Litografi ultraviolet ekstrim

Litografi ultraviolet ekstrem (bahasa Inggris: Extreme ultraviolet litography), dalam bahasa Inggris disingkat sebagai EUV atau EUVL, merupakan teknologi litografi optis yang digunakan dalam fabrikasi perangkat semikonduktor untuk membuat sirkuit terpadu (IC). Teknologi ini menggunakan panjang gelombang ultraviolet ekstrem yang mendekati 13,5 nm, menggunakan tetesan plasma timah (Sn), untuk menghasilkan suatu pola dengan menggunakan reflective photomask untuk meng-expose substrat yang tertutup oleh photoresist. Teknologi ini baru diterapkan dalam fabrikasi perangkat semikonduktor yang paling maju.

Hingga 2023, ASML Holding merupakan satu-satunya perusahaan yang memproduksi dan menjual sistem-sistem EUV untuk produksi cip.

 Lihat pula 

 Oksidasi lokal silikon

 Referensi 

 Pranala luar 

 Sistem litografi EUV di situs web ASML

Kategori:Teknologi semikonduktor