СПОСОБ И СИСТЕМА КОНВЕРГЕНТНОГО ПОЛИРОВАНИЯ

1. Полировочная система для полирования оптического элемента, причем полировочная система содержит
полировочную подушку, имеющую радиальный размер; и
диафрагму, расположенную на полировочной подушке и выполненную с возможностью частично окружать оптический элемент, причем оптический элемент соприкасается с полировочной подушкой в пределах диапазона радиального размера, и скорость изнашивания подушки полировочной подушки является по существу постоянной, как функция от радиального размера в пределах диапазона радиального размера.
2. Полировочная система по п.1, в которой оптический элемент содержит круглую линзу.
3. Полировочная система по п.1, в которой диафрагма содержит
структурный слой;
податливый слой; и
полирующий слой.
4. Полировочная система по п.3, в которой структурный слой характеризуется более высокой плотностью, чем податливый слой или полирующий слой.
5. Полировочная система по п.3, в которой оптический элемент содержит оптический материал, и полирующий слой содержит оптический материал.
6. Полировочная система по п.5, в которой оптический материал содержит плавленый кварц.
7. Полировочная система по п.1, в которой полировочная подушка выполнена с возможностью приема суспензии, содержащей абразивные компоненты, поддерживаемые в растворителе, и добавку.
8. Полировочная система по п.7, в которой добавка содержит сурфактант.
9. Полировочная система по п.8, в которой сурфактант содержит анионный сурфактант.
10. Полировочная система по п.8, в которой сурфактант содержит катионный сурфактант.
11. Полировочная система по п.1, дополнительно содержащая камеру, окружающую полировочную подушку, и характеризуемую влажностью, более высокой, чем влажность внешней среды.
12. Полировочная система по п.11, в которой влажность составляет по существу 100%.
13. Полировочная система по п.1, в которой оптический элемент характеризуется высотой неровностей, которая стабилизируется в фиксированном значении спустя заданное время полирования.
14. Полировочная система с высокой влажностью, содержащая
полировочный блок, включающий в себя полировочную подушку;
систему подачи суспензии, выполненную с возможностью обеспечения суспензии для полировочной подушки; и
корпус, окружающий полировочный блок, причем влажность внутри корпуса является достаточной для предотвращения существенного высыхания суспензии.
15. Полировочная система с высокой влажностью по п.14, в которой влажность характеризуется влажностью, более высокой, чем влажность внешней среды.
16. Полировочная система с высокой влажностью по п.15, в которой влажность составляет по существу 100%.
17. Полировочная система с высокой влажностью по п.14, в которой суспензия содержит растворитель, абразивный компонент, поддерживаемый в растворителе, и добавку, поддерживаемую в растворителе.
18. Полировочная система с высокой влажностью по п.14, в которой полировочный блок дополнительно включает в себя диафрагму, размещенную смежно с полировочной подушкой и выполненную с возможностью частично окружать оптический элемент, соприкасающийся с полировочной подушкой в пределах диапазона радиального размера полировочной подушки, и скорость изнашивания полировочной подушки является по существу постоянной, как функция от радиального размера в пределах диапазона радиального размера.
19. Полировочная система с высокой влажностью по п.18, в которой суспензия содержит растворитель, абразивный компонент, поддерживаемый в растворителе, и сурфактант, поддерживаемый в растворителе.
20. Система суспензии для полирования оптического элемента, причем система суспензии содержит
растворитель;
абразивный компонент, поддерживаемый в растворителе; и
сурфактант, поддерживаемый в растворителе.
21. Система суспензии по п.20, в которой растворитель содержит воду.
22. Система суспензии по п.20, в которой абразивный компонент содержит по меньшей мере одно из оксида церия или Hastilite PO.
23. Система суспензии по п.20, в которой сурфактант содержит анионный сурфактант.
24. Система суспензии по п.23, в которой анионный сурфактант содержит по меньшей мере одно из µ-90 или лаурилсульфат аммония.
25. Система суспензии по п.20, в которой сурфактант содержит катионный сурфактант.
26. Система суспензии по п.20, дополнительно содержащая хелатор.
27. Способ установки заготовки на подложке, причем способ содержит этапы, на которых
определяют значение высоты неровностей;
определяют значение, относящееся к площади смолы;
вычисляют относительную площадь смолы;
вычисляют радиус капли;
вычисляют количество капель смолы;
соединяют N капель смолы с заготовкой; и
соединяют N капель смолы с подложкой.
28. Способ по п.27, в котором значение высоты неровностей основано на измерении высоты неровностей, связанной с твердым слоем смолы.
29. Способ по п.27, в котором относительная площадь смолы равна значению высоты неровностей, деленному на значение, относящееся к площади смолы.
30. Способ по п.27, в котором расстояние между N каплями смолы является по существу одинаковым.
31. Способ по п.27, в котором соединение N капель смолы с заготовкой содержит нанесение N капель смолы на слой ленты, соединенный с заготовкой.
32. Способ по п.27, в котором заготовка содержит оптический элемент, и подложка содержит оптическую пластину.