軟微影技術

軟微影技術(soft lithography)，又稱軟微影製程、可撓性奈米轉印、軟蝕刻技術或軟光刻技術，是一種用軟性高分子材質做成的可撓性刻印的模具，在模具上面塗佈具有自我組合性能的單元分子(SAM， Self-Assembly Monomer)後，像印章一樣，在鍍金的薄膜基板上微壓，把奈米圖形模子上面凸出部分的自我組合性能的單元分子(SAM)像油墨一樣的印在金薄膜上。

優點 
軟微影技術具有一些獨特的優勢比其他形式的微影(光刻)技術（如光刻和電子束光刻）。 它們包括以下內容：

1.更低的成本比傳統微影技術大量生產。

2.非常適合應用在生物技術。

3.非常適合應用在塑膠電子。

4.非常適合於超大型平面，或及非平面（nonflat）微影。

5.不需要製作光罩，即可製造一個小的細節設計比一般微影實驗室設備的（30〜100納米）差不多。

缺點 
現在的積體電路包含了好幾層不同的材料，PDMS壓模的扭曲變形會導致複製圖案的小誤差，也使上下層做好的圖形排列得不整齊。即使是最微小的排列誤差或扭曲，都會損壞多層奈米電子裝置。因此，軟蝕刻法不適合製造需要精準堆疊的多層結構。此缺點可藉熱壓成形式奈米壓印或步進光感式奈米壓印來改善之。

參見 
光刻
微機電系統
微流控

參考資料 
 
 
 

微影