جانمایی مدار مجتمع

جانمایی مدار مجتمع  که همچنین به نام لی‌اَوت آی‌سی، جانمایی نقاب آی‌سی یا طراحی ماسک نیز شناخته می‌شود، نمایش از یک مدار مجتمع ازنظر اشکال هندسی مسطح است که با الگوهای لایه‌های فلز، اکسید یا نیم‌رسانا مطابقت دارد که اجزای مدار مجتمع را تشکیل می‌دهند. دراصل این فرایند کلی نواربرون نامیده می‌شد زیرا آی‌سیهای اولیه از نوار کِرِپ سیاه گرافیکی برروی رسانه مایلار برای تصویربرداری عکس استفاده می‌کردند (به اشتباه تصور می‌شود برای ارجاع به داده‌های مغناطیسی - فرایند عکس تا حد زیادی پیش از رسانه‌های مغناطیسی بود).

جانمایی تولیدشده باید یک سری بررسی را در فرآیندی به نام تأیید فیزیکی انجام دهد. رایج‌ترین بررسی‌ها در این فرایند تأیید عبارتند از
 بررسی کردن قوانین طراحی (DRC)،
 جانمایی درمقابل طرح‌واره (LVS)،
 استخراج پارازیتیک،
 بررسی کردن قوانین آنتن، و
 بررسی کردن قوانین الکتریکی (ERC)

هنگامی که تمام تأیید کامل شد، پردازش پس از جانمایی اعمال می‌شود که در آن داده‌ها نیز به یک فرمت استاندارد-صنعتی، معمولاً GDSII تبدیل می‌شوند و به یک ریخته‌گری نیم‌رسانا ارسال می‌شوند. نقطه عطف تکمیل فرایند جانمایی ارسال‌کردن این داده‌ها به ریخته‌گری است درحال حاضر به صورت محاوره‌ای «نواربرون» نامیده می‌شود. ریخته‌گری داده‌ها را به داده‌های ماسک تبدیل می‌کند و از آن برای تولید ماسک‌های نوری مورد استفاده در فرایند طرح‌نگارنوری ساخت افزاره نیم‌رسانا استفاده می‌کند.

عملیات دستی انتخاب و تعیین موقعیت اشکال هندسی به‌طور غیررسمی به عنوان «هل‌دادن چندضلعی» شناخته می‌شود.

جستارهای وابسته 
 میان‌هابندها (مدارهای مجتمع)
 طراحی فیزیکی (الکترونیکی)
 برد مدار چاپی
 طراحی مدار مجتمع

منابع

بیشتر خواندن 

 Clein, D. (2000). CMOS IC Layout. Newnes. ISBN 0-7506-7194-7
 Hastings, A. (2005). The Art of Analog Layout. Prentice Hall. ISBN 0-13-146410-8
 
 Saint, Ch. and J. (2002). IC Layout Basics. McGraw-Hill. ISBN 0-07-138625-4

خودکارسازی طراحی الکترونیکی
طراحی الکترونیک
مدارهای مجتمع