Diffusion und Lokalisation positever Myonen in einkristallinem Kupfer, Vanadium, Niobium und Tantal
By: Hugo Schilling
Contributors: Eidgenössische Technische Hochschule Zürich
Published: 1980
Language: ger
Number of pages: 133
Notes: Thesis (doctoral)--Eidgenössische Technische Hochschule Zürich, 1980.