Modelowanie chemicznego procesu osadzania cienkich warstw z fazy gazowej w warunkach kontrolowanych dyfuzją reagentów do podłoża
By: Andrzej Kwatera.
Series: Zeszyty naukowe Akademii Górniczo-Hutniczej im. Stanisława Staszica ;; 1438.; Ceramika,; nr zesz. 62; Zeszyty naukowe Akademii Górniczo-Hutniczej im. Stanisława Staszica ;; nr. 1438.; Zeszyty naukowe Akademii Górniczo-Hutniczej im. Stanisława Staszica.; zesz. 62.
Publisher: Akademia Górniczo-Hutnicza im. S. Staszica
Published: 1991
Place of publication: Kraków
Language: pol
Number of pages: 108
Subjects: Chemical vapor deposition.
Other titles: Modelling of the chemical vapor deposition (CVD) in the regime controlled by the diffusion of reactants to the substrate
Notes: Summary in English.
Includes bibliographical references (p. [103]-106).