СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ РАССТОЯНИЯ МЕЖДУ ДВУМЯ СОСТАВЛЯЮЩИМИ ЛУЧАМИ В УСТРОЙСТВЕ ЭКСПОНИРОВАНИЯ С МНОЖЕСТВОМ СОСТАВЛЯЮЩИХ ЛУЧЕЙ

1. Способ определения расстояния между двумя составляющими лучами заряженных частиц в устройстве экспонирования с множеством составляющих лучей, в котором предусмотрен датчик, содержащий преобразовательный элемент, предназначенный для преобразования энергии заряженных частиц в свет, и светочувствительный детектор, причем в преобразовательном элементе предусмотрена область поверхности датчика, в которой предусмотрен двумерный рисунок блокирующих и неблокирующих областей для составляющего луча, при этом способ содержит этапы, на которых:
- сканируют первым составляющим лучом двумерный рисунок;
- принимают свет, генерируемый преобразовательным элементом, в ответ на заряженные частицы, представляющие собой часть первого составляющего луча, переданного через двумерный рисунок;
- преобразуют принятый свет в первый сигнал с помощью светочувствительного детектора;
- перемещают соответственно двумерный рисунок и первый составляющий луч относительно друг друга на заданное расстояние;
- сканируют вторым составляющим лучом двумерный рисунок;
- принимают свет, генерируемый преобразовательным элементом, в ответ на заряженные частицы, представляющие собой часть второго составляющего луча, переданного через двумерный рисунок;
- преобразуют принятый свет во второй сигнал с помощью светочувствительного детектора;
- определяют расстояние между первым составляющим лучом и вторым составляющим лучом на основе первого сигнала, второго сигнала и заданного расстояния.
2. Способ по п.1, в котором этап перемещения соответственно двумерного рисунка и первого составляющего луча относительно друг друга на заданное расстояние содержит этап, на котором перемещают преобразовательный элемент на заданное расстояние, в то время как положение первого составляющего луча остается, по существу, постоянным.
3. Способ по п.1, в котором устройство экспонирования с множеством составляющих лучей содержит генератор составляющего луча, и в котором этап перемещения двумерного рисунка и первого составляющего луча относительно друг друга на заданное расстояние содержит этап, на котором перемещают первый составляющий луч на заданное расстояние, в то время как положение элемента преобразовательного элемента остается, по существу, постоянным.
4. Способ по любому из предыдущих пунктов, в котором двумерный рисунок содержит множество участков рисунка, причем каждый участок рисунка представляет собой уникальный двумерный рисунок блокирующих структур.
5. Способ по любому из пп. 1-3, в котором участок двумерного рисунка разделяют на квадранты, и в каждом квадранте предусмотрен другой заданный рисунок блокирующих структур.
6. Способ по любому из пп. 1-3, в котором множество расстояний между множеством пар составляющих лучей определяют одновременно.
7. Способ по п.6, в котором одновременное определение множества расстояний между двумя составляющими лучами состоит в том, что: предоставляют двумерный рисунок с множеством аналогичных рисунков, соответствующим образом разнесенных друг от друга, для обеспечения возможности одновременного сканирования множеством первых составляющих лучей и одновременного сканирования множеством вторых составляющих лучей по двумерному рисунку.
8. Способ по п.7, в котором двумерный рисунок содержит блокирующий слой, в котором предусмотрены неблокирующие области, предпочтительно круглые неблокирующие области.
9. Способ по п.8, в котором неблокирующие области расположены через шаг, соответствующий заданному расстоянию.
10. Способ по любому из пп. 1-3, в котором двумерный рисунок разделен на множество ячеек для оценки отдельных составляющих лучей, причем каждая ячейка содержит заданный рисунок.
11. Способ по п.10, в котором каждая ячейка содержит уникальный двумерный рисунок из блокирующих структур.
12. Способ по п.10, в котором каждая ячейка содержит множество участков рисунка, причем каждый участок рисунка имеет уникальный двумерный рисунок из блокирующих структур.
13. Способ по п.10, в котором каждая ячейка разделена на квадранты, и в каждом квадранте предусмотрен разный заданный рисунок блокирующих структур.
14. Способ по п.10, в котором каждая ячейка содержит разные участки, причем каждый участок содержит разные рисунки блокирующей структуры для заряженных частиц, формирующие множество острых кромок в местах перехода между блокирующими и неблокирующими областями вдоль заданной траектории сканирования составляющим лучом по такому участку.
15. Способ по любому из пп. 1-3, в котором двумерный рисунок содержит блокирующий слой, в котором предусмотрены неблокирующие области, предпочтительно, круглые неблокирующие области.
16. Способ по любому из пп. 1-3, в котором этап определения расстояния содержит этап, на котором сравнивают первый сигнал и второй сигнал.
17. Способ по любому из пп. 1-3, в котором этап определения расстояния содержит этапы, на которых:
- сравнивают первый сигнал с заданным номинальным сигналом и получают первое отклонение;
- сравнивают второй сигнал с заданным номинальным сигналом и получают второе отклонение;
- сравнивают первое отклонение и второе отклонение.
18. Способ определения отклонения от номинального векторного расстояния между первым составляющим лучом и вторым составляющим лучом в одной плоскости для использования в устройстве экспонирования с множеством составляющих лучей, при этом способ содержит этапы, на которых:
- сканируют первым составляющим лучом двумерный рисунок блокирующей структуры, содержащий острые кромки, предусмотренные на поверхности датчика, и получают первую информацию составляющего луча;
- сканируют вторым составляющим лучом двумерный рисунок блокирующей структуры и получают вторую информацию составляющего луча;
- определяют отклонение от номинального векторного расстояния на основе первой информации составляющего луча и второй информации составляющего луча.
19. Способ по п.18, при этом способ после этапа сканирования первым составляющим лучом дополнительно включает в себя этап, на котором перемещают двумерный рисунок блокирующей структуры относительно первого составляющего луча на расстояние, соответствующее номинальному векторному расстоянию.
20. Способ по п.19, в котором этап перемещения выполняют путем перемещения двумерного рисунка блокирующей структуры на расстояние, соответствующее номинальному векторному расстоянию.
21. Способ по любому из пп.18-20, в котором этап определения отклонения от номинального векторного расстояния содержит этап, на котором сравнивают первую информацию составляющего луча и вторую информацию составляющего луча.
22. Способ по любому из пп.18-20, в котором этап определения отклонения от номинального векторного расстояния содержит этапы, на которых:
- сравнивают первую информацию составляющего луча с заданной номинальной информацией составляющего луча и получают первое отклонение составляющего луча;
- сравнивают вторую информацию составляющего луча с заданной номинальной информацией и получают второе отклонение составляющего луча;
- сравнивают первое отклонение составляющего луча и второе отклонение составляющего луча.
23. Способ по любому из пп.18-20, в котором первая информация составляющего луча и вторая информация составляющего луча включают в себя фактические положения первого составляющего луча и второго составляющего луча соответственно.
24. Способ по любому из пп.18-20, в котором двумерный рисунок содержит блокирующий слой, в котором предусмотрены неблокирующие области, предпочтительно круглые неблокирующие области.