РЕЗЕРВУАР ИСТОЧНИКА ДЛЯ VPE-РЕАКТОРА

1. Конструкция источника устройства для нанесения покрытия методом парофазной эпитаксии (VPE) c резервуаром (2), содержащим жидкий или твердый исходный материал (1) и имеющим по направлению вверх отверстие, с подающей линией (3) для реактивного газа (4), который вступает в реакцию с исходным материалом (1) для образования содержащего исходный материал технологического газа (5), с крышкой (6), находящейся непосредственно на исходном материале (1), отличающийся тем, что крышка (6) образует между собой и поверхностью (7) исходного материала (1) объем (8) для прохождения реактивного газа (4) параллельно поверхности (7), в который входит подающая линия (3).
2. Конструкция по п.1, отличающаяся тем, что крышка (6) плавает на исходном материале (1).
3. Конструкция по п.2, отличающаяся тем, что от крышки (6) отходят вниз несущие конструкции, в частности поплавки (9).
4. Конструкция по п.1, отличающаяся тем, что подающая линия (3) выполнена центральной и закрыта крышкой (6), причем газ проходит через объем (8) в радиальном направлении.
5. Конструкция по п.4, отличающееся тем, что она содержит зазор между кромкой (10) крышки (6) и стенкой (11) резервуара, причем образующийся технологический газ (5) проходит через этот зазор (12).
6. Конструкция по п.5, отличающаяся тем, что выходное отверстие (14) подающей линии выступает снизу в центральное одно (13) крышки (6).
7. Конструкция п.1, отличающееся тем, что резервуар (2) и крышка выполнены из кварца, графита, нитрита бора или сапфира.
8. Устройство для нанесения покрытия методом парофазной эпитаксии (VPE) с технологической камерой (21) и зоной источника, расположенной в направлении потока технологического газа перед технологической камерой, причем в зоне источника расположен резервуар (2), содержащий жидкий или твердый исходный материал (1) и имеющий по направлению вверх отверстие, и подающая линия (3) для реактивного газа (4), отличающееся тем, что оно содержит крышку (6), лежащую непосредственно на исходном материале (1) и образующая между собой и поверхностью (7) объем (8) для прохождения реактивного газа.
9. Устройство по п.8, отличающееся тем, что газ протекает через зону источника в вертикальном направлении.
10. Устройство по п.9, отличающееся тем, что зона источника расположена вертикально над технологической камерой.
11. Устройство по п.10, отличающееся тем, что зона источника имеет подогрев (16) зоны источника, а технологическая камера (21) имеет подогрев (25) технологической камеры.
12. Устройство по п.8, отличающееся тем, что технологическая камера (21) выполнена, по существу, вращательно-симметричной, а зона источника расположена в центре технологической камеры, причем размещаемые в технологической камере (21) подложки (22) расположены вокруг центра технологической камеры (21).