พลาสมาคู่ควบแบบเหนี่ยวนำ

พลาสมาคู่ควบแบบเหนี่ยวนำ (inductively coupled plasma, ICP) คือพลาสมาชนิดหนึ่งที่ได้รับพลังงานจากกระแสไฟฟ้า ซึ่งสร้างขึ้นจากการเหนี่ยวนำแม่เหล็กไฟฟ้า A. Montaser and D. W. Golightly, eds. Inductively Coupled Plasmas in Analytical Atomic Spectrometry, VCH Publishers, Inc., New York, 1992.

อุณหภูมิของพลาสมาอาจมีค่าตั้งแต่ 6 000 K จนถึง 10 000 K ซึ่งเทียบเท่ากับอุณหภูมิพื้นผิวของดวงอาทิตย์ ICP ที่ปลดปล่อยออกมาจึงมีความหนาแน่นอิเล็กตรอนสูงมาก ในระดับ 1015 cm−3 เราสามารถนำ ICP ไปประยุกต์ใช้ได้หลายแบบในงานที่ต้องใช้พลาสมาความหนาแน่นสูง

 Inductively coupled plasma atomic emission spectroscopy หรือ ICP-AES เป็นสเปกโตรสโกปีของการปลดปล่อยอะตอม
 Inductively coupled plasma mass spectrometry หรือ ICP-MS : เป็นแมสสเปกโตรเมทรีชนิดหนึ่ง
 Reactive-ion etching หรือ ICP-RIE

 อ้างอิง 

 แหล่งข้อมูลอื่น 
 Inductively Coupled Plasma by Traci Bradford and M. Nicole Cook 

หมวดหมู่:สเปกโทรสโกปี
หมวดหมู่:ฟิสิกส์พลาสมา
หมวดหมู่:อิเล็กโทรไดนามิกส์