УСТРОЙСТВО ФОРМИРОВАНИЯ КВАНТОВЫХ ТОЧЕК НА ПОДЛОЖКЕ

Полезная модель относится к области машиностроения, а более конкретно, к устройствам формирования квантовых точек на подложке.
Известно устройство для формирования квантовых точек на подложке, содержащее трехкоординатный пьезопривод, установленный на неподвижном основании и связанный с подложкодержателем, на котором закреплена подложка, источник рабочего газа для подачи последнего в технологическую область [Патент РФ на ПМ №41933, кл. 7H02N 2/00, 10.11.2004 Бюл. №31 (аналог)].
Недостатком аналога является невозможность формирования квантовых точек заданной геометрической формы.
Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату является устройство для формирования квантовых точек на подложке, содержащее трехкоординатный пьезопривод, установленный на неподвижном основании и связанный с подложкодержателем, на котором закреплена подложка, источник рабочего газа для подачи последнего в технологическую область [Патент РФ на изобретение №2242421, кл. 7В82В 3/00, 20.12.2004 Бюл. №35 (прототип)].
Недостатком прототипа также является невозможность формирования квантовых точек заданных геометрических форм.
В основу полезной модели положена техническая задача обеспечить возможность формирования квантовых точек заданной геометрической формы на подложке.
Поставленная техническая задача решается тем, что устройство формирования квантовых точек на подложке, содержащее трехкоординатный пьезопривод, установленный на неподвижном основании и связанный с подложкодержателем, на котором закреплена подложка, источник рабочего
газа для передачи последнего в технологическую область, согласно предложенной полезной модели, снабжено жесткой платформой, закрепленным на ней источником лазерного излучения, на наружной цилиндрической поверхности источника лазерного излучения установлена втулка, внутри которой закреплена фокусирующая линза с возможностью осевого перемещения, устройство дополнительно снабжено источником регулируемого потенциала на поверхности подложки.
Введение в устройство для формирования квантовых точек на подложке жесткой платформы, с закрепленным на ней источником лазерного излучения, на наружной цилиндрической поверхности источника лазерного излучения установленной втулкой, внутри которой закреплена фокусирующая линза, с возможностью осевого перемещения, а так же источника регулируемого потенциала на поверхности подложки, обеспечивает возможность формирования квантовых точек заданной геометрической формы на подложке.
Сущность полезной модели поясняется фиг.1., где показано устройство формирования квантовых точек на подложке.
Устройство формирования квантовых точек на подложке (фиг.1) содержит трехкоординатный пьезопривод 1, установленный на неподвижном основании 2 и связанный с подложкодержателем 3, на котором закреплена подложка 4, источник рабочего газа 10 для подачи последнего в рабочую область. Источник лазерного излучения 6 может быть закреплен на неподвижной опоре, выполненной, например, в виде платформы 5. На наружной цилиндрической поверхности 7 источника лазерного излучения 6 установлена втулка 8, внутри которой закреплена фокусирующая линза 9 (фокусное расстояние от 5 до 10 мм.). Фокусирующая линза 9 может быть установлена, например, с помощью втулки 8, которая крепится на наружной цилиндрической поверхности 7 источника лазерного излучения 6, что обеспечивает фокусирующей линзе 9 возможность осевого перемещения.
Устройство дополнительно снабжено источником регулируемого потенциала 11 на поверхности подложки 4.
Устройство формирования квантовых точек на подложке работает следующим образом.
Поток фотонов, образованный источником лазерного излучения 6 фокусируется линзой 9. Сфокусированный линзой 9 поток фотонов падает на поверхность подложки и взаимодействует с рабочим газом, подаваемым от источника рабочего газа 10, и ионизирует его. Происходит осаждение рабочего газа на поверхность подложки 4 и формирование на ней одной квантовой точки заданной геометрической формы. При помощи пьезопривода 1 осуществляется 3-х координатное перемещение подложки 4 относительно источника лазерного излучения 6 для достижения требуемого положения и формирования следующей квантовой точки. Для закрепления квантовой точки на поверхности подложки 4 используется источник разности потенциалов 11, потенциал на котором может принимать как положительные так и отрицательные значения, в зависимости от степени ионизации рабочего газа. При положительной ионизации рабочего газа, например, на подложку 4 подается отрицательный потенциал. Таким образом происходит «закрепление» квантовых точек и устраняется их дрейф.
Применение предлагаемого устройства для формирования квантовых точек на поверхности подложки обеспечивает возможность формирования квантовых точек заданной геометрической формы.