Elektronische Transporteigenschaften des amorphen Metalls PtxSi1-x in der Nähe des Metall-Isolator-Übergangs
By: Hans-Peter Löbl
Contributors: Technische Universität München
Published: 1989
Place of publication: München
Language: ger
Number of pages: 118
Notes: Thesis (doctoral)--Technische Universität München, 1989.