光刻

光刻（英语：photolithography）是半导体器件制造工艺中个一个重要步骤，该步骤利用曝光搭显影拉光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺拿光掩模上个图形转移到所在衬底上。