СПОСОБ ЛАЗЕРНОЙ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ

Способ лазерной очистки поверхности, заключающийся в формировании пучка лазерного излучения, сканировании сформированным пучком по загрязненной поверхности объекта и записи спектра плазмы, сопутствующей процессу удаления загрязнений, отличающийся тем, что сканирование поверхности осуществляют в многоимпульсном режиме, а запись спектра плазмы осуществляют в непрерывном режиме без импульса задержки, в полученном спектре плазмы для очищаемой поверхности и/или для загрязнителя выбирают наиболее легко возбуждаемую спектральную линию с наименьшим потенциалом ионизации и наибольшей вероятностью энергетического перехода, измеряют значения интенсивностей указанных спектральных линий, при значении отношения интенсивностей выбранных спектральных линий больше 0,5, мощность пучка лазерного излучения уменьшают, а при значении отношения интенсивностей выбранных спектральных линий меньше 0,5 - поверхность считают очищенной.