脉冲激光沉积

脈衝雷射沉積（，PLD），也被稱為脈衝雷射燒蝕（，PLA）為物理气相沉积(，PVD)的一種 , 是一種利用聚焦後的高功率脈衝雷射於真空腔體中對靶材進行轟擊，由於雷射能量極強，會將靶材汽化形成電漿蕈狀團(plasma plume)，並沉澱於基板上形成薄膜。

鍍膜可於基礎真空 （~10⁻⁷ Torr）或通入工作氣體(如欲沉積氧化物薄膜，通常會通入氧氣作為其工作氣體)的環境下進行。

於脈衝雷射沉積的過程中，雷射的能量被靶材吸收之後，能量首先激發靶材內部的電子躍遷，之後再轉成熱能等使靶材汽化形成電漿態，於電漿雲中，包含分子、原子、電子、離子、微粒、融球體等物質。

Category:半導體物理學
Category:薄膜沉積
Category:雷射机械加工
Category:雷射應用

PLD 最顯著的優勢是靶材成分可近乎完整地轉移至薄膜，這對複雜多元化合物（如高溫超導體 YBCO）極為關鍵，是其他 PVD 技術難以達到的特性。

PLD 因其獨特的化學計量轉移能力，至今仍是氧化物功能薄膜基礎研究最重要的沉積工具之一。