ПЛАСТИНА ДЛЯ ОБЕСПЕЧЕНИЯ ОПОРЫ ДЛЯ ЖИДКОГО АБСОРБЕНТА В УСТРОЙСТВЕ ДЛЯ ОЧИСТКИ ГАЗА

1. Пластина (6) для поддержки слоя (11) жидкого абсорбента в устройстве (1) для очистки газа, содержащая верхнюю и нижнюю стороны при установке в устройстве (1) в рабочем положении, отличающаяся тем, что содержит множество трубок (6а) Вентури, выполненных рядом друг с другом в пластине (6) в виде сквозных отверстий, проходящих между нижней и верхней сторонами, и трубки (6а) Вентури выполнены с возможностью проведения газа, подлежащего очистке, из пространства, расположенного под пластиной (6), находящейся в рабочем положении, через трубки (6а) Вентури и вверх в слой (11) абсорбента, и каждая из трубок (6а) Вентури содержит сужение по центру, в котором скорость газа повышается, так что при прохождении потока газа через это сужение возникает турбулентность.
2. Пластина по п.1, отличающаяся тем, что трубки (6а) Вентури проходят параллельно друг другу.
3. Пластина по п.1 или 2, отличающаяся тем, что каждая из трубок (6а) Вентури содержит в месте сужения выступ (6b) в виде маленького крутого выступа, отходящего от внутренней стенки трубки (6а) Вентури.
4. Пластина по п.1, отличающаяся тем, что выполнена в виде кругового кольца со сквозным отверстием, выполненным в центре.
5. Пластина по п.1, отличающаяся тем, что высота пластины (6) составляет от 50 до 80 мм.
6. Пластина по п.1, отличающаяся тем, что входы трубок (6а) Вентури составляют приблизительно 15% нижней стороны пластины (6).
7. Пластина по п.1, отличающаяся тем, что сужение каждой из трубок (6а) Вентури имеет диаметр, составляющий приблизительно от 10 до 30 мм, без учета выступа (6b).
8. Пластина по п.1, отличающаяся тем, что содержит по меньшей мере 100 трубок (6а) Вентури.
9. Пластина по п.8, отличающаяся тем, что содержит по меньшей мере 500 трубок (6а) Вентури.
10. Пластина по п.1, отличающаяся тем, что изготовлена из кислотостойкого металла.