ОТВЕРЖДАЕМЫЕ ИЗЛУЧЕНИЕМ КОМПОЗИЦИИ, ОБРАЗУЮЩИЕ ЭЛАСТИЧНЫЕ ПОКРЫТИЯ С ПОВЫШЕННЫМИ КОРРОЗИОННО-ЗАЩИТНЫМИ СВОЙСТВАМИ НА МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПОДЛОЖКАХ

1. Отверждаемая излучением композиция, состоящая из
A) по меньшей мере, одного отверждаемого излучением полимера с ОН-числом ≥10 мг КОН/г, выбранного из группы уретан(мет)акрилатов, сложных полиэфир(мет)акрилатов, простых полиэфир(мет)акрилатов, поликарбонат(мет)акрилатов и/или поли(мет)акрилат(мет)акрилатов, и
B) по меньшей мере, одного монофункционального, отверждаемого излучением реактивного разбавителя,
C) по меньшей мере, одного кислого усилителя адгезии,
D) опционально фотоинициаторов,
E) опционально многофункциональных реактивных разбавителей,
F) опционально других, отверждаемых излучением смол,
G) опционально пигментов и прочих инертных добавок.
2. Отверждаемая излучением композиция по п.1, отличающаяся тем, что компонент А) имеет ОН-число, по меньшей мере, 10 мг КОН/г, предпочтительно от 10 до 50 мг КОН/г, особенно предпочтительно от 10 до 25 мг КОН/г и молекулярную массу от 500 до 15000 г/моль.
3. Отверждаемая излучением композиция по п.1, отличающаяся тем, что в качестве компонента А) он содержит уретанакрилаты.
4. Отверждаемая излучением композиция по п.1, отличающаяся тем, что в качестве компонента А) содержит уретан(мет)акрилаты, полученные из содержащих гидроксильные группы полимеров посредством реакции с полиизоцианатами и соединением, которое одновременно содержит, по меньшей мере, одну группу, реакционноспособную по отношению к изоцианату, и, по меньшей мере, одну способную к полимеризации акрилатную группу.
5. Отверждаемая излучением композиция по п.4, отличающаяся тем, что в качестве содержащих гидроксильные группы полимеров применяются сложные полиэфиры, простые полиэфиры, поликарбонаты и полиакрилаты.
6. Отверждаемая излучением композиция по п.5, отличающаяся тем, что в качестве карбоновых кислот для сложных полиэфиров применяются янтарная, адипиновая, пробковая, азелаиновая, себациновая, фталевая, терефталевая, изофталевая, тримеллитовая, пиромеллитовая, тетрагидрофталевая, гексагидрофталевая, гексагидротерефталевая, ди- и тетрахлорфталевая, эндометилентетрагидрофталевая, глутаровая кислота, 1,4-циклогександикарбоновая кислота и/или, насколько доступны, их ангидриды или эфиры.
2,6
7. Отверждаемая излучением композиция по п.5, отличающаяся тем, что в качестве полиолов для сложных полэфиров применяются моноэтиленгликоль, 1,2- и 1,3-пропиленгликоль, 1,4- и 2,3-бутиленгликоль, ди-β-гидроксиэтилбутандиол, 1,5-пентандиол, 1,6-гександиол, 1,8-октандиол, декандиол, додекандиол, неопентилгликоль, циклогександиол, 3(4),8(9)-бис(гидроксиметил)-трицикло[5.2.1.0]-декан (дицидол), 1,4-бис(гидроксиметил)-циклогексан, 2,2-бис-(4-гидроксициклогексил)-пропан, 2,2-бис[4-β-гидроксиэтокси)-фенил]-пропан, 2-метил-пропандиол-1,3, 2-метил-пентандиол-1,5, 2,2,4(2,4,4)-триметилгександиол-1,6, глицерин, триметилолпропан, триметилолэтан, гексантриол-1,2,6, бутантриол-1,2,4, трис-(β-гидроксиэтил)-изоцианурат, пентаэритрит, манит и сорбит, диэтиленгликоль, триэтиленгликоль, тетраэтиленглиоль, дипропиленгликоль, полипропиленгликоли, полибутиленгликоли, ксилиленгликоль и/или сложный неопентилгликолевый эфир гидроксипивалиновой кислоты.
