СПОСОБ ОЧИСТКИ ЖИДКИХ РАДИОАКТИВНЫХ ОТХОДОВ

7
2
1. Способ очистки жидких радиоактивных отходов, предусматривающий дозированное введение в кубовый остаток жидких радиоактивных отходов перекиси водорода, обработку кубового остатка ультрафиолетовым излучением ксеноновой лампы, микрофильтрацию с отделением шлама, содержащего радиоактивный кобальт, железо, марганец, и сорбцию для удаления радиоактивного цезия, отличающийся тем, что кубовый остаток жидких радиоактивных отходов предварительно фильтруют на сетчатом фильтрующем материале, затем озонируют в контактной камере противоточного типа, а обработку ультрафиолетовым излучением ксеноновой лампы осуществляют импульсами длительностью 10…500 мкс, при этом используют ультрафиолетовое излучение сплошного спектра с интегральной плотностью излучения на поверхности ксеноновой лампы в спектральном диапазоне 190…300 нм не менее 1·10 Вт/м.
8
2
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что обработку ультрафиолетовым излучением проводят с использованием ксеноновой импульсной трубчатой лампы с начальным давлением ксенона в колбе лампы 26…80 кПа при плотности импульсной электрической мощности на поверхности колбы лампы не менее 2·10 Вт/м.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что между операциями озонирования и дозированного введения в кубовый остаток перекиси водорода производят промежуточную фильтрацию.
4. Способ по п.1, отличающийся тем, что микрофильтрацию осуществляют на фильтрах тангенциальной очистки из полимера пространственно-глобулярной структуры.
5. Способ по п.1, отличающийся тем, что сорбцию осуществляют на ферроцианидных или ионоселективных сорбентах.
6. Способ по п.1, отличающийся тем, что озонирование ведут в циркуляционном режиме или с помощью последовательно включенных однотипных контактных камер.
7. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что обработку ультрафиолетовым излучением ведут в циркуляционном режиме или с помощью последовательно включенных однотипных фотохимических реакторов.
8. Способ по п.1 или 4, отличающийся тем, что микрофильтрацию осуществляют в циркуляционном режиме или с помощью последовательно включенных однотипных фильтров тангенциальной очистки.
9. Способ по п.4, отличающийся тем, что микрофильтрацию на фильтре тангенциальной очистки осуществляют с помощью фильтроэлемента из полимера пространственно-глобулярной структуры, размещенного внутри многослойного рулонного фильтра из высокопористого ячеистого металла с нанесенными на поверхность пор специальными покрытиями с коалесцирующим действием.