Oksidasi termal (fabrikasi mikro)

Dalam fabrikasi mikro, oksidasi termal adalah cara untuk menghasilkan lapisan tipis oksida (biasanya silikon dioksida) pada permukaan wafer. Teknik ini memaksa zat pengoksidasi berdifusi ke dalam wafer pada suhu tinggi dan bereaksi dengannya. Laju pertumbuhan oksida sering diprediksi dengan model Deal–Grove. Oksidasi termal dapat diterapkan pada bahan yang berbeda, tetapi paling sering melibatkan oksidasi substrat silikon untuk menghasilkan silikon dioksida.

 Referensi 

Kategori:Teknologi semikonduktora
Kategori:Semikonduktor
Kategori:Fabrikasi alat semikonduktor
Kategori:Bahan nano
Kategori:Bahan
Kategori:Mikroteknologi
Kategori:MOSFET
Kategori:Elektronika nano
Kategori:Silikon