СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ЖИДКОЙ ПОЛИМЕРНОЙ МАТРИЦЫ НА ВОЛОКНООБРАЗУЮЩИЕ СТРУНЫ

1. Способ нанесения жидкой полимерной матрицы на активную волокнообразующую зону струны (2) волокнообразующего элемента волокнообразующего электрода при помощи наносящего средства, совершающего возвратное движение вдоль активной волокнообразующей зоны струны (2) в устройстве для производства нановолокон электростатическим методом формования волокна из жидкой полимерной матрицы в электрическом поле высокой напряженности, созданном между по крайней мере одним волокнообразующим электродом и противоположно расположенным осадительным электродом, отличающийся тем, что жидкая полимерная матрица наносится на струну (2) по всей ее окружности без соприкосновения с газообразной средой в пространстве формования волокна, в котором совершает возвратное движение наносящее средство (6), причем при выходе струны (2) из наносящего средства (6) ограничивается толщина слоя жидкой полимерной матрицы на струне (2), а после ее выхода из наносящего средства (6) мгновенно запускается процесс электростатического формования волокна из жидкой полимерной матрицы, нанесенной на струну (2).
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что толщина слоя жидкой полимерной матрицы на струне (2) ограничивается величиной промежутка между струной (2) и стенкой наносящего отверстия (621, 631) наносящего средства (6).
3. Способ по п. 1 или 2, отличающийся тем, что небольшое количество жидкой полимерной матрицы вытекает из наносящих отверстий (621, 631) через промежуток между стенкой наносящего отверстия (621, 631) наносящего средства (6) и струной (2).
4. Устройство для производства нановолокон электростатическим методом формования волокна из жидкой полимерной матрицы в электрическом поле высокой напряженности, созданном между по крайней мере одним волокнообразующим электродом и противоположно расположенным осадительным электродом, при этом устройство для производства нановолокон содержит устройство для нанесения жидкой полимерной матрицы на активную волокнообразующую зону струны (2) волокнообразующего элемента волокнообразующего электрода, причем содержит несущий корпус (1), расположенный с возможностью обратной перестановки вдоль активной волокнообразующей зоны струны (2) и связанный с приводом и резервуаром (7) жидкой полимерной матрицы, отличающееся тем, что в несущем корпусе (1) расположено по крайней мере одно наносящее средство (6), в котором создана питающая камера (65) для нанесения, наполняемая жидкой полимерной матрицей, соединенная с наружной средой двумя наносящими отверстиями (621, 631), через которые при нанесении, не соприкасаясь с их стенками, проходит струна (2), при этом через промежуток между стенкой наносящих отверстий (621, 631) и струной (2) жидкая полимерная матрица вытекает в ванну (3) наносящего устройства и отводится из нее.
5. Устройство по п. 4, отличающееся тем, что питающая камера (65) соединена с резервуаром (7) жидкой полимерной матрицы, состоящим из рабочего резервуара (71) свежей жидкой полимерной матрицы и сливного резервуара (72) использованной жидкой полимерной матрицы.
6. Устройство по п. 4, отличающееся тем, что питающая камера (65) соединена с рабочим резервуаром (71) жидкой полимерной матрицы, который расположен над питающей камерой (65) наносящего средства (6).
7. Устройство по п. 4, отличающееся тем, что питающая камера (65) снабжена дозировочным отверстием, за счет чего создается рабочий резервуар (71) свежей жидкой полимерной матрицы.
8. Устройство по п. 5, отличающееся тем, что между резервуаром (7) или рабочим резервуаром (71) и наносящим средством (6) или наносящими средствами (6) расположено дозировочное устройство (8) жидкой полимерной матрицы.
9. Устройство по п. 8, отличающееся тем, что дозировочное устройство (8) жидкой полимерной матрицы содержит насос (81), способный подавать жидкую полимерную матрицу небольшими отдельными дозами или непрерывно в малом количестве.
