상하이 마이크로일렉트로닉스

상하이 마이크로일렉트로닉스(Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd., )는 중화인민공화국 상하이시에 본사를 둔 반도체 제조 장비 기업이다. 이 회사는 반도체 제조 산업을 위한 포토리소그래피 스캐너 및 검사 도구의 연구, 개발, 제조 및 판매에 종사하며 고객에게 지원 서비스도 제공한다.

 기업 역사 
SMEE는 상해전기의 부사장이었던 허룽밍에 의해 2002년에 설립되었다. 원래는 863 계획의 노광기 기술 연구 프로젝트로 시작되었다. 몇 년간의 연구 끝에 SMEE는 상업용으로 국내에서 생산된 첫 번째 노광기를 출시했다.

2017년 12월, SMEE는 CSC 파이낸셜과 공개 회사 전환을 위한 계약을 체결했다. 이 과정에서 SMEE는 중국 에버브라이트 리미티드와 같은 투자자들로부터 자금을 확보했다. 이후 경영진에 변화가 생기면서 허룽밍은 2018년 초에 SMEE를 떠났다.

 제품 역사 
2023년 이전까지 SMEE의 전공정 반도체 칩 제조를 위한 가장 앞선 제품은 SSA600으로, 90 nm급 집적 회로 실리콘 칩을 제조할 수 있는 해상도를 갖추고 있다. SSA600 시리즈 장비는 193 nm 파장의 가시광선을 방출하는 불화아르곤(ArF) 엑시머 레이저를 특징으로 하는 액침 심자외선(DUV) 노광 도구로 설명되어 왔다.

 SSA800x (2023년 12월) 
2023년 12월, 서구 언론은 SMEE가 28 nm 공정급 칩을 제조할 수 있는 새로운 SSA800-10W 액침 노광 장비의 초기 개발을 완료했다고 보도했다. 이 새로운 장비의 사례들이 SMIC와 같은 제조업체 및 연구 기관에 인도되었을 가능성이 있다. SSA800은 광원으로 불화아르곤 레이저를 계속 사용하지만, 제조업체가 28 nm 공정 기술과 관련된 회로 특징을 형성할 수 있도록 더 나은 도구와 부품을 포함하고 있다. 서구 언론은 SSA800이 미국에서 기원한 지식 재산권이 포함된 구성 요소를 전혀 사용하지 않도록 설계되었다고 보도했다. 일부 분석가들은 중국 정부가 SMEE에 새로운 28 nm급 DUV 액침 시스템을 유사한 ASML NXT:2000i 시스템과 비교 평가하도록 요청했을 가능성이 높으며, SSA800이 현재 시험 생산 및 인증을 진행 중인 완전 국산화 생산 라인의 일부라고 시사한다. 2024년 초 기준, SMEE의 웹사이트 제품 목록 섹션에는 아직 새로운 SSA800 노광기가 포함되어 있지 않다.

향후 SSA800 버전은 멀티 패터닝을 통해 28 nm 노드 미만의 공정에 채택될 수 있다. 일반적으로 멀티 패터닝 분야에서 개발된 포토리소그래피 기술을 사용하면 ArF 레이저 광원을 사용하는 액침 노광 장비로 7 nm 또는 심지어 5 nm 공정만큼 진보된 기술과 관련된 집적 회로 특징을 형성할 수 있다. 예를 들어, 2016년 언론 보도에 따르면 인텔의 당시 새로운 10 nm 공정은 최신 EUV 포토리소그래피 기술을 사용하는 대신 액침 DUV 장비를 자기 정렬 더블 패터닝(SADP) 기술과 결합하여 원하는 회로 크기를 구현한 것으로 알려졌다.

SMEE의 SSA800 장비는 시기 면에서 포토리소그래피 업계 리더인 ASML에 뒤처져 있다. ASML은 2011년에 TSMC에 28 nm급 장비를 처음 인도한 바 있다.

 2023년 이전 제품군 
2023년 SSA800 스캐너 시리즈가 도입되기 전, SMEE는 전공정 집적 회로 제조를 위한 4개 시리즈 장비(SSA600 시리즈 스캐너 등), 후공정 IC 패키징, LED, MEMS, IC 전력 소자 및 박막 트랜지스터(TFT)를 포함한 다양한 노광, 계측 및 파생 장비를 개발해 왔다.

 EUV 리소그래피 
2024년 SMEE는 네덜란드의 ASML에서만 생산하고 있는 첨단 칩 제조용 EUV 노광 스캐너에 대한 특허를 출원했다. 일부 관찰자들은 SMEE 이외의 민간, 국가 및 교육 기관이 참여하여 향후 몇 년 내에 중국산 EUV 노광 스캐너 프로토타입을 개발하고 인도하기 위한 최대 3개의 별도 노력이 중국 내에서 진행 중일 수 있다고 시사한다. 중국의 첨단 노광 장비 개발의 핵심 동력은 혁신을 강화하기 위해 공공-민간 협력을 강화하려는 정부 지원 노력으로 보인다. 특히 국가는 정부 지원을 받은 첨단 R&D 성과를 SMEE와 같은 지정된 민간 부문 기업으로의 이전을 용이하게 함으로써 개발 병목 현상을 극복하고자 한다.

 미국의 제재 
2022년 12월, 중국의 첨단 반도체 장비 개발을 저지하려는 미국의 노력의 일환으로 미국 상무부는 SMEE를 산업안보국의 거래 제한 목록에 추가했다.

 같이 보기 
 ASML
 SMIC

 각주 

 외부 링크 


분류:반도체 장비 기업
분류:2002년 설립된 전자 기업
분류:중국의 반도체 기업
분류:상하이시의 기업