キヤノンアネルバ

キヤノンアネルバ株式会社（）は、真空技術や成膜加工技術で真空薄膜製造装置や真空コンポーネント製品の開発・製造・販売・サービス事業を展開する企業。

現在はキヤノンの子会社だが、当初はNECグループに所属していた。社名の「アネルバ」とは、アナリシス（分析技術）の“AN”、エレクトロニクス（電子技術）の“EL”、バキューム（真空技術）の“VA”をつなげた造語である真空ジャーナル (2015年1月 151号 P.16) 2022年4月6日閲覧。

沿革
1967年（昭和42年）10月21日 - 日本電気とバリアン社の合弁事業として、日電バリアン株式会社を設立。本社所在地は東京都港区麻布。
1975年（昭和50年）4月 - 本社を府中工場に移転。
1977年（昭和52年）10月 - バリアン社との合弁契約を解消。
1979年（昭和54年）11月 - 日電アネルバ株式会社に社名変更。
1983年（昭和58年）4月 - 富士工場を開設。日電アネルバエンジニアリング株式会社を設立。
1991年（平成3年）2月 - 静岡アネルバ株式会社を設立。
1993年（平成5年）4月 - 富士第三工場が竣工。
1994年（平成6年）7月 - 事業部制を導入。
1995年（平成7年）10月 - ISO 9001認証を取得。日電アネルバエンジニアリングを合併し、アネルバ株式会社に社名変更。
1996年（平成8年）7月 - 事業部制を変更し、FPD（事）、MMD（事）、開発研究所、次世代商品開発本部を創設。
1997年（平成9年）10月 - 創立30周年記念式典を挙行。
1998年（平成10年）10月 - ISO 14001認証を取得。
1999年（平成11年）4月 - アネルバテクノビジネス株式会社を設立。
2002年（平成14年）7月 - 静岡アネルバを吸収合併。
2003年（平成15年）10月 - アネルバテクニクス株式会社を設立。
2005年（平成17年）
9月30日 - キヤノンが日本電気から当社の全株式を取得し、連結子会社化アネルバ株式会社の連結子会社化と社名変更について - キヤノンニュースリリース（2005年10月4日）2022年4月5日閲覧。
10月1日 - キヤノンのグループ会社となり、キヤノンアネルバ株式会社に社名変更。同時に子会社はキヤノンアネルバエンジニアリング株式会社（旧・アネルバテクノビジネス）、キヤノンアネルバテクニクス株式会社（旧・アネルバテクニクス）に社名変更。
2007年（平成19年）
4月 - 富士第四工場が竣工。
6月 - 栗木本社が竣工。8月に本社を移転。
2010年（平成22年）2月 - キヤノンアネルバエンジニアリング、キヤノンアネルバテクニクスを合併。
2017年（平成29年）10月 - 創立50周年。
2018年（平成30年）4月 - 原子拡散接合装置『BC7000』を発売。
2023年（令和5年）5月 - 原子拡散接合装置『BC7300』を発売。
2024年（令和6年）10月 - 半導体・電子部品製造装置シリーズ"Adastra"を発売。その後グッドデザイン賞金賞を受賞。
2025年（令和7年）2月 - 半導体・電子部品製造装置シリーズ"Adastra"がiFデザインアワード金賞を受賞。

 脚注 

注釈

出典

外部リンク


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