Plasma chemistry of fluorocarbon RF discharges used for dry etching
By: Marco Haverlag
Contributors: Technische Universiteit Eindhoven
Publisher: [s.n.]
Published: 1991
Place of publication: [s.l.]
Language: eng
Number of pages: 134
Notes: Thesis (doctoral)--Technische Universiteit Eindhoven, 1991.

Met lit. opg. - Met een samenvatting in het Nederlands.