СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИХ КОНДЕНСАТОРОВ ИЗ ПОРОШКОВ ВЕНТИЛЬНЫХ МЕТАЛЛОВ

1. Способ получения анода для электролитических конденсаторов, причем способ включает в себя следующие стадии:
а) прессование танталового порошка вокруг танталовой проволоки, или танталовой ленты, или танталового листа для образования прессованного изделия,
b) спекание прессованного изделия для образования пористого спеченного изделия,
с) охлаждение спеченного изделия,
d) обработка пористого спеченного изделия одним или несколькими газообразными или жидкими окислителями (окислителем) и
е) анодное окисление обработанного спеченного изделия в электролите для формирования диэлектрического слоя.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что к электролиту на стадии е) добавляют один или более окислителей.
3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что применяемый на стадии d) окислитель и/или применяемый на стадии е) электролит содержит водный раствор пероксида водорода.
4. Способ по п. 3, отличающийся тем, что водный раствор пероксида водорода имеет концентрацию от 0,1 до 50 мас.%, предпочтительно от 1 до 30 мас.%, особо предпочтительно от 1 до 10 мас.% и особенно предпочтительно от 1 до 5 мас.% пероксида водорода, к общей массе водного раствора пероксида водорода.
5. Способ по п. 1, отличающийся тем, что обработку пористого спеченного изделия, особенно спеченного анода, на стадии d) осуществляют в течение по меньшей мере 1 ч.
6. Способ по одному из п.п. 1-5, отличающийся тем, что спеченное изделие после обработки окислителем на стадии d) промывают водой и сушат.
7. Анод, получаемый способом по одному из п.п. 1-6.
8. Анод, пригодный для применения в качестве танталовых электролитических конденсаторов, причем анод содержит вделанную и впеченную танталовую металлическую проволоку, причем частное Df/Ds, образованное коэффициентом хрупкости (охрупчивания) проволоки, измеренным после формирования спеченного изделия (Df), и коэффициентом хрупкости проволоки непосредственно после спекания и охлаждения прессованного изделия до 20C (Ds), находится между 0,2 и 1, причем коэффициент хрупкости проволоки в каждом случае измеряли в соответствии с японским стандартом EIAJ RC-2361 А.
9. Анод по п. 7, причем частное Df/Ds находится между 0,2 и 1, предпочтительно между 0,4 и 1.
10. Анод по п. 8, причем частное Df/Ds находится между 0,2 и 1, предпочтительно между 0,4 и 1.
11. Анод по п. 7, отличающийся тем, что проволока имеет усредненный как среднее арифметическое диаметр 0,5 мм, предпочтительно 0,3 мм и особенно 0,2 мм.
12. Анод по п. 8, отличающийся тем, что проволока имеет усредненный как среднее арифметическое диаметр 0,5 мм, предпочтительно 0,3 мм и особенно 0,2 мм.
13. Анод по п. 7, отличающийся тем, что проволока имеет усредненный как среднее арифметическое диаметр от 0,08 до 0,5 мм, предпочтительно от 0,1 до 0,3 мм и особенно от 0,10 до 0,2 мм.
14. Анод по п. 8, отличающийся тем, что проволока имеет усредненный как среднее арифметическое диаметр от 0,08 до 0,5 мм, предпочтительно от 0,1 до 0,3 мм и особенно от 0,10 до 0,2 мм.
15. Анод по п. 7, отличающийся тем, что проволока включает в себя по меньшей мере 95% тантала на общую массу проволоки.
16. Анод по п. 8, отличающийся тем, что проволока включает в себя по меньшей мере 95% тантала на общую массу проволоки.
3
17. Анод по одному из п.п. 7, 9, 11, 13 или 15, отличающийся тем, что плотность анода составляет от 3,5 до 9,0 г/см.
3
18. Анод по одному из п.п. 8, 10, 12, 14 или 16, отличающийся тем, что плотность анода составляет от 3,5 до 9,0 г/см.
19. Электролитический конденсатор, содержащий анод по одному из п.п. 7-18.
20. Применение анода по одному из п.п. 7-18 для получения электролитических конденсаторов, особенно сглаживающих или помехоподавляющих конденсаторов.
21. Электронная схема, содержащая электролитический конденсатор по п. 19.