ФОРМИРОВАНИЕ ТРАЕКТОРИИ ПОЛОТНА ПОДЛОЖКИ В РЕАКТОРЕ АТОМНО-СЛОЕВОГО ОСАЖДЕНИЯ

1. Способ атомно-слоевого осаждения, включающий следующие операции:
- формируют для полотна подложки, введенного в реакционную емкость реактора атомно-слоевого осаждения, траекторию с повторяющимся контуром путем перемещения первого комплекта поддерживающих роликов относительно второго комплекта поддерживающих роликов, и
- после формирования указанной траектории поддерживают полотно подложки первым и вторым комплектами поддерживающих роликов.
2. Способ по п. 1, в котором первый комплект поддерживающих роликов перемещают от первой стороны второго комплекта поддерживающих роликов к другой стороне второго комплекта поддерживающих роликов.
3. Способ по п. 2, в котором повторяющимся отрезкам траектории придают форму гофров, продвигая полотно подложки посредством первого комплекта поддерживающих роликов к другой стороне второго комплекта поддерживающих роликов.
4. Способ по любому из предыдущих пунктов, в котором внутри реакционной емкости формируют трехмерный газовый поток, обеспечивающий атомно-слоевое осаждение, при этом объем указанного потока задается крышкой реакционной емкости, боковыми стенками реакционной емкости и полотном подложки, имеющим указанную траекторию.
5. Способ по любому из пп. 1-3, в котором во время осаждения газы из реакционного пространства удаляют по траектории, проходящей через первый комплект поддерживающих роликов.
6. Способ по любому из пп. 1-3, в котором для подачи полотна подложки используют валик, интегрированный в крышку камеры реактора атомно-слоевого осаждения.
7. Способ любому из пп. 1-3, в котором полотно подложки подают в реакционную камеру или в реакционное пространство через крышку реакционной камеры.
8. Реактор атомно-слоевого осаждения, содержащий:
- реакционную емкость, сконфигурированную с образованием реакционного пространства,
- первый комплект поддерживающих роликов и
- второй комплект поддерживающих роликов,
причем первый и второй комплекты поддерживающих роликов выполнены с возможностью формирования, путем перемещения первого комплекта поддерживающих роликов относительно второго комплекта поддерживающих роликов, для введенного в реакционную емкость полотна подложки траектории с повторяющимся контуром, при этом первый и второй комплекты поддерживающих роликов выполнены с возможностью поддерживать полотно подложки после формирования указанной траектории.
9. Реактор по п. 8, содержащий механизм, способный перемещать первый комплект поддерживающих роликов от первой стороны второго комплекта поддерживающих роликов к другой стороне второго комплекта поддерживающих роликов.
10. Реактор по п. 8, в котором первый и второй комплекты поддерживающих роликов выполнены с возможностью придания повторяющимся отрезкам траектории формы гофров путем продвижения полотна подложки первым комплектом поддерживающих роликов к другой стороне второго комплекта поддерживающих роликов.
11. Реактор по любому из пп. 8-10, выполненный с возможностью удалять во время осаждения газы из реакционного пространства по траектории, проходящей через первый комплект поддерживающих роликов.
12. Реактор по любому из пп. 8-10, в котором валик, служащий для подачи полотна подложки, интегрирован с крышкой камеры реактора.
13. Реактор по любому из пп. 8-10, в котором в крышке камеры предусмотрено сквозное отверстие, обеспечивающее возможность подачи полотна подложки в реакционную камеру или реакционное пространство через крышку камеры.