ОТВЕРЖДАЕМОЕ ИЗЛУЧЕНИЕМ ВТОРИЧНОЕ ПОКРЫТИЕ D 1369 D ДЛЯ ОПТИЧЕСКОГО ВОЛОКНА

1. Отверждаемая излучением композиция вторичного покрытия, причем упомянутая композиция содержит:
A) смесь олигомеров вторичного покрытия, которая смешана с
B) первым мономером-разбавителем;
C) вторым мономером-разбавителем;
D) необязательно третьим мономером-разбавителем;
E) антиоксидантом;
F) первым фотоинициатором;
G) вторым фотоинициатором; и
H) необязательно улучшающей скольжение добавкой или смесью улучшающих скольжение добавок;
при этом упомянутая смесь олигомеров вторичного покрытия содержит:
α) Омега-олигомер; и
β) Ипсилон-олигомер;
причем упомянутый Омега-олигомер синтезирован по реакции:
α1) гидроксилсодержащего (мет)акрилата;
α2) изоцианата;
α3) простого полиэфирполиола; и
α4) трипропиленгликоля; в присутствии
α5) ингибитора полимеризации; и
α6) катализатора;
с получением Омега-олигомера;
при этом упомянутый катализатор выбран из группы, содержащей нафтенат меди, нафтенат кобальта, нафтенат цинка, триэтиламин, триэтилендиамин, 2-метилтриэтилендиамин, дилаурат дибутилолова; карбоксилаты металлов, включающие, но не ограниченные ими: висмуторганические катализаторы, такие как неодеканоат висмута; неодеканоат цинка; неодеканоат циркония; 2-этилгексаноат цинка; сульфоновые кислоты, включающие, но не ограниченные ими, додецилбензолсульфоновую кислоту, метансульфоновую кислоту; катализаторы на основе аминов или органических оснований, включающие, но не ограниченные ими: 1,2-диметилимидазол и диазабициклооктан; трифенилфосфин; алкоксиды циркония и титана, включающие, но не ограниченные ими, бутоксид циркония и бутоксид титана; и ионные жидкие соли фосфония; и хлорид тетрадецил(тригексил)фосфония;
при этом упомянутый Ипсилон-олигомер представляет собой эпоксидиакрилат.
2. Способ нанесения покрытия на оптическое волокно, включающий в себя:
a) работу колонны вытягивания стекла с получением оптического стекловолокна; и
b) нанесение на упомянутое оптическое стекловолокно имеющейся в продаже отверждаемой излучением композиции первичного покрытия;
c) необязательное контактирование упомянутой отверждаемой излучением композиции первичного покрытия с излучением для отверждения этого покрытия;
d) нанесение на упомянутое оптическое стекловолокно отверждаемой излучением композиции вторичного покрытия по п.1;
e) контактирование упомянутой отверждаемой излучением композиции вторичного покрытия с излучением для отверждения этого покрытия.
3. Способ по п.2, в котором работу упомянутой колонны вытягивания стекла осуществляют с линейной скоростью между примерно 750 м/мин и примерно 2100 м/мин.
4. Провод, покрытый первым и вторым слоем, причем первым слоем является отвержденное отверждаемое излучением имеющееся в продаже первичное покрытие, находящееся в контакте с внешней поверхностью провода, а вторым слоем является отвержденное отверждаемое излучением вторичное покрытие по п.1, находящееся в контакте с внешней поверхностью первичного покрытия,
при этом отвержденное вторичное покрытие на проводе имеет следующие свойства после первоначального отверждения и после одного месяца старения при 85°C и относительной влажности 85%: при этом отвержденное вторичное покрытие на проводе имеет следующие свойства после первоначального отверждения и после одного месяца старения при 85°C и относительной влажности 85%:
A) % RAU от примерно 80% до примерно 98%;
B) in-situ модуль упругости между примерно 0,60 ГПа и примерно 1,90 ГПа; и
с
C) Т трубки от примерно 50°C до примерно 80°С.
5. Оптическое волокно, покрытое первым и вторым слоем, причем первым слоем является отвержденное имеющееся в продаже отверждаемое излучением первичное покрытие, находящееся в контакте с внешней поверхностью оптического волокна, а вторым слоем является отвержденное отверждаемое излучением вторичное покрытие по п.1, находящееся в контакте с внешней поверхностью первичного покрытия,
при этом отвержденное вторичное покрытие на оптическом волокне имеет следующие свойства после первоначального отверждения и после одного месяца старения при 85°C и относительной влажности 85%:
A) % RAU от примерно 80% до примерно 98%;
B) in-situ модуль упругости между примерно 0,60 ГПа и примерно 1,90 ГПа; и
с
C) Т трубки от примерно 50°C до примерно 80°С.
6. Отверждаемое излучением вторичное покрытие по п.1, в котором присутствует упомянутый третий разбавитель.