化学气相沉积

化学气相沉积（英语：chemical vapor deposition，简称CVD）是一种用来产生纯度高、性能好个固态材料个化学技术。半导体产业使用此技术来成长薄膜。典型个CVD工艺是拿晶圆（基底）暴露拉一种或多种弗同个前趋物下，拉基底表面发生化学反应或/及化学分解来产生欲沉积个薄膜。

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