Zur Optimierung von Polymerresists für die Röntgenlithographie
Subtitle: Untersuchungen über Entwicklungssysteme und Prozessführung bei der Nassentwicklung
By: Leo Wolfgang Schlegel
Contributors: Technische Universität Berlin
Publisher: [s.n.]
Published: 1988
Place of publication: [s.l.]
Language: ger
Notes: Mikroreprod. e. Ms. 141 Bl. : graph. Darst., Ill.

Thesis (doctoral)--Technische Universität Berlin, 1988.