СПОСОБ НАКОПЛЕНИЯ ВОДОРОДА И ЕГО ИЗОТОПОВ

т
т
Способ накопления водорода и его изотопов, состоящий в размещении накопителя водорода в вакууме или любой остаточной атмосфере, содержащей водород и его изотопы и выдерживаемый в заданной остаточной атмосфере при контролируемой температуре в течение заданного времени, после чего при повышенной температуре происходит процесс удаления из накопителя накопленного газа, отличающийся тем, что, с целью накопления требуемого N количества атомов водорода или его изотопов, используется накопитель, который выполнен в виде сплошного металлического образца, и который подвергается в процессе накопления трению при температуре, не отличающейся от температуры окружающей среды, при парциальных давлениях газов, содержащих водород и его изотопы не отличающихся от значений, соответствующих «нормальным» условиям, при этом время накопления определяется интегральной суммой накопленных молекул N, зависящей от параметров процесса трения
где
т
F - площадь поверхности накопителя, подвергаемая трению;
surfH
C - концентрация атомов водорода или его изотопа в первом монослое, сорбированном на поверхности трения;
Θ - коэфициент покрытия поверхности трения сорбированным водородом или его изотопом
1
-1
Е - теплота физической адсорбции первого слоя Дж·кмоль;
L
-1
Е - теплота парообразования L-го слоя, Дж·моль;
s
р, p - истинное давление и давление насыщающих паров сорбата, Па;
R - универсальная газовая постоянная;
T - температура сорбата;
1П
N- число «мест» для сорбируемых молекул водорода или его изотопов на единичной площади поверхности накопителя, подвергаемой трению;
0
0
d - диаметр молекулы сорбата (d=0,3 нм);
i
3
С - начальная концентрация водорода или его изотопа в объеме материала накопителя ат/см;
D - коэффициент диффузии водорода или его изотопа в материале накопотеля;
x - расстояние от поверхности трения вглубь материала накопителя;
t - время накопления водорода или его изотопов.