Wasserstoff-Induzierte Silizium-Schichtabtrennung Durch Implantations- Und Plasmaprozesse Fur Die Herstellung Von Soi-Substraten
Publisher: Logos Verlag Berlin
Published: Dec 31, 2007
Language: ger
Format: paperback
Number of pages: 128
ISBN-13: 9783832518080
Notes: Source title: Wasserstoff-Induzierte Silizium-Schichtabtrennung Durch Implantations- Und Plasmaprozesse Fur Die Herstellung Von Soi-Substraten (German Edition)