СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ФОТОАКТИВНОЙ МНОГОСЛОЙНОЙ ГЕТЕРОСТРУКТУРЫ НА ОСНОВЕ МИКРОКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО КРЕМНИЯ

2
2
3
Способ получения многослойной фотоактивной гетероструктуры на основе монолитно-стыкованных последовательно осажденных слоев µс-SiO(n), µc-Si:H(i), µc-SiO(p) плазмохимическим осаждением с горячей нитью при давлении в ростовой камере не более 8·10 Па, температуре процесса не превышающей 180°С на специально подготовленные подложки из боросиликатного стекла, на которые предварительно методом ВЧ-магнетронного осаждения (частота магнетрона 13.56 МГц, мощность плазмы 100 Вт) наносится связующий слой из прозрачного проводящего оксида (например ZnO) толщиной не более 100 нм для улучшения адгезии и уменьшения плотности дефектов в микрокристаллической n-i-p гетероструктуре.