СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТРЕХМЕРНЫХ ОБЪЕКТОВ

1. Способ послойного изготовления трехмерных объектов (3) с использованием порошкового материала (5), который может быть отвержден посредством его облучения высокоэнергетическим лучом,
отличающийся тем, что
способ содержит этап:
- регулирования количества ионов, присутствующих в непосредственной близости от того положения, где высокоэнергетический луч облучает порошковый материал.
2. Способ послойного изготовления трехмерных объектов (3) с использованием порошкового материала (5), который может быть отвержден посредством его облучения высокоэнергетическим лучом,
отличающийся тем, что
способ содержит этапы:
- введения вспомогательного газа в вакуумную камеру оборудования и
- регулирования давления этого газа до заданного уровня давления,
причем упомянутый вспомогательный газ способен образовывать заданное число ионов при облучении высокоэнергетическим лучом.
max
3. Способ по п.2, отличающийся тем, что заданное число ионов превышает уровень, необходимый для поддержания напряженности электрического поля ниже E.
-4
4. Способ по п.2, отличающийся тем, что вакуумная камера обладает давлением менее 1·10 мбар перед введением вспомогательного газа.
-1
-4
5. Способ по п.2, отличающийся тем, что давление в вакуумной камере составляет в интервале между 1·10 мбар и 1·10 мбар после введения вспомогательного газа.
6. Способ по п.2, отличающийся тем, что вспомогательный газ является инертным газом.
7. Способ по п.6, отличающийся тем, что инертный газ является аргоном.
8. Способ по п.6, отличающийся тем, что инертный газ является гелием.
9. Способ по п.2, отличающийся тем, что давление в вакуумной камере регулируют в зависимости от выходной мощности высокоэнергетического луча.
10. Способ послойного изготовления трехмерных объектов (3) с использованием порошкового материала (5), который может быть отвержден посредством его облучения высокоэнергетическим лучом,
отличающийся тем, что
способ содержит этап:
- введения ионов в вакуумную камеру оборудования.
11. Способ по п.10, отличающийся тем, что используют источник ионов для введения ионов в вакуумную камеру.
12. Способ по п.10, отличающийся тем, что источник ионов является распылительным источником ионов.
13. Способ по п.10, отличающийся тем, что источник ионов является плазменным источником ионов.
14. Способ по п.10, отличающийся тем, что вводимые ионы являются положительно заряженными.
15. Способ по п.10, отличающийся тем, что вводимые ионы являются отрицательно заряженными.
-4
16. Способ по п.10, отличающийся тем, что вакуумная камера обладает давлением менее 1·10 мбар перед введением ионов.
max
17. Способ по п.10, отличающийся тем, что интенсивность введения ионов в вакуумную камеру превышает уровень, необходимый для поддержания напряженности электрического поля ниже E.
18. Способ по п.10, отличающийся тем, что ионы получают с использованием инертного газа.
19. Способ по п.18, отличающийся тем, что инертный газ является аргоном.
20. Способ по п.18, отличающийся тем, что инертный газ является гелием.
21. Способ по п.10, отличающийся тем, что количество ионов, вводимых в вакуумную камеру, регулируют в зависимости от выходной мощности высокоэнергетического луча.
22. Способ по п.10, отличающийся тем, что ионы, вводимые в вакуумную камеру, направляют на порошковый материал.
23. Устройство (1) для послойного изготовления трехмерных объектов (3) с использованием порошкового материала (5), который может быть отвержден посредством его облучения высокоэнергетическим лучом,
отличающееся тем, что
оно выполнено с возможностью работы одним из способов по любому из вышеприведенных пунктов.