СПОСОБ И СИСТЕМА ДЛЯ ГОМОГЕНИЗАЦИИ МАТРИЦ ДИОДНОЙ ЛАЗЕРНОЙ НАКАЧКИ

1. Система оптического усилителя, содержащая:
- матрицу диодной накачки, включающую в себя множество полупроводниковых диодных лазерных стержней, расположенных в матричной конфигурации, и отличающуюся посредством периодического расстояния между смежными полупроводниковыми диодными лазерными стержнями, причем периодическое расстояние измеряется в первом направлении, перпендикулярном каждому из множества полупроводниковых диодных лазерных стержней, при этом матрица диодной накачки предоставляет выходную мощность накачки, распространяющуюся вдоль оптического пути и отличающуюся посредством первого профиля интенсивности, измеряемого как функция от первого направления и имеющего вариацию более 10%;
- дифракционное оптическое устройство, расположенное вдоль оптического пути, при этом дифракционное оптическое устройство содержит фототермопреломляющий стеклянный элемент; и
- пластину усилителя, имеющую лицевую поверхность и позицию вдоль оптического пути и отстоящую от дифракционного оптического устройства на предварительно определенное расстояние, при этом второй профиль интенсивности, измеряемый на лицевой поверхности пластины усилителя как функция от первого направления, имеет вариацию менее 10%.
2. Система по п.1, в которой фототермопреломляющий стеклянный элемент содержит непрерывную вариацию показателя преломления.
3. Система по п.1, в которой фототермопреломляющий стеклянный элемент является практически свободным от синусоидальных структур дифракционных решеток.
4. Система по п.3, в которой структуры дифракционных решеток имеют периодический или линейный характер.
5. Система по п.1, дополнительно содержащая одну или более линз, расположенных вдоль оптического пути между дифракционным оптическим устройством и пластиной усилителя.
6. Система по п.1, в которой фототермопреломляющий стеклянный элемент имеет первую плоскую поверхность, располагающуюся напротив второй плоской поверхности.
7. Система по п.1, в которой первый профиль интенсивности имеет вариацию между 10% и 300%.
8. Система по п.7, в которой первый профиль интенсивности имеет вариацию между 10% и 100%.
9. Система по п.8, в которой первый профиль интенсивности имеет вариацию между 10% и 50%.
10. Система по п.1, в которой второй профиль интенсивности имеет вариацию между 1% и 10%.
11. Система по п.10, в которой второй профиль интенсивности имеет вариацию между 2% и 5%.
12. Способ изготовления дифракционного гомогенизатора, при этом способ содержит этапы, на которых:
- предоставляют частично пропускающий оптический элемент, имеющий предварительно определенный шаблон интенсивности по шкале полутонов;
- предоставляют прозрачный оптический элемент;
- направляют ультрафиолетовое излучение через частично пропускающий оптический элемент так, чтобы оно падало на прозрачный оптический элемент;
- подвергают предварительно определенную часть прозрачного оптического элемента воздействию ультрафиолетового излучения; и
- термически обрабатывают прозрачный оптический элемент, чтобы формировать дифракционный гомогенизатор, отличающийся посредством непрерывно варьирующегося профиля показателя преломления как функции от позиции в пределах прозрачного оптического элемента.
13. Способ по п.12, в котором непрерывно варьирующийся профиль показателя преломления отличается посредством размера, ассоциированного с дифракционными эффектами для оптического излучения.
14. Способ по п.12, в котором прозрачный оптический элемент содержит фрагмент из фототермопреломляющего (PTR) стекла.
15. Способ по п.12, дополнительно содержащий этап, на котором подвергают вторую предварительно определенную часть прозрачного оптического элемента воздействию ультрафиолетового излучения.
16. Способ по п.15, в котором область предварительно определенного шаблона интенсивности по шкале полутонов является меньше области предварительно определенной части прозрачного оптического элемента и области второй предварительно определенной части прозрачного оптического элемента.
17. Способ по п.12, в котором частично пропускающий оптический элемент содержит фотографическое изображение.
18. Способ по п.12, в котором частично пропускающий оптический элемент содержит матрицу пространственных модуляторов света.
19. Способ по п.12, в котором прозрачный оптический элемент содержит PTR-стекло.
20. Способ по п.19, в котором PTR-стекло содержит прямоугольный параллелепипед, и ультрафиолетовое излучение падает на прямоугольный параллелепипед на лицевой поверхности, перпендикулярной к наименьшему размеру прямоугольного параллелепипеда.