Plazma kimyosi

Plazma kimyosi, plazmokimyo — fizikkimyoning past temperaturali plazmadagi fizikkimyoviy jarayonlarni, undagi reaksiyalar kinetikasi va me-xanizmini, plazmokimyoviy texnologiya asoslarini oʻrganuvchi boʻlimi. Fizika nuqtai nazaridan Plazma kimyosi da qoʻllanadigan plazma (termoyadro plazmasiga nisbatan) past temperaturali (103—105 K, ionlanish darajasi 10~6—10^’), kimyo va kimyoviy texnologiya nuqtai nazaridan esa eng yuqori temperaturali hisoblanadi. Plazma kimyoda endotermik reaksiyalarni amalga oshirish yoki issiqqa chidamli materiallar taʼsir etuvchi yuqori temperatura elitkichlari sifatida ishlatiladi. Neytral holatda mavjud boʻlmaydigan koʻpgina molekulalar ionlashgan xrlda plazmada boʻla oladi. Plazma kimyosining texnikada qoʻllanishi plazma oqimining yuqori temperaturaga ega boʻlishiga asoslangan. Plazma oqimi elektr yoyli yoki yuqori chastotali induksion plazmatronlarda olinadi.

Plazma kimyosining eng istiqbolli texnik jarayoni atmosfera azotini toʻgʻridan-toʻgʻri oksidlash, metan va boshqa uglevodorodlarni elektrokrekinglab atsetilen olishdan iborat. Etilen va boshqa olefinlarni, tetraftoretilen, gidrazin, ditsian, vodorod sianid, trixlorsilan, gidroksilamin, vodorod perok-sid, formaldegid olish maqsadida ham Plazma kimyosi jarayonlari oʻrganiladi. Plazma kimyosining maxsus boʻlimi — plazma metallurgiyasida vanadiy, nikel, temir, molibden, bor va hokazoning oksidlari va galogenidlariga vodorod plazmasi taʼsir ettirib, sof elementlar ajratib olinadi.

Metallar sirtida olovbardosh oksid pardalar hosil qilish yoki polimerlar sirtini tozalashda kislorod plazmasi oqimi qoʻllanadi.

Plazma kimyosi plazma nurlanganda kechadigan fotokimyoviy jarayonlarni ham oʻz ichiga oladi. Bunga ozonning olinishi misol boʻla oladi, chunki bunda asosiy jarayon kislorod molekulalarini ultrabinafsha nurlar taʼsirida dissotsiatsiyalashga asoslangan.

 Adabiyot 
 Polak L. S. [i dr.]. Ximiya plazmi, Novosibirsk, 1991.OʻzME. Birinchi jild. Toshkent, 2000-yil

 Manbalar 



Turkum:Fizik kimyo