Патент на ГРАФЕНОВЫЕ ХИМТРЕЙЛЫ Патент Университета науки, технологий и исследований Халифы (КУСТАР) в Абу-Даби, который описывает процесс, называемый «засевом облаков» с помощью оксида графена.Настоящее изобретение относится к частицам для зародышеобразования льда для засева облаков и других применений, которые могут вызывать зарождение льда при температуре -8°C. Более того, количество частиц, образующих зародыши льда, непрерывно и быстро увеличивается при понижении температуры. Частица зародышеобразования льда по настоящему изобретению представляет собой наноструктурированный пористый композит из трехмерного восстановленного оксида графена и наночастиц кремнезема (PrGO-SN). Настоящее изобретение также относится к способу синтеза PrGO-SN.Патент ссылкаhttps://patents.google.com/patent/US20220002159A1/enОксид графена, ссылка исследование https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/31549672/https://link.springer.com/article/10.1007/s11426-012-4620-z