10. Устройство по любому из пп. 4-9, отличающееся тем, что несущий корпус (1) содержит основной корпус (4), на котором закреплена ванна (3), снабженная съемной крышкой (5), которая имеет наклонное дно (311), выполненное с уклоном к основному корпусу (4), в котором создана удерживающая емкость (41) для накопления использованной жидкой полимерной матрицы, которая гибким трубопроводом соединена со сливным резервуаром (72) использованной жидкой полимерной матрицы, при этом расположенные в несущем корпусе (1) наносящие средства (6) взаимно соединены системой трубок (32), причем первое из них присоединено к подводу (33) жидкой полимерной матрицы, каждое следующее присоединено к предыдущему, а выход последнего из них соединен с системой возврата жидкой полимерной матрицы.
11. Устройство по п. 10, отличающееся тем, что система возврата жидкой полимерной матрицы содержит обратный трубопровод, выведенный в рабочий резервуар (71) жидкой полимерной матрицы.
12. Устройство по п. 10, отличающееся тем, что система возврата жидкой полимерной матрицы содержит дросселированный перелив (34), выведенный в пространство над наклонным дном (311) ванны (3).
13. Устройство по п. 4, отличающееся тем, что наносящие отверстия (621, 631) имеют одинаковый диаметр.
14. Устройство по п. 4, отличающееся тем, что струна (2) проходит по оси наносящих отверстий (621, 631).
15. Устройство по п. 4, отличающееся тем, что наносящие отверстия (621, 631) выполнены в торцевых деталях наносящего средства (6), при этом наносящее средство снабжено открывающимся и уплотняющим элементом (66) для насаживания наносящих отверстий (621, 631) наносящего средства (6) на струну (2).
16. Устройство по п. 15, отличающееся тем, что в наносящем средстве выполнена открытая наружу осевая канавка (64), параллельная оси наносящих отверстий (621, 631) и примыкающая по касательной к наносящим отверстиям, причем в осевой канавке (64) расположен с плотной посадкой открывающийся и уплотняющий элемент (66).
17. Устройство по п. 16, отличающееся тем, что осевая канавка (64) - цилиндрическая, а открывающийся и уплотняющий элемент (66) образован цилиндрическим корпусом.
18. Устройство по п. 4, отличающееся тем, что наносящие отверстия (621, 631) выполнены во вспомогательном корпусе (610), поворотно расположенном в цилиндрическом корпусе (61) наносящего средства (6), причем во вспомогательном корпусе (610) выполнена направляющая канавка (611), примыкающая к наносящим отверстиям (621, 631).
19. Устройство по п. 4, отличающееся тем, что в наносящем средстве (6) между наносящими отверстиями (621, 631) расположен направляющий механизм (67) струны (2).
20. Устройство по п. 19, отличающееся тем, что направляющий механизм (67) струны (2) состоит из двух направляющих роликов (671 и 672), поворотно расположенных в наносящем средстве (6), а место их контакта лежит на оси наносящих отверстий (621, 631), при этом направляющие ролики (671, 672) расположены с возможностью перестановки в направлении, перпендикулярном к их осям вращения, и соединены с установочными средствами.
21. Устройство по п. 19, отличающееся тем, что направляющий механизм (67) струны (2) состоит из двух поворотно расположенных направляющих роликов (673, 674), которые своими окружностями расположены по касательной к оси наносящих отверстий (621, 631), и поворотно расположенного натяжного ролика (675), который своей окружностью входит в промежуток между направляющими роликами (673, 674), расположен с возможностью перестановки в направлении, перпендикулярном к струне (2), и соединен с установочными средствами.
22. Устройство по п. 19, отличающееся тем, что корпус (61) наносящего средства (6) разделен на две части, причем плоскость разъема проходит по оси наносящих отверстий (621, 631).
23. Устройство по п. 22, отличающееся тем, что плоскость разъема вертикальная.
24. Устройство по п. 22, отличающееся тем, что плоскость разъема горизонтальная.