СИСТЕМА ЛИТОГРАФИИ С ПОВОРОТОМ ЛИНЗЫ

1. Система литографии пучками заряженных частиц для проецирования изображения на мишень, такую как подложка, с использованием множества элементарных пучков заряженных частиц для переноса изображения на мишень, содержащая секцию заряженных частиц, включающую:
электронно-оптический блок, содержащий источник заряженных частиц, коллиматорную линзу, апертурную решетку, бланкер и ограничитель лучей для формирования множества элементарных лучей заряженных частиц; и
проекционное устройство для проецирования указанного множества элементарных лучей заряженных частиц на мишень для формирования изображения;
при этом проекционное устройство установлено с возможностью перемещения относительно электронно-оптического блока с помощью по меньшей мере одного исполнительного механизма проекционного устройства;
исполнительный механизм проекционного устройства выполнен с возможностью механического воздействия на проекционное устройство и обеспечения по меньшей мере одной степени свободы перемещения проекционного устройства;
причем указанная степень свободы относится к перемещению относительно оптической оси системы.
2. Система по п.1, в которой исполнительный механизм содержит пьезоэлемент.
3. Система по п.2, в которой исполнительный механизм дополнительно содержит пружинный элемент, установленный с возможностью противодействия воздействию пьезоэлемента.
4. Система по п.1, в которой проекционное устройство содержит систему проецирования, которая содержит множество проекционных линз заряженных частиц, причем указанная система установлена на раме.
5. Система по п.1, в которой проекционное устройство поддерживается изгибаемыми элементами.
6. Система по п.5, в которой проекционное устройство поддерживается тремя изгибаемыми элементами, при этом исполнительный механизм проекционного устройства установлен с возможностью воздействия в направлении, в котором один из указанных изгибаемых элементов имеет возможность перемещения.
7. Система по п.1, в которой указанная система содержит сенсорный элемент для измерения перемещения проекционного устройства в направлении перемещения исполнительного механизма проекционного устройства.
8. Система по п.7, в которой сенсорный элемент выполнен в виде емкостного датчика.
9. Система по п.3, в которой пружинный элемент и исполнительный механизм установлены таким образом, что они находятся с противоположных сторон относительно части проекционного устройства.
10. Система по п.1, в которой три исполнительных механизма, воздействующих на проекционное устройство, размещены в конфигурации правильного треугольника, с центром на оптической оси проекционного устройства.
11. Система по п.1, в которой по меньшей мере один исполнительный механизм проекционного устройства установлен с возможностью воздействия в направлении воображаемой плоскости, расположенной поперечно оптической оси проекционного устройства, предпочтительно, по меньшей мере один дополнительный исполнительный механизм проекционного устройства установлен с возможностью воздействия в направлении, по существу, параллельном оптической оси проекционного устройства.
12. Система по п.1, в которой степени свободы реализованы таким образом, что обеспечена возможность перемещения проекционного устройства в воображаемой плоскости поперечной оптической оси проекционного устройства, а также возможность поворачивать проекционное устройство вокруг его оптической оси и возможность наклонять проекционное устройство относительно оси в воображаемой плоскости, поперечной оптической оси проекционного устройства.
13. Система по п.1, в которой проекционное устройство содержит группу электростатических и электромагнитных линз для проецирования одного или более лучей заряженных частиц.
14. Способ проецирования изображения на мишень в системе литографии пучками заряженных частиц с использованием множества элементарных лучей заряженных частиц для переноса изображения на мишень, в частности, в системе по п.1, включающий формирование изображения с помощью проекционного устройства для проецирования множества элементарных лучей заряженных частиц на мишень;
при этом проекционное устройство устанавливают с возможностью перемещения относительно электронно-оптического блока с помощью по меньшей мере одного исполнительного механизма проекционного устройства;
причем исполнительный механизм проекционного устройства обеспечивает механическое воздействие на проекционное устройство, а также обеспечивает по меньшей мере одну степень свободы его перемещения;
при этом проекционное устройство указанной системы и поверхность мишени поддерживают по существу параллельными друг другу во время всего цикла проецирования с помощью указанного исполнительного механизма проекционного устройства.
15. Способ по п.14, в котором вариацию толщины целевой подложки компенсируют путем наклона проекционного устройства относительно одной или более осей в плоскости, поперечной к оптической оси проекционного устройства.