Das Rekombinationsverhalten eines Iaserinduzierten Elektron-Loch-Plasmas in pin-Dioden und Silizium-Ausgangsmaterial
By: Andreas C. Brockelt
Contributors: Technische Universität Berlin
Published: 1990
Language: ger
Number of pages: 182
Notes: Thesis (doctoral)--Technische Universität Berlin, 1990.