İkincil iyon kütle spektrometrisi

İkincil iyon kütle spektrometrisi (Secondary-ion mass spectrometry-SIMS), numunenin yüzeyini odaklanmış bir birincil iyon ışınıyla püskürterek ve ortaya çıkan ikincil iyonları toplayıp analiz ederek katı yüzeylerin ve ince filmlerin bileşimini analiz etmek için kullanılan bir tekniktir. İkincil iyonların kütle/yük oranları bir kütle spektrometresi ile ölçülürek yüzeyin temel, izotopik veya moleküler bileşimini 1 ila 2 nm derinliğe kadar belirlenebilir. SIMS, ppm'den ppb'ye kadar değişen temel algılama sınırlarıyla en hassas yüzey analizi tekniğidir.

 Kaynakça 

 Bibliyografi 

Benninghoven, A., Rüdenauer, F. G., Werner, H. W., "Secondary Ion Mass Spectrometry: Basic Concepts, Instrumental Aspects, Applications, and Trends", Wiley, New York, 1987 (1227 pages) 
Vickerman, J. C., Brown, A., Reed, N. M., "Secondary Ion Mass Spectrometry: Principles and Applications", Clarendon Press, Oxford, 1989 (341 pages) 
Wilson, R. G., Stevie, F. A., Magee, C. W., "Secondary Ion Mass Spectrometry: A Practical Handbook for Depth Profiling and Bulk Impurity Analysis", John Wiley & Sons, New York, 1989 
Vickerman, J. C., Briggs, D., "ToF-SIMS: Surface Analysis by Mass Spectrometry", IM Publications, Chichester UK and SurfaceSpectra, Manchester UK, 2001 (789 pages)  
Bubert, H., Jenett, H., "Surface and Thin Film Analysis; A compendium of Principles, Instrumentation, and Applications", p. 86-121, Wiley-VCH, Weinheim, Germany 2002 

 Dış bağlantılar 
 Tutorial pages for SIMS theory  and instrumentation 

Kategori:Kütle spektrometrisi