원자층 증착

원자층 증착(Atomic layer deposition, ALD)은 가스상 화학적 과정의 순차적 사용을 기반으로 하는 박막 증착 기술이다. 이는 화학기상증착의 하위 분류이다. 대부분의 ALD 반응은 전구체(반응물이라고도 함)라는 두 가지 화학 물질을 사용한다. 이러한 전구체는 순차적이고 자체 제한적인 방식으로 한 번에 하나씩 재료 표면과 반응한다. 별도의 전구체에 반복 노출을 통해 박막이 천천히 증착된다. ALD는 반도체 소자 제조의 핵심 공정이자 나노물질 합성 도구 세트의 일부이다.

 외부 링크 
 ALD animation 
 Atomic layer deposition 

분류:박막 퇴적물
분류:반도체 제조
분류:핀란드의 발명품
분류:소련의 발명품