Proses 10 nm

Dalam fabrikasi semikonduktor, International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) mendefinisikan " proses 10 nanometer " sebagai simpul teknologi MOSFET yang mengikuti simpul "14 nm".

Setidaknya sejak tahun 1997, "node proses" diberi nama semata-mata atas dasar pemasaran, dan tidak ada hubungannya dengan dimensi pada sirkuit terpadu; baik panjang gerbang, jarak logam, atau jarak gerbang pada perangkat "10nm" adalah sepuluh nanometer. Misalnya, proses " 7 nm " GlobalFoundries secara dimensi mirip dengan proses "10 nm" Intel. Proses "10 nm" TSMC dan Samsung berada di antara proses "14 nm" dan "10 nm" Intel dalam kepadatan transistor . Kepadatan transistor (jumlah transistor per milimeter persegi) lebih penting daripada ukuran transistor, karena transistor yang lebih kecil tidak lagi berarti peningkatan kinerja, atau peningkatan jumlah transistor.

Semua proses produksi "10 nm" didasarkan pada teknologi FinFET (fin field-effect transistor), sejenis teknologi MOSFET multi-gerbang yang merupakan evolusi non-planar dari teknologi CMOS silikon planar. Samsung pertama kali memulai produksi chip "kelas 10 nm" pada tahun 2013 untuk chip memori flash multi-level cell (MLC), diikuti oleh SoC mereka yang menggunakan proses 10 nm pada tahun 2016. TSMC memulai produksi komersial chip "10 nm" pada tahun 2016, dan Intel kemudian memulai produksi chip "10 nm" pada tahun 2018.

Node proses
Foundry
 Aturan DasarPerangkat Logika ITRS
(2015) Samsung TSMC Intel Nama proses 16/14 nm 11/10 nm 10LPE(10 nm) 10LPP(10 nm) 8LPP(8 nm) 8LPU(8 nm) 8LPA(8 nm) 10FF(10 nm) 10 nm 10 nm SF(10 nm)Kepadatan transistor (MTr / mm2) 51.82 61.18 ?52.51100.76 Transistor gate pitch (nm) 70 48 68 64 ? 66 54 Interconnect pitch (nm) 56 36 51 ? ? 44 36 Transistor fin pitch (nm) 42 36 42 42 ? 36 34 Transistor fin height (nm) 42 42 49 ? ? 42 53 Production year 2015 2017      2017 production  (Cannon Lake)  (Tiger Lake)

 Lihat pula 
 International Technology Roadmap for Semiconductors
 Fabrikasi semikonduktor
 Fotolitografi
 Litografi ultraviolet ekstrem
 Daftar contoh skala semikonduktor
 Litografi rendam
 ASML Holding pemasok sistem fotolitografi terbesar, terutama untuk industri semikonduktor.
 SEMI — The semiconductor industry trade association
 Sirkuit terpadu
 MOSFET
 FinFET
 Multi-gate MOSFET
 CMOS
 Transistor
 Semikonduktor
 Nanometer

 Referensi 

Kategori:Node litografi International Technology Roadmap for Semiconductors
Kategori:Sirkuit terpadu penggunaan khusus
Kategori:Reka cipta Jepang
Kategori:Litografi (fabrikasi mikro)
Kategori:MOSFET
Kategori:Fabrikasi alat semikonduktor
Kategori:Teknologi cleanroom
Kategori:Mikroteknologi