Устройство электрода для плазменных резаков

1. Устройство электрода для плазменных резаков, в котором в электрододержателе или в удерживающем элементе выполнено углубление или канал, открытый с одной стороны в направлении обрабатываемого изделия, для размещения эмиссионной вставки, причем вставленная эмиссионная вставка может быть закреплена в указанном канале или углублении путем передачи усилия, путем сопряжения форм и/или обеспечения неразрывности материала, отличающееся тем, что
между полым пространством, образованным углублением или каналом (7.2.1, 7.4) и эмиссионной вставкой (7.3), и окружающей средой имеется по меньшей мере один проход выравнивания давления и/или по меньшей мере временно действующий проход выравнивания давления, проходящий через эмиссионную вставку (7.3) и/или между участком наружной поверхности облицовки эмиссионной вставки (7.3) и внутренней стенкой углубления или канала (7.2.1, 7.4), выполненного в удерживающем элементе (7.2) или в электрододержателе (7.1), и/или
между полым пространством, образованным углублением или каналом (7.2.1) и удерживающим элементом (7.2), и окружающей средой имеется по меньшей мере один проход выравнивания давления и/или временно действующий проход выравнивания давления, проходящий через удерживающий элемент (7.2) и/или между участком наружной поверхности облицовки удерживающего элемента (7.2) и внутренней стенкой углубления или канала (7.4), выполненного в электрододержателе (7.1) или в удерживающем элементе (7.2).
2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что проход выравнивания давления выполнен в виде канала, канавки или уплощенной части (7.2.3, 7.2.5, 7.3.3) на наружной поверхности (7.2.2, 7.2.4, 7.3.2) облицовки.
3. Устройство по п. 2, отличающееся тем, что канавка или уплощенная часть (7.2.3, 7.2.5, 7.3.3) начинается от указанного полого пространства и проходит до участка, близкого к торцевой поверхности (7.2.8) удерживающего элемента (7.2), и/или эмиссионной вставки (7.3), обращенной к обрабатываемому изделию, с прохождением в этот участок так, что в этом участке указанной торцевой поверхности (7.2.8) соблюдается контакт всей радиальной периферийной площади между внутренней стенкой электрододержателя (7.1) и наружной поверхностью (7.2.2) облицовки удерживающего элемента (7.2) и/или внутренней стенкой удерживающего элемента (7.2) и наружной поверхностью (7.3.2) облицовки эмиссионной вставки (7.3) по меньшей мере при нормальной комнатной температуре.
4. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что при наличии прохода выравнивания давления, выполненного в виде канавки или уплощенной части (7.2.5), между наружной поверхностью облицовки эмиссионной вставки (7.3) или удерживающего элемента (7.2) и внутренней стенкой удерживающего элемента (7.2) или электрододержателем (7.1) соблюдается контактная поверхность в соединительном участке эмиссионной вставки (7.3) с удерживающим элементом (7.2) или электрододержателем (7.1), составляющая по меньшей мере 90%, предпочтительно по меньшей мере 93%, и особенно предпочтительно по меньшей мере 96% от общей поверхности соединительного участка.
5. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что проход выравнивания давления параллелен средней продольной оси Μ или расположен с наклоном к ней под углом ε, причем соблюдается угол наклона, составляющий максимум 45°, предпочтительно максимум 30° и особенно предпочтительно максимум 15°.
6. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что канал или углубление (7.2.1, 7.4) выполнен(о) по меньшей мере на одном участке, начинающемся от отверстия и сужающемся на конус, и/или со ступенчатым внутренним диаметром, или с произвольным сечением, при этом наружная поверхность (7.2.2, 7.2.4, 7.3.2) облицовки удерживающего элемента (7.2) и/или эмиссионной вставки (7.3) выполнена комплементарной с этим участком.
7. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что наружная поверхность (7.2.2, 7.2.4, 7.3.2) облицовки удерживающего элемента (7.2) и/или эмиссионной вставки (7.3) наклонена под углом γ от 1 до 5°, предпочтительно от 1 до 3°, к средней продольной оси М, и/или у края радиально наружной торцевой поверхности выполнена фаска под углом α от 10 до 40°, предпочтительно от 10 до 20°.
8. Устройство по п. 2, отличающееся тем, что проход выравнивания давления, выполненный в виде канавки (7.2.3, 7.2.5, 7.3.3), имеет приподнятую часть (7.2.10, 7.3.9), расположенную по меньшей мере у одной наружной кромки канавки (7.2.3, 7.2.5, 7.3.3), выполненной на наружной поверхности облицовки удерживающего элемента (7.2) и/или эмиссионной вставки (7.3).
9. Устройство по п. 8, отличающееся тем, что приподнятая часть (7.3.9) выполнена вдоль перехода между канавкой (7.2.3, 7.2.5, 7.3.3) и внутренней стенкой (7.1.3) канала или углубления (7.2.1, 7.4) электрододержателя (7.1) или удерживающего элемента (7.2).
10. Устройство по любому из п.п. 1-9, отличающееся тем, что диаметр каналов (7.2.1, 7.4) или произвольное сечение углублений в электрододержателе (7.1) и/или в удерживающем элементе (7.2), а также наружный диаметр (диаметры) наружных поверхностей (7.2.2, 7.2.4, 7.3.2) облицовки удерживающего элемента (7.2) и/или эмиссионной вставки (7.3), которые могут быть вставлены в канал или в углубление (7.2.1, 7.4) для присоединения, выбраны так, что может быть получена прессовая посадка.