12
8. Отверждаемая излучением композиция по п.4, отличающаяся тем, что в качестве полиизоцианатов применяются 2-метилпентаметилен-1,5-диизоцианат (MPDI), гексаметилендиизоцианат (HDI), триметилгексаметилен-1,6-диизоцианат (TMDI), особенно 2,2,4- и 2,4,4-изомеры и технические смеси обоих изомеров, 4,4'-метилен-бис(циклогексилизоцианат) (HMDI), норборнандиизоцианат (NBDI), и 3,3,5-триметил-1-изоцианато-3-изоцианатометил-циклогексан (IPDI), одни или в смесях.
9. Отверждаемая излучением композиция по п.4, отличающаяся тем, что в качестве полиизоциантов применяются изоцианураты.
10. Отверждаемая излучением композиция по п.4, отличающаяся тем, что в качестве способных к полимеризации соединений, по меньшей мере, с одной свободной ОН-группой и способной к полимеризации (мет)акрилатной группой применяются гидроксиэтил(мет)акрилат (НЕА или НЕМА), гидроксипропил(мет)акрилат, гидроксибутил(мет)акрилат и/или глицеринди(мет)акрилат.
11. Отверждаемая излучением композиция по п.1, отличающаяся тем, что содержит компонент А) в количестве от 5 до 95 мас.%, предпочтительно от 10 до 39 мас.%.
12. Отверждаемая излучением композиция по п.1, отличающаяся тем, что в качестве компонента В) содержит изоборнилакрилат, гидроксипропилметакрилат, триметилолпропанформальмоноакрилат, тетрагидрофурфурилакрилат, феноксиэтилакрилат, лаурилакрилат, а также пропоксилированные или этоксилированные варианты указанных реактивных разбавителей, уретанизированные реактивные разбавители, простые виниловые эфиры или простые аллиловые эфиры, одни или в смесях, в количестве от 5 до 90 мас.%, предпочтительно от 30 до 61 мас.%.
13. Отверждаемая излучением композиция по п.1, отличающаяся тем, что в качестве компонента С) содержит фосфорную кислоту или фософоновую кислоту или продукты их превращения с функционализированными акрилатами, в количестве от 0,1 до 10 мас.%, предпочтительно от 0,5 до 5 мас.%.
14. Отверждаемая излучением композиция по п.1, отличающаяся тем, что содержит фотоинициаторы D) в количестве от 0,1 до 10 мас.%, предпочтительно от 1 до 8 мас.%.
15. Отверждаемая излучением композиция по одному из пп.1-14, отличающаяся тем, что в качестве компонента Е) содержит триметиленпропантриакрилат, дипропиленгликольдиакрилат, трипропиленгликольдиакрилат, гександиол-диакрилат и пентаэритрит-тетраакрилат, в количестве от 1 до 50 мас.%, предпочтительно от 1 до 20 мас.%.
16. Покрытие, содержащее отверждаемую излучением композицию, состоящую из
A) по меньшей мере, одного отверждаемого излучением полимера с ОН-числом ≥10 мг КОН/г, выбранного из группы уретан(мет)акрилатов, сложных полиэфир(мет)акрилатов, простых полиэфир(мет)акрилатов, поликарбонат(мет)акрилатов и/или поли(мет)акрилат(мет)акрилатов, и
B) по меньшей мере, одного монофункционального, отверждаемого излучением реактивного разбавителя,
C) по меньшей мере, одного из кислых усилителей адгезии,
D) опционально фотоинициаторов,
E) опционально многофункциональных реактивных разбавителей,
F) опционально других, отверждаемых излучением смол,
G) опционально пигментов и прочих инертных добавок.