Deep ion implantation for bipolar silicon devices
Subtitle: investigations into the use of the third dimension
By: Antoni Johan Mouthaan
Contributors: Technische Hogeschool Twente
Publisher: [s.n.]
Published: 1986
Place of publication: [s.l.]
Language: eng
Number of pages: 127
Notes: Auteursnaam op omslag: Ton Mouthaan.

Met samenv. i. h. Nederlands.

Thesis (doctoral)--Technische Hogeschool Twente, 1986.

Lit. opg. - Met een samenvatting in het Nederlands.