ВАКУУМНОЕ ОБРАБАТЫВАЮЩЕЕ УСТРОЙСТВО

1. Вакуумное обрабатывающее устройство для облучения материала напыления, получаемого паровым осаждением, содержащегося в источнике-испарителе, электронным пучком из электронной пушки Пирса и образования осажденного слоя на обрабатываемой подложке, расположенной напротив источника-испарителя, отличающееся тем, что магнитное устройство для создания магнитного поля, по существу, перпендикулярного направлению падения электронного пучка и практически параллельного поверхности излучения электронного пучка источника-испарителя, обеспечено снаружи вакуумной камеры, с задней стороны поверхности излучения электронного пучка для отклонения и направления электронного пучка к точке испарения источника-испарителя.
2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что источник-испаритель представляет собой кольцевой нагреватель.
3. Устройство по п.1, отличающееся тем, что испаряемый и осаждаемый материал представляет собой металл, металлический оксид или изоляционный материал.
4. Устройство по п.3, отличающееся тем, что металлический оксид представляет собой MgO или композиционный материал на основе MgO, используемый в качестве защитного слоя для экрана плазменной панели.
5. Устройство по п.1, отличающееся тем, что магнитное устройство состоит из постоянного магнита.
6. Устройство по п.1, отличающееся тем, что оно представляет из себя поточное устройство вакуумного парового осаждения, включающее в себя, по меньшей мере, две камеры, а именно загрузочно-разгрузочную и камеру парового осаждения, или три камеры загрузочную, камеру парового осаждения и разгрузочную, и отличается тем, что электронная пушка Пирса закреплена на поверхности боковой стенки камеры парового осаждения относительно направления подачи обрабатываемой подложки, и управление осуществляется таким образом, что электронный пучок испускается в направлении, практически перпендикулярном направлению подачи обрабатываемой подложки.
7. Устройство по п.6, отличающееся тем, что две или более точки испарения образуются отклонением электронного пучка с помощью отклоняющей катушки электронной пушки Пирса.
8. Устройство по п.7, отличающееся тем, что электронный пучок направляют вперед и назад или вправо и влево с помощью отклоняющей катушки электронной пушки Пирса.
9. Устройство по п.1, отличающееся тем, что оно представляет собой поточное устройство вакуумного парового осаждения, включающее в себя, по меньшей мере, две камеры - загрузочно-разгрузочную и камеру парового осаждения, или три камеры - загрузочную, камеру парового осаждения и разгрузочную, и отличается тем, что электронная пушка Пирса закреплена на поверхности передней или задней стенки камеры парового осаждения относительно направления подачи обрабатываемой подложки, и управление осуществляется таким образом, что электронный пучок испускается в направлении, практически совпадающем с направлением подачи обрабатываемой подложки.
10. Устройство по п.9, отличающееся тем, что две или более точки испарения образуются отклонением электронного пучка с помощью отклоняющей катушки электронной пушки Пирса.
11. Устройство по п.10, отличающееся тем, что электронный пучок направляют вперед и назад или вправо и влево с помощью отклоняющей катушки электронной пушки Пирса.