威廉·加德納·普凡

威廉·加德納·普凡（William Gardner Pfann，暱稱"比爾"（Bill），）是貝爾實驗室的發明家與材料科學家。普凡因開發半導體產業用的區域熔煉技術而赫赫有名。貝爾實驗室的官方歷史這麼記載道："由威廉·加德納·普凡開發的區域精煉是劃時代的發明...它是讓鍺與矽中的雜質能被吾人控制的重大貢獻"（Timely invention of zone refining by W.G.Pfann ... was a major contribution that helped bring the impurities in germanium and silicon under control.）。S. Millman editor (1983) A History of Engineering and Science in the Bell System, volume 4: Physical Sciences, p 580, 貝爾實驗室 

早年

普凡生於紐約市布魯克林。1935年普凡年僅18歲就展現了對材料科學的才能，沒有大學學歷就進入了貝爾實驗室的化學研究部門。後來到柯柏聯盟學院的夜校上學，才於1940年取得化學工程的學士學位。

在貝爾實驗室，普凡加入威廉·肖克利意圖以半導體取代真空管的工作。本來他們採用鍺，1945年用鍺做出了高逆壓整流器。 普凡想出了最早的一種，他改良了的1N26型點接二極體使其成為三極放大器，後來被稱為A型電晶體（Type A transistor）。F.M. Smits (1985) A History of Engineering and Science in the Bell System, volume 6: Electronics Technology, p 12, Bell Labs, 

突破

晚年
1973年，普凡成為第一位的受獎者。
1975年，普凡被推選為美國國家科學院院士。1976年獲美國物理聯合會授予。

註記

參考文獻

 Kenneth A. Jackson, Harry J. Leamy & Richard S. Wagner (February 1983) "William G. Pfann",  36:88.

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