Strukturprofilsimulation dicker Schichten in der optischen Lithographie mit DNQ-Novolak-basierenden Photoresists
By: S.-J. Chung, H. Hein, J. Schulz
Contributors: Hein, H. (Hermann), 1879-1939; Schulz, J.; Forschungszentrum Karlsruhe. Technik und Umwelt
Series: Wissenschaftliche Berichte -- FZKA 6111; Wissenschaftliche Berichte (Forschungszentrum Karlsruhe. Technik und Umwelt) -- FZKA 6111
Publisher: Forschungszentrum Karlsruhe
Published: 1998
Place of publication: Karlsruhe [Germany]
Language: ger
Number of pages: 94
Other titles: Simulation of structure profiles in optical lithography of thick DNQ-Novolak based Photoresists.
Notes: Thesis (doctoral)--Universität Karlsruhe, 1998.

Summary in English.