ОСВЕЩЕНИЕ ДЛЯ РАСТЕНИЕВОДЧЕСКИХ И ДРУГИХ ПРИМЕНЕНИЙ

1. Способ увеличения доступности света для фотосинтеза растений, содержащий этап, на котором: осуществляют статическую установку выпуклой отражающей поверхности или ее эквивалента с фиксированной ориентацией над целевой областью для отражения получаемого солнечного света вертикально или наклонно вниз на растения, расположенные в целевой области, при этом максимальный и минимальный наклоны и/или радиус кривизны отражающей поверхности изменяются с компасным направлением.
2. Способ по п.1, в котором выпуклая отражающая поверхность содержит зеркало.
3. Способ по п.2, в котором выпуклая отражающая поверхность имеет шероховатую отражающую поверхность, способную рассеивать отклоненное излучение.
4. Способ по любому из пп.1-3, в котором выпуклая отражающая поверхность имеет прерывистую отражающую поверхность.
5. Способ по любому из пп.1-4, в котором эквивалент содержит зеркало Френеля.
6. Способ по любому из пп.1-5, в котором кривизна выпуклой отражающей поверхности или эквивалентной отражающей поверхности адаптирована к требованиям в конкретном местоположении.
7. Аппарат, содержащий выпуклую отражающую поверхность или ее эквивалент, приспособленный для установки с фиксированной ориентацией над целевой областью, чтобы отражать получаемый солнечный свет вертикально или наклонно вниз к целевой области, при этом максимальный и минимальный наклоны и/или радиус кривизны отражающей поверхности изменяются с компасным направлением.
8. Аппарат по п.7, в котором кривизна выпуклой отражающей поверхности или ее эквивалента адаптирована к местоположению, в котором она должна быть установлена.
9. Аппарат по любому из пп.7-8, в котором выпуклая отражающая поверхность имеет прерывистую отражающую поверхность.
10. Аппарат по любому из пп.7-9, в котором выпуклая отражающая поверхность содержит множество отражающих поверхностей.
11. Аппарат по п.10, в котором множество отражающих поверхностей содержат плоские зеркала.
12. Аппарат по любому из пп.7-11, в котором эквивалент содержит зеркало Френеля.
13. Аппарат по любому из пп.7-12, в котором выпуклая отражающая поверхность изогнута по меньшей мере в двух ортогональных плоскостях.
14. Аппарат по любому из пп.7-13, в котором элементы выравнивания обеспечены определенным угловым отношением к выпуклой отражающей поверхности или отражающим поверхностям компонентов.
15. Аппарат по любому из пп.7-14, установленный с фиксированной ориентацией над целевой областью, чтобы отражать получаемый солнечный свет вертикально или наклонно вниз к целевой области.