Rentgen litografiyasi - Microsoft Word D?rs v?saiti. Nanotexnologiya docx

|
Microsoft Word D?rs v?saiti. Nanotexnologiya docx
|
bet | 37/51 | Sana | 19.12.2023 | Hajmi | 2,83 Mb. | | #123700 |
Bog'liq 2017-2422 Tayyor4.1. Rentgen litografiyasi
Rentgen litografiyasi va fotolitografiya tamoyillari bir xil. Farqi shundaki, rentgen litografiyasida rentgen nurlanishi qarshilik qatlamlarini yoritish uchun ishlatiladi. Nanostrukturalarni tayyorlash uchun rentgen litografiyasi qo'llaniladi.
Bu usulda berilgan relyef yoki topologiyani hosil qilish uchun to‘lqin uzunligi (0,5 ÷ 5) nm bo‘lgan rentgen nurlanishidan foydalaniladi. Bu yerda sirtni bombardimon qilish uchun energiya (0,5÷10) keV bo'lgan yumshoq rentgen nurlanishi qo'llaniladi. Bu nurlar yutilganda qarshilik qatlamida kam energiyali fotoelektronlar hosil bo'ladi va qarshilik turiga qarab ular molekulalararo bog'lanishning uzilishiga, ya'ni polimerning erishi (musbat qarshilik holatida) yoki ularning shakllanishi (salbiy qarshilik holatida).
Ikkala turdagi qarshilik ham yuqori aniqlikka ega. Umuman olganda, rentgen rezistorlari quyidagi talablarga javob berishi kerak: rentgen nurlanishiga yuqori sezuvchanlik; yuqori aniqlik; kimyoviy barqarorlik. Hozirgi vaqtda ushbu talablarning barchasiga javob beradigan qarshilik yo'q. Mavjud rentgen nurlarining sezgirligi 0,834 nm to'lqin uzunligida 1 mJ / sm2 dan 2 mJ / sm2 gacha (polimetil metakrilat PMMA uchun) o'zgarib turadi. To'lqin uzunligi 0,437 nm bo'lgan polibutensulfon (PBS) uchun sezgirlik 94 mJ / sm2 ni tashkil qiladi..
4.6-rasm. Rentgen litografiya qurilmasining sxemasi.
1-elektron shar; 2 elektronli toshqin; 3-maqsad; 4-vakuum kamerasi; 5-berilliy folgadan yasalgan oyna: 6-rentgen nurlari toshqini; 7-rentgen shabloni; 8-Rentgen nuriga chidamli plastinka.
PMMA va PBS ijobiy qarshilikdir. Rentgen nurlari katta polimer molekulalarini parchalaydi. Hosil bo'lgan kichik molekulalar aniqlash vaqtida tezda eriydi.PMMA va PBS qarshilik ko'rsatadi
o'lchamlari mos ravishda 5000 satr/mm va 1000 satr/mm. Shuning uchun PMMA qarshiligi rentgen va elektron litografiya uchun asosiy qarshilik hisoblanadi.
4.6-rasmda rentgen litografiya qurilmasining sxemasi keltirilgan. Rentgen shabloni juda mo'rt bo'lgani uchun u bilan plastinka o'rtasida S=(3÷5) mkm masofa saqlanadi.
Rentgen litografiyasida asosan uzunligi 1 nm bo'lgan to'lqinlardan foydalaniladi. Tegishli rentgen optikasi yo'qligi sababli (1) nisbatda to'g'ridan-to'g'ri tasvir tebranishi qo'llaniladi. Sinxrotronlar va plazma lazer manbalari yordamida amaliy nuqtai nazardan zarur intensivlikdagi rentgen nurlarini olish mumkin. Olingan elementlarning minimal o'lchamlari (50÷70) nm. Rentgen litografiyasining asosiy afzalliklari shundaki, bir qatlamli rezistiv niqoblar qo'llaniladi, natijalarning takrorlanish darajasi yuqori. Bundan tashqari, rentgen nurlanishining o'ziga xos xususiyati bor, bu uning tarqalmasdan yutilishidir. Bu rasm profilining vertikalligini ta'minlaydi. Usulning boshqa muhim afzalliklari yuqori aniqlik va mahsuldorlikdir. Yuqori mahsuldorlik qisqa ta'sir qilish vaqti va katta sirt maydoni bo'lgan qatlamlarda tasvirlarni olish imkoniyati bilan bog'liq. Kamchilik - qurilmalar murakkab, ko'p energiya talab qiladi va o'lchamlari katta.
|
| |