Fotolitografi

Fotolitografi, juga dikenali sebagai litografi optik atau litografi UV, merupakan proses yang digunakan dalam pembekalan microfabrikasi kepada bahagian corak filem tipis atau sebahagian besar substrat. Ia menggunakan cahaya untuk memindahkan corak geometri dari fotomask kepada fotosistis kimia sensitif cahaya, atau hanya "menahan," pada substrat. Satu siri rawatan kimia kemudiannya mengukir corak pendedahan ke dalam bahan atau membolehkan pemendapan bahan baru dalam corak yang dikehendaki apabila bahan di bawah gambar itu menentang. Sebagai contoh, dalam litar bersepadu yang kompleks, wafer CMOS moden akan melalui kitaran fotolithografik sehingga 50 kali.

Fotolitografi berkongsi beberapa prinsip asas dengan fotografi dalam corak yang ditolak etsa dibuat dengan mendedahkannya kepada cahaya, sama ada secara langsung (tanpa menggunakan topeng) atau dengan imej yang diproyeksikan menggunakan topeng optik. Prosedur ini adalah sebanding dengan versi ketepatan tinggi kaedah yang digunakan untuk membuat papan litar bercetak. Peringkat seterusnya dalam proses ini lebih banyak sama dengan etsa daripada dengan percetakan litografi. Ia digunakan kerana ia boleh mencipta corak yang sangat kecil (sehingga beberapa puluh nanometer dalam saiz), ia memberikan kawalan yang tepat ke atas bentuk dan saiz objek yang diciptanya, dan kerana ia boleh mewujudkan corak seluruh permukaan secara berkesan. Kelemahan utamanya ialah ia memerlukan substrat yang rata untuk bermula dengan, ia tidak begitu berkesan untuk mewujudkan bentuk yang tidak rata, dan ia memerlukan syarat operasi yang sangat bersih. Photolithography adalah kaedah standard papan litar bercetak (PCB) dan fabrikasi mikropemproses.

Rujukan

Pautan luar

 BYU Photolithography Resources
 Semiconductor Lithography an overview of lithography
 Optical Lithography IntroductionIBM site with lithography-related articles

Kategori:Mikroteknologi