입체뇌전도

입체뇌전도(Stereoelectroencephalography, sEEG)는 대뇌에 전극을 삽입하여 깊이에 따른 뇌전도를 측정할 수 있는 방식이다. 치유가 힘든 뇌전증 환자에게 뇌전증 발작을 억제하려고 대증적인 목적에서 주로 삽입한다. 깊이에 따른 뇌 신호의 정보를 얻을 수 있어 뇌-컴퓨터 인터페이스 등 다양한 연구분야에서 사용되기도 한다.

 역사 
1974년에 프랑스 파리의 상 안느 병원 연구팀이 뇌전증 발작이 일어나는 정확한 부위를 특정하기 위해 처음으로 개발했다.Talairach J, Bancaud J, Szikla G, et al. Approche nouvelle de la neurochirugie de l’epilepsie. Méthodologie stérérotaxique et résultats thérapeutiques. Neurochirurgie (1974) 20 (Suppl. 1): 1-240. 뇌출혈이나 감염 등 부작용이 발생할 확률은 1% 미만이다. 이런 까닭에 심각한 뇌전증 환자에게 일부 시술되기도 한다.Cossu M, Cardinale F, Castana L, et al. Stereo-EEG in the presurgical evaluation of focal epilepsy: a retrospective analysis of 215 procedures. Neurosurgery (2005) 57: 706-718.

 같이 보기 
 뇌피질전도
 각주 

분류:전기생리학
분류:신경생리학
분류:신기술