物理气相沉积

物理气相沉积（英语：Physical vapor deposition，PVD）是一种工业制造上个工艺，是主要利用物理过程来沉积薄膜个技术，即真空镀膜（蒸镀），多用在拉切削工具搭各种模具个表面处理，搭仔半导体装置个制造工艺上。

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