Wolfram(III) oksida

Wolfram(III) oksida (W2O3) adalah sebuah senyawa anorganik dari wolfram dan oksigen. Senyawa ini dilaporkan (2006) tumbuh sebagai lapisan tipis melalui pengendapan lapisan atom pada suhu antara 140 dan 240 °C menggunakan W2(N(CH3)2)6 sebagai prekursor.Atomic Layer Deposition of Tungsten(III) Oxide Thin Films from W2(NMe2)6 and Water: Precursor-Based Control of Oxidation State in the Thin Film Material Charles L. Dezelah IV, Oussama M. El-Kadri,  Imre M. Szilagyi,  Joseph M. Campbell,  Kai Arstila,  Lauri Niinistö, Charles H. Winter, J. Am. Chem. Soc., 128 (30), 9638–9639, (2006) Senyawa ini tidak disebutkan dalam buku teks utama. Beberapa literatur lama menyebutkan senyawa W2O3, tetapi karena berat atom wolfram diyakini pada saat itu adalah 92 (sekitar setengah dari nilai yang diterima saat ini yaitu 183,84), senyawa yang sebenarnya dirujuk adalah WO3.F. T Conington (1858), A handbook of chemical analysis, based on Dr. H. Will's Anleitung zur chemischen analyse, Longman, Brown, Green, Longmans, and Roberts

Laporan mengenai senyawa ini berasal dari setidaknya tahun 1970-an, tetapi hanya dalam bentuk permukaan atau lapisan tipis – tidak ada sintesis massal dari senyawa ini yang diketahui.

Kegunaan
Wolfram(III) oksida digunakan dalam berbagai jenis pelapis dan foil penyerap inframerah.Willey, R.R. (2002), Practical Design and Production of Optical Thin Films. Available from: http://www.crcnetbase.com/isbn/9780203910467 CRC Press. Section:5.3.1.29. . Diakses tanggal 6 Juli 2025.

Referensi

Kategori:Senyawa wolfram(III)
Kategori:Seskuioksida
Kategori:Oksida logam transisi