物理气相沉积

物理气相沉积（，簡稱PVD）是一種工業製造上的工艺，屬於鍍膜技術的一種，是主要利用物理方式來加熱或激發出材料过程来沉积薄膜的技术，即真空鍍膜(蒸鍍)，多用在切削工具與各種模具的表面處理，以及半導體裝置的製程上。

和化学气相沉积相比，物理气相沉积适用范围广泛，几乎所有材料的薄膜都可以用物理气相沉积来制备，但是薄膜厚度的均匀性是物理气相沉积中的一个问题。

主要的物理气相沉积的方法有：

参见

表面处理

参考文献

外部連結
 Society of Vacuum Coaters 
 PVD Animation—an animation of a generic PVD sputter tool
  Physical vapor deposition

Category:涂层

Category:等离子加工
Category:半導體元件製程
Category:薄膜沉积