유도 결합 플라스마

유도 결합 플라스마(inductively coupled plasma, ICP) 또는 변합기 결합 플라스마(transformer coupled plasma, TCP)High density fluorocarbon etching of silicon in an inductively coupled plasma: Mechanism of etching through a thick steady state fluorocarbon layer  T. E. F. M. Standaert, M. Schaepkens, N. R. Rueger, P. G. M. Sebel, and G. S. Oehrleinc는 전자기 유도, 즉 시변 자기장에 의해 생성되는 전류에 의해 에너지가 공급되는 플라스마 소스(source)의 일종이다.

 응용 
 유도 결합형 플라스마 발광 분광 분석법(ICP-AES)
 유도 결합 플라즈마 질량 분석기(ICP-MS)
 반응성 이온 에칭(ICP-RIE)

 같이 보기 
 유도 플라스마

 각주 

분류:동전기학
분류:분광학
분류:이온원