Die Rückstreumethode als Verfahren zur Bestimmung des Profiles von Strahlenschäden in durch Ionenimplantation dotiertem Silizium
By: Klaus Schmid
Contributors: Technische Universität München
Published: 1972
Language: ger
Number of pages: 103
Notes: Thesis (doctoral)--Technische Universität München, 1972.