ПОВЫШЕНИЕ ПРОИЗВОДИТЕЛЬНОСТИ ОСАЖДЕНИЯ ПОЛИКРЕМНИЯ В РЕАКТОРЕ ХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ИЗ ПАРОВОЙ ФАЗЫ

1. Реактор химического осаждения из паровой фазы для массового производства поликремния, включающий:
опорную систему, снабженную опорами для накальных элементов;
оболочку, прикрепляемую к упомянутой опорной системе с формированием осадительной камеры;
по меньшей мере один кремниевый накальный элемент, расположенный в упомянутой камере на упомянутых опорах накальных элементов;
источник электрического тока, подключаемый к обоим концам упомянутого накального элемента через электрические вводы, выполненные в упомянутой опорной системе, для нагревания упомянутого накального элемента;
устройство для впуска газа, выполненное в упомянутой опорной системе и соединяемое с источником кремнийсодержащего газа; и
устройство для выпуска газа, выполненное в упомянутой опорной системе, с помощью которого газ может быть удален из упомянутой камеры,
причем упомянутый накальный элемент имеет трубчатое поперечное сечение с наружным диаметром по меньшей мере 20 мм и отношением толщины стенки к наружному диаметру не более чем 1/4.
2. Реактор по п.1, отличающийся тем, что исходный наружный диаметр упомянутого накального элемента находится в пределах от 20 до 100 мм, а толщина стенки упомянутого накального элемента находится в пределах от 1 до 6 мм.
3. Реактор по п.1, отличающийся тем, что упомянутый накальный элемент является трубчатым, наружный диаметр упомянутого накального элемента находится в пределах от 40 до 80 мм, а толщина стенки упомянутого накального элемента находится в пределах от 1,75 до 6 мм.
4. Реактор по п.1, отличающийся тем, что упомянутый накальный элемент является трубчатым и имеет исходный диаметр приблизительно 50 мм и начальную толщину стенки приблизительно 2 мм.
5. Реактор по п.1, отличающийся тем, что упомянутый накальный элемент содержит плоскую мостиковую секцию прямоугольного поперечного сечения.
6. Реактор по п.1, отличающийся тем, что упомянутый накальный элемент содержит мостиковую секцию, имеющую сплошное круглое поперечное сечение.
7. Реактор по п.1, отличающийся тем, что упомянутые опоры накальных элементов содержат графит.
8. Реактор по п.1, отличающийся тем, что упомянутый накальный элемент легирован по меньшей мере одним химическим элементом третьей или пятой группы Периодической системы.
9. Реактор по п.8, отличающийся тем, что упомянутым химическим элементом является бор.
10. Реактор по п.8, отличающийся тем, что упомянутым химическим элементом является фосфор.
11. Реактор химического осаждения из паровой фазы для массового производства поликремния, содержащий:
опорную систему, снабженную опорами для накальных элементов;
оболочку, прикрепляемую к упомянутой опорной системе с формированием осадительной камеры;
по меньшей мере один кремниевый накальный элемент, расположенный в упомянутой камере на упомянутых опорах накальных элементов;
источник электрического тока, подключаемый к обоим концам упомянутого накального элемента через электрические вводы, выполненные в упомянутой опорной системе, для нагревания упомянутого накального элемента;
устройство для впуска газа, выполненное в упомянутой опорной системе и соединяемое с источником кремнийсодержащего газа; и
устройство для выпуска газа, выполненное в упомянутой опорной системе, с помощью которого газ может быть удален из упомянутой камеры;
причем упомянутый накальный элемент является трубчатым, исходный диаметр упомянутого накального элемента составляет по меньшей мере 20 мм и отношение толщины стенки трубки к наружному ее диаметру составляет не более чем 1/4.
12. Реактор по п.11, отличающийся тем, что упомянутый накальный элемент легирован по меньшей мере одним химическим элементом третьей или пятой группы Периодической системы.
13. Реактор по п.12, отличающийся тем, что упомянутым химическим элементом является бор.
14. Способ изготовления накальных элементов с большой площадью поверхности и их применения в реакторе химического осаждения из паровой фазы для производства поликремния, включающий:
нагревание кремния в сосуде для расплава кремния до расплавленного состояния;
выращивание в формообразователе из упомянутого расплавленного кремния способом Степанова кремниевого профиля трубчатого поперечного сечения с наружным диаметром по меньшей мере 20 мм и отношением толщины стенки к наружному диаметру не более чем 1/4;
помещение по меньшей мере одной секции упомянутого кремниевого профиля между двумя электродами в упомянутом реакторе химического осаждения из паровой фазы в качестве накального элемента;
нагревание упомянутого накального элемента электрическим током; и
проведение в упомянутом реакторе процесса химического осаждения из паровой фазы с использованием кремнийсодержащего газа.
15. Способ изготовления и применения накальных элементов по п.14, отличающийся тем, что упомянутая по меньшей мере одна секция содержит три упомянутых секции упомянутого кремниевого профиля, собранные в U-образный накальный элемент.
16. Способ изготовления и применения накальных элементов по п.14, отличающийся тем, что упомянутый формобразователь представляет собой многополостный формообразователь.
17. Способ изготовления и применения накальных элементов по п.14, включающий легирование упомянутого кремниевого профиля по меньшей мере одним химическим элементом третьей или пятой группы Периодической системы.
18. Способ изготовления и применения накальных элементов по п.14, отличающийся тем, что упомянутый формообразователь содержит графит.
19. Способ изготовления и применения накальных элементов по п.14, отличающийся тем, что упомянутый формообразователь содержит кварц.
20. Способ производства поликремния, включающий:
использование кремнийсодержащего газа и реактора химического осаждения из паровой фазы;
помещение в упомянутый реактор химического осаждения из паровой фазы трубчатого кремниевого накального элемента, имеющего наружный диаметр в пределах от 40 до 60 мм и толщину стенки в пределах от 1,75 до 6 мм; и
проведение процесса химического осаждения из паровой фазы, при котором упомянутый трубчатый накальный элемент нагревается электрическим током, и на нем осаждается кремний.