АЛМАЗНОЕ ПОКРЫТИЕ И СПОСОБ ЕГО ПОЛУЧЕНИЯ

1. Алмазное покрытие, состоящее из подслоя, содержащего наноалмазные частицы с размером от 2 до 30 нм, и нанесенного осаждением из газовой фазы алмазного слоя, отличающееся тем, что подслой выполнен из композиционного материала с наноалмазной составляющей.
2. Алмазное покрытие по п.1, отличающееся тем, что наноалмазная составляющая имеет объемную долю 5-90%.
3. Алмазное покрытие по п.1 или 2, отличающееся тем, что композиционный материал дополнительно содержит вторую алмазную составляющую, а именно алмазные частицы с размером более 30 нм.
4. Алмазное покрытие по п.3, отличающееся тем, что суммарная объемная доля наноалмазной составляющей и второй алмазной составляющей равна 4-95%, а отношение объемной доли второй алмазной составляющей к наноалмазной составляющей не превышает 10.
5. Алмазное покрытие по п.1, отличающееся тем, что композиционный материал содержит еще как минимум одну составляющую из металла из ряда: медь, алюминий, никель, кобальт, золото, серебро, платина, тантал, иттрий, цинк, олово, свинец.
6. Алмазное покрытие по п.1, отличающееся тем, что композиционный материал содержит еще как минимум одну составляющую из неметаллического материала.
7. Способ получения алмазного покрытия, включающий осаждение алмазного слоя из газовой фазы на содержащий наноалмазы подслой, отличающийся тем, что подслой изготавливают из композиционного материала, содержащего наноалмазную составляющую с объемной долей 5-90%.
8. Способ получения алмазного покрытия по п.7, отличающийся тем, что при изготовлении подслоя в него добавляют вторую алмазную составляющую, а именно, алмазные частицы с размером более 30 нм, при этом суммарная объемная доля наноалмазной составляющей и второй алмазной составляющей равна 4-95%, а отношение объемной доли второй алмазной составляющей к наноалмазной составляющей не превышает 10.
9. Способ получения алмазного покрытия по п.7 или 8, отличающийся тем, что перед нанесением алмазного слоя подслой из композиционного материала разглаживают вращающимся инструментом при отклонении его оси вращения от перпендикуляра к обрабатываемой поверхности на 0-45°.
10. Способ получения алмазного покрытия по п.9, отличающийся тем, что скорость вращения вращающегося инструмента превышает 20 тысяч оборотов в минуту.
11. Способ получения алмазного покрытия по п.9, отличающийся тем, что подслой разглаживают в вакууме.
12. Способ получения алмазного покрытия по п.8, отличающийся тем, что перед нанесением алмазного покрытия подслой обрабатывают ионным или электронным пучком.
13. Способ получения алмазного покрытия по п.8, отличающийся тем, что для изготовления композиционного материала для подслоя применяют как минимум одну составляющую из металла из ряда: медь, алюминий, никель, кобальт, золото, серебро, платина, тантал, иттрий, цинк, олово, свинец.
14. Способ получения алмазного покрытия по п.7 или 8, или 10, или 11, или 12, или 13, отличающийся тем, что композиционный материал для подслоя изготавливают методом механического легирования.
15. Способ получения алмазного покрытия по п.14, отличающийся тем, что подслой изготавливают методом газодинамического напыления.
16. Способ получения алмазного покрытия по п.14, отличающийся тем, что подслой изготавливают методом фрикционного плакирования.