130 nm 공정

130 nm(나노미터) 공정 또는 0.13 µm(마이크로미터) 공정은 회로선 폭이 130 nm인 반도체를 다루는 공정 기술 수준이다. 2000년에서 2001년 경 인텔, IBM, 텍사스 인스트루먼트, TSMC 등의 회사가 달성하였다.

130 나노미터라는 값의 기원은 매 2 ~ 3년마다 반도체의 게이트 길이를 이전 세대의 공정에 비해 70% 수준으로 축소하는 것을 반영한 동향에서 나왔다. 130 나노미터의 공식적인 명칭은 국제 반도체 기술 로드맵(ITRS)에서 확정하였다.

인텔 펜티엄 III의 투알라틴은 이 공정으로 제조된 최초의 CPU 중 하나이다.

130 나노미터 제조 공정을 적용한 프로세서 
 2001년 4월 인텔 펜티엄 III 투알라틴
 2001년 10월 2일 인텔 셀러론 투알라틴-256
 2003년 3월 12일 인텔 펜티엄 M 베니어스
 2002년 1월 7일 인텔 펜티엄 4 노스우드
 2002년 9월 18일 인텔 셀러론 노스우드-128
 2002년 2월 25일 인텔 제온 프레스토니아, 갈라틴
 2001년 비아 C3
 AMD 애슬론 XP의 서러브레드, 쏘톤, 바톤
 2002년 8월 27일 AMD 애슬론 MP의 서러브레드
 AMD 애슬론 XP-M의 서러브레드, 바톤, 더블린
 2003년 8월 21일 AMD 듀론의 애플브레드
 2004년 7월 28일 AMD K7 셈프론의 서러브레드-B, 쏘톤, 바톤
 2004년 7월 28일 AMD K8 셈프론의 파리
 2003년 9월 23일 AMD 애슬론 64의 크로우해머, 뉴캐슬
 2003년 6월 30일 AMD 옵테론의 슬레지해머
 2008년 4월 27일 엘브러스 E2K 1891ВМ4Я (1891VM4YA)
 2008년 7월 27일 MCST R-500S 1891BM3
 Vortex 86SX

각주 

국제 반도체 기술 로드맵 리소그래피 노드