СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ПОРИСТОГО ТЕЛА

2
1. Способ плазменной обработки пористого тела, включающий стадии, на которых генерируют плазму с использованием инертного газа или газовой смеси, состоящей из инертного газа и химически активного газа, (а) подают полученную плазму к пористому телу с расходом, отнесенным к единице площади поверхности пористого тела, составляющим от 0,002 до 2 л/мин/см, (b) просасывают пористое тело в атмосфере плазмы, или (с) просасывают пористое тело при подаче к пористому телу плазмы с указанной величиной расхода, вызывая прохождение плазмы через пористое тело.
2. Устройство для плазменной обработки пористого тела в камере, содержащее средство для генерирования плазмы, трубопровод для подачи плазмообразующего газа, представляющего собой инертный газ или газовую смесь, состоящую из инертного газа и химически активного газа, к средству генерирования плазмы, и пористую подложку, размещенную в камере, при этом пористая подложка размещена в таком месте, что она воспринимает давление потока плазмы, подводимой от средства генерирования плазмы, при этом указанное давление потока плазмы приложено к пористому телу или пористой подложке, контактирующей с пористым телом.
3. Устройство для плазменной обработки по п.2, содержащее дополнительно средство для просасывания пористого тела или пористой подложки, при этом пористое тело или пористая положка просасывается при нахождении пористого тела в контакте с пористой подложкой.
4. Устройство для плазменной обработки пористого тела в камере, содержащее средство генерирования плазмы, трубопровод подачи плазмообразующего газа, представляющего собой инертный газ или газовую смесь, состоящую из инертного газа и химически активного газа, к средству генерирования плазмы, средство вакуумирования, при этом средство генерирования плазмы включает высоковольтный электрод и пористый заземляющий электрод, причем пористый заземляющий электрод служит в качестве подложки для пористого тела, выполнен из пористого металла и покрыт или не покрыт пористым диэлектрическим телом, при этом средство генерирования генерирует плазму при нахождении пористого заземляющего электрода в контакте с пористым телом, которое просасывается с помощью указанного средства вакуумирования.
5. Устройство для плазменной обработки пористого тела в камере, содержащее средство генерирования плазмы, трубопровод подачи плазмообразующего газа, представляющего собой инертный газ или газовую смесь, состоящую из инертного газа и химически активного газа, к средству генерирования плазмы, при этом средство генерирования плазмы включает высоковольтный электрод и пористый заземляющий электрод, причем пористый заземляющий электрод служит в качестве подложки для пористого тела, выполнен из пористого металла и покрыт или не покрыт пористым диэлектрическим телом, при этом средство генерирования генерирует плазму, и в то же время плазмообразующий газ подают к пористому заземляющему электроду, находящемуся в контакте с пористым телом.
6. Устройство для плазменной обработки пористого тела в камере, содержащее первое и второе средства генерирования плазмы и трубопровод подачи к каждому из средств генерирования плазмы плазмообразующего газа, представляющего собой инертный газ или газовую смесь, состоящую из инертного газа и химически активного газа, при этом первое средство генерирования плазмы включает высоковольтный электрод и пористый заземляющий электрод, причем пористый заземляющий электрод служит в качестве подложки для пористого тела, выполнен из пористого металла и покрыт или не покрыт пористым диэлектрическим телом, при этом первое средство генерирования генерирует плазму, и в то же время второе средство генерирования плазмы направляет плазму к пористому заземляющему электроду, находящемуся в контакте с пористым телом.