СИСТЕМА ЛИТОГРАФИИ, ДАТЧИК, ЭЛЕМЕНТ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЯ И СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ

1. Система литографии элементарными пучками заряженных частиц для переноса шаблона на поверхность мишени, содержащая датчик для определения одной или нескольких характеристик одного или нескольких элементарных пучков заряженных частиц, причем датчик содержит элемент преобразователя для приема заряженных частиц и генерации в ответ фотонов, причем элемент преобразователя содержит поверхность для приема одного или нескольких элементарных пучков заряженных частиц, причем эта поверхность снабжена одной или несколькими ячейками для оценивания одного или нескольких индивидуальных элементарных пучков, причем каждая ячейка содержит заданный шаблон блокировки из одной или нескольких структур блокировки заряженных частиц, образующих множество режущих краев в переходах между областями блокировки и областями без блокировки вдоль заданной траектории сканирования элементарных пучков по поверхности элемента преобразователя, при этом поверхность элемента преобразователя покрыта слоем покрытия, по существу проницаемым для упомянутых заряженных частиц, и по существу непроницаемым для внешнего света, и электрически проводящий слой расположен между этим слоем покрытия и структурами блокировки.
2. Система по п. 1, в которой датчик приспособлен для определения одной или нескольких характеристик множества элементарных пучков заряженных частиц для каждого из этих элементарных пучков параллельно посредством одновременной генерации сигнала в ответ на прием каждого из множества элементарных пучков заряженных частиц.
3. Система по п. 1 или 2, в которой проводящий слой является по существу подобным по форме и размеру размерам структур блокировки в плоскости, по существу параллельной поверхности элемента преобразователя.
4. Система по п. 1 или 2, в которой проводящий слой содержит хром.
5. Система по п. 1 или 2, в которой структуры блокировки содержат вольфрам.
6. Система по п. 1 или 2, в которой элемент преобразователя содержит сцинтиллирующий материал.
7. Система по п. 6, в которой сцинтиллирующий материал содержит алюмоиттриевый гранат.
8. Система по п. 1 или 2, в которой слой покрытия содержит титан.
9. Система по п. 1 или 2, в которой элементарными пучками заряженных частиц являются элементарные пучки электронов.
10. Система по п. 1 или 2, в которой датчик дополнительно содержит:
приемник фотонов для приема фотонов, генерируемых упомянутым элементом преобразователя; и
блок управления для приема сигналов от приемника фотонов и для определения одной или нескольких характеристик одного или нескольких элементарных пучков на основе упомянутых сигналов.
11. Система по п. 1 или 2, дополнительно содержащая:
генератор элементарных пучков для генерации множества элементарных пучков заряженных частиц;
систему модуляции для модуляции элементарных пучков заряженных частиц в соответствии с шаблоном, подлежащим переносу;
электронно-оптическую систему для фокусировки модулированных элементарных пучков на поверхность мишени;
систему отклонения для отклонения сфокусированных элементарных пучков по поверхности либо мишени, либо датчика.
12. Датчик для генерации сигнала в ответ на его экспонирование пучком заряженных частиц, причем датчик содержит элемент преобразователя для приема заряженных частиц и генерации в ответ фотонов, причем элемент преобразователя содержит поверхность для приема одного или нескольких элементарных пучков заряженных частиц, причем эта поверхность снабжена одной или несколькими ячейками для оценивания одного или нескольких индивидуальных элементарных пучков, причем каждая ячейка содержит заданный шаблон блокировки из одной или нескольких структур блокировки заряженных частиц, образующих множество режущих краев в переходах между областями блокировки и областями без блокировки вдоль заданной траектории сканирования элементарных пучков по поверхности элемента преобразователя, при этом поверхность элемента преобразователя покрыта слоем покрытия, по существу проницаемым для упомянутых заряженных частиц, и по существу непроницаемым для внешнего света, и электрически проводящий слой расположен между слоем покрытия и структурами блокировки, причем датчик дополнительно содержит приемник фотонов, ассоциированный с элементом преобразователя, для генерации сигнала на основе фотонов, генерируемых элементом преобразователя.
13. Датчик по п. 12, в котором приемник фотонов выполнен с возможностью формирования информации о приеме на основе фотонов, генерируемых элементом преобразователя, причем датчик дополнительно содержит блок управления для приема этой информации о приеме от приемника фотонов, и определения характеристики множества элементарных пучков заряженных частиц на основе этой информации о приеме.
14. Элемент преобразователя для приема заряженных частиц и генерации в ответ фотонов, для использования в датчике для считывания характеристики множества элементарных пучков заряженных частиц, причем элемент преобразователя содержит поверхность для приема одного или нескольких элементарных пучков заряженных частиц, причем эта поверхность снабжена одной или несколькими ячейками для оценивания одного или нескольких индивидуальных элементарных пучков, причем каждая ячейка содержит заданный шаблон блокировки из одной или нескольких структур блокировки заряженных частиц, образующих множество режущих краев в переходах между областями блокировки и областями без блокировки вдоль заданной траектории сканирования элементарных пучков по поверхности элемента преобразователя, при этом поверхность элемента преобразователя покрыта слоем покрытия, по существу проницаемым для упомянутых заряженных частиц, и по существу непроницаемым для внешнего света, и электрически проводящий слой расположен между этим слоем покрытия и структурами блокировки.
15. Способ изготовления элемента преобразователя, выполненного для избирательного преобразования падающих заряженных частиц в фотоны, причем способ содержит:
обеспечение подложки, содержащей материал преобразования для преобразования заряженных частиц в фотоны;
последовательное покрытие подложки первым слоем, содержащим электрически проводящий материал, вторым слоем, содержащим материал остановки травления и третьим слоем, содержащим третий материал;
обеспечение слоя резиста поверх упомянутого третьего слоя;
нанесение шаблона и проявление слоя резиста таким образом, чтобы сформировать первый заданный шаблон, и травление проявленного слоя резиста, пока не будет экспонирован третий слой;
покрытие экспонированного третьего слоя четвертым слоем, содержащим дополнительный материал остановки травления;
отслаивание проявленного резиста таким образом, что третий слой экспонируется в соответствии со вторым заданным шаблоном, причем второй заданный шаблон является инверсией первого заданного шаблона;
травление третьего слоя в соответствии со вторым заданным шаблоном, пока не будет экспонирован второй слой;
травление четвертого слоя, также как второго слоя, в соответствии со вторым заданным шаблоном, пока не будет экспонирован первый слой.
16. Способ по п. 15, в котором упомянутый первый слой является по существу непроницаемым для внешнего света и по существу проницаемым для элементарных пучков заряженных частиц.
17. Способ по п. 15 или 16, в котором материал остановки травления второго слоя и дополнительный материал остановки травления четвертого слоя являются одинаковыми.
18. Способ по п. 15 или 16, в котором по меньшей мере один из материала остановки травления и дополнительного материала остановки травления содержит хром.
19. Способ по п. 15 или 16, в котором электрически проводящий материал первого слоя содержит по меньшей мере одно из титана и алюминия.
20. Способ по п. 15 или 16, в котором материал третьего слоя имеет высокую чувствительность как к влажному, так и к сухому травлению.
21. Способ по п. 15 или 16, в котором третий материал содержит вольфрам.
22. Способ по п. 15 или 16, в котором материал преобразования подложки содержит сцинтиллирующий материал.
23. Способ по п. 22, в котором сцинтиллирующий материал содержит алюмоиттриевый гранат.