Прозрачное фотохромное устройство

1. Фотохромное металлогидридное устройство, имеющее изменяемую прозрачность, включающее:
- прозрачную подложку, по существу непроницаемую для водорода;
- по меньшей мере один слой, включающий фотохромный гидрид иттрия, имеющий выбранную ширину запрещенной зоны, и
- прозрачный покровный слой, по меньшей мере частично расположенный на противоположной от подложки стороне слоя фотохромного гидрида иттрия, причем указанный покровный слой по существу непроницаем для водорода так, чтобы поддерживать концентрацию водорода в указанном гидриде иттрия.
2. Устройство по п. 1, в котором указанный фотохромный гидрид иттрия имеет ширину запрещенной зоны более 1 эВ в неосвещенном состоянии.
3. Устройство по п. 1, в котором указанный фотохромный гидрид иттрия имеет ширину запрещенной зоны менее чем 4 эВ в неосвещенном состоянии.
4. Устройство по п. 1, в котором прозрачность, проводимость и/или степень фотозатемнения по меньшей мере одного слоя указанного фотохромного гидрида иттрия достигнута с помощью выбранной концентрации водорода.
5. Устройство по п. 1, в котором прозрачность, проводимость и/или степень фотозатемнения указанного по меньшей мере одного слоя фотохромного гидрида иттрия достигнута путем регулирования концентрации кислорода или концентрации кислорода в сочетании с концентрацией водорода в слое.
6. Устройство по п. 1, в котором указанный фотохромный гидрид иттрия легирован любым количеством элементов, таких как, например, лантаноидов или щелочноземельных металлов, концентрация которых меньше, чем концентрация иттрия.
7. Устройство по п. 1, в котором указанная подложка по существу непроницаема для водорода.
8. Устройство по п. 1, в котором указанная подложка по существу непроницаема для кислорода и/или воды.
9. Устройство по п. 1, в котором указанный покровный слой по существу непроницаем для кислорода и/или воды.
10. Устройство по п. 1, в котором указанный покровный слой действует как диффузионный барьер для всех реакционноспособных газов.
11. Устройство по п. 1, в котором указанная подложка снабжена прозрачным или частично прозрачным слоем, непроницаемым для водорода, кислорода и/или воды, расположенным между слоем гидрида металла и подложкой.
12. Устройство по п. 1, в котором покровный слой образован непроницаемым для водорода прозрачным или частично прозрачным материалом, окружающим сегменты или частицы фотохромного гидрида иттрия, внедренные в него, причем фотохромный слой таким образом внедрен в указанный прозрачный или частично прозрачный слой.
13. Устройство по п. 1, в котором указанный покровный слой состоит из оксидного или нитридного слоя.
14. Устройство по п. 1, в котором указанный покровный слой действует как антибликовое покрытие.
15. Способ получения устройства по п. 1, включающий стадию применения способа физического осаждения из паровой фазы для изготовления гидрида иттрия на непроницаемой для водорода подложке, причем гидрид иттрия имеет выбранную концентрацию водорода, и осаждения непроницаемого для водорода покровного слоя поверх указанного слоя гидрида иттрия.
16. Способ по п. 15, в котором указанный гидрид иттрия имеет выбранную концентрацию кислорода.