3. Остекление по п.1, в котором толщина слоя на основе оксида титана или системы слоев, содержащей этот слой, выбирается таким образом, чтобы на листе толщиной 4 мм из прозрачного флоат-стекла этот слой или эти слои могли приводить к отражению от 20% до 40%.
4. Остекление по п.1, в котором толщина слоя на основе оксида титана и других присутствующих оксидных слоев, если имеются, является такой, что при нанесении на лист прозрачного флоат-стекла толщиной 4 мм поглощение этого покрытого листа составляет менее 20% падающего света и предпочтительно менее 10%.
5. Остекление по п.1, в котором слой на основе оксида титана имеет толщину в интервале между 150 и 900 Ǻ и предпочтительно между 200 и 500 Ǻ.
6. Остекление по п.1, в котором слой или система слоев проходит испытания на устойчивость к конденсации, к соляному туману и испытание кислотностью, как определено в проекте стандарта prEN 1096-2.
7. Остекление по п.1, в котором окрашивание при отражении в системе CIE является таким, что а*≤0 и b*≤6, при источнике света D и при телесном угле 10° относительно нормали к остеклению.
8. Остекление по п.1, помутнение которого, измеренное после термической обработки при по меньшей мере 550°С и в течение 5 минут, не превышает 2% и предпочтительно 1%.
9. Остекление по п.1, в котором слой на основе оксида титана также содержит оксид циркония, составляющий между 25 мас.% и 60 мас.% и предпочтительно между 40 мас.% и 55 мас.%.
10. Остекление по п.1, содержащее в дополнение к слою на основе оксида титана и по меньшей мере одного другого оксида по меньшей мере один оксидный слой с более высоким коэффициентом преломления, чем коэффициент преломления этого слоя на основе оксида титана, расположенный между этим слоем и листом стекла.
11. Остекление по п.10, в котором слой с более высоким коэффициентом преломления представляет собой слой оксида титана.
12. Остекление по п.1, содержащее по меньшей мере один слой на основе оксида олова, расположенный между листом стекла и указанным слоем на основе оксида титана.
13. Остекление по п.12, в котором слой на основе оксида олова содержит по меньшей мере 30 мас.% и предпочтительно по меньшей мере 40 мас.% оксида олова, причем оставшуюся часть составляет в основном оксид цинка.
14. Остекление по п.13, в котором слой на основе оксида олова имеет толщину, величина которой не превышает величину толщины слоя на основе оксида титана более чем в 1,2 раза.
15. Остекление по п.1, в котором слой на основе оксида титана покрыт слоем для защиты от истирания, причем указанный слой состоит из углерода, нанесенного катодным распылением, или слоя полимера.
16. Остекление по п.15, подвергаемое термической обработке, такой как изгибание/закалка, которая приводит к удалению защитного слоя.
m
17. Остекление по п.1, в котором покрытый лист стекла представляет собой однородно окрашенный лист с доминирующей длиной волны при отражении λ в интервале между 475 и 600 нм в случае источника света D65 и при телесном угле 2°.
18. Остекление по одному из предшествующих пунктов, в котором слой на основе оксида титана формируется из оксида титана и оксида циркония в, по существу, равных массовых частях, где слой, сформированный из оксида олова и оксида цинка в, по существу, равных массовых частях, расположен между листом стекла и слоем на основе оксида титана.