180 nm 공정

180 nm 공정은 TSMC와 후지쯔를 시작으로, 소니그룹, 도시바, 인텔, AMD, 텍사스 인스트루먼트 및 IBM에 이르기까지 선도적인 반도체 회사들이 1998년부터 2000년경에 상용화한 MOSFET (CMOS) 반도체 공정 기술이다.

 역사 
180 nm 값의 기원은 역사적이며, 2~3년마다 70% 스케일링되는 추세를 반영한다. 명칭은 국제 반도체 기술 로드맵(ITRS)에 의해 공식적으로 결정된다.

이 공정으로 제조된 최초의 CPU 중 일부는 인텔 코퍼마인 계열의 펜티엄 III 프로세서이다. 이는 당시 포토리소그래피에 사용된 빛의 파장인 193 nm보다 짧은 게이트 길이를 사용한 최초의 기술이었다.

일부 최신 마이크로프로세서 및 마이크로컨트롤러(예: PIC)는 일반적으로 저비용이며 기존 장비의 업그레이드가 필요하지 않기 때문에 이 기술을 사용하고 있다. 2022년 구글은 글로벌파운드리스 180nm MCU (마이크로컨트롤러) 공정을 멀티 프로젝트 웨이퍼에 사용하는 오픈 소스 하드웨어 프로젝트를 후원했다.

1988년, 이란계 엔지니어 비잔 다바리가 이끄는 IBM 연구팀은 CMOS 공정을 사용하여 180nm 이중 게이트 MOSFET을 제작했다. 180nm CMOS 공정은 나중에 TSMC에 의해 1998년에 상용화되었고, 이어서 후지쯔에 의해 1999년에 상용화되었다.65nm CMOS Process Technology

 180 nm 제조 기술을 사용하는 프로세서 
 인텔 코퍼마인 E—1999년 10월
 ATI 라데온 R100 및 RV100 라데온 7000—2000년
 닌텐도 닌텐도 게임큐브의 게코 CPU—2000년
 소니 플레이스테이션 2의 이모션 엔진 및 그래픽스 신시사이저—2000년 3월
 AMD 애슬론 썬더버드—2000년 6월
 AMD 듀론 스핏파이어—2000년 6월
 AMD 듀론 모건—2001년 8월
 인텔 셀러론 (윌라멧)—2002년 5월
 모토로라 파워PC 7445 및 7455 (아폴로 6)—2002년 1월

 각주 

분류:국제 반도체 기술 로드맵 리소그래피 노드
분류:대만의 발명품